JP4871406B1 - マグネトロンスパッタリング用ターゲットおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ターゲットに含まれる強磁性金属元素の含有量を減少させずに、マグネトロンスパッタリング時の漏洩磁束量を従来よりも増加させることができるマグネトロンスパッタリング用ターゲットを提供する。
【解決手段】強磁性金属元素を有するマグネトロンスパッタリング用ターゲットであって、前記強磁性金属元素を含む磁性相１２と、前記強磁性金属元素を含み、かつ、構成元素またはその含有割合の異なる複数の非磁性相１４、１６と、酸化物相１８とを有しており、前記磁性相１２および前記複数の非磁性相１４、１６からなる各相は、お互いに前記酸化物相１８により仕切られている。
【選択図】図１

Description

本発明は、強磁性金属元素を有するマグネトロンスパッタリング用ターゲットおよびその製造方法に関する。

マグネトロンスパッタリングでは、ターゲットの裏面に磁石を配置し、ターゲットの表面側に漏れ出る漏洩磁束によりプラズマを高密度に集中させる。これにより、安定した高速スパッタリングを可能としている。

このため、マグネトロンスパッタリングに用いられるターゲットには、ターゲットの表面側に漏れ出る漏洩磁束の量を多くすることが求められる。

例えば、特許文献１には、Ｃｏを有するマグネトロンスパッタリング用ターゲットであって、Ｃｏを含む磁性相と、Ｃｏを含む非磁性相と、酸化物相と、を有し、該磁性相と該非磁性相と該酸化物相とが互いに分散しており、該磁性相はＣｏおよびＣｒを主成分として含み、該磁性相におけるＣｏの含有割合は、７６ａｔ％以上８０ａｔ％以下であることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットや、Ｃｏを有するマグネトロンスパッタリング用ターゲットであって、Ｃｏを含む磁性相と、Ｃｏを含む非磁性相と、を有し、該磁性相と該非磁性相とが互いに分散しており、該非磁性相はＰｔを主成分として含むＰｔ−Ｃｏ合金相であり、該Ｐｔ−Ｃｏ合金相におけるＣｏの含有割合は、０ａｔ％より大きく１３ａｔ％以下であることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットが記載されている。

これらのマグネトロンスパッタリング用ターゲットは、ターゲットに含まれる強磁性金属元素であるＣｏの含有量を減少させずに、マグネトロンスパッタリング時に、ターゲット表面からの漏洩磁束の量を増加させることができ、マグネトロンスパッタリングを良好に行うことができる。

特許第４４２２２０３号公報

しかしながら、ターゲットに含まれる強磁性金属元素の含有量を減少させずに、マグネトロンスパッタリング時の漏洩磁束量をさらに増加させることが求められている。

本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであって、ターゲットに含まれる強磁性金属元素の含有量を減少させずに、マグネトロンスパッタリング時の漏洩磁束量を従来よりも増加させることができるマグネトロンスパッタリング用ターゲットおよびその製造方法を提供することを課題とする。

本発明は、強磁性金属元素を有するマグネトロンスパッタリング用ターゲットであって、前記強磁性金属元素を含む磁性相と、前記強磁性金属元素を含み、かつ、構成元素またはその含有割合の異なる複数の非磁性相と、酸化物相とを有しており、前記磁性相と前記非磁性相とはお互いに前記酸化物相により仕切られ、前記磁性相同士はお互いに前記酸化物相により仕切られ、さらに、前記非磁性相同士はお互いに前記酸化物相により仕切られていることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットにより、前記課題を解決したものである。

ここで、「磁性相および複数の非磁性相からなる各相がお互いに酸化物相により仕切られている」とは、各相間における原子の拡散が酸化物相によって防止されている状態のことである。

また、「磁性相」とは、磁性を有している相（通常の磁性体と比べて磁性が十分に小さい相を除く）のことであり、「非磁性相」とは、磁性がゼロの相だけでなく、通常の磁性体と比べて磁性が十分に小さい相も含む概念である。

本発明によれば、強磁性金属元素を含み、かつ、構成元素またはその含有割合の異なる複数の非磁性相を設けることにより、ターゲット全体における強磁性金属元素の量を一定に保ったまま、前記強磁性金属元素を含む磁性相のターゲット全体に対する体積分率を減少させることができ、ターゲット全体の磁性を減少させることができる。これにより、ターゲットに含まれる強磁性金属元素の含有量を減少させずに、マグネトロンスパッタリング時に、ターゲット表面からの漏洩磁束の量を増加させることができ、マグネトロンスパッタリングを良好に行うことができる。

前記複数の非磁性相は、例えば２種の非磁性相とすることができる。

前記強磁性金属元素は、例えばＣｏであり、この場合、前記ターゲットを用いてマグネトロンスパッタリングを行うと、磁気記録特性に優れた磁気記録媒体を得やすい。

前記磁性相は、例えばＣｏおよびＣｒを主成分として含むＣｏ−Ｃｒ合金相とすることができ、この場合、ターゲット全体に対する非磁性相の体積分率を大きくして磁性相の体積分率を小さくし、ターゲット表面からの漏洩磁束の量を増加させる点で、該磁性相におけるＣｏの含有割合は、８５ａｔ％以上であることが好ましい。さらに、前記の点で、前記磁性相をＣｏ単体からなる相とすることはより好ましい。

前記非磁性相のうちの少なくとも１つは、Ｃｏの含有割合が０ａｔ％より大きく７５ａｔ％以下であるＣｏ−Ｃｒ合金相またはＣｏの含有割合が０ａｔ％より大きく７３ａｔ％以下であるＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金相からなることが好ましく、また、前記非磁性相のうちの少なくとも１つは、Ｃｏの含有割合が１２ａｔ％以下であるＣｏ−Ｐｔ合金相からなることが好ましい。

前記酸化物相は、例えば、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔｉ₂Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₅、Ｃｒ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、Ｃｏ₃Ｏ₄、Ｂ₂Ｏ₅、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｕＯ、Ｙ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、ＭｏＯ₃、ＣｅＯ₂、Ｓｍ₂Ｏ₃、Ｇｄ₂Ｏ₃、ＷＯ₂、ＷＯ₃、ＨｆＯ₂、ＮｉＯ₂のうちの少なくとも１種を含むものとすることができる。

前記ターゲットの中には、磁気記録層の形成に好適に用いることができるものがある。

前記ターゲットは、例えば、強磁性金属元素を含む磁性金属粉末と酸化物粉末とを混合分散して磁性混合粉末を得る工程と、前記強磁性金属元素を含み、かつ、構成元素またはその含有割合の異なる複数の非磁性金属粉末を、それぞれ酸化物粉末と混合分散して複数の非磁性混合粉末を得る工程と、前記磁性混合粉末と前記複数の非磁性混合粉末とを混合分散して加圧焼結用混合粉末を得る工程と、を有することを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットの製造方法により製造することができる。

また、前記ターゲットは、例えば、強磁性金属元素を含む磁性金属粉末と酸化物粉末とを混合分散して磁性混合粉末を得る工程と、前記強磁性金属元素を含み、かつ、構成元素またはその含有割合の異なる複数の非磁性金属粉末を、それぞれ酸化物粉末と混合分散して複数の非磁性混合粉末を得る工程と、前記磁性混合粉末と前記複数の非磁性混合粉末と酸化物粉末とを混合分散して加圧焼結用混合粉末を得る工程と、を有することを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットの製造方法により製造することができる。

ここで、磁性金属粉末とは、磁性を有している粉末（通常の磁性体と比べて磁性が十分に小さい粉末を除く）のことであり、非磁性金属粉末とは、磁性がゼロの粉末だけでなく、通常の磁性体と比べて磁性が十分に小さい粉末も含む概念である。

前記磁性混合粉末中の磁性金属粒子の周囲が酸化物粉末に覆われ、かつ、前記複数の非磁性混合粉末中の非磁性金属粒子の周囲が酸化物粉末に覆われていることが好ましい。

前記複数の非磁性金属粉末は、例えば２種の非磁性金属粉末とすることができる。

前記強磁性金属元素は、例えばＣｏであり、この場合、前記製造方法により製造したターゲットを用いてマグネトロンスパッタリングを行うと、磁気記録特性に優れた磁気記録媒体を得やすい。

前記磁性金属粉末がＣｏおよびＣｒを主成分として含み、該磁性金属粉末におけるＣｏの含有割合が８５ａｔ％以上であることは、製造されるターゲットの漏洩磁束率を向上させる点で好ましく、前記磁性金属粉末はＣｏ単体からなることがより好ましい。

前記複数の非磁性金属粉末のうち少なくとも１つは、Ｃｏの含有割合が０ａｔ％より大きく７５ａｔ％以下であるＣｏ−Ｃｒ合金またはＣｏの含有割合が０ａｔ％より大きく７３ａｔ％以下であるＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金からなることが好ましく、また、前記複数の非磁性金属粉末のうち少なくとも１つは、Ｃｏの含有割合が１２ａｔ％以下であるＣｏ−Ｐｔ合金からなることが好ましい。

本発明によれば、ターゲットに含まれる強磁性金属元素の含有量を減少させずに、マグネトロンスパッタリング時に、ターゲット表面からの漏洩磁束の量を従来よりも増加させることができ、マグネトロンスパッタリングを良好に行うことができる。

本実施形態に係るターゲットのミクロ構造を示す一例の金属顕微鏡写真 Ｃｏ−Ｃｒ合金において、Ｃｏの含有割合と磁性との関係を示すグラフ図 Ｃｏ−Ｐｔ合金において、Ｃｏの含有割合と磁性との関係を示すグラフ図 磁性混合粉末を加圧焼結して得た焼結体の断面の金属顕微鏡写真 第１の磁性混合粉末を加圧焼結して得た焼結体の断面の金属顕微鏡写真 第２の磁性混合粉末を加圧焼結して得た焼結体の断面の金属顕微鏡写真 第２の磁性混合粉末を加圧焼結して得た焼結体の断面の金属顕微鏡写真 実施例１のテストピースの厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（低倍率） 実施例１のテストピースの厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（高倍率） 実施例１のテストピースの厚さ方向断面のＳＥＭ写真（低倍率） 実施例１のテストピースの厚さ方向断面のＳＥＭ写真（高倍率） 実施例２のテストピースの厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（低倍率） 実施例２のテストピースの厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（高倍率） 実施例２のテストピースの厚さ方向断面のＳＥＭ写真（低倍率） 実施例２のテストピースの厚さ方向断面のＳＥＭ写真（高倍率） 比較例１のテストピースの厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（低倍率） 比較例１のテストピースの厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（高倍率） 比較例１のテストピースの厚さ方向断面のＳＥＭ写真（低倍率） 比較例１のテストピースの厚さ方向断面のＳＥＭ写真（高倍率） 比較例２のテストピースの厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（低倍率） 比較例２のテストピースの厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（高倍率） 比較例２のテストピースの厚さ方向断面のＳＥＭ写真（低倍率） 比較例２のテストピースの厚さ方向断面のＳＥＭ写真（高倍率） 比較例３のテストピースの厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（低倍率） 比較例３のテストピースの厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（高倍率） 比較例５のテストピースの厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（低倍率） 比較例５のテストピースの厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（高倍率）

本発明に係るマグネトロンスパッタリング用ターゲットは、強磁性金属元素を有するマグネトロンスパッタリング用ターゲットであって、前記強磁性金属元素を含む磁性相と、前記強磁性金属元素を含み、かつ、構成元素またはその含有割合の異なる複数の非磁性相と、酸化物相とを有しており、前記磁性相および前記複数の非磁性相からなる各相は、お互いに前記酸化物相により仕切られていることを特徴とする。ここで、前記磁性相および前記複数の非磁性相からなる各相がお互いに酸化物相により仕切られている状態とは、前記各相間における原子の拡散が酸化物相によって防止されている状態のことである。

本発明は、強磁性金属元素を含み、かつ、構成元素またはその含有割合の異なる複数の非磁性相を設けることにより、ターゲット全体における強磁性金属元素を含む各構成元素の含有割合を一定に保ったまま、ターゲット全体に対する非磁性相の体積分率を大きくすることができ、ターゲット全体に対する磁性相の体積分率を小さくすることができる。これによりターゲット全体としての磁性を弱めることができ、マグネトロンスパッタリング時に、ターゲット表面からの漏洩磁束の量を増加させることができ、マグネトロンスパッタリングを良好に行うことができる。

例えば、後述するように、Ｃｏ−Ｃｒ合金ではＣｏの含有割合が７５ａｔ％以下のときその磁性はほとんどゼロになり、Ｃｏ−Ｐｔ合金ではＣｏの含有割合が１２ａｔ％以下のときその磁性はほとんどゼロになる。したがって、ターゲットに含まれる金属元素がＣｏ、Ｃｒ、Ｐｔの三元素の場合、非磁性相をＣｏの含有割合が７５ａｔ％以下のＣｏ−Ｃｒ合金相の１相またはＣｏの含有割合が１２ａｔ％以下のＣｏ−Ｐｔ合金相の１相とするより、非磁性相をＣｏの含有割合が７５ａｔ％以下のＣｏ−Ｃｒ合金相およびＣｏの含有割合が１２ａｔ％以下のＣｏ−Ｐｔ合金相の２相とする方が、ターゲット全体の組成を一定に保ったまま、ターゲット全体に対する非磁性相の体積分率を大きくすることができ、ターゲット全体に対する磁性相の体積分率を小さくすることができる。

このように、強磁性金属元素を含む非磁性相を、構成元素またはその含有割合の異なる複数の非磁性相とすることにより、非磁性相を１つとした場合よりも、ターゲット全体の組成を一定に保ったまま、ターゲット全体に対する非磁性相の体積分率を大きくすることができ、ターゲット全体に対する磁性相の体積分率を小さくすることができ、ターゲット全体としての磁性を弱めることができる。

なお、ターゲット全体の組成を一定に保ったまま、ターゲット全体に対する非磁性相の体積分率を大きくすると、磁性相の体積分率が小さくなり、磁性相の強磁性金属元素の含有割合は大きくなるが、後述するように、例えば、Ｃｏ−Ｃｒ合金ではＣｏの含有割合が８５ａｔ％以上となるとその磁性はＣｏ単体の磁性と同程度となり、それ以上Ｃｏの含有割合が増えても磁性は同程度を保つ。したがって、磁性相の強磁性金属元素の含有割合が一定の値以上となると、磁性相の強磁性金属元素の含有割合がそれ以上大きくなっても、磁性相の磁性は大きくは上昇しないと考えられる。このため、磁性相の強磁性金属元素の含有割合が大きくなっても、ターゲット全体に対する非磁性相の体積分率を大きくして、ターゲット全体に対する磁性相の体積分率を小さくすることにより、ターゲット全体としての磁性を弱めることができる。

また、本発明では、磁性相と複数の非磁性相とからなる各相は、酸化物相により仕切られて、各相間における原子の拡散が酸化物相によって防止されている。このため、ターゲット製造時の加圧焼結処理において、各相間で強磁性金属原子を含む構成金属原子の移動は起こらない。このため、磁性相と複数の非磁性相とからなる各相において、強磁性金属元素を含む各構成金属元素の含有割合は、加圧焼結処理を行う前の磁性金属粒子および非磁性金属粒子における含有割合と変わらない。したがって、各相における構成金属元素の含有割合を、磁性金属粒子および非磁性金属粒子における構成金属元素の含有割合で設定することができ、マグネトロンスパッタリング時のターゲット表面からの漏洩磁束の量を設計通りに増加させることができる。磁性相と複数の非磁性相とからなる各相において、強磁性金属元素を含む構成金属元素の含有割合が、加圧焼結処理を行う前の磁性金属粒子および非磁性金属粒子における含有割合から変動してしまうと、設計で想定した非磁性相とはならず、磁性相となってしまうおそれがあり、マグネトロンスパッタリング時のターゲット表面からの漏洩磁束の量は設計通りに増加しないおそれがある。

また、本発明に係るマグネトロンスパッタリング用ターゲットは、強磁性金属元素を有するので、磁気記録媒体の作製に用いることができる。本発明に適用可能な強磁性金属元素は、特に限定されず、例えばＣｏ、Ｆｅ、Ｎｉを用いることができる。強磁性金属元素としてＣｏを用いた場合、保磁力の大きい記録層（磁性層）を形成することができ、ハードディスクの作製に好適なターゲットとすることができる。

また、本発明に係るマグネトロンスパッタリング用ターゲットにおいて、磁性相および非磁性相に含まれる強磁性金属元素以外の金属元素は特に限定されず、例えば、Ｃｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｇ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｗ、Ｔａ、Ｃｕ、Ｂ、Ｍｏ等の金属元素を磁性相および／または非磁性相に含ませることができる。

以下では、磁気記録層の作製に好適に用いることができるＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃ターゲットを本発明の実施形態として取り上げ、具体的に説明する。本実施形態では、金属相を１つの磁性相と２つの非磁性相で構成した３相構造とするが、金属相を１つの磁性相と３つ以上の非磁性相で構成した４相以上の多相構造とすることもできる。

１．ターゲットの構成成分
本実施形態に係るターゲットの構成成分は、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃である。Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔは、スパッタリングによって形成される磁気記録層のグラニュラ構造において、磁性粒子（微小な磁石）となる。酸化物（ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃）は、グラニュラ構造において、磁性粒子（微小な磁石）を仕切る非磁性マトリックスとなる。

ターゲット全体に対する金属（Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ）の含有割合および酸化物（ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃）の含有割合は、目的とする磁気記録層の成分組成によって決まり、ターゲット全体に対する金属（Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ）の含有割合は８８〜９４ｍｏｌ％、ターゲット全体に対する酸化物（ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃）の含有割合は６〜１２ｍｏｌ％である。

Ｃｏは強磁性金属元素であり、磁気記録層のグラニュラ構造の磁性粒子（微小な磁石）の形成において中心的な役割を果たす。Ｃｏの含有割合は金属（Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ）全体に対して６０〜８０ａｔ％である。

Ｃｒは、所定の組成範囲でＣｏと合金化することによりＣｏの磁気モーメントを低下させる機能を有し、磁性粒子の磁性の強さを調整する役割を有する。Ｃｒの含有割合は金属（Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ）全体に対して４〜２４ａｔ％である。

Ｐｔは、所定の組成範囲でＣｏと合金化することによりＣｏの磁気モーメントを増加させる機能を有し、磁性粒子の磁性の強さを調整する役割を有する。Ｐｔの含有割合は金属（Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ）全体に対して１〜２２ａｔ％である。

なお、本実施形態では酸化物としてＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃を用いたが、用いる酸化物はＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃に限定されず、例えば、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔｉ₂Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₅、Ｃｒ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、Ｃｏ₃Ｏ₄、Ｂ₂Ｏ₅、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｕＯ、Ｙ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、ＭｏＯ₃、ＣｅＯ₂、Ｓｍ₂Ｏ₃、Ｇｄ₂Ｏ₃、ＷＯ₂、ＷＯ₃、ＨｆＯ₂、ＮｉＯ₂のうちの少なくとも１種を含む酸化物を用いることもできる。

