JP4835481B2 - レジストパターン測定方法及びレジストパターン測定装置 - Google Patents
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Description
ここで、本発明のレジストパターン測定方法についてその実施例1を示す。図6は、あるレジストパターンのSEM画像である。このレジストパターンは、Line/Spaceのどちらかであるか分からない。そこでまず、1枚目のレジストパターン画像を取得し、内側寸法1と外側寸法1を測定する。そして、次に2枚目のレジストパターン画像を取得して内側寸法2と外側寸法2を測定する。その測定結果は、以下のようになった。
2枚目 内側寸法2=355.2nm,外側寸法2=407.4nm
=407.4nm−408.6nm=−1.2nm
真値=外側寸法1−Δwidth
=408.6nm−(−1.2nm)=409.8nm
次に、実施例2として、LineパターンとSpaceパターンが交互に並んでいるLine/Spaceパターン(図7参照)での測定例を示す。この場合もレジストパターン画像を取得した時点では、どちらがLine/Spaceパターンかは分からない。まず1枚目のレジストパターン画像を取得し、内側寸法A1と外側寸法A1及び内側寸法B1と外側寸法B1を測定する。次に、2枚目のレジストパターン画像を取得して、内側寸法A2と外側寸法A2及び内側寸法B2と外側寸法B2を測定する。その結果は以下のようになった。
内側B1=1002.9nm,外側B1=1050.9nm
2枚目 内側A2=950.9nm,外側A2=997.0nm
内側B2=1004.1nm,外側B2=1051.8nm
=997.0nm−998.6nm=−1.6nm
真値=外側寸法A1−Δwidth
=998.6nm−(−1.6nm)=1000.2nm
=1004.1nm−1002.9nm=1.2nm
真値=内側寸法B1−Δwidth
=1002.9nm−(1.2nm)=1001.7nm
2 画像処理部
3 画像表示部
4 画像データ保存部
5 測定処理部
6 数値データ保存部
7 データ解析部
8 結果表示部
10 レジストパターン測定装置
Claims (4)
- ウェハ又はフォトマスクのレジストパターンを測定するレジストパターン測定方法において、
前記ウェハ又はフォトマスクのレジストパターンから少なくとも2枚のレジストパターン画像を取得する画像入力工程と、
前記各レジストパターン画像からパターンエッジの内側寸法と外側寸法を測定するレジスト測定工程と、
前記内側寸法と前記外側寸法の各測定値を比較して、前記レジストパターン画像が残し部か抜き部かを判定するパターン判定工程と、
前記パターン判定したレジストパターンの前記内側寸法と前記外側寸法の各測定結果を出力する測定結果出力工程と、を少なくとも有することを特徴とするレジストパターン測定方法。 - 前記測定結果出力工程において、前記各レジストパターン画像の前記内側寸法と前記外側寸法の各測定値から測定によるレジストのシュリンク量を求め、このシュリンク量に基づいて測定前のレジストパターンの真値を算出する真値算出工程を有することを特徴とする請求項1記載のレジストパターン測定方法。
- ウェハ又はフォトマスクのレジストパターンを測定するレジストパターン測定装置において、
前記ウェハ又はフォトマスクのレジストパターンから少なくとも2枚のレジストパターン画像を取得する画像入力手段と、
前記各レジストパターン画像からパターンエッジの内側寸法と外側寸法を測定するレジスト測定手段と、
前記内側寸法と前記外側寸法の各測定値を比較して、前記レジストパターン画像が残し部か抜き部かを判定するパターン判定手段と、
前記パターン判定したレジストパターンの前記内側寸法と前記外側寸法の各測定結果を出力する測定結果出力手段と、を少なくとも有することを特徴とするレジストパターン測定装置。 - 前記測定結果出力手段は、前記各レジストパターン画像の前記内側寸法と前記外側寸法の各測定値から測定によるレジストのシュリンク量を求め、このシュリンク量に基づいて測定前のレジストパターンの真値を算出する真値算出手段を有することを特徴とする請求項3記載のレジストパターン測定装置。
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