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JP4942837B2 - 固体電解コンデンサ - Google Patents

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Description

この発明は、固体電解コンデンサに関する。
酸化ニオブは高い絶縁性を有するとともに、従来の固体電解コンデンサの材料である酸化タンタルに比べて誘電率が約1.8倍と大きいことから、次世代の高容量固体電解コンデンサの誘電体材料として注目されている。ここで、絶縁性の高い酸化ニオブは、ニオブからなる基体を陽極として陽極酸化することによって、容易に陽極上に形成することができる。なお、このとき形成される酸化ニオブの結晶性は、非晶質である。
従来の酸化ニオブを用いる固体電解コンデンサでは、このように陽極酸化により形成された酸化ニオブを誘電体層として用いているが、この酸化ニオブからなる誘電体層は、リフロー工程などの熱処理の影響を受けやすく、静電容量の安定性が酸化タンタルなどの他の誘電体材料を用いる固体電解コンデンサに比べて劣っていた。そこで、静電容量の低下を抑制するために、誘電体層を構成する酸化ニオブ中にニオブ窒化物領域を形成した固体電解コンデンサが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開平11−329902号公報
しかしながら、上記のようにニオブ窒化物領域が形成された酸化ニオブを用いる固体電解コンデンサにおいても、リフロー工程などの熱処理後に陽極と陰極との間の漏れ電流が増加するという問題点があった。
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、
この発明の目的は、漏れ電流が小さい固体電解コンデンサを提供することである。
上記目的を達成するために、この発明の第1の局面による固体電解コンデンサは、ニオブからなる陽極と、陽極上に形成されたマグネシウムを含む酸化ニオブからなる誘電体層と、誘電体層上に形成された陰極とを備える。
この第1の局面による固体電解コンデンサでは、上記のように、酸化ニオブからなる誘電体層中にマグネシウムを含んでいる。誘電体層中において、マグネシウムは、酸素と強く結合することができるので、酸素の拡散を抑制することができる。
これにより、リフロー工程などの熱処理を行った場合においても、誘電体層から陽極などに酸素が拡散することを抑制できるので、誘電体層の厚みが減少しにくく、誘電体層の絶縁性も低下しにくい。したがって、この第1の局面の発明においては、漏れ電流の小さい固体電解コンデンサを得ることができる。
また、酸化ニオブからなる誘電体層中にマグネシウムを含むことにより、固体電解コンデンサの等価直列抵抗(ESR)の増加を抑制することができる。
上記第1の局面による固体電解コンデンサにおいて、好ましくは、誘電体層中のマグネシウム濃度は、0.2原子%〜0.6原子%の範囲である。このように構成することにより、固体電解コンデンサの静電容量を大きくすることができる。
また、この発明の第2の局面による固体電解コンデンサの製造方法は、ニオブからなる陽極をマグネシウムイオンを含む水溶液中で陽極酸化することにより、該陽極上にマグネシウムを含む酸化ニオブからなる誘電体層を形成する工程と、誘電体層上に陰極を形成する工程とを備える。
この第2の局面による固体電解コンデンサの製造方法では、上記のように、マグネシウムイオンを含む水溶液中で陽極酸化することにより、酸化ニオブ中にマグネシウムを含有させることができる。これにより、誘電体層中の酸素が拡散しにくくなるので、誘電体層の厚みが減少しにくく、誘電体層の絶縁性が低下することを抑制することができる。したがって、この第2の局面の発明においては、漏れ電流の小さい固体電解コンデンサを容易に製造することができる。