２．ターゲットのミクロ構造
本実施形態に係るターゲットのミクロ構造は、図１（実施例１のターゲットの厚さ方向断面のＳＥＭ写真）を例にとって示すように、磁性相（Ｃｏの含有割合が８５ａｔ％以上のＣｏ−Ｃｒ合金相）、第１の非磁性相（Ｃｏの含有割合が０ａｔ％より大きく７３ａｔ％以下のＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金相）、第２の非磁性相（Ｃｏの含有割合が０ａｔ％より大きく１２ａｔ％以下のＣｏ−Ｐｔ合金相）がお互いに分散し、かつ、酸化物相によって仕切られ、お互いに接触していない構造となっている。なお、本実施形態では、磁性相（Ｃｏの含有割合が８５ａｔ％以上のＣｏ−Ｃｒ合金相）をＣｏの含有割合が１００ａｔ％のＣｏ単体相としてもよく、Ｃｏの含有割合が８５ａｔ％以上のＣｏ−Ｃｒ合金相には、Ｃｏの含有割合が１００ａｔ％のＣｏ単体相も含まれるものとする。

図１において、符号１０は本実施形態に係るターゲット、符号１２で示す相（灰色が濃く比較的大きな相）は磁性相（Ｃｏ相）、符号１４で示す相（磁性相１２および第２の非磁性相１６の中間的な灰色の濃さの相）は第１の非磁性相（６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金相）、符号１６で示す相（最も白っぽい相）は第２の非磁性相（５Ｃｏ−９５Ｐｔ合金相）、符号１８で示す部位（灰色が濃く、金属相の間を仕切っている部位）は酸化物相（ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃相）である。

金属相をＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金相の単相とせず、１つの磁性相（Ｃｏの含有割合が８５ａｔ％以上のＣｏ−Ｃｒ合金相）と２つの非磁性相（Ｃｏの含有割合が０ａｔ％より大きく７３ａｔ％以下のＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金相、Ｃｏの含有割合が０ａｔ％より大きく１２ａｔ％以下のＣｏ−Ｐｔ合金相）で構成した３相構造とすることにより、ターゲット全体における強磁性金属元素を含む各構成元素の含有割合を一定に保ったまま、ターゲット全体に対する磁性相の体積分率を小さくすることができる。これにより、ターゲット全体における各構成元素の含有割合を一定に保ったまま、ターゲット全体としての磁性を弱めることができ、マグネトロンスパッタリング時に、ターゲット表面からの漏洩磁束の量を増加させることができ、マグネトロンスパッタリングを良好に行うことができる。

本実施形態において、磁性相であるＣｏ−Ｃｒ合金相において、Ｃｏの含有割合を８５ａｔ％以上とした理由について説明する。

下記の表１は、Ｃｏ−Ｃｒ合金において、Ｃｏの含有割合を振って測定した磁性の評価尺度の引張応力（後述するように引張応力の値が大きいほど磁性が強くなる）についての実験結果であり、図２は、下記の表１をグラフにしたもので、Ｃｏ−Ｃｒ合金において、Ｃｏの含有割合と磁性との関係を示すグラフ図であり、横軸がＣｏの含有割合、縦軸が磁性の評価尺度の引張応力である。

表１、図２に示すように、Ｃｏ−Ｃｒ合金において、Ｃｏの含有割合が７５ａｔ％以下では、Ｃｏ−Ｃｒ合金の磁性はほとんど零であり、Ｃｏの含有割合が７５ａｔ％を超えると、磁性が急激に大きくなり始め、Ｃｏの含有割合が８３ａｔ％以上になると、磁性の増加が穏やかになりほぼ一定値となる。したがって、磁性相であるＣｏ−Ｃｒ合金においては、Ｃｏの含有割合を８３ａｔ％より増やしても、Ｃｏの含有割合が８３ａｔ％以上のときと比べて磁性はほとんど大きくならない。

そこで、本実施形態においては、Ｃｏ−Ｃｒ合金相におけるＣｏの含有割合を８５ａｔ％以上とし、Ｃｏの含有割合が８３ａｔ％のときと比べて磁性をほとんど大きくせずに、磁性相であるＣｏ−Ｃｒ合金相におけるＣｏの含有割合を大きくしている。Ｃｏ−Ｃｒ合金相におけるＣｏの含有割合が大きいほど、ターゲット全体におけるＣｏ量を一定に保ちつつ、磁性相であるＣｏ−Ｃｒ合金相の体積分率を小さく、非磁性相（Ｃｏの含有割合が０ａｔ％より大きく７３ａｔ％以下のＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金相、Ｃｏの含有割合が０ａｔ％より大きく１２ａｔ％以下のＣｏ−Ｐｔ合金相）の体積分率を大きくすることができ、ターゲット全体の磁性を小さくすることができる。

次に、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金相において、Ｃｏの含有割合を０ａｔ％より大きく７３ａｔ％以下としている理由について説明する。

表１、図２に示すように、Ｃｏ−Ｃｒ合金において、ＣｏとＣｒの合計に対するＣｏの含有割合を７５ａｔ％以下とすることにより、Ｃｏ−Ｃｒ合金の磁性をほとんど零のレベルにしたまま、合金中にＣｏを含有させることができる。Ｃｏ−Ｃｒ合金にＰｔを添加したＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金においても同様の傾向を示すと考えられるので、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔの合計に対するＣｏの含有割合を７５ａｔ％以下とすれば、Ｃｏ−Ｃｒ合金の磁性をほとんど零のレベルにしたまま、合金中にＣｏを含有させることができると考えることもできる。しかしながら、前述したようにＰｔは所定の組成範囲でＣｏと合金化することによりＣｏの磁気モーメントを増加させる機能を有するので、本実施形態ではＣｏ、Ｃｒ、Ｐｔの合計に対するＣｏの含有割合を７３ａｔ％以下とした。実際、後に示す実施例では、第１の非磁性相を６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金相（Ｃｏの含有割合は６９ａｔ％であり、７３ａｔ％以下である。）とすることにより、大きい漏洩磁束率が得られている。ただし、Ｃｏの含有割合が零では、非磁性相であるＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金相にＣｏを含有させたことにならず、ターゲット１０全体におけるＣｏを含む構成元素の含有割合を一定に保ったまま、Ｃｏ−Ｃｒ合金相（磁性相）の体積分率を減少させることに寄与しない。そこで、本実施形態においては、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金相におけるＣｏの含有割合を０ａｔ％より大きく７３ａｔ％以下として、ターゲット１０全体におけるＣｏを含む構成元素の含有割合を一定に保ったまま、Ｃｏ−Ｃｒ合金相（磁性相）の体積分率を減少させ、ターゲット全体の磁性を減少させて、良好なマグネトロンスパッタリングができるようにしている。

次に、Ｃｏ−Ｐｔ合金相において、Ｃｏの含有割合を０ａｔ％より大きく１２ａｔ％以下としている理由について説明する。

下記の表２は、Ｃｏ−Ｐｔ合金において、Ｃｏの含有割合を振って測定した磁性の評価尺度の引張応力（後述するように引張応力の値が大きいほど磁性が強くなる）についての実験結果であり、図３は、下記の表２をグラフにしたもので、Ｃｏ−Ｐｔ合金において、Ｃｏの含有割合と磁性との関係を示すグラフ図であり、横軸がＣｏの含有割合、縦軸が磁性の評価尺度の引張応力である。

表２、図３に示すように、Ｃｏ−Ｐｔ合金において、ＣｏとＰｔの合計に対するＣｏの含有割合を１２ａｔ％以下とすることにより、Ｃｏ−Ｐｔ合金の磁性をほとんど零のレベルにしたまま、合金中にＣｏを含有させることができる。ただし、Ｃｏの含有割合が零では、ターゲット１０全体におけるＣｏを含む構成元素の含有割合を一定に保ったまま、Ｃｏ−Ｃｒ合金相（磁性相）の体積分率を減少させてターゲット全体の磁性を減少させることに寄与しない。そこで、本実施形態においては、Ｃｏ−Ｐｔ合金相におけるＣｏの含有割合を０ａｔ％より大きく１２ａｔ％以下として、ターゲット１０全体におけるＣｏを含む構成元素の含有割合を一定に保ったまま、Ｃｏ−Ｃｒ合金相（磁性相）の体積分率を減少させ、ターゲット全体の磁性を減少させて、良好なマグネトロンスパッタリングができるようにしている。

なお、表１、表２、図２、図３のデータは、本発明者が測定して得たデータであり、具体的には下記のようにして測定した。表１、図２のデータの場合、ＣｏとＣｒを体積が１ｃｍ³になるように配材してアーク溶解し、底面積が０．７８５ｃｍ²である円盤状のサンプルを組成比を変えて作製した。そして、この円盤状のサンプルの底面を、残留磁束密度が５００ガウスの磁石（材質フェライト）に付着させた後、底面と垂直な方向に引っ張り、磁石から離れたときの力を測定した。この力を底面積０．７８５ｃｍ²で除して求めた引張応力はサンプルの磁性と正の相関があるので、これを磁性の評価尺度とし、表１の数値、図２の縦軸とした。表２、図３のデータの場合、ＰｔとＣｏを体積が１ｃｍ³になるように配材した以外は、表１、図２のデータの場合と同様にしてデータの取得を行った。

以上説明したように、本実施形態に係るターゲット１０では、Ｃｏを含む非磁性相であるＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金相（Ｃｏの含有割合は０ａｔ％より大きく７３ａｔ％以下）およびＣｏ−Ｐｔ合金相（Ｃｏの含有割合は０ａｔ％より大きく１２ａｔ％以下）を設けているので、ターゲット１０全体におけるＣｏを含む各構成元素の含有割合を一定に保ったまま、磁性相であるＣｏ−Ｃｒ合金相の体積分率を減少させることができ、ターゲット１０全体の磁性を減少させることができる。また、磁性相であるＣｏ−Ｃｒ合金相において、Ｃｏの含有割合を８５ａｔ％以上としているので、Ｃｏの含有割合が８３ａｔ％のときと比べて磁性をほとんど大きくせずに、磁性相であるＣｏ−Ｃｒ合金相におけるＣｏの含有割合を大きくすることができ、ターゲット全体におけるＣｏ量を一定に保ちつつ、磁性相であるＣｏ−Ｃｒ合金相の体積分率を小さくすることができ、ターゲット全体の磁性を小さくすることができる。

