[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP4721154B2 - Method for producing polyimide film - Google Patents

Method for producing polyimide film Download PDF

Info

Publication number
JP4721154B2
JP4721154B2 JP2004131182A JP2004131182A JP4721154B2 JP 4721154 B2 JP4721154 B2 JP 4721154B2 JP 2004131182 A JP2004131182 A JP 2004131182A JP 2004131182 A JP2004131182 A JP 2004131182A JP 4721154 B2 JP4721154 B2 JP 4721154B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
polyimide
heating furnace
film width
polyimide film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2004131182A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2004352983A (en
Inventor
昌宏 小國
盛嗣 末廣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Du Pont Toray Co Ltd
Original Assignee
Du Pont Toray Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Du Pont Toray Co Ltd filed Critical Du Pont Toray Co Ltd
Priority to JP2004131182A priority Critical patent/JP4721154B2/en
Publication of JP2004352983A publication Critical patent/JP2004352983A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4721154B2 publication Critical patent/JP4721154B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Description

本発明は、フィルム幅の変更によりフィルムの歪みを改質し、かつ寸法安定性に優れ、接着性も良好なポリイミドフィルムを製造するポリイミドフィルムの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing a polyimide film, which produces a polyimide film having a good dimensional stability and good adhesion by modifying the distortion of the film by changing the film width.

ポリイミドフィルムは、その優れた耐熱性、耐溶剤性、電気絶縁性等から種々の用途に広く用いられており、とりわけ半導体や実装回路基板用途に幅広く使用されている。   Polyimide films are widely used for various applications due to their excellent heat resistance, solvent resistance, electrical insulation, and the like, and are particularly widely used for semiconductor and mounted circuit board applications.

ポリイミドフィルムの代表的なものはピロメリット酸ニ無水物と4,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなるポリイミドである。このポリイミドは機械的、熱的特性のバランスに優れた構造であり、汎用の製品として広く工業的に用いられているが、表面の接着性が乏しいことが問題となっている。   A typical polyimide film is a polyimide composed of pyromellitic dianhydride and 4,4'-diaminodiphenyl ether. This polyimide has a structure with an excellent balance between mechanical and thermal properties and is widely used industrially as a general-purpose product, but has a problem of poor surface adhesion.

一方、ポリイミドフィルムは通常前駆体としてのポリアミック酸をイミド化する工程を踏むが、ポリアミック酸を十分イミド化するためには高温での加熱が必要である。また、フィルムとしての靭性を付与するためには十分な分子鎖間のパッキングを発現する必要があり、そのためにも高温で加熱する必要がある。しかしながら、高温で加熱した場合、フィルムに歪みが生じ、平面性の良いフィルムを得ることができないという問題を有している。   On the other hand, a polyimide film usually undergoes a process of imidizing a polyamic acid as a precursor, but heating at a high temperature is necessary to sufficiently imidize the polyamic acid. Moreover, in order to provide the toughness as a film, it is necessary to express sufficient packing between molecular chains, and for that purpose, it is necessary to heat at a high temperature. However, when heated at a high temperature, the film is distorted, and there is a problem that a film with good flatness cannot be obtained.

歪みをなくすためにはフィルムの幅方向両端を固定しているピンやチャック等の間隔を広げてやることが有効であるが、これらの方法ではフィルムは幅方向にのみ延伸され、出来上がったフィルムには顕著な異方性が生じる。フィルムの進行方向にも延伸を加えることで異方性を修正することは原理的には可能であるが、フィルムの進行方向への延伸は工業的には困難であり、設備も大掛かりとなり、製造コスト高となる。しかしながら、歪みや異方性があると、表面の接着性がますます乏しくなる問題が生じる。   In order to eliminate distortion, it is effective to widen the gap between pins and chucks that fix both ends of the film in the width direction. However, with these methods, the film is stretched only in the width direction, and the film is finished. Causes significant anisotropy. Although it is possible in principle to correct anisotropy by adding stretching in the direction of film travel, it is difficult industrially to stretch in the direction of film travel, making the equipment large and manufacturing. Cost increases. However, when there is distortion or anisotropy, there arises a problem that the adhesion of the surface becomes increasingly poor.

このような問題を解決する手段として、ガラス転移温度を有するポリイミドを用い、加熱前半でフィルム幅を順次小さくし、加熱後半でフィルム幅を順次大きくすることで歪みをなくす方法(例えば、特許文献1参照)などが検討されている。この方法は、加熱前半ではフィルムが収縮し、加熱後半では逆にフィルムが伸びる傾向を利用している。しかしながら、フィルムの収縮や伸びに合わせてフィルム幅を変更した場合、フィルムの歪みや異方性は緩和できるが、フィルムの収縮や伸びを促進させる手法であるため、出来上がったフィルムは寸法変化しやすいものとなる。
特開2000−290401号公報
As a means for solving such a problem, a method of eliminating distortion by using polyimide having a glass transition temperature, gradually reducing the film width in the first half of heating, and sequentially increasing the film width in the second half of heating (for example, Patent Document 1). Etc.) are being studied. This method utilizes the tendency that the film shrinks in the first half of heating and conversely in the second half of heating. However, if the film width is changed in accordance with the shrinkage and elongation of the film, the distortion and anisotropy of the film can be alleviated. It will be a thing.
JP 2000-290401 A

したがって、本発明の目的は、かかるポリイミドフィルムの歪みや異方性を解決し、表面接着性が良好で寸法安定性の優れたポリイミドフィルムを得ることができるポリイミドフィルムの製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing a polyimide film that can solve the distortion and anisotropy of such a polyimide film, and can obtain a polyimide film having good surface adhesion and excellent dimensional stability. is there.

