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JP4823508B2 - 光および/または熱硬化性樹脂組成物 - Google Patents

光および/または熱硬化性樹脂組成物 Download PDF

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JP4823508B2 JP2004319765A JP2004319765A JP4823508B2 JP 4823508 B2 JP4823508 B2 JP 4823508B2 JP 2004319765 A JP2004319765 A JP 2004319765A JP 2004319765 A JP2004319765 A JP 2004319765A JP 4823508 B2 JP4823508 B2 JP 4823508B2
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Description

本発明は、光および/または熱硬化性樹脂組成物、その硬化物、並びに、同樹脂組成物からなる液状レジスト、ドライフィルム、液晶ディスプレイ用に使用されるカラーフィルター、ブラックマトリックス等顔料レジスト、ビルドアップ等配線板絶縁材料、またはコーティング保護膜として用いられる光および/または熱硬化性樹脂組成物に関する。さらに詳しくは、被膜形成後、露光および希アルカリ水溶液による現像で容易に画像形成可能で、かつ、透明性を損なうことなく耐熱性および硬度に優れた光および/または熱硬化性樹脂組成物に関する。本発明の光および/または熱硬化性樹脂組成物は、特に、エレクトロニクスに関連するプリント配線板、LSI関係、液晶に付随するカラーフィルター、封止剤等のレジストインク用の樹脂として有用である。
近年、環境問題、省資源、省エネルギー、作業性向上等の理由により、各分野で溶剤現像から希アルカリ水溶液現像へ移行した。プリント配線板加工分野においても同様の理由によりレジストインキが溶剤現像タイプから、希アルカリ水溶液現像タイプへ移行した。
プリント配線板では、基盤回路の永久保護被膜としてソルダーレジスト樹脂が広く用いられている。ソルダーレジストは、基盤回路導体の半田付けする部分を除いた全面に被膜形成される。ソルダーレジストの主たる役目はプリント配線板に電子部品を半田付けする際に半田が不必要な部分に付着するのを防止すると共に、回路導体の酸化や腐食を防ぐものである。従来、プリント配線板上にソルダーレジスト膜を形成させる際には、熱硬化タイプのレジストインキをスクリーン印刷法により印刷し、転写部を熱硬化もしくは紫外線硬化させていた。しかし、スクリーン印刷法は、印刷時のブリード、にじみ、ダレといった現象が発生し、最近の回路基盤の高密度化に対応しきれなくなっている。この問題を解決すべく、写真法が開発された。写真法はパターンを形成したフィルムを介して露光した後、現像して目的のパターンを形成する方法である。
特開平5−165214号には、分子鎖中にエポキシ基とカルボキシル基を導入した樹脂を使い硬度や透明性、耐熱性を向上させる方法が提案されている。
また、特開2004−91772号では、分子鎖中にエポキシ基を導入した樹脂を用い酸無水物で硬化させる方法も提案されている。さらに、特開2003−119228号公報には上記構造式で示される化合物をモノマー成分として含む硬化性樹脂組成物が提案されている。
特開平5−165214号公報 特開2004−91772号公報 特開2003−119228号公報
特開平5−165214号に開示されている樹脂は最近の要求レベルに対しては膜硬度が不十分であったり、樹脂溶液自身の保存安定性が悪いなどの問題がある。また、特開2004−91772号に開示されている樹脂は耐熱性や耐薬品性に対しては効果的であるが、これも同様に最近の要求レベルに対しては膜硬度や膜の透明性に対して不十分であるという問題がある。
さらに、特開2003−119228号公報に開示されている硬化性樹脂組成物を硬化してなる硬化物の硬度や耐熱性に関してはさらに改良する必要がある。
本発明の課題は、膜の透明性を損なうことなく優れた耐熱性、膜硬度を有する硬化膜を形成することのできる硬化性組成物を提供することにある。
本発明者は、分子内に3,3,5-トリアルキルシクロヘキシル(メタ)アクリレート構造を有する共重合体〔A〕と多官能エポキシ化合物〔B〕からなる樹脂組成物の硬化物が上記問題を解決できることを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明の第1は、(a−1):下記構造式で表される3,3,5-トリアルキルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、(a−2):エチレン性不飽和モノマー[ただし、上記(a−1)および下記の(a−3)を除く]、(a−3):(a−1)、(a−2)モノマーと共重合可能なカルボキシル基含有エチレン性不飽和モノマー[ただし、上記(a−1)を除く]の共重合体〔A〕、多官能エポキシ化合物〔B〕、硬化促進剤〔C〕および必要に応じて少なくとも1個の(メタ)アクリロイル基を有する化合物〔D〕[ただし、上記(a−1)、(a−2)および(a−3)を除く]を含み、前記成分(a−1)、(a−2)および(a−3)の共重合比率(モル比)が、(a−1)/(a−2)/(a−3)=80〜2/9〜43/11〜55であり、前記多官能エポキシ化合物〔B〕の配合量が、共重合体〔A〕のカルボキシル基と多官能エポキシ化合物〔B〕のエポキシ基の当量比(カルボキシ基/エポキシ基)が0.1〜1.5となる量であることを特徴とする光および/または熱硬化性樹脂組成物を提供する。