したがって、本実施形態では、ターゲットに含まれる強磁性金属元素の含有量を減少させず（ターゲットに含まれる各構成元素の含有割合を変えず）に、マグネトロンスパッタリング時に、ターゲット表面からの漏洩磁束の量を増加させることができ、マグネトロンスパッタリングを良好に行うことができる。

３．ターゲットの製造方法
本実施形態に係るターゲット１０は、以下のようにして製造することができる。

（１）磁性混合粉末の作製
所定の組成（Ｃｏの含有割合が８５ａｔ％以上）となるようにＣｏ、Ｃｒを秤量し、合金溶湯を作製して、ガスアトマイズを行い、所定の組成（Ｃｏの含有割合が８５ａｔ％以上）のＣｏ−Ｃｒ合金アトマイズ磁性粉末を作製する。ここで、Ｃｒを含有させずにＣｏ単体のアトマイズ磁性粉末としてもよく、本実施形態では、所定の組成（Ｃｏの含有割合が８５ａｔ％以上）のＣｏ−Ｃｒ合金アトマイズ磁性粉末には、Ｃｏ単体のアトマイズ磁性粉末も含まれるものとする。

作製したＣｏ−Ｃｒアトマイズ磁性粉末と酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）とを混合分散して、磁性混合粉末を作製する。酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）は、微細な１次粒子が凝集して２次粒子を形成しているが、混合分散の程度は、Ｃｏ−Ｃｒアトマイズ磁性粒子の周囲が酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）により緻密に覆われた状態となるまで行う。

図４は、磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆されたＣｏ粉末）を温度１１６０℃、圧力２４．５ＭＰａ、時間１ｈで加圧焼結して得た焼結体の断面の金属顕微鏡写真であり、符号２０で示す白っぽい相が磁性相（Ｃｏ相）であり、符号２２で示す灰色の濃い部分が酸化物相（ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃相）である。図４からわかるように、磁性相（Ｃｏ相）２０の周囲は酸化物相（ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃相）２２により仕切られており、Ｃｏ−Ｃｒ合金アトマイズ磁性粉末と酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）とを混合分散して作製した磁性混合粉末は、Ｃｏ−Ｃｒ合金アトマイズ磁性粉末の周囲を酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）が被覆した状態になっていると考えられる。

（２）第１の非磁性混合粉末の作製
所定の組成（Ｃｏの含有割合が０ａｔ％より大きく７３ａｔ％以下）となるようにＣｏ、Ｃｒ、Ｐｔを秤量し、合金溶湯を作製して、ガスアトマイズを行い、所定の組成（Ｃｏの含有割合が０ａｔ％より大きく７３ａｔ％以下）のＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金アトマイズ非磁性粉末を作製する。

作製したＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金アトマイズ非磁性粉末と酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）とを混合分散して、第１の非磁性混合粉末を作製する。酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）は、微細な１次粒子が凝集して２次粒子を形成しているが、混合分散の程度は、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金アトマイズ非磁性粒子の周囲が酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）により覆われた状態となるまで行う。

図５は、第１の非磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆された所定の組成（Ｃｏの含有割合が０ａｔ％より大きく７３ａｔ％以下）のＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金粉末）を加圧焼結して得た焼結体の断面の金属顕微鏡写真であり、符号２４で示す白っぽい相が非磁性相（６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金相）であり、符号２６で示す灰色の濃い部分が酸化物相（ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃相）である。図５からわかるように、Ｃｏを含有する非磁性相（６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金相）の周囲を酸化物相（ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃相）が覆っており、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金アトマイズ非磁性粉末と酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）とを混合分散して作製した第１の非磁性混合粉末は、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金アトマイズ非磁性粉末の周囲を酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）が被覆した状態になっていると考えられる。

（３）第２の非磁性混合粉末の作製
所定の組成（Ｃｏの含有割合が０ａｔ％より大きく１２ａｔ％以下）となるようにＣｏ、Ｐｔを秤量し、合金溶湯を作製して、ガスアトマイズを行い、所定の組成（Ｃｏの含有割合が０ａｔ％より大きく１２ａｔ％以下）のＣｏ−Ｐｔ合金アトマイズ非磁性粉末を作製する。

作製したＣｏ−Ｐｔ合金アトマイズ非磁性粉末と酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）とを混合分散して、第２の非磁性混合粉末を作製する。酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）は、微細な１次粒子が凝集して２次粒子を形成しているが、混合分散の程度は、Ｃｏ−Ｐｔ合金アトマイズ非磁性粒子の周囲が酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）により覆われた状態となるまで行う。

図６、図７は、第２の非磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆された所定の組成（Ｃｏの含有割合が０ａｔ％より大きく１２ａｔ％以下）のＣｏ−Ｐｔ粉末）を加圧焼結して得た焼結体の断面の金属顕微鏡写真であり、図６は非磁性相が５Ｃｏ−９５Ｐｔ合金相の場合であり、図７は非磁性相が１０Ｃｏ−９０Ｐｔ合金相の場合である。図６において、符号２８が非磁性相（５Ｃｏ−９５Ｐｔ合金相）であり、符号３０で示す灰色の濃い部分が酸化物相（ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃相）である。図７において、符号３２が非磁性相（１０Ｃｏ−９０Ｐｔ合金相）であり、符号３４で示す灰色の濃い部分が酸化物相（ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃相）である。図６、図７のいずれの場合も、非磁性相の周囲を酸化物相（ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃相）が覆っている。このことから、Ｃｏ−Ｐｔ合金アトマイズ非磁性粉末と酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）とを混合分散して作製した第２の非磁性混合粉末は、Ｃｏ−Ｐｔ合金アトマイズ非磁性粉末の周囲を酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）が被覆した状態になっていると考えられる。

（４）加圧焼結用混合粉末の作製
作製した磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆されたＣｏ−Ｃｒ合金粉末）、第１の非磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆されたＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金粉末）、第２の非磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆されたＣｏ−Ｐｔ合金粉末）を概ね均一になるまで混合分散して、加圧焼結用混合粉末を作製する。この加圧焼結用混合粉末の作製の際には、磁性混合粉末、第１の非磁性混合粉末、第２の非磁性混合粉末に、必要に応じ酸化物粉末を加えて混合分散を行ってもよい。なお、この工程での混合分散は、各粒子径が小さくならない程度に止める。各粒子径が小さくなるほど混合分散を行うと、アトマイズ金属粉末を覆っている酸化物粉末層が破壊されて、３種類のアトマイズ金属粉末（Ｃｏ−Ｃｒ合金粉末、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金粉末、Ｃｏ−Ｐｔ合金粉末）同士が接触して、混合分散により金属原子の拡散が起こって、各アトマイズ金属粉末の組成が所定の組成からずれてしまうおそれがある。

（５）成形
作製した加圧焼結用混合粉末を、例えば真空ホットプレス法により加圧焼結して成形し、ターゲットを作製する。

（６）製造方法の特徴
本実施形態に係る製造方法の特徴は、各金属粉末（Ｃｏ−Ｃｒ合金粉末、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金粉末、Ｃｏ−Ｐｔ合金粉末）をそれぞれ酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）と混合分散させて、金属粒子の周囲を酸化物粉末で覆わせた混合粉末とした（１段階目の混合）後、各混合粉末同士を混合分散させて加圧焼結用混合粉末を得ており（２段階目の混合）、加圧焼結用混合粉末を２段階の混合を経て作製していることである。

そして、１段階目の混合では、各金属粒子（Ｃｏ−Ｃｒ合金粒子、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金粒子、Ｃｏ−Ｐｔ合金粒子）の周囲が酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）により緻密に覆われた状態になるまで混合（この混合により酸化物粉末の粒径は小さくなる）を行うのに対して、２段階目の混合では、混合分散を、各粒子径が小さくならない程度に止めている。

１段階目の混合で各金属粒子（Ｃｏ−Ｃｒ合金粒子、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金粒子、Ｃｏ−Ｐｔ合金粒子）の周囲が酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）により緻密に覆われた状態になるまで混合を行うことにより、酸化物粉末は十分に微細になりつつ、金属粒子を緻密に被覆するので、金属粒子同士が接触することを効果的に抑えることができる。

一方、２段階目の混合は、混合分散を、各粒子径が小さくならない程度に止めているので、アトマイズ金属粉末を覆っている酸化物粉末層は破壊されず、３種類のアトマイズ金属粉末（Ｃｏ−Ｃｒ合金粉末、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金粉末、Ｃｏ−Ｐｔ合金粉末）同士の接触が抑制され、混合分散時における金属原子の拡散により各アトマイズ金属粉末の組成が所定の組成からずれてしまうことが抑制される。

また、各アトマイズ金属粉末の表面は酸化物粉末によって覆われているので、真空ホットプレスを行っても、各アトマイズ金属粉末間での金属原子の拡散移動は起こりにくく、加圧焼結時に各金属相（Ｃｏ−Ｃｒ合金相、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金相、Ｃｏ−Ｐｔ合金相）における構成元素の含有割合が変動してしまうことも防止することができる。これにより、得られるターゲット中において、非磁性相になるように設計を行った相が磁性を帯びてしまうことを防止することができ、ターゲット全体における非磁性相の体積分率を設計通りに高く保つことができ、マグネトロンスパッタリング時に、ターゲット表面からの漏洩磁束の量を確実に増加させることができる。

（実施例１）
実施例１として作製したターゲット全体の組成は、９１（７３Ｃｏ−１１Ｃｒ−１６Ｐｔ）−４ＳｉＯ₂−２ＴｉＯ₂−３Ｃｒ₂Ｏ₃であり、以下のようにして作製を行うとともに評価を行った。なお、ターゲット全体の金属（Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ）に対するＣｏの含有割合は７３ａｔ％、Ｃｒの含有割合は１１ａｔ％、Ｐｔの含有割合は１６ａｔ％である。