さらに、上記の工程により、マグネシウムは酸化ニオブからなる誘電体層中に略均一に含有される。マグネシウム濃度が大きい領域では酸化マグネシウムが生じやすい。特に、陽極と誘電体層との界面のマグネシウム濃度が大きい場合は、この界面に酸化マグネシウムからなる層が形成されやすくなるので、陽極と誘電体層との界面における直列抵抗成分が増加しやすくなる。従って、マグネシウムが誘電体層中に略均一に含有されることにより、固体電解コンデンサのESRの増加を抑制することができる。
以下、本発明を実施の形態に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明は下記実施の形態に何ら限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変更して実施することが可能なものである。
図1は、本発明の一実施の形態による直方体状の固体電解コンデンサの断面構造図である。
図1に示すように、固体電解コンデンサ100では、陽極1は、約1μmの粒径を有するニオブ粒子の多孔質焼結体からなる外形約3.3mm×約2.7mm×約1.7mmの直方体状の基体1aと、基体1aに一部が埋め込まれたニオブからなる線状の陽極リード1bとから構成されている。
基体1a上には、基体1aの周囲を覆うようにマグネシウムを含む酸化ニオブからなる誘電体層2が形成されている。また、誘電体層2上には、誘電体層2の周囲を覆うようにポリピロールなどからなる電解質層3が形成され、電解質層3上には、電解質層3の周囲を覆うように陰極4が形成されている。陰極4は、電解質層3の周囲を覆うように形成されたカーボンペーストからなる第1導電層4aと、第1導電層4aの周囲を覆うように形成された銀ペーストからなる第2導電層4bとから構成されている。
陰極4の周囲のうち上面には、導電性接着剤層5が形成され、さらに導電性接着剤層5上には、表面をニッケルめっきした約0.1mmの厚さを有する鉄箔からなる陰極端子6が形成されている。基体1aから露出した陽極リード1c上には、表面をニッケルめっきした約0.1mmの厚さを有する鉄箔からなる陽極端子7が溶接により接続されている。また、陰極端子6および陽極端子7の端部が外部に引き出されるように、第2導電層4b、陰極端子6および陽極端子7の周囲には、モールド外装樹脂8が形成されている。これにより、本発明の一実施の形態による固体電解コンデンサ100が構成されている。
次に、図1に示す本発明の一実施の形態による固体電解コンデンサの製造方法について説明する。
まず、約1μmの粒径を有するニオブ粒子の粉体を焼結することにより、外形約3.3mm×約2.7mm×約1.7mmの多孔質焼結体からなる基体1aを形成する。このとき、ニオブからなる線状の陽極リード1bの一部を基体1aに埋め込む。これにより、基体1aと陽極リード1bとから構成される陽極1が作製される。
次に、陽極1を約60℃に保持した塩化マグネシウム水溶液などのマグネシウムイオンを含む水溶液中において、約10Vの定電圧で陽極酸化することにより、基体1aの周囲を覆うように、基体1a上にホウ素を含む酸化ニオブからなる誘電体層2を形成する。
誘電体層2を形成した後、誘電体層2の周囲を覆うように、誘電体層2上にポリピロールなどからなる電解質層3を重合などにより形成する。また、電解質層3の周囲を覆うように、電解質層3上にカーボンペーストを塗布し、約80℃で約30分間乾燥することによりカーボンペーストからなる第1導電層4aを形成する。また、第1導電層4a上に銀ペーストを塗布し、約170℃で約30分間乾燥することにより銀ペーストからなる第2導電層4bを形成する。これにより、カーボンペーストからなる第1導電層4aおよび銀ペーストからなる第2導電層4bが積層された陰極4を形成する。