本発明は、上記の目的を達成するため、以下の構成を採用する。すなわち、
(1)ポリイミド前駆体であるポリアミック酸またはポリイミドを溶剤中に溶解した溶液をエンドレスベルトまたはドラム上に連続的に塗布し、自己支持性がでるまで乾燥した後、該フィルムの両端を固定し、フィルム幅を変更しながら加熱炉中を搬送することによりポリイミドフィルムとするポリイミドフィルムの製造方法において、まずフィルム幅を順次大きくするように固定端間距離を設定し、次にフィルム幅を順次小さくするように端間距離を設定してフィルム幅を制御し、前記加熱炉に50〜650℃の温度勾配を設け、加熱炉前半では50〜200℃で、加熱炉後半では300〜650℃に加熱することを特徴とするポリイミドフィルムの製造方法である。
In order to achieve the above object, the present invention employs the following configuration. That is,
(1) A solution in which a polyamic acid or polyimide as a polyimide precursor is dissolved in a solvent is continuously applied onto an endless belt or drum, dried until self-supporting properties are obtained, and both ends of the film are fixed. In the method of manufacturing a polyimide film, which is made into a polyimide film by transporting through a heating furnace while changing the film width, first, the distance between the fixed ends is set so as to increase the film width sequentially, and then the film width is sequentially reduced. In this way, the distance between the ends is set to control the film width, a temperature gradient of 50 to 650 ° C. is provided in the heating furnace, and the heating furnace is heated to 50 to 200 ° C. and the heating furnace is heated to 300 to 650 ° C. This is a method for producing a polyimide film.

(2)ポリイミド前駆体であるポリアミック酸またはポリイミドを溶剤中に溶解した樹脂溶液をエンドレスベルトまたはドラム上に連続的に塗布し、自己支持性がでるまで乾燥した後、該フィルムの両端を固定し、フィルム幅を変更しながら加熱炉中を搬送することによりポリイミドフィルムとするポリイミドフィルムの製造方法において、まずフィルム幅を順次大きくするように固定端間距離を設定し、次にフィルム幅を順次小さくするように端間距離を設定し、さらにその後、フィルム幅を順次大きくしたり小さくしたりするように固定端間距離を設定してフィルム幅を制御し、前記加熱炉に50〜650℃の温度勾配を設け、加熱炉前半では50〜200℃で加熱し、加熱炉中央部では150〜450℃で加熱し、加熱炉後半では300〜650℃に加熱することを特徴とするポリイミドフィルムの製造方法。 (2) A resin solution in which a polyamic acid or polyimide as a polyimide precursor is dissolved in a solvent is continuously applied onto an endless belt or drum, dried until self-supporting properties are obtained, and both ends of the film are fixed. In the method for manufacturing a polyimide film, which is transferred to the heating furnace while changing the film width, the distance between the fixed ends is first set so as to increase the film width sequentially, and then the film width is decreased sequentially. The distance between the ends is set so that the film width is gradually increased or decreased, and then the distance between the fixed ends is controlled so as to gradually increase or decrease the film width, and the temperature in the heating furnace is set to 50 to 650 ° C. A gradient is provided, the first half of the heating furnace is heated at 50 to 200 ° C., the middle part of the heating furnace is heated at 150 to 450 ° C., and the second half of the heating furnace is 30 Method for producing a polyimide film, which comprises heating the to 650 ° C..

(3)エンドレスベルトまたはドラムが加熱されていることを特徴とする前記(1)または(2)に記載のポリイミドフィルムの製造方法。   (3) The method for producing a polyimide film according to (1) or (2), wherein the endless belt or the drum is heated.

本発明のポリイミドフィルムの製造方法によれば、製造時にフィルム幅を変更させているので、寸法安定性に優れ、接着性も良好なポリイミドフィルムとなりうる。   According to the method for producing a polyimide film of the present invention, since the film width is changed at the time of production, a polyimide film having excellent dimensional stability and good adhesion can be obtained.

本発明の特徴は、加熱炉内でまずフィルム幅を順次大きくするように固定端間距離を設定し、次にフィルム幅を順次小さくするように固定端間距離を設定することである。例えば、ポリアミック酸溶液を支持体上で加熱した後に支持体より引き剥がしたフィルムを100〜500℃程度まで連続的に加熱した場合、加熱前半(100〜250℃くらい)ではフィルムは収縮し、加熱後半(250〜500℃くらい)ではフィルムは伸びる。したがって、フィルムが収縮する際にフィルム幅を大きくすることでフィルムの寸法変化を抑え、逆にフィルムが伸びる際にフィルム幅を小さくすることでやはりフィルムの寸法変化を抑えることが可能となる。フィルムの伸びは250〜350℃くらいでほぼ収まるため、これ以上の温度では特にフィルム幅を大きくしたり小さくしたりする必要はないが、フィルムの収縮や伸びが収まった後にフィルムを緩和する目的で高温でフィルム幅を大きくしたり小さくしたりすることが好ましい。このような処理を行うことで、出来上がったフィルムの寸法安定性や表面接着性がより向上する。   The feature of the present invention is that the distance between the fixed ends is first set in the heating furnace so as to sequentially increase the film width, and then the distance between the fixed ends is set so as to sequentially decrease the film width. For example, when a polyamic acid solution is heated on a support and then peeled off from the support is continuously heated to about 100 to 500 ° C., the film shrinks and heats in the first half of heating (about 100 to 250 ° C.). In the second half (about 250-500 ° C), the film stretches. Therefore, it is possible to suppress the dimensional change of the film by increasing the film width when the film contracts, and to reduce the dimensional change of the film by reducing the film width when the film is extended. The film stretches at about 250 to 350 ° C., so it is not necessary to increase or decrease the film width especially at higher temperatures, but for the purpose of relaxing the film after the film shrinks or stretches. It is preferable to increase or decrease the film width at high temperatures. By performing such treatment, the dimensional stability and surface adhesion of the finished film are further improved.

フィルム幅変更の割合に関しては、ポリイミドの種類によって収縮や伸びの割合が異なるので一概に言えないが、好ましくは0.10〜10.0倍であり、より好ましくは0.20〜5.0倍であり、最も好ましくは0.50〜2.0倍である。ここで、フィルム幅を大きくする場合には1.001〜10.0倍、より好ましくは1.01〜5倍、最も好ましくは1.1〜2.0倍である。また、フィルム幅を小さくする場合には、0.10〜0.99倍、より好ましくは0.20〜0.95倍、最も好ましくは0.50〜0.90倍である。このようなフィルム幅変更により、フィルムの幅方向の延伸倍率が0.25〜4.0、好ましくは0.5〜2.0になるように制御することで、寸法安定性に優れたフィルムを得ることができる。フィルム幅の変更に伴い、フィルムの搬送による張力を調整し、フィルムを縦方向に0.5〜2.0倍程度延伸倍率にすることも好ましい。   Regarding the rate of film width change, the rate of shrinkage and elongation varies depending on the type of polyimide, so it cannot be generally stated, but it is preferably 0.10 to 10.0 times, more preferably 0.20 to 5.0 times. And most preferably 0.50 to 2.0 times. Here, when enlarging the film width, it is 1.001 to 10.0 times, more preferably 1.01 to 5 times, and most preferably 1.1 to 2.0 times. Moreover, when making a film width small, it is 0.10 to 0.99 times, More preferably, it is 0.20 to 0.95 times, Most preferably, it is 0.50 to 0.90 times. By controlling the width of the film so that the draw ratio in the width direction is 0.25 to 4.0, preferably 0.5 to 2.0 by changing the film width, a film having excellent dimensional stability can be obtained. Obtainable. As the film width is changed, it is also preferable to adjust the tension due to the film conveyance so that the film has a draw ratio of about 0.5 to 2.0 times in the longitudinal direction.

本発明において、ポリアミック酸またはポリイミドについてはフィルム形成できるものであれば特に限定されないが、好ましくは以下に示す酸ニ無水物とジアミンとから合成されるポリアミック酸及びポリイミドが挙げられる。
(1)酸二無水物
ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3’,3,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンジカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル、ピリジン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−デカヒドロナフタレンテトラカルボン酸二無水物、4,8−ジメチル−1,2,5,6−ヘキサヒドロナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,6−ジクロロ−1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,7−ジクロロ−1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−テトラクロロ−1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,8,9,10−フェナントレンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、ベンゼン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物、3,4,3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等。
(2)ジアミン
4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、メタフェニレンジアミン、パラフェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、3,4’−ジアミノジフェニルプロパン、3,3’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジアミノジフェニルメタン、ベンチジン、4,4’−ジアミノジフェニルサルファイド、3,4’−ジアミノジフェニルサルファイド、3,3’−ジアミノジフェニルサルファイド、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、2,6−ジアミノピリジン、ビス−(4−アミノフェニル)ジエチルシラン、3,3’−ジクロロベンチジン、ビス−(4−アミノフェニル)エチルホスフィノキサイド、ビス−(4−アミノフェニル)フェニルホスフィノキサイド、ビス−(4−アミノフェニル)−N−フェニルアミン、ビス−(4−アミノフェニル)−N−メチルアミン、1,5−ジアミノナフタレン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,4’−ジメチル−3’,4−ジアミノビフェニル3,3’−ジメトキシベンチジン、2,4−ビス(p−β−アミノ−t−ブチルフェニル)エーテル、ビス(p−β−アミノ−t−ブチルフェニル)エーテル、p−ビス(2−メチル−4−アミノペンチル)ベンゼン、p−ビス−(1,1−ジメチル−5−アミノペンチル)ベンゼン、m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミン、1,3−ジアミノアダマンタン、3,3’−ジアミノ−1,1’−ジアミノアダマンタン、3,3’−ジアミノメチル1,1’−ジアダマンタン、ビス(p−アミノシクロヘキシル)メタン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、3−メチルヘプタメチレンジアミン、4,4’−ジメチルヘプタメチレンジアミン、2,11−ジアミノドデカン、1,2−ビス(3−アミノプロポキシ)エタン、2,2−ジメチルプロピレンジアミン、3−メトキシヘキサエチレンジアミン、2,5−ジメチルヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメチルヘプタメチレンジアミン、5−メチルノナメチレンジアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、1,12−ジアミノオクタデカン、2,5−ジアミノ−1,3,4−オキサジアゾール、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、N−(3−アミノフェニル)−4−アミノベンズアミド、4−アミノフェニル−3−アミノベンゾエート等。
In the present invention, the polyamic acid or polyimide is not particularly limited as long as it can form a film, but preferably includes polyamic acid and polyimide synthesized from acid dianhydride and diamine as shown below.
(1) acid dianhydride pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3 ′, 3,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenedicarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether, pyridine -2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 1, 4,5,8-decahydronaphthalenetetracarboxylic dianhydride, 4,8-dimethyl-1,2,5,6-hexahydronaphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,6-dichloro-1,4, 5,8-Naphthalenetetracarboxylic acid Dianhydride, 2,7-dichloro-1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-tetrachloro-1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid Anhydride, 1,8,9,10-phenanthrenetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxy) Phenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ) Methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, benzene-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, 3,4,3 ′, 4′-benzophenone tetra Carboxylic acid dianhydride Etc..
(2) Diamine 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 3,3′-diaminodiphenyl ether, metaphenylenediamine, paraphenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylpropane, 3,4′- Diaminodiphenylpropane, 3,3′-diaminodiphenylpropane, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 3,4′-diaminodiphenylmethane, 3,3′-diaminodiphenylmethane, benzidine, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, 3, 4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 2,6-diaminopyridine, Screw (4 -Aminophenyl) diethylsilane, 3,3'-dichlorobenzidine, bis- (4-aminophenyl) ethylphosphinoxide, bis- (4-aminophenyl) phenylphosphinoxide, bis- (4-amino) Phenyl) -N-phenylamine, bis- (4-aminophenyl) -N-methylamine, 1,5-diaminonaphthalene, 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 3,4′-dimethyl -3 ′, 4-diaminobiphenyl 3,3′-dimethoxybenzidine, 2,4-bis (p-β-amino-t-butylphenyl) ether, bis (p-β-amino-t-butylphenyl) ether P-bis (2-methyl-4-aminopentyl) benzene, p-bis- (1,1-dimethyl-5-aminopentyl) benzene, m-xylylenediamine , P-xylylenediamine, 1,3-diaminoadamantane, 3,3′-diamino-1,1′-diaminoadamantane, 3,3′-diaminomethyl 1,1′-diadamantane, bis (p-aminocyclohexyl) ) Methane, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, decamethylenediamine, 3-methylheptamethylenediamine, 4,4'-dimethylheptamethylenediamine, 2,11-diaminododecane, 1,2 -Bis (3-aminopropoxy) ethane, 2,2-dimethylpropylenediamine, 3-methoxyhexaethylenediamine, 2,5-dimethylhexamethylenediamine, 2,5-dimethylheptamethylenediamine, 5-methylnonamethylenediamine, 1 , 4-Diaminocyclohex 1,12-diaminooctadecane, 2,5-diamino-1,3,4-oxadiazole, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, N- (3-aminophenyl) -4 -Aminobenzamide, 4-aminophenyl-3-aminobenzoate and the like.