Ｃｏ単体を１７００℃まで加熱してＣｏ単体の溶湯とし、ガスアトマイズを行ってＣｏ粉末（磁性金属粉末）を作製した。

また、合金組成がＣｏ：６９ａｔ％、Ｃｒ：２２ａｔ％、Ｐｔ：９ａｔ％となるように各金属を秤量し、１７００℃まで加熱して６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金溶湯とし、ガスアトマイズを行って６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末（第１の非磁性金属粉末）を作製した。

また、合金組成がＣｏ：５ａｔ％、Ｐｔ：９５ａｔ％となるように各金属を秤量し、２０００℃まで加熱して５Ｃｏ−９５Ｐｔ合金溶湯とし、ガスアトマイズを行って５Ｃｏ−９５Ｐｔ合金粉末（第２の非磁性金属粉末）を作製した。

作製した３種類のアトマイズ金属粉末（Ｃｏ粉末、６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末、５Ｃｏ−９５Ｐｔ合金粉末）をそれぞれ１５０メッシュのふるいで分級して、粒径がφ１０６μｍ以下の３種類のアトマイズ金属粉末（Ｃｏ粉末、６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末、５Ｃｏ−９５Ｐｔ合金粉末）を得た。

分級後のＣｏ粉末１４７０．００ｇに、ＳｉＯ₂粉末６５．８０ｇ、ＴｉＯ₂粉末４３．８１ｇ、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末１２４．９５ｇを添加して混合分散を行い、磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆されたＣｏ粉末）を得た。用いたＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末は、中心径０．６μｍの１次粒子が凝集して、粒径がφ１００μｍ程度の２次粒子を形成していたが、Ｃｏ粒子の周囲が酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）により緻密に覆われた状態になるまでボールミルで混合分散を行い、磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆されたＣｏ粉末）を得た。

また、分級後の６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末１１５０．００ｇに、ＳｉＯ₂粉末４３．６０ｇ、ＴｉＯ₂粉末２８．９８ｇ、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末８２．７６ｇを添加して混合分散を行い、第１の非磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆された６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末）を得た。用いたＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末は、中心径０．６μｍの１次粒子が凝集して、粒径がφ１００μｍ程度の２次粒子を形成していたが、６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粒子の周囲が酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）により緻密に覆われた状態になるまでボールミルで混合分散を行い、第１の非磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆された６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末）を得た。

また、分級後の５Ｃｏ−９５Ｐｔ合金粉末１４８０．００ｇに、ＳｉＯ₂粉末２０．８２ｇ、ＴｉＯ₂粉末１３．８３ｇ、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末３９．３２ｇを添加して混合分散を行い、第２の非磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆された５Ｃｏ−９５Ｐｔ合金粉末）を得た。用いたＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末は、中心径０．６μｍの１次粒子が凝集して、粒径がφ１００μｍ程度の２次粒子を形成していたが、５Ｃｏ−９５Ｐｔ合金粒子の周囲が酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）により緻密に覆われた状態になるまでボールミルで混合分散を行い、第２の非磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆された５Ｃｏ−９５Ｐｔ合金粉末）を得た。

次に、磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆されたＣｏ粉末）８０５．６７ｇ、第１の非磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆された６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末）１２２９．８９ｇ、第２の非磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆された５Ｃｏ−９５Ｐｔ合金粉末）７４４．４４ｇを混合して混合分散を行い、加圧焼結用混合粉末を得た。詳細には、各粉末（磁性混合粉末、第１の非磁性混合粉末、第２の非磁性混合粉末）の粒径が小さくならない範囲内で、各粉末が概ね均一に分散するように混合分散を行い、加圧焼結用混合粉末とした。

作製した加圧焼結用混合粉末３０ｇを、焼結温度：１１００℃、圧力：３１ＭＰａ、時間：６０ｍｉｎ、雰囲気：５×１０^-2Ｐａ以下の条件でホットプレスを行い、テストピース（φ３０ｍｍ）を作製した。得られたテストピースの厚さは４．５ｍｍ程度であった。作製したテストピースの密度を測定したところ、９．０４１（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．２４（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９７．８５％であった。

図８および図９は、得られたテストピースの厚さ方向断面の金属顕微鏡写真であり、図８は低倍率の写真で、図９は高倍率の写真である。図１０および図１１は、得られたテストピースの厚さ方向断面のＳＥＭ写真であり、図１０は低倍率の写真で、図１１は高倍率の写真である。

ＥＰＭＡによる元素分析の結果、図１１のＳＥＭ写真において、相の大きさが比較的大きく灰色の濃い部分がＣｏ相であり、最も白っぽい部分が５Ｃｏ−９５Ｐｔ合金相であり、Ｃｏ相および５Ｃｏ−９５Ｐｔ合金相の中間的な灰色の濃さの部分が６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金相であり、これらの金属相の間を仕切っている灰色の濃い部分が酸化物相（ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃相）であり、金属相同士は酸化物相（ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃相）により仕切られていることが判明した。

次に、作製した加圧焼結用混合粉末を用いて、焼結温度：１０７０℃、圧力：３１ＭＰａ、時間：６０ｍｉｎ、雰囲気：５×１０^-2Ｐａ以下の条件でホットプレスを行い、φ１５２．４ｍｍ×厚さ７．０ｍｍのターゲットを２つ作製した。作製した２つのターゲットの密度を測定したところ、９．００９、９．００９（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．２４（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９７．５０％、９７．５０％であった。

作製した２つのターゲットについて、ＡＳＴＭ Ｆ２０８６−０１に基づき、漏洩磁束についての評価を行った。磁束を発生させるための磁石には馬蹄形磁石（材質：アルニコ）を用いた。この磁石を漏洩磁束の測定装置に取り付けるとともに、ホールプローブにガウスメータを接続した。ホールプローブは、前記馬蹄形磁石の磁極間の中心の真上に位置するように配置した。

まず、測定装置のテーブルにターゲットを置かずに、テーブルの表面における水平方向の磁束密度を測定し、ＡＳＴＭで定義されるＳｏｕｒｃｅ Ｆｉｅｌｄを測定したところ９００（Ｇ）、９００（Ｇ）であった。

次に、ホールプローブの先端を、ターゲットの漏洩磁束測定時の位置（テーブル表面からターゲットの厚さ＋２ｍｍの高さ位置）に上昇させ、テーブル面にターゲットを置かない状態で、テーブル面に水平な方向の漏洩磁束密度を測定し、ＡＳＴＭで定義されるＲｅｆｅｒｅｎｃｅ ｆｉｅｌｄを測定したところ５６３（Ｇ）、５７２（Ｇ）であった。

次に、ターゲット表面の中心と、ターゲット表面のホールプローブ直下の点の間の距離が４３．７ｍｍになるようにターゲットをテーブル面に配置した。そして、中心位置を移動させずにターゲットを反時計回りに５回転させた後、中心位置を移動させずにターゲットを０度、３０度、６０度、９０度、１２０度回転させ、それぞれの位置で、テーブル面に水平な方向の漏洩磁束密度を測定した。得られた５つの漏洩磁束密度の値をＲｅｆｅｒｅｎｎｃｅ ｆｉｅｌｄの値で割って１００を掛けて漏洩磁束率（％）とした。５点の漏洩磁束率（％）の平均をとり、その平均値をそのターゲットの平均漏洩磁束率（％）とした。下記の表３、表４に示すように、作製した２つのターゲットの平均漏洩磁束率は５１．０％、５０．７％であり、その２つの平均漏洩磁束率の平均は５０．９％であった。

（実施例２）
実施例２として作製したターゲット全体の組成は、９１（７３Ｃｏ−１１Ｃｒ−１６Ｐｔ）−４ＳｉＯ₂−２ＴｉＯ₂−３Ｃｒ₂Ｏ₃であり、実施例１と同じであるが、アトマイズにより作製する第２の非磁性金属粉末が１０Ｃｏ−９０Ｐｔ合金粉末である点が異なる。

実施例２のターゲットを以下のようにして作製を行うとともに評価を行った。

合金組成のみを変更した以外は実施例１と同様にアトマイズおよび分級を行って、１０Ｃｏ−９０Ｐｔ合金粉末を得た。なお、１０Ｃｏ−９０Ｐｔ合金粉末を得るアトマイズの際の加熱温度および噴射温度は２０００℃であった。

得られた１０Ｃｏ−９０Ｐｔ合金粉末１５００．００ｇにＳｉＯ₂粉末２１．７７ｇ、ＴｉＯ₂粉末１４．５２ｇ、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末４１．５０ｇを添加した以外は実施例１と同様にして混合分散を行い、第２の非磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆された１０Ｃｏ−９０Ｐｔ合金粉末）を得た。

また、実施例１でアトマイズにより得られたＣｏ粉末１４５０．００ｇにＳｉＯ₂粉末６４．９１ｇ、ＴｉＯ₂粉末４３．２２ｇ、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末１２３．２６ｇを添加した以外は実施例１と同様にして混合分散を行い、磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆されたＣｏ粉末）を得た。

また、実施例１でアトマイズにより得られた６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末１１５０．００ｇにＳｉＯ₂粉末４３．６０ｇ、ＴｉＯ₂粉末２８．９８ｇ、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末８２．７６ｇを添加した以外は実施例１と同様にして混合分散を行い、第１の非磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆された６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末）を得た。

次に、磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆されたＣｏ粉末）７９１．３７ｇ、第１の非磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆された６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末）１２２９．８９ｇ、第２の非磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆された１０Ｃｏ−９０Ｐｔ合金粉末）７５８．７４ｇを混合して実施例１と同様にして混合分散を行い、加圧焼結用混合粉末を得た。

作製した加圧焼結用混合粉末３０ｇを、焼結温度：１１００℃、圧力：３１ＭＰａ、時間：６０ｍｉｎ、雰囲気：５×１０^-2Ｐａ以下の条件でホットプレスを行い、テストピース（φ３０ｍｍ）を作製した。得られたテストピースの厚さは４．５ｍｍ程度であった。作製したテストピースの密度を測定したところ、９．０５２（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．２４（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９７．９６％であった。

図１２および図１３は、得られたテストピースの厚さ方向断面の金属顕微鏡写真であり、図１２は低倍率の写真で、図１３は高倍率の写真である。図１４および図１５は、得られたテストピースの厚さ方向断面のＳＥＭ写真であり、図１４は低倍率の写真で、図１５は高倍率の写真である。

ＥＰＭＡによる元素分析の結果、図１５のＳＥＭ写真において、相の大きさが比較的大きく灰色の濃い部分がＣｏ相であり、最も白っぽい部分が１０Ｃｏ−９０Ｐｔ相であり、Ｃｏ相および１０Ｃｏ−９０Ｐｔ相の中間的な灰色の濃さの部分が６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ相であり、これらの金属相の間を仕切っている灰色の濃い部分が酸化物相（ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃相）であり、金属相同士は酸化物相（ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃相）により仕切られていることが判明した。

次に、作製した加圧焼結用混合粉末を用いて、焼結温度：１０８０℃、圧力：３１ＭＰａ、時間：６０ｍｉｎ、雰囲気：５×１０^-2Ｐａ以下の条件でホットプレスを行い、φ１５２．４ｍｍ×厚さ７．０ｍｍのターゲットを２つ作製した。作製した２つのターゲットの密度を測定したところ、９．０２３、９．０１４（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．２４（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９７．６５％、９７．５５％であった。

作製した２つのターゲットについて、実施例１と同様にして、漏洩磁束についての評価を行った。下記の表５、表６に示すように、平均漏洩磁束率は５０．６％と５０．７％であり、その２つの平均漏洩磁束率の平均は５０．７％であった。

（比較例１）
比較例１として作製したターゲット全体の組成は、９１（７３Ｃｏ−１１Ｃｒ−１６Ｐｔ）−４ＳｉＯ₂−２ＴｉＯ₂−３Ｃｒ₂Ｏ₃であり、実施例１、２と同じであるが、実施例１、２の第２の非磁性金属粉末（５Ｃｏ−９５Ｐｔ合金粉末、１０Ｃｏ−９０Ｐｔ合金粉末）に替えて、磁性金属粉末である５０Ｃｏ−５０Ｐｔ合金粉末を用いてターゲットを作製しており、非磁性相が１つである点（磁性相がＣｏ相と５０Ｃｏ−５０Ｐｔ合金相の２つである点）が異なる。

比較例１のターゲットを以下のようにして作製を行うとともに評価を行った。

合金組成のみを変更した以外は実施例１と同様にアトマイズおよび分級を行って、５０Ｃｏ−５０Ｐｔ合金粉末を得た。なお、５０Ｃｏ−５０Ｐｔ合金粉末を得るアトマイズの際の加熱温度および噴射温度は１８００℃であった。

得られた５０Ｃｏ−５０Ｐｔ合金粉末１８５０．００ｇにＳｉＯ₂粉末３８．５５ｇ、ＴｉＯ₂粉末２５．６３ｇ、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末７２．９３ｇを添加した以外は実施例１と同様にして混合分散を行い、第２の磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆された５０Ｃｏ−５０Ｐｔ合金粉末）を得た。

また、実施例１でアトマイズにより得られたＣｏ粉末１０８０．００ｇにＳｉＯ₂粉末４８．３４ｇ、ＴｉＯ₂粉末３２．１９ｇ、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末９１．８１ｇを添加した以外は実施例１と同様にして混合分散を行い、第１の磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆されたＣｏ粉末）を得た。

また、実施例１で得られた６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末１１５０．００ｇにＳｉＯ₂粉末４３．６０ｇ、ＴｉＯ₂粉末２８．９８ｇ、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末８２．７６ｇを添加した以外は実施例１と同様にして混合分散を行い、第１の非磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆された６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ粉末）を得た。

次に、磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆されたＣｏ粉末）５７４．０４ｇ、第１の非磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆された６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末）１２２９．８９ｇ、第２の磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆された５０Ｃｏ−５０Ｐｔ合金粉末）９７６．０７ｇを混合して実施例１と同様にして混合分散を行い、加圧焼結用混合粉末を得た。

作製した加圧焼結用混合粉末３０ｇを、焼結温度：１１００℃、圧力：３１ＭＰａ、時間：６０ｍｉｎ、雰囲気：５×１０^-2Ｐａ以下の条件でホットプレスを行い、テストピース（φ３０ｍｍ）を作製した。得られたテストピースの厚さは４．５ｍｍ程度であった。作製したテストピースの密度を測定したところ、９．０２３（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．２４（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９７．６５％であった。

図１６および図１７は、得られたテストピースの厚さ方向断面の金属顕微鏡写真であり、図１６は低倍率の写真で、図１７は高倍率の写真である。図１８および図１９は、得られたテストピースの厚さ方向断面のＳＥＭ写真であり、図１８は低倍率の写真で、図１９は高倍率の写真である。

ＥＰＭＡによる元素分析の結果、図１９のＳＥＭ写真において、相の大きさが比較的大きく灰色の濃い部分がＣｏ相であり、最も白っぽい部分が５０Ｃｏ−５０Ｐｔ相であり、Ｃｏ相および５０Ｃｏ−５０Ｐｔ相の中間的な灰色の濃さの部分が６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ相であり、これらの金属相の間を仕切っている灰色の濃い部分が酸化物相（ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃相）であり、金属相同士は酸化物相（ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃相）により仕切られていることが判明した。

次に、作製した加圧焼結用混合粉末を用いて、焼結温度：１０９０℃、圧力：３１ＭＰａ、時間：６０ｍｉｎ、雰囲気：５×１０^-2Ｐａ以下の条件でホットプレスを行い、φ１５２．４ｍｍ×厚さ７．０ｍｍのターゲットを２つ作製した。作製した２つのターゲットの密度を測定したところ、９．０７１、９．０６５（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．２４（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９８．１７％、９８．１１％であった。

作製した２つのターゲットについて、実施例１と同様にして、漏洩磁束についての評価を行った。下記の表７、表８に示すように、平均漏洩磁束率は４４．８％と４４．９％であり、その２つの平均漏洩磁束率の平均は４４．９％であった。

（比較例２）
比較例２として作製したターゲット全体の組成は、９１（７３Ｃｏ−１１Ｃｒ−１６Ｐｔ）−４ＳｉＯ₂−２ＴｉＯ₂−３Ｃｒ₂Ｏ₃であり、実施例１、２および比較例１と同じである。また、ターゲットの作製に用いる磁性金属粉末はＣｏ粉末であり、第１の非磁性金属粉末は６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末であり、第２の磁性金属粉末は５０Ｃｏ−５０Ｐｔ合金粉末であり、ターゲットの作製に用いる３種類の金属粉末の組成は比較例１と同じである。

しかしながら、本比較例２では、前記した３種類の金属粉末と酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）とを同時に（１段階で）混合分散させて加圧焼結用混合粉末を作製しており、この点が、３種類の金属粉末をそれぞれ酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）と混合分散させた後、得られた３種類の混合粉末をさらに混合して（２段階の混合を経て）加圧焼結用混合粉末を得ている実施例１、２および比較例１とは異なる。

比較例２のターゲットを以下のようにして作製を行うとともに評価を行った。

実施例１でアトマイズにより得られたＣｏ粉末２５４．７４ｇ、実施例１でアトマイズにより得られた６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末５５７．６１ｇ、比較例１でアトマイズにより得られた５０Ｃｏ−５０Ｐｔ合金粉末４６７．６５ｇ、ＳｉＯ₂粉末４２．３５ｇ、ＴｉＯ₂粉末２８．１８ｇ、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末８０．２６ｇを同時に混合して混合分散を行い、１段階の混合で加圧焼結用混合粉末を得た。詳細には、実施例１と同様の時間および強さで、ボールミルで混合分散を行い、１段階の混合で加圧焼結用混合粉末を作製した。

作製した加圧焼結用混合粉末３０ｇを、焼結温度：１１００℃、圧力：２４．５ＭＰａ、時間：６０ｍｉｎ、雰囲気：５×１０^-2Ｐａ以下の条件でホットプレスを行い、テストピース（φ３０ｍｍ）を作製した。得られたテストピースの厚さは４．５ｍｍ程度であった。作製したテストピースの密度を測定したところ、９．０２７（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．２４（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９７．６９％であった。

図２０および図２１は、得られたテストピースの厚さ方向断面の金属顕微鏡写真であり、図２０は低倍率の写真で、図２１は高倍率の写真である。図２２および図２３は、得られたテストピースの厚さ方向断面のＳＥＭ写真であり、図２２は低倍率の写真で、図２３は高倍率の写真である。

ＥＰＭＡによる元素分析の結果、図２３のＳＥＭ写真において、金属相として観察できる部分はほとんどがＣｏ相であり、５０Ｃｏ−５０Ｐｔ合金相として観察できる比較的大きな部位は図２３に示す部位である。他の部位は金属と酸化物が入り混じった相となっており、金属相同士は酸化物相により仕切られていないと考えられる。

次に、作製した加圧焼結用混合粉末を用いて、焼結温度：１１００℃、圧力：２４．５ＭＰａ、時間：６０ｍｉｎ、雰囲気：５×１０^-2Ｐａ以下の条件でホットプレスを行い、φ１５２．４ｍｍ×厚さ７．０ｍｍのターゲットを１つ作製した。

さらに、前記した製造プロセスと同様のプロセスで、φ１５２．４ｍｍ×厚さ７．０ｍｍのターゲットをもう１つ作製した。

作製した２つのターゲットの密度を測定したところ、９．０７、９．０６（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．２４（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９８．２％、９８．１％であった。

作製した２つのターゲットについて、実施例１と同様にして、漏洩磁束についての評価を行った。下記の表９、表１０に示すように、平均漏洩磁束率は３１．９％と３１．５％であり、その２つの平均漏洩磁束率の平均は３１．７％であった。