(R1 は水素原子又は1〜C7の炭化水素基を表し、R2〜R4はC1〜C7の炭化水素基を表す。)
本発明の第2は、(a−1)がcis-3,3,5-トリアルキルシクロヘキシル(メタ)アクリレートである上記発明1に記載の光および/または熱硬化性樹脂組成物を提供する。本発明の第3は、(a−1)がtrans-3,3,5-トリアルキルシクロヘキシル(メタ)アクリレートまたはcis-3,3,5-トリアルキルシクロヘキシル(メタ)アクリレートとtrans-3,3,5-トリアルキルシクロヘキシル(メタ)アクリレートとの混合物である上記発明1に記載の光および/または熱硬化性樹脂組成物を提供する。本発明の第4は、多官能エポキシ化合物〔B〕が多官能脂環式エポキシ化合物である上記発明1に記載の光および/または熱硬化性樹脂組成物を提供する。本発明の第5は、上記発明1〜4のいずれかに記載の光および/または熱硬化性樹脂組成物を硬化してなる硬化物を提供する。本発明の第6は、液状レジスト、ドライフィルム、液晶ディスプレイ用に使用されるカラーフィルター、顔料レジスト、コーティング保護膜から選ばれるいずれか一つの1成分として使用される上記発明1〜4のいずれかに記載の光および/または熱硬化性樹脂組成物を提供する。
本発明の光および/または熱硬化性樹脂組成物を硬化してなる硬化物は透明性を損なうことなく、硬度や耐熱性に優れる。
以下、本発明を詳しく説明する。
共重合体〔A〕を構成するモノマー(a−1)は、上記構造式に示される3,3,5-トリアルキルシクロヘキシルメタクリレートである。これはcis型とtrans型を含んでいるが、それらの含有量は通常、原料となる3,3,5−トリアルキルシクロヘキサノールにおけるそれぞれの含有量に依存する。
本発明においては、いずれの異性体でも、又、それらの混合物でも使用可能である。
モノマー(a−2)の代表例としては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸ステアリル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸ステアリルなどの(メタ)アクリル酸のC1〜C24のアルキルまたは、シクロアルキルエステル;ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレートなどの(メタ)アクリル酸のC2〜C8のヒドロキシアルキルエステル;スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、N−ビニルピロリドン、ビニルピリジンなどの芳香族不飽和モノマー;グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどのエポキシ基含有の(メタ)アクリル酸エステル;アクリル酸1−メチル2−ピロリドン、アクリル酸1−エチル2−ピロリドン、メタクリル酸1−メチル2−ピロリドン、メタクリル酸1−エチル−2−ピロリドン、などの(メタ)アクリル酸のピロール環含有のC1〜C24のアルキルエステル;アクリル酸1−メチル2−オキサゾリドン、アクリル酸1−エチル2−オキサゾリドン、メタクリル酸1−メチル2−オキサゾリドン、メタクリル酸1−エチル2−オキサゾリドン、などの(メタ)アクリル酸のオキサゾール環含有のC1〜C24のアルキルエステル、ポリオキシエチレン鎖を有する(メタ)アクリレート;アクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−ブトキシメチルアクリルアミド;ジエチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレートなどのアミノ基含有の(メタ)アクリル酸エステルなどが挙げられる。またこれらの一種または二種類以上組み合わせても差しつかえない。
モノマー(a−3)の代表例としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノカルボン酸;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸などのジカルボン酸などが挙げられる。またこれらの一種または二種類以上組み合わせても差しつかえない。
共重合体〔A〕は上記成分(a−1)、(a−2)および(a−3)をアゾビスイソブチロニトリルやパーオキサイド類のような公知のラジカル重合開始剤の存在下、公知の方法でラジカル共重合させることにより製造することができる。
成分(a−1)、(a−2)および(a−3)の共重合比率は、モル比で(a−1)/(a−2)/(a−3)=80〜2/9〜43/11〜55である。(a−1)のモル比が高過ぎると、残留モノマーが増えたり、共重合体の疎水性が高くなりアルカリ現像液に溶解しなくなる、(a−2)のモル比が高過ぎると塗膜の透明性や耐熱性が低下する傾向にある。また、(a−3)のモル比が高過ぎると共重合体の親水性が大きくなり硬化皮膜の耐水性や酸価が高過ぎるためアルカリ現像液に対して早く溶けすぎてしまうため、好ましくない。逆に、(a−1)のモル比が低過ぎると共重合体が塗膜の透明性や耐熱性が十分に発揮しなくなり、(a−2)のモル比が低過ぎると残留モノマーが増えたり、共重合体の疎水性が高くなりアルカリ現像液に溶解しなくなる。また、(a−3)のモル比が低過ぎると共重合体の酸価が低過ぎてアルカリ現像液に溶解しなくなるので、好ましくない。上記のような条件で得られる共重合体〔A〕は酸価を40〜200に設定することが好ましい。
(a−1)、(a−2)および(a−3)を共重合させる際、重合反応の安定化、生成した共重合体の希釈等の目的で溶媒を使用することもできる。
溶媒としては、使用する原料および生成する共重合体〔A〕を溶解し、不活性な、特に(a−3)および共重合体〔A〕中のカルボキシル基と反応しないものであれば特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、2−プロパノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル類、酢酸エチル、酢酸イソブチル、エチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノアセテート、ジプロピレングリコールモノアセテートなどのエステル類、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類,ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類,ブチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジメチルフォルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類、四塩化炭素、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素などが用いられる。これらの溶媒は単独で、または混合して使用してもよい。溶媒の使用量は、共重合に供される各成分(a−1)、(a−2)および(a−3)の合計量100重量部に対して40〜900重量部、好ましくは、65〜400重量部、さらに好ましくは、100〜400重量部である。溶媒の使用量が900重量部より多いと重合反応がうまく進行せず、結果として残留モノマーが多くなり好ましくない。逆に少ない場合は溶媒を使用する意味がなくなる。
〔B〕成分である多官能エポキシ化合物としては、例えば、エポキシ化ポリブタジエン、エポキシ化ブタジエンスチレンブロック共重合体等不飽和基含有エポキシ化樹脂があり、その市販品としては、ダイセル化学(株)製エポリードPB、ESBS等があり、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−シクロヘキサンカルボキシレートのような脂環式エポキシ樹脂[例えば、ダイセル化学(株)製のセロキサイド2021]、EHPE[例えば、ダイセル化学(株)製のエポキシ化シクロヘキサンポリエーテル];三井化学(株)製、エポミックVG−3101:油化シェルエポキシ(株)製、E−1031S;三菱ガス化学(株)製、TETRAD−X、TETRAD−C;日本曹達(株)製 EPB−13,EPB−27等があり、共重合型エポキシ樹脂(例えば、グリシジルメタクリレートとスチレンの共重合体、グリシジルメタクリレートとスチレンとメチルメタクリレートの共重合体である日本油脂(株)製のCP−50M、CP−50S,或いはグリシジルメタクリレートとシクロヘキシルマレイミド等の共重合体等がある)。その他、特殊な構造を有するエポキシ化樹脂等を挙げることができる。また、ノボラック型エポキシ樹脂(例えば、フェノール、クレゾール、ハロゲン化フェノールおよびアルキルフェノール等のフェノール類とホルムアルデヒドとを酸性触媒下で反応して得られるノボラック類とエピクロルヒドリン及び/又はメチルエピクロルヒドリンとを反応して得られるもの等。その市販品としては、日本化薬(株)製EOCN−103、EOCN−104S、EOCN−1020、EOCN−1027、EPPN−201、BREN−S:ダウ・ケミカル社製、DEN−431、DEN−439:大日本インキ化学工業(株)製、N−73、VH−4150等がある)、ビスフェノール型エポキシ樹脂(例えばビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS及びテトラブロムビスフェノールA等のビスフェノール類とエピクロルヒドリンとを反応させて得られるものや、ビスフェノールAのジグリシジルエーテルと前記ビスフェノール類の縮合物とエピクロルヒドリンとを反応させ得られるもの等。その市販品として、油化シェル(株)製、エピコート1004、エピコート1002;ダウケミカル社製DER−330,DER−337等)、トリスフェノールメタン、トリスクレゾールメタン等のエピクロルヒドリン及び/又はメチルエピクロルヒドリンとを反応させて得られるもの等。その市販品として、日本化薬(株)製EPPN−501,EPPN−502等があり、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、ビフェニルジグリシジルエーテル等も使用することができる。これらのエポキシ樹脂は単独で用いても、混合して用いてもよい。上記の多官能エポキシ化合物の中でも、耐熱性に優れた硬化物を与える3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−シクロヘキサンカルボキシレートのような脂環式の多官能エポキシ化合物を使用することが好ましい。
多官能エポキシ化合物の配合量は、共重合体〔A〕の酸価(すなわち、カルボキシル基の量)との兼ね合いで決められる。通常、カルボキシル基/エポキシ基の当量比で0.1〜1.5、好ましくは、0.5〜1.1で配合される。カルボキシル基/エポキシ基の当量比が0.1未満では、現像不良や膜残りが起こり、逆に1.5を超える場合、膜の硬化不良を起こすためいずれも好ましくない。
〔C〕成分である硬化促進剤としては、ジメチルベンジルアミン、トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、トリ−n−オクチルアミンなどの3級アミン、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマイドなどの4級アンモニウム塩、テトラメチル尿素などのアルキル尿素、テトラメチルグアニジンなどのアルキルグアニジン、ナフテン酸コバルト等に代表される金属化合物、有機金属錯体、トリフェニルホスフィン等のホスフィン系及びこれらの塩などを挙げることができる。中でも、テトラメチルアンモニウムクロライドやトリフェニルホスフィンに代表される3級のホスフィンが好ましい。上記のような触媒は単独で使用しても混合して使用してもよい。
上記硬化促進剤〔C〕の配合量は、エポキシ化合物に対して0.01〜10重量部、好ましくは0.5〜3.0重量部である。0.01重量部より少ない場合は触媒効果が低く、10重量部を越える量を加える必要はない。
また、本発明の光および/または熱硬化性樹脂組成物には、上記成分〔A〕、〔B〕、〔C〕以外に必要に応じて少なくとも1個の(メタ)アクリロイル基を有する化合物〔D〕を添加してもよい。少なくとも1個の(メタ)アクリロイル基を有する化合物〔D〕としては、メタクリル酸エステル、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、ノルボニル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル酸アルキルエステル類、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、カプロカクトン変性2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシアダマンチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシノルボニル(メタ)アクリレートなどの水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステル類、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、イソオクチルオキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレートなどの一官能(メタ)アクリレート類、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレートのような二官能(メタ)アクリル酸エステル類、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等の三官能(メタ)アクリル酸エステル類、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート等の四官能(メタ)アクリル酸エステル類、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の六官能(メタ)アクリル酸エステル類などが使用できる。
少なくとも1個の(メタ)アクリロイル基を有する化合物〔D〕の添加量は本発明の光および/または熱硬化性樹脂組成物中の成分〔A〕および〔B〕の合計量100重量部に対して0〜200重量部、好ましくは、0〜100重量部である。200重量部より多いと膜が硬化不良を起こし好ましくない。少なくとも1個の(メタ)アクリロイル基を有する化合物〔D〕を添加する場合、放射線等の光照射により酸を生じる物質を加えることが好ましい。酸発生剤としては、一般式
(式中、R1は置換もしくは無置換のアリール又はアルケニル基を表し、XはCl又はBrを表す)で示されるオキサアゾール誘導体、一般式