これらのポリアミック酸及びポリイミドを合成する際に用いる溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられるが、これらに限定されない。また、ポリイミドを合成する際には、第三級アミン類に代表される各種触媒、有機カルボン酸無水物に代表される各種脱水剤などを適宜使用してもよい。   Examples of the solvent used for synthesizing these polyamic acid and polyimide include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-methylformamide, and dimethyl sulfoxide. However, it is not limited to these. Moreover, when synthesizing a polyimide, various catalysts represented by tertiary amines, various dehydrating agents represented by organic carboxylic acid anhydrides, and the like may be used as appropriate.

ポリイミド前駆体であるポリアミック酸またはポリイミドを溶剤中に溶解した溶液をエンドレスベルトまたはドラム上に連続的に塗布して乾燥する場合、エンドレスベルトまたはドラム上で自然に乾燥してもよいが、エンドレスベルトまたはドラムをある程度加熱しておき、この熱によりフィルムに自己支持性がでるまで乾燥することが好ましい。エンドレスベルトまたはドラムの加熱温度としては30〜200℃が好ましく、より好ましくは50〜150℃である。加熱温度が低すぎるとフィルムに自己支持性が出るまで長時間必要となり、逆に加熱温度が高すぎるとこの段階でフィルムに歪みや異方性が生じてしまう。   When a solution obtained by dissolving a polyamic acid or polyimide as a polyimide precursor in a solvent is continuously applied on an endless belt or drum and dried, the solution may be naturally dried on the endless belt or drum. Alternatively, it is preferable that the drum is heated to some extent and dried until the film is self-supporting by this heat. The heating temperature of the endless belt or drum is preferably 30 to 200 ° C, more preferably 50 to 150 ° C. If the heating temperature is too low, it takes a long time until the film becomes self-supporting. Conversely, if the heating temperature is too high, the film is distorted or anisotropic at this stage.

次にフィルムの両端を固定する方法としては、ピンに突き刺す方法やチャック等で加える方法などが挙げられるが、これらに限定されない。両端固定の際には、あらかじめフィルムのエンドレスベルトやドラムから剥離しておくのが好ましいが、場合によってはエンドレスベルトやドラムの上にある状態で両端固定してもよい。   Next, examples of the method for fixing the both ends of the film include a method of piercing a pin and a method of adding with a chuck, but are not limited thereto. When fixing both ends, it is preferable to peel the film from the endless belt or drum in advance. However, depending on the case, the both ends may be fixed on the endless belt or drum.

フィルム幅を変更しながら加熱炉中を搬送する際の加熱炉の温度としては、50〜650℃の温度範囲が挙げられる。好ましくはこの50〜650℃の温度に勾配を設け、加熱炉前半では比較的低い温度(50〜200℃)で加熱し、加熱炉後半では比較的高い温度(300〜650℃)で加熱するのがよい。更に好ましくは、加熱炉前半では比較的低い温度(50〜200℃)で加熱し、次に加熱炉中央部では150〜450℃で加熱し、加熱炉後半では比較的高い温度(300〜600℃)で加熱するのがよい。加熱炉前半の温度範囲としては100〜150℃がより好ましく、加熱炉後半の温度範囲としては350〜550℃がより好ましい。   A temperature range of 50 to 650 ° C. may be mentioned as the temperature of the heating furnace when transporting through the heating furnace while changing the film width. Preferably, the temperature is set to 50 to 650 ° C., and the first half of the heating furnace is heated at a relatively low temperature (50 to 200 ° C.), and the second half of the heating furnace is heated at a relatively high temperature (300 to 650 ° C.). Is good. More preferably, heating is performed at a relatively low temperature (50 to 200 ° C.) in the first half of the heating furnace, then heating is performed at 150 to 450 ° C. in the center of the heating furnace, and relatively high temperature (300 to 600 ° C. in the second half of the heating furnace. ). The temperature range of the first half of the heating furnace is more preferably 100 to 150 ° C, and the temperature range of the second half of the heating furnace is more preferably 350 to 550 ° C.

本発明により製造されるポリイミドフィルムの厚みとしては0.1〜250μm、より好ましくは1〜180μmである。フィルムは帯状の連続したものでもよく、適当な長さで裁断されたものでもよい。   The thickness of the polyimide film produced according to the present invention is 0.1 to 250 μm, more preferably 1 to 180 μm. The film may be a continuous strip or may be cut to an appropriate length.

[寸法安定性評価]
ポリイミドフィルムを25℃、60%RHの雰囲気に保存し、作成直後、作成1日後、作成1週間後、作成1ケ月後でそれぞれ寸法を測定し、作成直後との比較でその変化を調べた。作成直後のポリイミドフィルムに100mm角の正方形を描き、この正方形の変化(縦方向、横方向、斜め方向)を調べることで変化を調べた。
[Dimensional stability evaluation]
The polyimide film was stored in an atmosphere of 25 ° C. and 60% RH, and the dimensions were measured immediately after creation, 1 day after creation, 1 week after creation, and 1 month after creation, and the changes were examined by comparison with those immediately after creation. A 100 mm square was drawn on the polyimide film immediately after preparation, and the change was investigated by examining the change (vertical direction, horizontal direction, diagonal direction) of this square.

[接着性評価]
デュポン(株)製“パイララックス”を用いてポリイミドフィルムと銅箔(三井金属鉱業(株)製電解銅箔3EC、厚さ35μm厚)とをラミネートし、185℃×1時間で接着剤の硬化反応を行い、銅張り板を得た。得られた銅張り板から銅パターン幅が3mmとなるようにサンプルを切り出し、引張試験機(島津製作所(株)製S−100−C)により接着性評価を行った。
[Adhesion evaluation]
Laminated polyimide film and copper foil (electrolytic copper foil 3EC made by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd., thickness 35 μm) using “Pyralax” manufactured by DuPont Co., Ltd. and cured the adhesive at 185 ° C. × 1 hour Reaction was performed to obtain a copper-clad plate. A sample was cut out from the obtained copper-clad plate so that the copper pattern width was 3 mm, and adhesion evaluation was performed with a tensile tester (S-100-C, manufactured by Shimadzu Corporation).

[実施例1]
ピロメリット酸二無水物と4,4’−ジアミノジフェニルエーテルとを用い、ピロメリット酸二無水物218.1g(1mol)と4,4’−ジアミノジフェニルエーテル200.2g(1mol)とをN,N−ジメチルアセトアミド溶媒中に溶解し、ポリアミック酸状態に合成した。このポリアミック酸溶液をエンドレスベルト上に乾燥膜厚で25μmになるように塗布し、エンドレスベルト上で100℃で5分加熱し、自己支持性を有するフィルムを得た。
[Example 1]
Using pyromellitic dianhydride and 4,4′-diaminodiphenyl ether, 218.1 g (1 mol) of pyromellitic dianhydride and 200.2 g (1 mol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether were added to N, N— It was dissolved in a dimethylacetamide solvent and synthesized into a polyamic acid state. This polyamic acid solution was applied on the endless belt so as to have a dry film thickness of 25 μm, and heated on the endless belt at 100 ° C. for 5 minutes to obtain a self-supporting film.

次に、この自己支持性を有するフィルムをエンドレスベルトから剥離し、ピンによりフィルムの両端を固定した。固定後、加熱炉内に搬送し、180℃×3分、290℃×3分、400℃×3分加熱処理した。この際、最初の4.5分はフィルム幅が1.5倍になるように順次大きくしていき、後半の4.5分はフィルム幅が0.7倍になるように順次小さくしていった。   Next, this self-supporting film was peeled from the endless belt, and both ends of the film were fixed with pins. After fixing, it was transferred into a heating furnace and heat-treated at 180 ° C. × 3 minutes, 290 ° C. × 3 minutes, and 400 ° C. × 3 minutes. At this time, the first 4.5 minutes is gradually increased so that the film width is 1.5 times, and the latter 4.5 minutes is gradually decreased so that the film width is 0.7 times. It was.

このようにして得られたポリイミドフィルムの寸法安定性、接着性を調べた。結果は表1に示す通りであり、良好であった。   The thus obtained polyimide film was examined for dimensional stability and adhesiveness. The results were as shown in Table 1 and were good.

[実施例2]
3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物とパラフェニレンジアミンとを用い、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物294.2g(1mol)とパラフェニレンジアミン108.1g(1mol)とからなるポリイミドをN,N−ジメチルホルムアミド溶媒中に溶解し、ポリアミック酸状態に合成した。このポリアミック酸溶液に触媒として無水酢酸とβ−ピコリンとをそれぞれ0.5重量%ずつ加えた後にドラム上に乾燥膜厚で12.5μmになるように塗布し、キャストドラム上で120℃で3分加熱し、自己支持性を有するフィルムを得た。
[Example 2]
Using 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and paraphenylenediamine, 294.2 g (1 mol) of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and para A polyimide composed of 108.1 g (1 mol) of phenylenediamine was dissolved in a N, N-dimethylformamide solvent and synthesized into a polyamic acid state. 0.5% by weight of acetic anhydride and β-picoline were added to the polyamic acid solution as a catalyst, and the resulting solution was applied on the drum so as to have a dry film thickness of 12.5 μm. Heated for minutes to obtain a self-supporting film.

次に、この自己支持性を有するフィルムをキャストドラムから剥離し、ピンによりフィルムの両端を固定した。固定後、加熱炉内に搬送し、200℃×3分、350℃×6分、500℃×1分加熱処理した。この際、最初の5分はフィルム幅が1.2倍になるように順次大きくしていき、後半の5分はフィルム幅が0.9倍になるように順次小さくしていった。   Next, the film having the self-supporting property was peeled from the cast drum, and both ends of the film were fixed with pins. After fixing, it was transferred into a heating furnace and heat-treated at 200 ° C. × 3 minutes, 350 ° C. × 6 minutes, and 500 ° C. × 1 minute. At this time, the first 5 minutes were gradually increased so that the film width was 1.2 times, and the latter 5 minutes were gradually decreased so that the film width was 0.9 times.

このようにして得られたポリイミドフィルムの寸法安定性、接着性を調べた。結果は表1に示す通りであり、良好であった。   The thus obtained polyimide film was examined for dimensional stability and adhesiveness. The results were as shown in Table 1 and were good.

[実施例3]
ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、パラフェニレンジアミンを用い、ピロメリット酸二無水物109.1g(0.5mol)、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物147.1g(0.5mol)、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル100.1g(0.5mol)、パラフェニレンジアミン54.1g(0.5mol)とからなるポリイミドをN,N−ジメチルホルムアミド溶媒中に溶解し、ポリアミック酸状態に合成した。このポリアミック酸溶液に触媒として無水酢酸とβ−ピコリンとをそれぞれ0.3重量%ずつ加えた後にキャストドラム上に乾燥膜厚で50μmになるように塗布し、ドラム上で70℃で2分加熱し、自己支持性を有するフィルムを得た。
[Example 3]
Using pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4′-diaminodiphenyl ether and paraphenylenediamine, 109.1 g of pyromellitic dianhydride (0 .5 mol), 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride 147.1 g (0.5 mol), 4,4′-diaminodiphenyl ether 100.1 g (0.5 mol), paraphenylenediamine 54 Polyimide consisting of 0.1 g (0.5 mol) was dissolved in N, N-dimethylformamide solvent and synthesized into a polyamic acid state. After adding 0.3% by weight of acetic anhydride and β-picoline as a catalyst to the polyamic acid solution, the solution was applied on a cast drum to a dry film thickness of 50 μm and heated on the drum at 70 ° C. for 2 minutes. Thus, a film having self-supporting properties was obtained.

次に、この自己支持性を有するフィルムをキャストドラムから剥離し、ピンによりフィルムの両端を固定した。固定後、加熱炉内に搬送し、100℃×3分、200℃×3分、300℃×2分、400℃×3分、550℃×1分加熱処理した。この際、最初の4分はフィルム幅が1.6倍になるように順次大きくしていき、中間の4分はフィルム幅が0.7倍になるように順次小さくしていき、最後の4分はフィルム幅が1.1倍になるように順次大きくしていった。   Next, the film having the self-supporting property was peeled from the cast drum, and both ends of the film were fixed with pins. After fixing, it was transferred into a heating furnace and heat-treated at 100 ° C. × 3 minutes, 200 ° C. × 3 minutes, 300 ° C. × 2 minutes, 400 ° C. × 3 minutes, 550 ° C. × 1 minute. At this time, the first 4 minutes are sequentially increased so that the film width is 1.6 times, and the middle 4 minutes are sequentially decreased so that the film width is 0.7 times, and the last 4 minutes. The minutes were gradually increased so that the film width became 1.1 times.

このようにして得られたポリイミドフィルムの寸法安定性、接着性を調べた。結果は表1に示す通りであり、良好であった。   The thus obtained polyimide film was examined for dimensional stability and adhesiveness. The results were as shown in Table 1 and were good.