次に、表面をニッケルめっきした約0.1mmの厚さを有する鉄箔からなる陰極端子6上に導電性接着剤を約2mg塗布した後、この導電性接着剤を介して陰極4と陰極端子6とを接触させる。さらに、陰極4と陰極端子6とで導電性接着剤を押圧しながら約60℃の温度で約30分間乾燥を行うことにより、陰極4と陰極端子6とを接続する導電性接着剤層5を形成する。また、表面をニッケルめっきした約0.1mmの厚さを有する鉄箔からなる陽極端子7を陽極リード1c上に溶接する。さらに、陰極端子6および陽極端子7の端部が外部に引き出されるように、第2導電層4b、陰極端子6および陽極端子7の周囲にモールド外装樹脂8を形成する。このようにして、本発明の一実施の形態による固体電解コンデンサ100が作製される。
本実施の形態においては、酸化ニオブからなる誘電体層2中にマグネシウムを含んでいるので、リフロー工程などの熱処理を行う場合に、誘電体層2中の酸素が拡散しにくいので、誘電体層2の厚みが減少し、誘電体層2の絶縁性が低下することを抑制することができる。その結果、固体電解コンデンサの陽極1と陰極4との間の漏れ電流を小さくすることができる。
また、本実施の形態においては、酸化ニオブからなる誘電体層2中にマグネシウムを含んでいるので、誘電体層2中の酸素の拡散を抑制することができる。これにより、リフロー工程などの熱処理を行った場合においても、誘電体層2から陽極1や電解質層3などに酸素が拡散することを抑制できるので、誘電体層2の厚みが減少しにくく、誘電体層2の絶縁性も低下しにくい。したがって、固体電解コンデンサの陽極1と陰極4との間の漏れ電流を小さくすることができる。
また、本実施の形態においては、塩化マグネシウム水溶液などのマグネシウムイオンを含む水溶液中で陽極酸化しているので、酸化ニオブからなる誘電体層2中にマグネシウムを容易に含有させることができる。これにより、リフロー工程などの熱処理を行った場合においても、誘電体層2中の酸素が拡散しにくく、絶縁性が低下しにくい誘電体層2を容易に形成することができる。その結果、陽極1と陰極4との間の漏れ電流の小さい固体電解コンデンサを容易に製造することができる。
さらに、上記工程により、マグネシウムは酸化ニオブからなる誘電体層2中に略均一に含有されるので、特に、陽極1と誘電体層2との界面のマグネシウム濃度が増加することを抑制し、陽極1と誘電体層2との界面に酸化マグネシウムからなる層が形成されることを抑制することができる。これにより、陽極1と誘電体層2との界面における直列抵抗成分の増加を抑制することができるので、固体電解コンデンサのESRの増加を抑制することができる。
また、本実施の形態においては、基体1aとして、ニオブの多孔質焼結体を用いたが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、ニオブからなる金属箔を用いてもよい。また、陽極1aは、ニオブ単体だけでなく、例えば、タングステン、バナジウム、亜鉛、アルミニウム、モリブデン、ハフニウムおよびジルコニウムなどの元素を含むニオブ合金から構成されてもよい。
また、本実施の形態においては、電解質層3として、ポリピロール以外にポリチオフェンなどの他の導電性高分子や二酸化マンガンなどの他の導電性材料を用いることができる。
また、本実施の形態においては、誘電体層2と陰極4と間には電解質層3が形成されているが、本発明はこれに限らず、電解質層3を形成することなく、陰極4を誘電体層2上に直接形成してもよい。
また、本実施の形態においては、陰極4として第1導電層4aおよび第2導電層4bの積層構造を用いたが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、第1導電層4aまたは第2導電層4bのみからなる単層構造でもよい。
次に、上記実施形態の固体電解コンデンサに用いる陽極および誘電体層の評価を行うために、以下のような試験用電解コンデンサを作製した。
図2は、本発明の固体電解コンデンサに用いる陽極および誘電体層の評価を行うための試験用電解コンデンサの断面構造図である。
