JP4803398B2 - 積層型永久磁石 - Google Patents
積層型永久磁石 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4803398B2 JP4803398B2 JP2007512916A JP2007512916A JP4803398B2 JP 4803398 B2 JP4803398 B2 JP 4803398B2 JP 2007512916 A JP2007512916 A JP 2007512916A JP 2007512916 A JP2007512916 A JP 2007512916A JP 4803398 B2 JP4803398 B2 JP 4803398B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- permanent magnet
- layer
- laminated
- rare earth
- laminated permanent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 176
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 66
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 66
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 40
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 claims description 40
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 29
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 22
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 12
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 claims description 6
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 claims description 3
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 30
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 16
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 8
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 4
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910001172 neodymium magnet Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 2
- 238000001552 radio frequency sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000004663 powder metallurgy Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 1
- 229910000938 samarium–cobalt magnet Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/08—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers
- H01F10/10—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
- H01F10/12—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys
- H01F10/126—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys containing rare earth metals
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/08—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers
- H01F10/10—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
- H01F10/12—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys
- H01F10/14—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys containing iron or nickel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/26—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by the substrate or intermediate layers
- H01F10/265—Magnetic multilayers non exchange-coupled
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F7/00—Magnets
- H01F7/02—Permanent magnets [PM]
- H01F7/0205—Magnetic circuits with PM in general
- H01F7/021—Construction of PM
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
- H02K1/00—Details of the magnetic circuit
- H02K1/06—Details of the magnetic circuit characterised by the shape, form or construction
- H02K1/22—Rotating parts of the magnetic circuit
- H02K1/27—Rotor cores with permanent magnets
- H02K1/2706—Inner rotors
- H02K1/272—Inner rotors the magnetisation axis of the magnets being perpendicular to the rotor axis
- H02K1/2726—Inner rotors the magnetisation axis of the magnets being perpendicular to the rotor axis the rotor consisting of a single magnet or two or more axially juxtaposed single magnets
- H02K1/2733—Annular magnets
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
- H02K15/00—Methods or apparatus specially adapted for manufacturing, assembling, maintaining or repairing of dynamo-electric machines
- H02K15/02—Methods or apparatus specially adapted for manufacturing, assembling, maintaining or repairing of dynamo-electric machines of stator or rotor bodies
- H02K15/03—Methods or apparatus specially adapted for manufacturing, assembling, maintaining or repairing of dynamo-electric machines of stator or rotor bodies having permanent magnets
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Permanent Field Magnets Of Synchronous Machinery (AREA)
- Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
- Hard Magnetic Materials (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
2 希土類金属層
3 合金磁性層
4 (Nd,R)FeB層
5 非磁性基板
6 バッファ層
7 保護層
8 棒状部材
10mm角のSi非磁性基板の(100)面上に、多元RFスパッタ装置で、バッファ層としてTiを100nm堆積させ、その後、Dyと合金磁性層とをそれぞれ100nm、500nmの厚さで交互に20層ずつ堆積させ、最後にTiを500nm堆積させ保護層とした。
10mm角のSi非磁性基板の(100)面上に、多元RFスパッタ装置で、バッファ層としてTiを100nm堆積させ、その上に、合金磁性層を500nm、Tiを100nm、この順に交互に堆積させ、最後にTiを500nm堆積させ保護層とした。上記以外の条件は実施例1と同等に行って、前記試料振動型磁力計にて合金磁性層の面内方向と、面に垂直な方向の磁化曲線を測定したところ、図4の磁化曲線のように、面に垂直な方向の磁化曲線ではJr = 0.6T、HCJ = 425kA/mの磁気特性を示し、面内方向の磁化曲線ではJr=0.39T、HCJ =525kA/mの磁気特性を示した。しかしながら本比較例の積層型永久磁石の反磁場Hdは、実施例1と同様の計算により、Hd = 477kA/mとなり、反磁場が保磁力を上回ったため磁化反転が起こり、実質的な残留磁化はほぼ零となった。従って、比較例1と実施例1とを比較した結果、実施例1はTiの代わりにDyを用いることにより、積層構造による残留磁束密度の向上に加えて、保磁力が上昇することが確認された。なお、図4において、実線で示す磁化曲線が前記面に垂直な方向の磁化曲線であり、一点鎖線で示す磁化曲線が前記面内方向の磁化曲線である。
非磁性基板としてサファイアを用いると共に、バッファ層としてTiをそれぞれ10nm又は100nmの2種類形成し、それ以外は実施例1と同じ条件で積層型永久磁石を作成し、結晶化熱処理を行った。その結果、バッファ層10nmの積層型永久磁石は結晶化熱処理を行ったところ、非磁性基板との反応で酸化し、永久磁石特性を示さなかった。一方、バッファ層100nmの積層型永久磁石は実施例1と同等の磁気特性を示したことが確認された。
最表層に保護層としてTiを形成しない以外は、実施例1と全く同じ条件で積層型永久磁石を作製し、1週間空気中に放置したところ、実施例1の積層型永久磁石はBr、 HCJ、外観ともに変化は無かったが、保護層を形成しなかった方は、HCJが10%程度減少した。
棒状部材として、直径0.1mm、長さ10mmのMoを用いた。棒状部材円周面の両端部3mmに耐熱テープを巻き、中央部にのみ積層型永久磁石を形成するためのマスクとした。
棒状部材として、直径0.1mm、長さ10mmのTiを用いた。Ti円周面の両端部3mmに耐熱テープを巻き、中央部にのみ積層型永久磁石を形成するためのマスクとした。
Claims (8)
- Dy、Tbのうち少なくとも1種の金属からなる希土類金属層と、(Nd,R)FeB層(RはDy、Tbのうち少なくとも1種の希土類金属)と、正方晶Nd2Fe14Bを含む合金磁性層と、(Nd,R)FeB層(RはDy、Tbのうち少なくとも1種の希土類金属)とが繰り返し積層して形成されており、前記合金磁性層の面内方向よりも、前記合金磁性層の面に垂直な方向の残留磁束密度及び保磁力が大きいことを特徴とする積層型永久磁石。
- 前記積層型永久磁石が非磁性基板上に形成されており、前記積層型永久磁石と前記非磁性基板との界面に、Ti、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、Wのうち少なくとも1種以上からなる厚さ50nm以上5μm以下のバッファ層が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の積層型永久磁石。
- 非磁性材からなる円柱状もしくは円筒状の棒状部材を備えると共に、Dy、Tbのうち少なくとも1種の金属からなる希土類金属層と、(Nd,R)FeB層(RはDy、Tbのうち少なくとも1種の希土類金属)と、正方晶Nd2Fe14Bを含む合金磁性層と、(Nd,R)FeB層(RはDy、Tbのうち少なくとも1種の希土類金属)とが繰り返し前記棒状部材の円周面上に同心円状に積層されて、円柱状もしくは円筒状に形成されてなることを特徴とする積層型永久磁石。
- 前記積層型永久磁石と前記棒状部材との界面に、Ti、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、Wのうち少なくとも1種以上からなる厚さ50nm以上5μm以下のバッファ層が形成されていることを特徴とする請求項3に記載の積層型永久磁石。
- 前記合金磁性層の厚さが100nm以上5μm以下であり、前記(Nd,R)FeB層の厚さが10nm以上2μm以下であることを特徴とする請求項1から4の何れかに記載の積層型永久磁石。
- 前記積層型永久磁石の最表層を前記希土類金属層とすると共に、前記最表層上にAl、Tiのうち少なくとも1種以上からなる保護層が形成されていることを特徴とする請求項1から5の何れかに記載の積層型永久磁石。
- Dy、Tbのうち少なくとも1種の金属からなる希土類金属層と、正方晶Nd2Fe14Bを含む合金磁性層とを、物理蒸着法により非磁性基板の面上に繰り返し堆積し、
次に、真空もしくはアルゴン雰囲気中にて500℃以上900℃以下で加熱する工程とを包含することを特徴とする積層型永久磁石の製造方法。 - 請求項3から6の何れかに記載の積層型永久磁石を回転子或いは固定子とすることを特徴としたモータ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007512916A JP4803398B2 (ja) | 2005-04-05 | 2006-04-04 | 積層型永久磁石 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005108860 | 2005-04-05 | ||
JP2005108860 | 2005-04-05 | ||
PCT/JP2006/307079 WO2006109615A1 (ja) | 2005-04-05 | 2006-04-04 | 積層型永久磁石 |
JP2007512916A JP4803398B2 (ja) | 2005-04-05 | 2006-04-04 | 積層型永久磁石 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2006109615A1 JPWO2006109615A1 (ja) | 2008-11-06 |
JP4803398B2 true JP4803398B2 (ja) | 2011-10-26 |
Family
ID=37086893
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007512916A Expired - Fee Related JP4803398B2 (ja) | 2005-04-05 | 2006-04-04 | 積層型永久磁石 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4803398B2 (ja) |
WO (1) | WO2006109615A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4988713B2 (ja) * | 2006-03-20 | 2012-08-01 | 並木精密宝石株式会社 | 薄膜希土類磁石及びその製造方法 |
WO2013135256A2 (de) * | 2012-03-13 | 2013-09-19 | Brose Fahrzeugteile GmbH & Co. Kommanditgesellschaft, Würzburg | Elektrische maschine |