（比較例３）
比較例３として作製したターゲット全体の組成は、９１（７１Ｃｏ−１１Ｃｒ−１８Ｐｔ）−３ＳｉＯ₂−２ＴｉＯ₂−４Ｃｒ₂Ｏ₃である。なお、ターゲット全体の金属（Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ）に対するＣｏの含有割合は７１ａｔ％、Ｃｒの含有割合は１１ａｔ％、Ｐｔの含有割合は１８ａｔ％である。

本比較例３でターゲットの作製に用いる磁性金属粉末はＣｏ粉末であり、第１の非磁性金属粉末は６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末であり、第２の非磁性金属粉末はＰｔ粉末である。本比較例３では、２つの非磁性金属粉末のうち、第１の非磁性金属粉末（６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末）には強磁性金属元素であるＣｏが含まれているが、第２の非磁性金属粉末（Ｐｔ粉末）には強磁性金属元素が含まれていない。

比較例３のターゲットを以下のようにして作製を行うとともに評価を行った。

Ｃｏ単体を１７００℃まで加熱してＣｏ単体の溶湯とし、ガスアトマイズを行ってＣｏ粉末（磁性金属粉末）を作製した。

また、合金組成がＣｏ：６９ａｔ％、Ｃｒ：２２ａｔ％、Ｐｔ：９ａｔ％となるように各金属を秤量し、１７００℃まで加熱して６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金溶湯とし、ガスアトマイズを行って６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末（第１の非磁性金属粉末）を作製した。

また、Ｐｔ単体を２０００℃まで加熱してＰｔ単体の溶湯とし、ガスアトマイズを行ってＰｔ粉末（非磁性金属粉末）を作製した。

そして、得られた金属粉末に対して実施例１と同様に分級を行って、Ｃｏ粉末、６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末、Ｐｔ粉末を得た。

分級後のＣｏ粉末７００．００ｇにＳｉＯ₂粉末２３．５６ｇ、ＴｉＯ₂粉末２０．８４ｇ、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末７９．３２ｇを添加した以外は実施例１と同様にして混合分散を行い、磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆されたＣｏ粉末）を得た。

また、分級後の６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末１０５０．００ｇにＳｉＯ₂粉末２９．８１ｇ、ＴｉＯ₂粉末２６．４３ｇ、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末１００．６７ｇを添加した以外は実施例１と同様にして混合分散を行い、第１の非磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆された６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末）を得た。

また、分級後のＰｔ粉末８４０．００ｇにＳｉＯ₂粉末８．４９ｇ、ＴｉＯ₂粉末７．５２ｇ、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末２８．７６ｇを添加した以外は実施例１と同様にして混合分散を行い、第２の非磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆されたＰｔ粉末）を得た。

次に、磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆されたＣｏ粉末）７３８．６２ｇ、第１の非磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆された６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末）１１０７．６３ｇ、第２の非磁性混合粉末（酸化物粉末が被覆されたＰｔ粉末）６５３．７５ｇを混合して実施例１と同様にして混合分散を行い、加圧焼結用混合粉末を作製した。

作製した加圧焼結用混合粉末３０ｇを、焼結温度：１０７０℃、圧力：３１ＭＰａ、時間：６０ｍｉｎ、雰囲気：５×１０^-2Ｐａ以下の条件でホットプレスを行い、テストピース（φ３０ｍｍ）を作製した。得られたテストピースの厚さは４．５ｍｍ程度であった。作製したテストピースの密度を測定したところ、９．３７５（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．５６（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９８．０６％であった。

図２４および図２５は、得られたテストピースの厚さ方向断面の金属顕微鏡写真であり、図２４は低倍率の写真で、図２５は高倍率の写真である。

図２４および図２５において、白っぽい部分が金属相（Ｃｏ相、６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金相、Ｐｔ相）であり、これらの金属相の間を仕切っている灰色の濃い部分が酸化物相（ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃相）であり、金属相同士は酸化物相（ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃相）により仕切られている。

次に、作製した加圧焼結用混合粉末を用いて、焼結温度：１０３０℃、圧力：３１ＭＰａ、時間：６０ｍｉｎ、雰囲気：５×１０^-2Ｐａ以下の条件でホットプレスを行い、φ１５２．４ｍｍ×厚さ６．０ｍｍのターゲットを作製した。作製したターゲットの密度を測定したところ、９．３８８（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．５６（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９８．２０％であった。

作製したターゲットについて、実施例１と同様にして、漏洩磁束についての評価を行った。下記の表１１に示すように、平均漏洩磁束率は５０．３％であった。

（比較例４）
φ１５２．４ｍｍ×厚さ６．０ｍｍのターゲットを作製する際の焼結温度を１０００℃にし、比較例３の焼結温度を１０３０℃よりも低くした以外は比較例３と同様にして、φ１５２．４ｍｍ×厚さ６．０ｍｍのターゲットを作製した。

作製したターゲットについて、実施例１と同様にして、漏洩磁束についての評価を行った。下記の表１２に示すように、平均漏洩磁束率は５１．０％であった。

（比較例５）
実施例１、２、比較例１〜４では、ターゲットの作製に用いたアトマイズ金属粉末はいずれも３種類であったが、本比較例５でターゲットの作製に用いるアトマイズ金属粉末は７１Ｃｏ−１１Ｃｒ−１８Ｐｔ合金粉末の１種類である。

作製したターゲット全体の組成は、９１（７１Ｃｏ−１１Ｃｒ−１８Ｐｔ）−３ＳｉＯ₂−２ＴｉＯ₂−４Ｃｒ₂Ｏ₃であり、比較例３、４と同じである。

比較例５のターゲットを以下のようにして作製を行うとともに評価を行った。

合金組成がＣｏ：７１ａｔ％、Ｃｒ：１１ａｔ％、Ｐｔ：１８ａｔ％となるように各金属を秤量し、１７００℃まで加熱して７１Ｃｏ−１１Ｃｒ−１８Ｐｔ合金溶湯とし、ガスアトマイズを行って７１Ｃｏ−１１Ｃｒ−１８Ｐｔ合金粉末を作製した。そして、実施例１と同様に分級して７１Ｃｏ−１１Ｃｒ−１８Ｐｔ合金粉末を得た。

分級後の７１Ｃｏ−１１Ｃｒ−１８Ｐｔ合金粉末１１４０．００ｇにＳｉＯ₂粉末２７．３４ｇ、ＴｉＯ₂粉末２４．２６ｇ、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末９２．１７ｇを添加して混合分散を行い、加圧焼結用混合粉末（酸化物粉末が被覆された７１Ｃｏ−１１Ｃｒ−１８Ｐｔ合金粉末）を得た。用いたＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末は、中心径０．６μｍの１次粒子が凝集して、粒径がφ１００μｍ程度の２次粒子を形成していたが、７１Ｃｏ−１１Ｃｒ−１８Ｐｔ合金粒子の周囲が酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末、ＴｉＯ₂粉末、Ｃｒ₂Ｏ₃粉末）により緻密に覆われた状態になるまでボールミルで混合分散を行い、加圧焼結用混合粉末（酸化物粉末が被覆された７１Ｃｏ−１１Ｃｒ−１８Ｐｔ合金粉末）を得た。

作製した加圧焼結用混合粉末３０ｇを、焼結温度：１１６０℃、圧力：２４．５ＭＰａ、時間：６０ｍｉｎ、雰囲気：５×１０^-2Ｐａ以下の条件でホットプレスを行い、テストピース（φ３０ｍｍ）を作製した。得られたテストピースの厚さは４．５ｍｍ程度であった。作製したテストピースの密度を測定したところ、９．４０２（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．５６（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９８．３５％であった。

図２６および図２７は、得られたテストピースの厚さ方向断面の金属顕微鏡写真であり、図２６は低倍率の写真で、図２７は高倍率の写真である。

図２６および図２７において、白っぽい部分が金属相（７１Ｃｏ−１１Ｃｒ−１８Ｐｔ相）である。比較例３の図２４および図２５と比較して、金属相（白っぽい部分）の大きさが小さくなっているとともに、濃い灰色の部分の面積が広くなっている。したがって、本比較例５は、比較例３、４と比べて金属相自体が微細化しているとともに、金属相と酸化物相とが微細に分散し合った領域が増加しているものと思われる。

次に、作製した加圧焼結用混合粉末を用いて、焼結温度：１１６０℃、圧力：２４．５ＭＰａ、時間：６０ｍｉｎ、雰囲気：５×１０^-2Ｐａ以下の条件でホットプレスを行い、φ１５２．４ｍｍ×厚さ６．０ｍｍのターゲットを作製した。作製したターゲットの密度を測定したところ、９．３９７（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．５６（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９８．３０％であった。

作製したターゲットについて、実施例１と同様にして、漏洩磁束についての評価を行った。下記の表１３に示すように、平均漏洩磁束率は４０．０％であった。

（考察）
平均漏洩磁束率を測定した実施例１、２、比較例１〜５についての測定結果を下記の表１４にまとめて示す。ただし、実施例１、２、比較例１、２において平均漏洩磁束率を測定したターゲットの厚さが７ｍｍであるのに対し、比較例３〜５において平均漏洩磁束率を測定したターゲットの厚さは６ｍｍであり、この厚さの違いにより、実施例１、２、比較例１、２よりも比較例３〜５の方が平均漏洩磁束率が大きく測定されやすくなる点に留意する必要がある。また、実施例１、２、比較例１、２のターゲット全体の組成が９１（７３Ｃｏ−１１Ｃｒ−１６Ｐｔ）−４ＳｉＯ₂−２ＴｉＯ₂−３Ｃｒ₂Ｏ₃であるのに対し、比較例３〜５のターゲット全体の組成は９１（７１Ｃｏ−１１Ｃｒ−１８Ｐｔ）−３ＳｉＯ₂−２ＴｉＯ₂−４Ｃｒ₂Ｏ₃であり、実施例１、２、比較例１、２のターゲットにおけるＣｏの含有割合が６６．４３ｍｏｌ％であるのに対し、比較例３〜５のターゲットにおけるＣｏの含有割合が６４．６１ｍｏｌ％であり、比較例３〜５のターゲットの方が強磁性金属元素であるＣｏの含有割合が小さくなっており、強磁性金属元素であるＣｏの含有割合の点からも、実施例１、２、比較例１、２よりも比較例３〜５の方が平均漏洩磁束率が大きく測定されやすくなる点に留意する必要がある。

実施例１、２は、Ｃｏ（強磁性金属元素）を含む磁性層と、Ｃｏ（強磁性金属元素）を含み、かつ、構成元素またはその含有割合の異なる複数の非磁性相（第１の非磁性相と第２の非磁性相）とを有しており、本発明の範囲に含まれる。実施例１、２では、第１の非磁性相と第２の非磁性相の両方にＣｏが含まれており、ターゲット全体におけるＣｏ量を一定に保ちつつ磁性相（Ｃｏ相）の体積分率を減少させることができ、ターゲットの平均漏洩磁束率を大きくすることができる。

比較例１は、Ｃｏ−Ｐｔ合金相のＣｏの含有割合が５０ａｔ％と大きく、Ｃｏ−Ｐｔ合金相が磁性相となっており、非磁性相は６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金相のみである。このため、ターゲット全体に対する磁性相の体積分率が実施例１、２よりも大きくなっており、平均漏洩磁束率が実施例１、２よりも１２％程度小さくなっている。したがって、強磁性金属元素が含まれる非磁性相を複数設けることは、ターゲットの平均漏洩磁束率を向上させる上で重要と考えられる。

比較例２は、Ｃｏ−Ｐｔ合金相のＣｏの含有割合が５０ａｔ％と大きく、Ｃｏ−Ｐｔ合金相が磁性相となっており、非磁性相は６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金相のみである。また、加圧焼結用混合粉末を１段階の混合で作製しており、混合時に異なる組成の金属粉末間で連結が生じ、混合時および加圧焼結時に金属原子の移動（拡散）が生じているものと思われる。このため、６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末から形成された相においても、その一部が磁性相となっている可能性がある。実際、比較例２のターゲットの平均漏洩磁束率は３１．７％であり、実施例１、２と比べると３８％程度小さくなっており、また、比較例１と比べても２９％程度小さくなっており、６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金粉末から形成された相の一部は磁性相となっていると思われる。したがって、実施例１、２のように加圧焼結用混合粉末を２段階の混合で作製することは、ターゲットの平均漏洩磁束率を向上させる上で重要と考えられる。

比較例３、４は、実施例１、２と同様に非磁性相を２つ有するが、第２の非磁性相がＰｔ単体相であり、強磁性金属元素であるＣｏが含まれていない。このため、ターゲット全体における磁性相の体積分率が十分には小さくなっておらず、平均漏洩磁束率が十分には向上していないと考えられる。比較例３、４の平均漏洩磁束率は実施例１、２の平均漏洩磁束率と同程度であるが、前記したように、比較例３、４のターゲットの厚さは実施例１、２のターゲットの厚さよりも小さく、また、比較例３、４のターゲットに含まれるＣｏの含有割合は実施例１、２よりも小さいので、これらを実施例１、２と揃えた場合には、比較例３、４の平均漏洩磁束率は実施例１、２の平均漏洩磁束率よりもかなり小さくなると考えられる。

なお、比較例３、４の平均漏洩磁束率を比較すると、焼結温度が１０３０℃の比較例３よりも、焼結温度が１０００℃の比較例４の方が平均漏洩磁束率がわずかであるが大きくなっている。焼結温度が低い方が原子の拡散が起こりにくいため、このような結果になったものと思われる。したがって、マグネトロンスパッタリング時の漏洩磁束量を向上させたターゲットを作製するためには、焼結温度は低い方が好ましいと思われる。

比較例５は、金属相が７１Ｃｏ−１１Ｃｒ−１８Ｐｔ合金相のみである。この金属相は磁性相であり、比較例５のターゲットには非磁性の金属相は存在していないと考えられ、磁性相の体積分率が高くなっていると考えられる。このため、比較例５のターゲットの平均漏洩磁束率は比較例３、４のターゲットの平均漏洩磁束率よりも小さくなったと考えられる。なお、比較例５のターゲットの平均漏洩磁束率は４０．０％であるが、ターゲットの厚さおよびＣｏの含有割合を実施例１、２および比較例１、２に合わせた場合、平均漏洩磁束率の値は４０．０％よりもかなり小さくなるものと思われる。

１０…ターゲット
１２…磁性相
１４…第１の非磁性相
１６…第２の非磁性相
１８、２２、２６、３０、３４…酸化物相
２０…Ｃｏ相
２４…６９Ｃｏ−２２Ｃｒ−９Ｐｔ合金相
２８…５Ｃｏ−９５Ｐｔ合金相
３２…１０Ｃｏ−９０Ｐｔ合金相

Claims (19)

1. 強磁性金属元素を有するマグネトロンスパッタリング用ターゲットであって、
   前記強磁性金属元素を含む磁性相と、前記強磁性金属元素を含み、かつ、構成元素またはその含有割合の異なる複数の非磁性相と、酸化物相とを有しており、
   前記磁性相と前記非磁性相とはお互いに前記酸化物相により仕切られ、前記磁性相同士はお互いに前記酸化物相により仕切られ、さらに、前記非磁性相同士はお互いに前記酸化物相により仕切られていることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲット。
2. 請求項１において、
   前記複数の非磁性相は、２種の非磁性相であることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲット。
3. 請求項１または２において、
   前記強磁性金属元素は、Ｃｏであることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲット。
4. 請求項３において、
   前記磁性相は、Ｃｏの含有割合が８５ａｔ％以上であるＣｏ−Ｃｒ合金相からなることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲット。
5. 請求項３において、
   前記磁性相は、Ｃｏ単体であることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲット。
6. 請求項３〜５のいずれかにおいて、
   前記非磁性相のうちの少なくとも１つは、Ｃｏの含有割合が０ａｔ％より大きく７５ａｔ％以下であるＣｏ−Ｃｒ合金相またはＣｏの含有割合が０ａｔ％より大きく７３ａｔ％以下であるＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金相からなることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲット。
7. 請求項３〜６のいずれかにおいて、
   前記非磁性相のうちの少なくとも１つは、Ｃｏの含有割合が１２ａｔ％以下であるＣｏ−Ｐｔ合金相からなることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲット。
8. 請求項１〜７のいずれかにおいて、
   前記酸化物相は、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔｉ₂Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₅、Ｃｒ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、Ｃｏ₃Ｏ₄、Ｂ₂Ｏ₅、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｕＯ、Ｙ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、ＭｏＯ₃、ＣｅＯ₂、Ｓｍ₂Ｏ₃、Ｇｄ₂Ｏ₃、ＷＯ₂、ＷＯ₃、ＨｆＯ₂、ＮｉＯ₂のうちの少なくとも１種を含むことを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲット。
9. 請求項１〜８のいずれかにおいて、
   前記ターゲットは、磁気記録層の形成に用いられることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲット。
10. 強磁性金属元素を含む磁性金属粉末と酸化物粉末とを混合分散して磁性混合粉末を得る工程と、
    前記強磁性金属元素を含み、かつ、構成元素またはその含有割合の異なる複数の非磁性金属粉末を、それぞれ酸化物粉末と混合分散して複数の非磁性混合粉末を得る工程と、
    前記磁性混合粉末と前記複数の非磁性混合粉末とを混合分散して加圧焼結用混合粉末を得る工程と、
    を有することを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットの製造方法。
11. 強磁性金属元素を含む磁性金属粉末と酸化物粉末とを混合分散して磁性混合粉末を得る工程と、
    前記強磁性金属元素を含み、かつ、構成元素またはその含有割合の異なる複数の非磁性金属粉末を、それぞれ酸化物粉末と混合分散して複数の非磁性混合粉末を得る工程と、
    前記磁性混合粉末と前記複数の非磁性混合粉末と酸化物粉末とを混合分散して加圧焼結用混合粉末を得る工程と、
    を有することを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットの製造方法。
12. 請求項１０または１１において、
    前記磁性混合粉末中の磁性金属粒子の周囲が酸化物粉末に覆われ、かつ、前記複数の非磁性混合粉末中の非磁性金属粒子の周囲が酸化物粉末に覆われていることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットの製造方法。
13. 請求項１０〜１２のいずれかにおいて、
    前記複数の非磁性金属粉末は、２種の非磁性金属粉末であることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットの製造方法。
14. 請求項１０〜１３のいずれかにおいて、
    前記強磁性金属元素は、Ｃｏであることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットの製造方法。
15. 請求項１４において、
    前記磁性金属粉末はＣｏおよびＣｒを主成分として含み、該磁性金属粉末におけるＣｏの含有割合が８５ａｔ％以上であることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットの製造方法。
16. 請求項１４において、
    前記磁性金属粉末はＣｏ単体からなることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットの製造方法。
17. 請求項１０〜１６のいずれかにおいて、
    前記複数の非磁性金属粉末のうち少なくとも１つは、Ｃｏの含有割合が０ａｔ％より大きく７５ａｔ％以下であるＣｏ−Ｃｒ合金またはＣｏの含有割合が０ａｔ％より大きく７３ａｔ％以下であるＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金からなることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットの製造方法。
18. 請求項１０〜１７のいずれかにおいて、
    前記複数の非磁性金属粉末のうち少なくとも１つは、Ｃｏの含有割合が１２ａｔ％以下であるＣｏ−Ｐｔ合金からなることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットの製造方法。
19. 請求項１０〜１８のいずれかに記載の製造方法により得られたマグネトロンスパッタリング用ターゲット。