図2に示すように、試験用電解コンデンサ200においては、ニオブ箔からなる陽極11上には、陽極11の周囲を覆うように酸化ニオブからなる誘電体層12が形成されている。ここで、ニオブ箔は、上記実施形態の陽極を構成する基体の一例である。また、陽極11および誘電体層12は、ステンレスなどの金属からなり、陰極として用いられるビーカー13内のアジピン酸水溶液などの電解液14中に浸漬されている。このとき、陽極11は、ビーカー13および電解液14と接触しないように保持されている。このように、試験用電解コンデンサ200が構成されている。
また、誘電体層12は、次のように形成される。はじめに、ニオブ箔からなる陽極11を塩化マグネシウム水溶液中において陽極酸化する(第1工程)。これにより、陽極11の周囲を覆うように、陽極11上にマグネシウムを含む酸化ニオブからなる誘電体層12を形成する。ここで、塩化マグネシウム水溶液は、本発明の「マグネシウムイオンを含む水溶液」の一例である。
次に、上記のように形成された陽極11および誘電体層12をリン酸水溶液中において陽極酸化を行う(第2工程)。これにより、酸化ニオブからなる誘電体層12の表面にさらにリンを含有させることができる。酸化ニオブからなる誘電体層12にリンを含有させることによって、酸化ニオブの結晶化を抑制することができるので、誘電体層12の表面の結晶化とひび割れの発生とを抑制することができる。その結果、陽極11および誘電体層12を電解液14中に浸漬した場合に、陽極12と電解液14とが短絡することを抑制することができる。
さらに、熱処理による誘電体層12の影響を評価するために、上記のように作製した陽極11および誘電体層12に対して約250℃の乾燥炉内で約10分間の熱処理を行う。
その後、陽極11をビーカー13内の電解液14中に浸漬し、陽極11をビーカー13および電解液14と接触しないように保持することにより、実験1で用いる試験用電解コンデンサ200が作製される。
(実験1)
実験1では、誘電体層12の形成に対して、第1工程として、約60℃に保持した種々の濃度の塩化マグネシウム水溶液中で約10Vの定電圧で陽極酸化を行った後、第2工程として、約60℃に保持した約0.05wt%の濃度のリン酸水溶液中で約10Vの定電圧で約6時間の陽極酸化を行った。このようにして形成した誘電体層12を用いて、試験用電解コンデンサA1〜A5を作製した。表1に、試験用電解コンデンサA1〜A5の第1工程における誘電体層12の形成条件を示す。
Figure 0004942837
(実験2)
実験2では、誘電体層の形成を第2工程のみで行う以外は、実験1と同様に試験用電解コンデンサX1を作製した。即ち、実験2では、第2工程のみで陽極の陽極酸化を行うことにより、陽極の周囲を覆うように、陽極上にマグネシウムを含まない酸化ニオブからなる誘電体層を形成した。
(実験3)
実験3では、次のように、陽極上に誘電体層を形成した。
まず、ニオブ箔からなる陽極の表面に真空スパッタ法により約50nmの厚みを有するマグネシウムからなる薄膜を形成した。次に、この陽極を10−5Torr以下の真空中で約600℃、約60分の熱処理を行うことにより、陽極内部にマグネシウムの拡散を行った。その後、実験2と同様の方法で、上記の陽極に対して第2工程のみの陽極酸化を行った。
このように形成した陽極および誘電体層を用いて、試験用電解コンデンサX2を作製した。
(実験4)
実験4では、次のように、陽極上に誘電体層を形成した。
まず、ニオブ箔からなる陽極を約300Torr(約4×10−4Pa)の窒素雰囲気中において、約600℃で約5分間熱処理することにより、陽極の周囲を覆うように、陽極上にニオブ窒化物層を形成した。
次に、実験2と同様に、第2工程のみでこの陽極の陽極酸化を行った。これにより、陽極の周囲を覆うように、陽極上にニオブ窒化物領域を有する酸化ニオブからなる誘電体層を形成した。尚、このようにして形成した誘電体層は、特許文献1に記載されている固体電解コンデンサにおける酸化ニオブ中にニオブ窒化物領域を形成した誘電体層に相当するものである。