(式中、R1はCH3、置換もしくは無置換のアルキル基、又は無置換のアリール又はアルケニル基を表し、XはCl又はBrを表す)
で示されるs-トリアジン誘導体、一般式
(式中、Ar1,Ar2はそれぞれ置換もしくは無置換の芳香族環を表し、XはBF6 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、B(C65)4 -、ClO4 -又は有機スルホン酸アニオンを表す)
で示されるヨードニウム塩、一般式
(式中、R1、R2、R3はそれぞれ置換もしくは無置換のアルキル基、又は芳香族環を表し、XはBF6 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、B(C65)4 -、ClO4 -又は有機スルホン酸アニオンを表す)
で示されるスルホニウム塩、一般式
(式中、R1、R2はそれぞれ置換もしくは無置換の芳香族環又は脂環族を表す)
で示されるジスルホン誘導体、一般式
(式中、R1は置換もしくは無置換のアルキル又はアリール基を表し、Zは置換もしくは無置換のアルキレン、アルケニレン、又はアリール基を表す)
で示されるイミドスルホネート誘導体、又は一般式
(式中、Ar1は置換もしくは無置換の芳香族環を表し、XはBF6 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、B(C65)4 -、ClO4 -又は有機スルホン酸アニオンを表す)
で示されるジアゾニウム塩を使用することが可能である。ただし、これらに限定されるものではない。これらの触媒はエポキシ化合物に対して0.01〜10重量%、好ましくは0.5〜3.0重量%用いるのが好ましい。0.01重量%より少ない場合は触媒効果が低く、10重量%を越える量を加える必要はない。
本発明の硬化性樹脂組成物を光で硬化させる場合、通常、光重合開始剤が使用される。該組成物に含めることのできる光重合開始剤としては、例えばベンゾフェノン、アセトフェノンベンジル、ベンジルジメチルケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ジメトキシアセトフェノン、ジメトキシフェニルアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ジフェニルジサルファイト、α−ヒドロキシイソブチルフェノン等を単独、もしくは混合して使用する。これら光開始剤は、光吸収エネルギーの重合開始遊離基への転換を強めるための相乗剤、例えば第3級アミンをも含有することができる。光重合開始剤の添加量は硬化性樹脂組成物全体に対して0〜20重量%、好ましくは、0〜10重量%、さらに好ましくは、0〜5重量%である。光重合開始剤の添加量が20重量%より多いと硬化性が逆に低下のみならず、コストアップの要因となるので好ましくない。
本発明の硬化性樹脂組成物を電子線照射で硬化させる場合には必ずしも該開始剤の添加を必要としない。
上記各成分を混合するためには、通常使用される装置、例えば、ブレンダーのようなミキサー等によって十分混合した後、さらに熱ロール、ニーダー等を用いて溶融混練し、冷却した後、粉砕して成形材料とする。また、半導体素子等の電子部品を封止し、半導体装置を製造するには、トランスファーモールド、コンプレッションモールド、インジェクションモールド等の成形法により、封止を行なう。
本発明の光および/または熱硬化性樹脂組成物は、温度30〜240℃、好ましくは、35〜180℃、さらに好ましくは、60〜150℃で、硬化時間は特に規定されるものではない。
硬化温度と硬化時間が上記範囲下限値より低い場合は、硬化が不十分となり、逆に上記範囲上限値より高い場合、樹脂成分の分解が起きる場合があるので、何れも好ましくない。硬化条件は種々の条件に依存するが、硬化温度が高い場合は硬化時間は短く、硬化温度が低い場合は硬化時間は長く、適宜調整することができる。通常は、一次硬化(硬化温度30〜240℃、好ましくは35〜180℃、さらに好ましくは35〜60℃、硬化時間30〜300分、好ましくは45〜240分、さらに好ましくは60〜120分)させた後、引き続き二次硬化(硬化温度60〜240℃、好ましくは90〜200℃、さらに好ましくは120〜200℃、硬化時間30〜180分、好ましくは45〜150分、さらに好ましくは60〜120分)を行って硬化不足が起きないようにするのが好ましい。
光および/または熱硬化性樹脂組成物は紫外線または電子線等の活性エネルギー線のような光を照射することにより硬化させることもできる。紫外線照射が最も一般的で好ましい。
本発明の光および/または熱硬化性樹脂組成物中の必須の樹脂成分である多官能エポキシ化合物の中でも3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−シクロヘキサンカルボキシレートは低粘度であるため、その硬化性樹脂組成物も低粘度であり加工性に優れた特徴を有する。また、100℃に満たない温度領域では揮発しないため、作業環境への影響もない。
本発明の光および/または熱硬化性樹脂組成物には、その他添加剤として必要に応じて熱重合禁止剤、界面活性剤、光吸収剤、チキソ性付与剤、染料および顔料などを含有し得る。さらには熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂なども配合することができる。本発明の光および/または熱硬化性樹脂組成物は、基材上に薄膜として被着させることにより硬化させることができる。薄膜を形成する方法としては、スプレー、ブラシ掛け、ロール塗装、カーテン塗装、電着塗装、静電塗装などが用いられる。硬化は不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましいが、空気雰囲気下においても硬化させることができる。本発明の光および/または熱硬化性樹脂組成物はインキ、プラスチック塗料、紙印刷、フィルムコーティング、家具塗装などの種々のコーティング分野、FRP、ライニング、さらにはエレクトロニクス分野における絶縁ワニス、絶縁シート、積層版、プリント基盤、レジストインキ、カラーフィルター用顔料レジストインキ、半導体封止剤など多くの産業分野への応用が可能である。本発明の光および/または熱硬化性樹脂組成物を光硬化させる場合の光源としては、高圧水銀灯、紫外線、EB、レーザー光線等の光を使用することができる。照射条件は例えば、高圧水銀灯を使用する場合、50〜120℃で5〜20分間塗膜を乾燥させた後、50〜200W/cm、好ましくは80〜150W/cm、より好ましくは120W/cm程度の照射強度で、照射時間は1〜10秒間、好ましくは3〜8秒間、より好ましくは5秒間程度である。紫外線照射後は、必要に応じて加熱を行って硬化の完全を図ることもできる。電子線照射の場合は、50〜1,000KeVの範囲のエネルギーを持つ電子線を用い、2〜5Mradの照射量とすることが好ましい。通常、ランプ出力80〜300W/cm程度の照射源が用いられる。このようにして得られた硬化塗膜厚は5〜50μ、好ましくは20μm程度である。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
(参考例)cis-3,3,5−トリメチルシクロヘキシルメタクリレートの合成
温度計、蒸留塔および撹拌機を備えた300mlの3ロフラスコにcis-3,3,5−トリメチルシクロヘキサノール71gと、メタクリル酸メチル150gと、エステル交換反応触媒として水酸化リチウム0.2gと、重合防止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテル0.1gとを仕込み、系内の圧力を340mmHgとし、撹拌しながらオイルバスで加熱した。オイルバス内の温度を95℃一定でコントロールしたところ、3口フラスコ内の液(釜液)の温度は初期に80℃、反応終了時には85℃となった。反応に伴い副生したメタノールは、メタノール−メタクリル酸メチル共沸物として、蒸留塔トップ(塔頂)より間欠的に留出させた。この間、重合の発生は認められなかった。反応は6時間で終了し、cis-3,3,5−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート約42重量%を含む反応混合物192gを得た。
<共重合体〔A〕の製造>
〔合成例1〕
第一段階として、メタクリル酸メチル60部(以下、部は重量部を表す)、3,3,5-トリメチルシクロヘキシルメタクリレート175部、メタクリル酸60部を混合し均一なモノマー混合溶液を得た。
次に、撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗、温度計を備えた2リットルの4つ口フラスコに溶媒としてジエチレングリコールジメチルエーテル680部を仕込んで窒素ガス気流下に80℃まで加熱し、ここへ重合開始剤である2,2−アゾビスイソブチロニトリル20部を添加し残りのモノマー混合溶液を2時間かけて滴下した。このときの重合温度は79〜81℃の範囲を維持し、滴下終了後、同温度範囲に2時間維持した後、2,2−アゾビスイソブチロニトリル8部を添加し残存モノマーを重合させ、さらに同温度で3時間保持したあと重合を終結させた。その後、重合生成溶液をシクロヘキサン/酢酸エチル溶媒に滴下して樹脂を凝固させた。この凝固物をシクロヘキサンで洗浄後、ジエチレングリコールジメチルエーテル500gに溶解し、シクロヘキサン/酢酸エチル溶媒で再度、凝固させた。この再溶解/凝固操作を3回行った後、凝固物をジエチレングリコールジメチルエーテルに溶解し、減圧下でシクロヘキサン/トルエンを留去し、固形分濃度が30%となるようにジエチレングリコールジメチルエーテルを用いて共重合体溶液を得た。
〔合成例2〕
合成例1における第一段階で使用したメタクリル酸メチルをメタクリル酸ベンジルに置き換えた以外は合成例1と同様の方法で共重合体を製造した。
〔合成例3〕
合成例1における第一段階で便用したメタクリル酸メチルをスチレンに置き換えた以外は合成例1と同様の方法で共重合体を製造した。
〔合成例4〕
合成例1における第一段階で使用するモノマーをメタクリル酸メチル175部、スチレン60部、メタクリル酸60部、すなわち、cis-3,3,5−トリメチルシクロヘキシルメタクリレートを用いないモノマー混合液を調製した。それ以外は合成例1と同様の方法で共重合体を製造した。