US9786419B2 (en) | 2013-10-09 | 2017-10-10 | Ford Global Technologies, Llc | Grain boundary diffusion process for rare-earth magnets |
CN105185497B (zh) * | 2015-08-28 | 2017-06-16 | 包头天和磁材技术有限责任公司 | 一种永磁材料的制备方法 |
CN113299476B (zh) * | 2021-06-24 | 2023-02-17 | 安徽大地熊新材料股份有限公司 | 一种大尺寸钕铁硼扩散磁体及其制备方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6274048A (ja) * | 1985-09-27 | 1987-04-04 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 永久磁石材料及びその製造方法 |
JPH01117303A (ja) * | 1987-10-30 | 1989-05-10 | Taiyo Yuden Co Ltd | 永久磁石 |
JPH04163744A (ja) * | 1990-10-26 | 1992-06-09 | Nec Corp | 光磁気記録媒体 |
JPH0883713A (ja) * | 1994-09-09 | 1996-03-26 | Mitsubishi Electric Corp | 薄膜磁石およびその製造方法ならびに円筒形強磁性薄膜 |
JPH09219313A (ja) * | 1995-12-08 | 1997-08-19 | Hitachi Metals Ltd | R−tm−b系硬磁性薄膜およびその製造方法 |
JPH09237714A (ja) * | 1995-12-27 | 1997-09-09 | Hitachi Metals Ltd | 薄膜磁石ならびにr−tm−b系交換スプリング磁石およびその製造方法 |
JP2004304038A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Japan Science & Technology Agency | 超小型製品用の微小、高性能希土類磁石とその製造方法 |
-
2006
- 2006-04-04 JP JP2007512916A patent/JP4803398B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2006-04-04 WO PCT/JP2006/307079 patent/WO2006109615A1/ja active Application Filing
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6274048A (ja) * | 1985-09-27 | 1987-04-04 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 永久磁石材料及びその製造方法 |
JPH01117303A (ja) * | 1987-10-30 | 1989-05-10 | Taiyo Yuden Co Ltd | 永久磁石 |
JPH04163744A (ja) * | 1990-10-26 | 1992-06-09 | Nec Corp | 光磁気記録媒体 |
JPH0883713A (ja) * | 1994-09-09 | 1996-03-26 | Mitsubishi Electric Corp | 薄膜磁石およびその製造方法ならびに円筒形強磁性薄膜 |
JPH09219313A (ja) * | 1995-12-08 | 1997-08-19 | Hitachi Metals Ltd | R−tm−b系硬磁性薄膜およびその製造方法 |
JPH09237714A (ja) * | 1995-12-27 | 1997-09-09 | Hitachi Metals Ltd | 薄膜磁石ならびにr−tm−b系交換スプリング磁石およびその製造方法 |
JP2004304038A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Japan Science & Technology Agency | 超小型製品用の微小、高性能希土類磁石とその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2006109615A1 (ja) | 2006-10-19 |
JPWO2006109615A1 (ja) | 2008-11-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4988713B2 (ja) | 薄膜希土類磁石及びその製造方法 | |
JPS62192566A (ja) | 永久磁石材料及びその製造方法 | |
JP4803398B2 (ja) | 積層型永久磁石 | |
JP4337209B2 (ja) | 永久磁石薄膜およびその製造方法 | |
JPWO2016157764A1 (ja) | 薄膜磁石および薄膜磁石の製造方法 | |
JP4915349B2 (ja) | 希土類磁石およびその製造方法 | |
JP4698581B2 (ja) | R−Fe−B系薄膜磁石及びその製造方法 | |
EP1329912B1 (en) | Thin film rare earth permanent magnet, and method for manufacturing the permanent magnet | |
JP3598171B2 (ja) | 交換スプリング磁石およびその製造方法 | |
JP6353901B2 (ja) | 磁性材料 | |
JP4483166B2 (ja) | 永久磁石薄膜 | |
JP2012109490A (ja) | 希土類永久磁石薄膜の製造方法 | |
JP4977307B2 (ja) | 小型モータ | |
JP5390996B2 (ja) | 希土類高配向磁性薄膜とその製造方法、磁器部材および希土類永久磁石 | |
JP4457530B2 (ja) | 永久磁石薄膜 | |
Kruusing | Nd–Fe–B films and microstructures | |
JP2004356544A (ja) | 厚膜交換スプリング磁石、その製造方法及び磁石モータ | |
JPH11288812A (ja) | 高保磁力R−Fe−B系薄膜磁石及びその製造方法 | |
JPH04219912A (ja) | 希土類薄膜磁石の形成方法 | |
KR100826661B1 (ko) | R-Fe-B계 박막자석 및 그 제조방법 | |
JP2016207680A (ja) | 薄膜磁石 | |
CN114999801A (zh) | 一种提高NdFeB基永磁厚膜矫顽力的方法 | |
JP2001217124A (ja) | R‐Fe‐B系垂直磁気異方性薄膜磁石及びその製造方法 | |
JP2003178918A (ja) | 希土類薄膜磁石 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090331 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090427 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090427 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090629 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090427 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110411 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110711 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110726 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140819 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140819 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |