JP4824590B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
10 基板処理装置
11 内部空間
12 チャンバ
13 ステージ
13b ステージ下面
15 エンクロージャ
16 処理ガス供給管
17 プッシャーピン
18 基部アーム
20 シール面
21 Oリング
21a,29a,29b,30a 端部
25 ヒータ
26 処理空間
27 ステージ貫通穴
28 アーム貫通穴
29 雌ねじ部
30 雄ねじ部
31 ガイド部
32 細首部
34 段差
35 フランジ
35a 下面
Claims (7)
- 基板を収容する第1の空間を有する処理室と、該第1の空間に配されて前記基板を載置する板状の載置台と、該載置台における前記基板が載置される基板載置面に当接自在な被覆体と、該被覆体に接続されたガス供給部と、前記基板載置面から突出自在であり且つ前記基板を支持する複数のピン状部材と、前記第1の空間であって前記基板載置面とは反対側に配され且つ前記載置台に向けて移動自在な基部材と、前記載置台において前記載置された基板と対向するように形成された複数の封止面と、各前記封止面に配される複数の封止部材とを備える基板処理装置であって、
前記被覆体は、前記基板載置面と当接したときに該被覆体及び前記基板載置面の間に第2の空間を画成し、
前記ガス供給部は、前記第2の空間の圧力が前記第1の空間の圧力よりも高くなるようにガスを前記第2の空間に供給し、
前記載置台は、前記基板載置面とは反対側の面から各前記封止面へ貫通する複数の第1の貫通穴を有し、各前記封止部材は各前記封止面に開口する各前記第1の貫通穴の開口部を囲うように配され、
前記基部材は、該基部材の移動方向に沿って前記基部材を貫通し、側面に雌ねじ部が形成された複数の第2の貫通穴を有し、各前記第2の貫通穴は各前記第1の貫通穴と対向し、
各前記ピン状部材は各前記第1の貫通穴及び該第1の貫通穴に対向する各前記第2の貫通穴を嵌通し、その一端が各前記封止面から突出するとともに、その他端において各前記第2の貫通穴の雌ねじ部に螺合可能な雄ねじ部を有し、該雄ねじ部は前記雌ねじ部と螺合することなく前記基部材における前記載置台とは反対側に位置し、
各前記ピン状部材は、前記基部材が前記載置台に近づくように移動するとき、前記基部材と係合して該基部材の移動に応じて前記基板に近づくように移動し、
各前記ピン状部材は、各前記封止面から突出した部分において該ピン状部材の移動方向に関して垂直に延出する鍔部を有し、該鍔部は、前記ピン状部材の移動に応じて前記封止部材と離間自在であり、
前記鍔部及び前記封止部材が離間した後、前記基部材が前記載置台から遠ざかるように移動するとき、前記雌ねじ部における前記雄ねじ部側の端部が前記雄ねじ部における前記雌ねじ部側の端部に当接することを特徴とする基板処理装置。 - 前記鍔部における前記封止部材側の端部から前記雄ねじ部における前記雌ねじ部側の端部までの第1の距離が、前記基部材が前記載置台から最も遠ざかった状態において、前記封止部材における前記鍔部側の端部から前記雌ねじ部における前記雄ねじ部側の端部までの第2の距離よりも大きいことを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 前記載置台は前記基板を加熱する発熱体を有し、
前記発熱体の発熱の有無に拘わらず、下記式
前記第1の距離−前記第2の距離>0
が成立することを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。 - 前記ピン状部材は細首部を有し、該細首部は前記第2の貫通穴と遊嵌し、前記発熱体の発熱の有無に拘わらず、前記細首部の直径は前記雌ねじ部の内径よりも小さいことを特徴とする請求項3記載の基板処理装置。
- 前記第1の貫通穴の直径は前記雄ねじ部の外径よりも大きいことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 前記ピン状部材は前記雄ねじ部の先端に細軸部を有することを特徴とする請求項5記載の基板処理装置。
- 前記雄ねじ部における前記雌ねじ部側の端部には、前記雌ねじ部に向けて径が小さくなるテーパ部が形成されていることを特徴とする請求項5又は6記載の基板処理装置。
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