そして、このようにして形成した陽極および誘電体層を用いて、試験用電解コンデンサX3を作製した。
(評価)
上記の試験用コンデンサA1〜A5およびX1〜X3に対して、陽極1およびビーカー13に約3Vの定電圧を印加し、約10秒後の漏れ電流を測定することで、各試験用電解コンデンサの陽極と陰極(ビーカー13)との間の漏れ電流を評価した。また、LCRメータを用いて、各試験用電解コンデンサの陽極と陰極(ビーカー13)との間に約120Hzの交流電圧を印加することにより、約120Hzの周波数における静電容量を測定するとともに、陽極と陰極(ビーカー13)との間に約100kHzの高周波電圧を印加することにより、約100kHzの周波数における等価直列抵抗(ESR)を測定した。さらに、各試験用電解コンデンサの誘電体層中のマグネシウム濃度をX線光電子分光分析(XPS)法により測定した。
これらの結果を表2に示す。なお、漏れ電流、ESRおよび静電容量の測定値は、試験用電解コンデンサX1における各測定値をそれぞれ100とした指数で表示した。
Figure 0004942837
尚、試験用電解コンデンサX1、X2の誘電体層からはマグネシウムは検出されなかった。
表2より、試験用電解コンデンサX1と比べて、試験用電解コンデンサX2の漏れ電流およびESRは、ともに大きくなっている。このESRの増加の要因は、陽極と誘電体層との間に形成されているマグネシウム層の一部が酸化されることにより、陽極と誘電体層との間の直列抵抗成分が増加したためと考えられる。即ち、陽極と誘電体層との間の界面のマグネシウムの含有量が大きくなると、陽極と誘電体層との間の直列抵抗成分が増加し、ESRが増加しやすいことがわかった。
また、試験用電界コンデンサX3では、試験用電解コンデンサX1と比べて、漏れ電流は小さいが、ESRが増加し、また、静電容量も減少している。試験用電界コンデンサX3のESRの増加の要因についても、誘電体層中にニオブ窒化物領域が形成されたことにより、陽極と誘電体層との間の直列抵抗成分が増加したためと考えられる。
これらの結果に対して、マグネシウムを含む酸化ニオブからなる誘電体層12を有する試験用電解コンデンサA1〜A5では、試験用電解コンデンサX1〜X3よりも漏れ電流およびESRが低減していることがわかった。また、誘電体層12中のマグネシウム濃度が約0.2原子%〜約0.4原子%の範囲では、特に、漏れ電流が小さくなっていることがわかった。これにより、酸化ニオブからなる誘電体層12中にマグネシウムを含有することにより、熱処理による漏れ電流およびESRの増加を抑制することができることがわかった。
さらに、誘電体層12中のマグネシウム濃度が約0.2原子%〜約0.6原子%の範囲である試験用電解コンデンサA2〜A4では、試験用電解コンデンサX1〜X3よりも静電容量が増加することがわかった。
本発明の一実施の形態による直方体状の固体電解コンデンサの断面構造図である。 本発明の固体電解コンデンサに用いる陽極および誘電体層の評価を行うための試験用電解コンデンサの断面構造図である。
1 陽極
1a 基体
1b 陽極リード
2 誘電体層
3 電解質層
4 陰極
4a 第1導電層
4b 第2導電層
5 導電性接着剤層
6 陰極端子
7 陽極端子
8 モールド外装樹脂
100 固体電解コンデンサ

Claims (3)

  1. ニオブからなる陽極と、
    前記陽極上に形成されたマグネシウムを含む酸化ニオブからなる誘電体層と、
    前記誘電体層上に形成された陰極とを備え、
    前記誘電体層の表面にリンが含有されている、固体電解コンデンサ。
  2. 前記マグネシウムは、前記誘電体層中に略均一に含有されている、請求項1に記載の固体電解コンデンサ。
  3. 前記誘電体層中のマグネシウム濃度は、0.2原子%〜0.6原子%の範囲である、請求項1又は2に記載の固体電解コンデンサ。

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