[実施例4]
ピロメリット酸二無水物、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、パラフェニレンジアミンを用い、ピロメリット酸二無水物218.1g(1mol)、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル100.1g(0.5mol)、パラフェニレンジアミン54.1g(0.5mol)とからなるポリイミドをN,N−ジメチルホルムアミド溶媒中に溶解し、ポリアミック酸状態に合成した。このポリアミック酸溶液に触媒として無水酢酸とβ−ピコリンとをそれぞれ0.3重量%ずつ加えた後にキャストドラム上に乾燥膜厚で75μmになるように塗布し、ドラム上で70℃で1分加熱し、自己支持性を有するフィルムを得た。
[Example 4]
Using pyromellitic dianhydride, 4,4'-diaminodiphenyl ether, paraphenylenediamine, 218.1 g (1 mol) of pyromellitic dianhydride, 100.1 g (0.5 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether, A polyimide composed of 54.1 g (0.5 mol) of paraphenylenediamine was dissolved in an N, N-dimethylformamide solvent and synthesized into a polyamic acid state. After adding 0.3% by weight of acetic anhydride and β-picoline as a catalyst to the polyamic acid solution, the solution was applied on a cast drum to a dry film thickness of 75 μm, and heated on the drum at 70 ° C. for 1 minute. Thus, a film having self-supporting properties was obtained.

次に、この自己支持性を有するフィルムをキャストドラムから剥離し、ピンによりフィルムの両端を固定した。固定後、加熱炉内に搬送し、100℃×2分、200℃×2分、300℃×2分、400℃×3分、500℃×2分、550℃×1分加熱処理した。この際、最初の3分はフィルム幅が1.2倍になるように順次大きくしていき、次の3分はフィルム幅が0.8倍になるように順次小さくしていき、その次の3分はフィルム幅が1.1倍になるように順次大きくしていき、最後の3分はフィルム幅が0.9倍になるように順次小さくしていった。   Next, the film having the self-supporting property was peeled from the cast drum, and both ends of the film were fixed with pins. After fixing, it was transferred into a heating furnace and heat-treated at 100 ° C. × 2 minutes, 200 ° C. × 2 minutes, 300 ° C. × 2 minutes, 400 ° C. × 3 minutes, 500 ° C. × 2 minutes, 550 ° C. × 1 minute. At this time, the first 3 minutes is gradually increased so that the film width is 1.2 times, and the next 3 minutes is gradually decreased so that the film width is 0.8 times. For 3 minutes, the film width was gradually increased to 1.1 times, and for the last 3 minutes, the film width was gradually decreased to 0.9 times.

このようにして得られたポリイミドフィルムの寸法安定性、接着性を調べた。結果は表1に示す通りであり、良好であった。   The thus obtained polyimide film was examined for dimensional stability and adhesiveness. The results were as shown in Table 1 and were good.

[比較例1]
実施例1において、フィルム幅変更の処理を行わない以外は全て実施例1と同様にしてポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの寸法安定性、接着性を調べた。結果は表1に示す通りであり、寸法安定性が悪く、接着性も悪かった。
[Comparative Example 1]
In Example 1, a polyimide film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the film width change treatment was not performed. The resulting polyimide film was examined for dimensional stability and adhesiveness. The results are as shown in Table 1. The dimensional stability was poor and the adhesion was also poor.

[比較例2]
実施例2において、フィルム幅変更の処理を行わない以外は全て実施例2と同様にしてポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの寸法安定性、接着性を調べた。結果は表1に示す通りであり、寸法安定性が悪く、接着性も悪かった。
[Comparative Example 2]
In Example 2, a polyimide film was obtained in the same manner as Example 2 except that the film width change treatment was not performed. The resulting polyimide film was examined for dimensional stability and adhesiveness. The results are as shown in Table 1. The dimensional stability was poor and the adhesion was also poor.

[比較例3]
実施例3において、フィルム幅変更の処理を行わない以外は全て実施例3と同様にしてポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの寸法安定性、接着性を調べた。結果は表1に示す通りであり、寸法安定性が悪く、接着性も悪かった。
[Comparative Example 3]
In Example 3, a polyimide film was obtained in the same manner as Example 3 except that the film width change treatment was not performed. The resulting polyimide film was examined for dimensional stability and adhesiveness. The results are as shown in Table 1. The dimensional stability was poor and the adhesion was also poor.

[比較例4]
実施例4において、フィルム幅変更の処理を行わない以外は全て実施例4と同様にしてポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの寸法安定性、接着性を調べた。結果は表1に示す通りであり、寸法安定性が悪く、接着性も悪かった。
[Comparative Example 4]
In Example 4, a polyimide film was obtained in the same manner as in Example 4 except that the film width change treatment was not performed. The resulting polyimide film was examined for dimensional stability and adhesiveness. The results are as shown in Table 1. The dimensional stability was poor and the adhesion was also poor.

Figure 0004721154
Figure 0004721154

本発明の製造方法で得られるポリイミドフィルムは半導体や実装回路基板用途に幅広く使用することができる。     The polyimide film obtained by the production method of the present invention can be widely used for semiconductors and mounted circuit board applications.