〔合成例5〕
合成例1における第一段階で使用するモノマーをメタクリル酸ベンジル175部、スチレン60部、メタクリル酸60部、すなわち、cis-3,3,5−トリメチルシクロヘキシルメタクリレートを用いないモノマー混合液を調製した。それ以外は合成例1と同様の方法で共重合体を製造した。
〔合成例6〕
表2に示すモノマー混合液を調製した。それ以外は合成例1と同様の方法で共重合体を製造した。
(実施例1)
合成例1で得られた共重合体溶液100gをジエチレングリコールジメチルエーテル100gで希釈した後、セロキサイド2021(ダイセル化学社製)を8g、テトラメチルアンモニウムブロマイド0.5gを溶解し、孔径0.2μmのフィルターでろ過して組成物溶液(1)を得た。また、得られた組成物溶液は下記の要領で試験を行った。
≪透明性の評価≫
硬化後の膜厚が約3μmになるように組成物溶液を塗布したガラス板を用い、クリーンオーブン中で200℃/1時間加熱することで試験用塗膜を形成した。得られた基板を分光光度計を用いて400〜800nmの透過率を測定した。このとき最低透過率が95%を超えた場合を○、90〜95%の場合を△、90%未満の場合を×とした。その結果、組成物溶液(1)より得られた塗膜は良好な透明性(○)であった。
≪耐熱性の評価≫
250℃のクリーンオーブンを用いて1時間加熱した後、膜厚を測定した。そして透明性評価で作製した基板の膜厚に対する残膜率を用いて、その残膜率が95%を超えた場合を○、90〜95%の場合を△、90%未満の場合を×とした。その結果、組成物溶液(1)より得られた塗膜は良好な耐熱性(○)であった。
≪硬度の測定≫
透明性評価のために作製した基板を用いてJIS K−5400の鉛筆引っかき試験に準拠し、評価は、塗膜のすり傷により鉛筆硬度を測定し、表面硬度の測定を行った。その結果、組成物溶液(1)より得られた塗膜硬度は4Hであった。
(実施例2)
合成例2で得られた共重合体溶液を用いた以外は実施例1と同様に組成物溶液を調製し、塗膜評価を行った。その結果、塗膜の透明性、耐熱性は良好(○)で、塗膜硬度も4Hであった。
(実施例3)
合成例3で得られた共重合体溶液を用いた以外は実施例1と同様に組成物溶液を調製し、塗膜評価を行った。その結果、塗膜の透明性、耐熱性は良好(○)で、塗膜硬度も4Hであった。
(実施例4)
合成例1で得られた共重合体溶液100gをプロピレングリコールメチルエーテルアセテート(PGMEA)100gで希釈した後、セロキサイド2021(ダイセル化学社製)を50g、SI−100L 0.5gを溶解し、孔径0.2μmのフィルターでろ過して組成物溶液を得た。また、得られた組成物溶液は実施例1と同じ要領で試験を行った。
(実施例5〜7)
合成例1、2、3で得られた各共重合体溶液100gをプロピレングリコールメチルエーテルアセテート(PGMEA)100gで希釈した後、セロキサイド2021(ダイセル化学社製)を50g、Uvacure1590 1.0gを溶解し、孔径0.2μmのフィルターでろ過して組成物溶液を得た。また、得られた組成物溶液は実施例1と同じ要領で試験を行った。
(比較例1)
合成例4で得られた共重合体溶液を用いた以外は実施例1と同様に組成物溶液を調製し、塗膜評価を行った。その結果、塗膜の透明性は良好(○)であったが、耐熱性は(△)、塗膜硬度は3Hであった。
(比較例2)
合成例5で得られた共重合体溶液を用いた以外は実施例1と同様に組成物溶液を調製し、塗膜評価を行った。その結果、塗膜の透明性は良好(○)であったが、耐熱性は(×)、塗膜硬度は3Hであった。
(比較例3)
合成例6で得られた共重合体溶液を用いた以外は実施例1と同様に組成物溶液を調製し、塗膜を作成したが、膜が非常に脆く乾燥後の冷却時に前面にクラックが発生し塗膜評価ができなかった。
(比較例4〜5)
合成例4、5で得られた各共重合体溶液100gをプロピレングリコールメチルエーテルアセテート(PGMEA)100gで希釈した後、セロキサイド2021(ダイセル化学社製)を50g、Uvacure1590 1.0gを溶解し、孔径0.2μmのフィルターでろ過して組成物溶液を得た。また、得られた組成物溶液は実施例1と同じ要領で試験を行った。
表1および表2に評価結果をまとめて示す。
表1および表2の結果から、本発明の光および/または熱硬化性樹脂組成物を硬化してなる硬化物は透明性を損なうことなく、硬度や耐熱性に優れることが明らかである。

Claims (6)

  1. (a−1):下記構造式で表される3,3,5-トリアルキルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、(a−2):エチレン性不飽和モノマー[ただし、上記(a−1)および下記の(a−3)を除く]、(a−3):(a−1)、(a−2)モノマーと共重合可能なカルボキシル基含有エチレン性不飽和モノマー[ただし、上記(a−1)を除く]の共重合体〔A〕、多官能エポキシ化合物〔B〕、硬化促進剤〔C〕および必要に応じて少なくとも1個の(メタ)アクリロイル基を有する化合物〔D〕[ただし、上記(a−1)、(a−2)および(a−3)を除く]を含み、前記成分(a−1)、(a−2)および(a−3)の共重合比率(モル比)が、(a−1)/(a−2)/(a−3)=80〜2/9〜43/11〜55であり、前記多官能エポキシ化合物〔B〕の配合量が、共重合体〔A〕のカルボキシル基と多官能エポキシ化合物〔B〕のエポキシ基の当量比(カルボキシ基/エポキシ基)が0.1〜1.5となる量であることを特徴とする光および/または熱硬化性樹脂組成物
    (R1 は水素原子又は1〜C7の炭化水素基を表し、R2〜R4はC1〜C7の炭化水素基を表す。)
  2. (a−1)がcis-3,3,5-トリアルキルシクロヘキシル(メタ)アクリレートである請求項1に記載の光および/または熱硬化性樹脂組成物。
  3. (a−1)がtrans-3,3,5-トリアルキルシクロヘキシル(メタ)アクリレートまたはcis-3,3,5-トリアルキルシクロヘキシル(メタ)アクリレートとtrans-3,3,5-トリアルキルシクロヘキシル(メタ)アクリレートとの混合物である請求項1に記載の光および/または熱硬化性樹脂組成物。
  4. 多官能エポキシ化合物〔B〕が多官能脂環式エポキシ化合物である請求項1に記載の光および/または熱硬化性樹脂組成物。
  5. 請求項1〜4のいずれかに記載の光および/または熱硬化性樹脂組成物を硬化してなる硬化物。
  6. 液状レジスト、ドライフィルム、液晶ディスプレイ用に使用されるカラーフィルター、顔料レジスト、コーティング保護膜から選ばれるいずれか一つの1成分として使用される請求項1〜4のいずれかに記載の光および/または熱硬化性樹脂組成物。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5138988B2 (ja) * 2007-06-18 2013-02-06 株式会社Dnpファインケミカル アルカリ可溶型樹脂、アルカリ可溶型感光性着色組成物、およびカラーフィルタ
JP5193509B2 (ja) * 2007-06-18 2013-05-08 株式会社Dnpファインケミカル アルカリ可溶型樹脂、アルカリ可溶型感光性着色組成物、およびカラーフィルタ
US8586284B2 (en) 2008-03-21 2013-11-19 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive resin composition, photosensitive element, method of forming resist pattern, and process for producing printed wiring board
JP5594228B2 (ja) * 2011-05-26 2014-09-24 東亞合成株式会社 2−(2−オキソ−3−オキサゾリジニル)エチル=アクリラートを含む重合体、分散剤及び顔料分散液
KR102092554B1 (ko) * 2016-07-29 2020-03-24 한국다이요잉크 주식회사 지문 인식 센서 모듈의 착색층용 드라이 필름 조성물 및 그 경화물인 착색층을 갖는 지문 인식 센서 모듈
WO2019013097A1 (ja) * 2017-07-12 2019-01-17 株式会社Dnpファインケミカル 活性エネルギー線硬化型インク組成物、及び活性エネルギー線硬化型インク組成物の製造方法、並びに、このインク組成物を用いた積層体、及び基材上に像を形成する像形成方法及び印刷物の製造方法
JP2019019176A (ja) * 2017-07-12 2019-02-07 株式会社Dnpファインケミカル 活性エネルギー線硬化型インク組成物、及び活性エネルギー線硬化型インク組成物の製造方法、並びに、このインク組成物を用いた積層体、及び基材上に像を形成する像形成方法及び印刷物の製造方法
WO2022163701A1 (ja) * 2021-01-28 2022-08-04 太陽インキ製造株式会社 感光性樹脂組成物およびプリント配線板の製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63289009A (ja) * 1987-05-21 1988-11-25 Hitachi Chem Co Ltd 耐擦傷性透明プラスチツク板
DE4326656A1 (de) * 1993-08-09 1995-02-16 Hoechst Ag Hydroxylgruppen enthaltende Copolymerisate, ihre Herstellung und ihre Verwendung in festkörperreichen Beschichtungsmitteln
JP2002146144A (ja) * 2000-11-13 2002-05-22 Nippon Shokubai Co Ltd (メタ)アクリル酸エステル系樹脂組成物
JP2003119228A (ja) * 2001-10-09 2003-04-23 Daicel Chem Ind Ltd 光および/または熱硬化性樹脂組成物

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