Claims (3)

ポリイミド前駆体であるポリアミック酸またはポリイミドを溶剤中に溶解した溶液をエンドレスベルトまたはドラム上に連続的に塗布し、自己支持性がでるまで乾燥した後、該フィルムの両端を固定し、フィルム幅を変更しながら加熱炉中を搬送することによりポリイミドフィルムとするポリイミドフィルムの製造方法において、まずフィルム幅を順次大きくするように固定端間距離を設定し、次にフィルム幅を順次小さくするように端間距離を設定してフィルム幅を制御し、前記加熱炉に50〜650℃の温度勾配を設け、加熱炉前半では50〜200℃で、加熱炉後半では300〜650℃に加熱することを特徴とするポリイミドフィルムの製造方法。 A solution in which polyamic acid or polyimide, which is a polyimide precursor, is dissolved in a solvent is continuously applied onto an endless belt or drum, and dried until self-supporting properties are obtained. In the method of manufacturing a polyimide film that is made into a polyimide film by transporting through the heating furnace while changing, the distance between the fixed ends is first set so as to increase the film width sequentially, and then the end so as to decrease the film width sequentially. The film width is controlled by setting an inter-distance, and a temperature gradient of 50 to 650 ° C. is provided in the heating furnace, and heating is performed at 50 to 200 ° C. in the first half of the heating furnace and 300 to 650 ° C. in the second half of the heating furnace. A method for producing a polyimide film. ポリイミド前駆体であるポリアミック酸またはポリイミドを溶剤中に溶解した樹脂溶液をエンドレスベルトまたはドラム上に連続的に塗布し、自己支持性がでるまで乾燥した後、該フィルムの両端を固定し、フィルム幅を変更しながら加熱炉中を搬送することによりポリイミドフィルムとするポリイミドフィルムの製造方法において、まずフィルム幅を順次大きくするように固定端間距離を設定し、次にフィルム幅を順次小さくするように端間距離を設定し、さらにその後、フィルム幅を順次大きくしたり小さくしたりするように固定端間距離を設定してフィルム幅を制御し、前記加熱炉に50〜650℃の温度勾配を設け、加熱炉前半では50〜200℃で加熱し、加熱炉中央部では150〜450℃で加熱し、加熱炉後半では300〜650℃に加熱することを特徴とするポリイミドフィルムの製造方法。 A resin solution in which a polyamic acid or polyimide as a polyimide precursor is dissolved in a solvent is continuously applied onto an endless belt or drum and dried until self-supporting properties are obtained, and then both ends of the film are fixed, and the film width In the manufacturing method of the polyimide film which makes the polyimide film by conveying in the heating furnace while changing the first , set the distance between the fixed ends so as to increase the film width sequentially, and then decrease the film width sequentially Set the end-to-end distance, and then set the fixed end-to-end distance so as to gradually increase or decrease the film width to control the film width, and provide a temperature gradient of 50 to 650 ° C. in the heating furnace. The first half of the heating furnace is heated at 50 to 200 ° C., the middle part of the heating furnace is heated at 150 to 450 ° C., and the second half of the heating furnace is 300 to 6 ° C. Method for producing a polyimide film, wherein the heating to 0 ° C.. エンドレスベルトまたはドラムが加熱されていることを特徴とする請求項1または2に記載のポリイミドフィルムの製造方法。 The method for producing a polyimide film according to claim 1 or 2, wherein the endless belt or drum is heated.
JP2004131182A 2003-05-07 2004-04-27 Method for producing polyimide film Expired - Fee Related JP4721154B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004131182A JP4721154B2 (en) 2003-05-07 2004-04-27 Method for producing polyimide film

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003128768 2003-05-07
JP2003128768 2003-05-07
JP2004131182A JP4721154B2 (en) 2003-05-07 2004-04-27 Method for producing polyimide film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004352983A JP2004352983A (en) 2004-12-16
JP4721154B2 true JP4721154B2 (en) 2011-07-13

Family

ID=34066999

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004131182A Expired - Fee Related JP4721154B2 (en) 2003-05-07 2004-04-27 Method for producing polyimide film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4721154B2 (en)

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6321115A (en) * 1986-07-15 1988-01-28 Hitachi Chem Co Ltd Manufacture of polyimide film
JPH05169526A (en) * 1991-12-19 1993-07-09 Mitsui Toatsu Chem Inc Thermal treatment of thermoplastic polyimide stretched film

Also Published As

Publication number Publication date
JP2004352983A (en) 2004-12-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN113527882B (en) Polyimide film and copper clad laminate
KR20230048625A (en) Polyimide film
JP2015224314A (en) Polyimide film
JP4839914B2 (en) Polymer film manufacturing apparatus and polymer film manufacturing method
JP2008012776A (en) Method for producing polyimide film
JP5835046B2 (en) Method for producing polyimide film
JP4721154B2 (en) Method for producing polyimide film
JP3912619B2 (en) Adhesive sheet, metal laminate sheet and printed wiring board
JP4774901B2 (en) Method for producing polyimide film
JP4126432B2 (en) Method for producing polyimide film
JP7230148B2 (en) Metal-clad laminates and circuit boards
JP2005194318A (en) Polyimide film
JP2014201632A (en) Polyimide film and method for manufacturing the same
JP4428016B2 (en) Method for producing polyimide film
JP4253791B2 (en) Method for producing polyimide film
JP6603021B2 (en) Polyimide film
JP2006160974A (en) Polyimide film
JP4807073B2 (en) Method for producing polyimide film
JP2006199740A (en) Polyimide film and its manufacturing method
JP4977953B2 (en) Polyimide precursor film, method for producing polyimide film, and polyimide film
JP2007160704A (en) Method for manufacturing high rigidity film
JP2007253517A (en) Polymer film manufacturing apparatus and polymer film manufacturing method
JP2006143839A (en) Polyimide film and method for producing the same
JP2010077311A (en) Method for manufacturing polyimide film and polyimide film
JP2006083205A (en) Polyimide film, its manufacturing process and metal wiring board using it as substrate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070406

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091211

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091222

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100217

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20100301

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20100301

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100511

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100609

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110322

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110328

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140415

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees