JP4773245B2 - Honeycomb porous film and honeycomb composite film - Google Patents
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Description
本発明は、自己組織化により形成された空孔を有するハニカム状多孔質フィルム、及び該ハニカム状多孔質フィルムからなるハニカム複合膜、並びに該ハニカム複合膜の製造方法に関する。 The present invention relates to a honeycomb-shaped porous film having pores formed by self-organization, a honeycomb composite film composed of the honeycomb-shaped porous film, and a method for manufacturing the honeycomb composite film.
近時、光学材料や電子材料の分野では、集積度の向上や情報量の高密度化、画像情報の高精細化などの要求が高まっている。このため、該分野に用いられるフィルムにも微細な構造(微細パターニング、微細パターン構造)が形成されていることが求められている。また、再生医療分野の研究には、表面に微細な構造を有する膜が、細胞培養における足場となる基材として有効であることが知られている(特許文献1参照)。
前記フィルムの微細パターニングについては、マスクを用いた蒸着法、光化学反応、並びに重合反応を用いた光リソグラフィー技術、レーザーアブレーション技術などの種々の方法が知られており、実用化もされている。
In recent years, in the fields of optical materials and electronic materials, there are increasing demands for improving the degree of integration, increasing the amount of information, and increasing the definition of image information. For this reason, it is requested | required that the fine structure (fine patterning, fine pattern structure) is formed also in the film used for the said field | area. In research in the field of regenerative medicine, it is known that a membrane having a fine structure on the surface is effective as a base material that serves as a scaffold in cell culture (see Patent Document 1).
Various methods such as vapor deposition using a mask, photochemical reaction, photolithographic technique using a polymerization reaction, laser ablation technique and the like are known and put into practical use for fine patterning of the film.
また、特殊な構造を有するポリマーの希薄溶液を高湿度下でキャストすることでミクロンスケールのハニカム構造を有するフィルムが得られることが知られている(特許文献2及び特許文献3参照)。このようなハニカム構造を有するフィルムに機能性微粒子を含有させることで光学材料や電子材料として用いられている。例えば、フィルム中に発光材料を含有させることで表示デバイスとして用いられる(特許文献4参照)。 Further, it is known that a film having a micron-scale honeycomb structure can be obtained by casting a dilute solution of a polymer having a special structure under high humidity (see Patent Document 2 and Patent Document 3). The film having such a honeycomb structure is used as an optical material or an electronic material by containing functional fine particles. For example, it is used as a display device by containing a light emitting material in the film (see Patent Document 4).
また、光学材料である偏光板にも微細パターニングが形成されているフィルムが用いられている。例えば、モスアイ構造を有する反射防止機能を発現するフィルムがある。このようなフィルムは、サブミクロン〜数十ミクロンサイズの規則正しい微細パターニングが形成されている。
この場合、光リソグラフィーを中心としたマイクロ加工技術を用いた版を作製し、その版の構造を基材に転写する方法が主流である(特許文献5参照)。
In addition, a film on which fine patterning is formed is also used for a polarizing plate which is an optical material. For example, there is a film that exhibits an antireflection function having a moth-eye structure. Such a film has regular fine patterning of submicron to several tens of microns.
In this case, a mainstream method is to prepare a plate using a micro processing technique centering on photolithography and transfer the structure of the plate to a substrate (see Patent Document 5).
前記特許文献5に記載されたようなトップダウン方式の方法では、微細構造を決定する版の作製が、複雑でいくつもの工程を必要とし、高コストを招いている。また、大面積な版を製造することが困難であるという問題もある。
このため、前記特許文献2及び3に記載されたような、微細な構造を自己会合的に形成することで、規則正しい微細構造を有する「自己組織化」を応用して、微細構造を有する自己組織化構造体(ハニカム状多孔質フィルム)を作製するボトムアップ方式が提案されている。
In the top-down method as described in Patent Document 5, the production of a plate for determining the fine structure is complicated and requires many steps, resulting in high costs. There is also a problem that it is difficult to produce a large-area plate.
For this reason, the self-organization having a fine structure is applied by applying “self-organization” having a regular fine structure by forming a fine structure in a self-associative manner as described in Patent Documents 2 and 3 above. A bottom-up method for producing a structured structure (honeycomb-like porous film) has been proposed.
しかしながら、従来の前記自己組織化構造体は、両親媒性ポリマーや両親媒性オリゴマー等の高分子量の材料を用いて作製されているため、該材料の溶液中における物質拡散速度が遅く、ハニカム構造の鋳型となる前記微細構造表面に形成された水滴が、前記材料溶液の回りこみによって包囲されるまでの時間を長く要し、個々の水滴が成長しまう結果、ハニカム構造の空孔径が大きくなってしまうという問題がある。また、多数の空孔を有する薄膜であるため、強度が弱く、破れやすく、取り扱い性が劣るという問題があり、広汎な用途における利用の妨げとなっているため、これらの解決が望まれているのが現状である。 However, since the conventional self-assembled structure is produced using a high molecular weight material such as an amphiphilic polymer or an amphiphilic oligomer, the material diffusion rate in the solution of the material is slow, and the honeycomb structure It takes a long time for the water droplets formed on the surface of the microstructure to become a mold of the material to be surrounded by the entrainment of the material solution, and as a result of the growth of individual water droplets, the pore diameter of the honeycomb structure increases. There is a problem of end. In addition, since it is a thin film having a large number of pores, there is a problem that the strength is weak, it is easily torn, and the handleability is inferior. is the current situation.
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、空孔の径が小さく制御されたハニカム状多孔質フィルム、及び該ハニカム状多孔質フィルムからなるハニカム複合膜、並びに該ハニカム複合膜を効率よく製造する方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to solve the above-described problems and achieve the following objects. That is, the present invention provides a honeycomb-shaped porous film in which the pore diameter is controlled to be small, a honeycomb composite film comprising the honeycomb-shaped porous film, and a method for efficiently manufacturing the honeycomb composite film. Objective.
前記課題を解決するために本発明者らが鋭意検討した結果、以下の知見を得た。即ち、自己組織化構造体を作製する材料として、ハニカム構造を得るために必須の成分であった両親媒性ポリマーに代えて、油溶性の界面活性剤であるリン酸エステル系界面活性剤を用いることにより、空孔の鋳型となる水滴の融合が速やかに抑制され、その結果、得られる空孔の径が小さく制御されるという知見である。 As a result of intensive studies by the present inventors in order to solve the above problems, the following knowledge has been obtained. That is, as a material for producing a self-assembled structure, a phosphate ester-based surfactant that is an oil-soluble surfactant is used instead of the amphiphilic polymer that was an essential component for obtaining a honeycomb structure. This is a finding that the fusion of water droplets serving as the mold of the pores is quickly suppressed, and as a result, the diameter of the resulting pores is controlled to be small.
本発明は、本発明者らによる前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。即ち、
<1> 少なくとも下記一般式(I)で表される界面活性剤を含むことを特徴とするハニカム状多孔質フィルムである。
<2> 少なくとも前記一般式(I)で表される界面活性剤と、疎水性有機溶媒とを含むフィルム材料溶液を用いてフィルム材料層を形成し、
前記フィルム材料層に相対湿度50〜95%の気体を送風し、前記疎水性有機溶媒を揮発させるとともに、前記フィルム材料層表面に結露を生成し、該結露を蒸発させることにより形成された空孔を有する前記<1>に記載のハニカム状多孔質フィルムである。
This invention is based on the said knowledge by the present inventors, and the means for solving the said subject are as follows. That is,
<1> A honeycomb-like porous film comprising at least a surfactant represented by the following general formula (I).
<2> A film material layer is formed using a film material solution containing at least the surfactant represented by the general formula (I) and a hydrophobic organic solvent,
Air holes formed by blowing a gas having a relative humidity of 50 to 95% to the film material layer, volatilizing the hydrophobic organic solvent, generating condensation on the surface of the film material layer, and evaporating the condensation. It is a honeycomb-like porous film as described in said <1> which has.
<3> 少なくとも前記一般式(I)で表される界面活性剤と、疎水性有機溶媒とを含むフィルム材料溶液を用いてフィルム材料層を形成し、
前記フィルム材料層に相対湿度50〜95%の気体を送風し、前記疎水性有機溶媒を揮発させるとともに、前記フィルム材料層表面に結露を生成し、該結露を蒸発させて、空孔を形成すること含むことを特徴とするハニカム状多孔質フィルムの製造方法である。
<3> A film material layer is formed using a film material solution containing at least the surfactant represented by the general formula (I) and a hydrophobic organic solvent,
The film material layer is blown with a gas having a relative humidity of 50 to 95% to volatilize the hydrophobic organic solvent, generate condensation on the surface of the film material layer, and evaporate the condensation to form pores. A method for producing a honeycomb-shaped porous film.
<4> 前記<1>から<2>のいずれかに記載のハニカム状多孔質フィルムの少なくとも一方の面に、仮支持体を剥離可能に有することを特徴とするハニカム複合膜である。
<5> ハニカム状多孔質フィルムの少なくとも一方の面に、剥離層を有し、該剥離層上に仮支持体を有する前記<4>に記載のハニカム複合膜である。
<6> ハニカム状多孔質フィルムの両面に剥離層を有し、該両方の剥離層上に仮支持体を有する前記<4>から<5>のいずれかに記載のハニカム複合膜である。
<7> ハニカム状多孔質フィルムの片面に剥離層と、該剥離層上に仮支持体とを有し、かつ前記ハニカム状多孔質フィルムの剥離層を有さない側の面に支持体を有する前記<4>から<6>のいずれかに記載のハニカム複合膜である。
<8> ハニカム状多孔質フィルムが延伸されてなる前記<4>から<7>のいずれかに記載のハニカム複合膜である。
<9> 延伸が、一軸延伸、逐次二軸延伸、同時二軸延伸、及び三軸延伸のいずれかである前記<8>に記載のハニカム複合膜である。
<10> ハニカム状多孔質フィルムの表面に金属層を有する前記<4>から<9>のいずれかに記載のハニカム複合膜である。
<11> 金属層における金属が、金、銀、銅、アルミニウム、鉄、ニッケル、チタン、タングステン、クロム及びこれらの合金から選択される少なくとも1種である前記<8>に記載のハニカム複合膜である。
<12> ハニカム状多孔質フィルムにおける空孔内に屈折率制御材料が充填されている前記<4>から<11>のいずれかに記載のハニカム複合膜である。
<13> 仮支持体及び剥離層を剥がして使用される前記<4>から<12>のいずれかに記載のハニカム複合膜である。
<14> 位相差膜、偏光膜、スクリーン、カラーフィルタ、ディスプレイ用部材、細胞培養用部材、傷口保護膜、経皮吸収薬膜、音響振動材料、吸音材料及び制振材料から選択されるいずれかに用いられる前記<4>から<13>のいずれかに記載のハニカム複合膜である。
<4> A honeycomb composite film characterized in that a temporary support is releasably provided on at least one surface of the honeycomb-like porous film according to any one of <1> to <2>.
<5> The honeycomb composite film according to <4>, wherein the honeycomb porous film has a release layer on at least one surface of the honeycomb-shaped porous film, and has a temporary support on the release layer.
<6> The honeycomb composite film according to any one of <4> to <5>, wherein the honeycomb-shaped porous film has release layers on both surfaces, and has a temporary support on both release layers.
<7> A release layer on one side of the honeycomb-like porous film, and a temporary support on the release layer, and a support on the side of the honeycomb-like porous film that does not have the release layer. The honeycomb composite film according to any one of <4> to <6>.
<8> The honeycomb composite film according to any one of <4> to <7>, wherein the honeycomb porous film is stretched.
<9> The honeycomb composite film according to <8>, wherein the stretching is any one of uniaxial stretching, sequential biaxial stretching, simultaneous biaxial stretching, and triaxial stretching.
<10> The honeycomb composite film according to any one of <4> to <9>, wherein the honeycomb porous film has a metal layer on a surface thereof.
<11> The honeycomb composite film according to <8>, wherein the metal in the metal layer is at least one selected from gold, silver, copper, aluminum, iron, nickel, titanium, tungsten, chromium, and alloys thereof. is there.
<12> The honeycomb composite film according to any one of <4> to <11>, wherein pores in the honeycomb-shaped porous film are filled with a refractive index control material.
<13> The honeycomb composite film according to any one of <4> to <12>, wherein the temporary support and the release layer are peeled off.
<14> Any one selected from a retardation film, a polarizing film, a screen, a color filter, a display member, a cell culture member, a wound protective film, a percutaneous absorption film, an acoustic vibration material, a sound absorbing material, and a vibration damping material The honeycomb composite film according to any one of <4> to <13>, which is used in the above.
<15> 仮支持体上に剥離層を形成する剥離層形成工程と、
前記<1>から<2>のいずれかに記載のハニカム状多孔質フィルムを支持体上に作製するハニカム状多孔質フィルム作製工程と、
前記仮支持体上の前記剥離層と、前記ハニカム状多孔質フィルムとを貼り合わせる工程と、を含むことを特徴とするハニカム複合膜の製造方法である。
<16> 仮支持体上に剥離層を形成する剥離層形成工程と、
前記<1>から<2>のいずれかに記載のハニカム状多孔質フィルムを前記仮支持体上の前記剥離層上に作成するハニカム状多孔質フィルム作製工程と、を含むことを特徴とするハニカム複合膜の製造方法である。
<17> ハニカム状多孔質フィルムを延伸する延伸工程を含む前記<15>から<16>のいずれかに記載のハニカム複合膜の製造方法である。
<18> ハニカム状多孔質フィルムの表面に金属層を形成する金属層形成工程を含む前記<15>から<17>のいずれかに記載のハニカム複合膜の製造方法である。
<15> A release layer forming step of forming a release layer on the temporary support,
A honeycomb-shaped porous film production step of producing the honeycomb-shaped porous film according to any one of <1> to <2> on a support;
A method for manufacturing a honeycomb composite film, comprising: bonding the release layer on the temporary support to the honeycomb porous film.
<16> a release layer forming step of forming a release layer on the temporary support,
A honeycomb-shaped porous film preparation step of forming the honeycomb-shaped porous film according to any one of <1> to <2> on the release layer on the temporary support. It is a manufacturing method of a composite membrane.
<17> The method for producing a honeycomb composite film according to any one of <15> to <16>, including a stretching step of stretching the honeycomb-shaped porous film.
<18> The method for producing a honeycomb composite film according to any one of <15> to <17>, including a metal layer forming step of forming a metal layer on the surface of the honeycomb-shaped porous film.
本発明によると、従来における問題を解決することができ、空孔の径が小さく制御されたハニカム状多孔質フィルム、及び該ハニカム状多孔質フィルムからなるハニカム複合膜、並びに該ハニカム複合膜を効率よく製造する方法を提供することができる。 According to the present invention, the conventional problems can be solved, and the honeycomb-shaped porous film in which the pore diameter is controlled to be small, the honeycomb composite film composed of the honeycomb-shaped porous film, and the honeycomb composite film are efficiently used. A well-manufactured method can be provided.
(ハニカム状多孔質フィルム及びその製造方法)
本発明のハニカム状多孔質フィルムは、少なくとも下記一般式(I)で表されるリン酸エステル系界面活性剤を含む。
本発明のハニカム状多孔質フィルムの製造方法は、前記ハニカム状多孔質フィルムの説明を通じて明らかにする。
ここで、前記ハニカム状多孔質フィルムにおけるハニカム構造とは、一定形状、一定サイズの空孔が連続かつ規則的に配列している構造を意味する。この規則配列は単層の場合には二次元的であり、複層の場合は三次元的にも規則性を有する。この規則性は、例えば、図1に示すように、二次元的には1つの空孔の周囲を複数(例えば、6つ)の空孔が取り囲むように配置され、三次元的には結晶構造の面心立方や6方晶のような構造を取って、最密充填されることが多いが、製造条件によってはこれら以外の規則性を示すこともある。
(Honeycomb porous film and manufacturing method thereof)
The honeycomb-shaped porous film of the present invention contains at least a phosphate ester-based surfactant represented by the following general formula (I).
The manufacturing method of the honeycomb-shaped porous film of the present invention will be clarified through the description of the honeycomb-shaped porous film.
Here, the honeycomb structure in the honeycomb-shaped porous film means a structure in which pores having a fixed shape and a fixed size are arranged continuously and regularly. This regular arrangement is two-dimensional in the case of a single layer and regular in three dimensions in the case of a multilayer. For example, as shown in FIG. 1, this regularity is arranged so that a plurality of (for example, six) holes surround a single hole in two dimensions, and the crystal structure in three dimensions. In many cases, a close-packed structure having a face-centered cubic or hexagonal structure is exhibited, but regularity other than these may be exhibited depending on manufacturing conditions.
ただし、前記一般式(I)中、R1は、脂肪族基、脂環式化合物基、芳香族基、及びヘテロ環のいずれかを表し、R2は、脂肪族基、脂環式化合物基、芳香族基、ヘテロ環、及び−L−Zで表される基を表し、Q1、Q2及びQ3は、それぞれ単結合、酸素原子、硫黄原子、及び−N(R3)−で表される基のいずれかを表し、R3は、水素原子及びR2で表される基のいずれかを表し、Lは2価の連結基を表し、Zはイオン性の基を表す。 However, in said general formula (I), R < 1 > represents either an aliphatic group, an alicyclic compound group, an aromatic group, and a heterocyclic ring, and R < 2 > is an aliphatic group, an alicyclic compound group. , An aromatic group, a heterocyclic ring, and a group represented by -LZ, and Q 1 , Q 2 and Q 3 are each a single bond, an oxygen atom, a sulfur atom, and —N (R 3 ) —. Any one of the groups represented, R 3 represents either a hydrogen atom or a group represented by R 2 , L represents a divalent linking group, and Z represents an ionic group;
前記一般式(I)中、R1で表される脂肪族基としては、直鎖または分枝の炭素数1ないし40の無置換アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、iso-プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−アミル基、tert−アミル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n−オクチル基、tert−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、1,1,3−トリメチルヘキシル基、n−デシル基、n−ドデシル基、セチル基、ヘキサデシル基、2−ヘキシルデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、2−オクチルドデシル基、ドコシル基、テトラコシル基、2−デシルテトラデシル基、トリコシル基等)、直鎖または分枝の炭素数1ないし40の置換アルキル基(置換基としてはアルコキシル基、アリール基、ハロゲン原子、カルボンエステル基、カルボンアミド基、カルバモイル基、オキシカルボニル基、燐酸エステル基等)(例えば、ベンジル基、β−フェネチル基、2-メトキシエチル基、4−フェニルブチル基、4-アセトキシエチル基、6−フェノキシヘキシル基、12−フェニルドデシル基、18−フェニルオクタデシル基、ヘプタデシルフルオロオクチル基、12−(p−クロロフェニル)ドデシル基、2−(燐酸ジフェニル)エチル基等)、直鎖または分枝の炭素数2ないし40の無置換アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基、3-ブテニル基、2-メチル-2-ブテニル基、4-ペンテニル基、3-ペンテニル基、3-メチル-3-ペンテニル基、5-ヘキセニル基、4-ヘキセニル基、3-ヘキセニル基、2-ヘキセニル基、7-オクテニル基、9-デセニル基、オレイル基、リノレイル基、リノレニル基等)、直鎖または分枝の炭素数2ないし40の置換アルケニル基(例えば、2-フェニルビニル基、4-アセチル-2-ブテニル基、13-メトキシ-9-オクタデセニル基、9,10−ジブロモ-12-オクタデセニル基等)、直鎖または分枝の炭素数2ないし40の無置換アルキニル基(例えば、アセチレン基、プロパルギル基、3-ブチニル基、4-ペンチニル基、5-ヘキシニル基、4-ヘキシニル基、3-ヘキシニル基、2-ヘキシニル基等)、直鎖または分枝の炭素数2ないし40の置換アルキニル基(置換基としてはアルコキシル基、アリール基等)(例えば、2-フェニルアセチレン基、3-フェニルプロパルギル基等)等が好ましい。 In the general formula (I), the aliphatic group represented by R 1 is a linear or branched unsubstituted alkyl group having 1 to 40 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-amyl group, tert-amyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, 2-ethylhexyl group, n-nonyl group, 1,1,3-trimethylhexyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, cetyl group, hexadecyl group, 2-hexyldecyl group, octadecyl group, eicosyl group, 2- Octyldodecyl group, docosyl group, tetracosyl group, 2-decyltetradecyl group, tricosyl group, etc.), linear or branched substituted alkyl group having 1 to 40 carbon atoms (substituents are alkoxyl group, aryl group, halogen atom) , Carbo Ester group, carbonamido group, carbamoyl group, oxycarbonyl group, phosphate ester group, etc.) (for example, benzyl group, β-phenethyl group, 2-methoxyethyl group, 4-phenylbutyl group, 4-acetoxyethyl group, 6- Phenoxyhexyl group, 12-phenyldodecyl group, 18-phenyloctadecyl group, heptadecylfluorooctyl group, 12- (p-chlorophenyl) dodecyl group, 2- (diphenyl phosphate) ethyl group, etc.), linear or branched carbon An unsubstituted alkenyl group of 2 to 40 (for example, vinyl group, allyl group, 3-butenyl group, 2-methyl-2-butenyl group, 4-pentenyl group, 3-pentenyl group, 3-methyl-3-pentenyl group) 5-hexenyl group, 4-hexenyl group, 3-hexenyl group, 2-hexenyl group, 7-octenyl group, 9-decenyl group, oleyl group, linoleyl group, linoleni A linear or branched substituted alkenyl group having 2 to 40 carbon atoms (for example, 2-phenylvinyl group, 4-acetyl-2-butenyl group, 13-methoxy-9-octadecenyl group, 9,10 -Dibromo-12-octadecenyl group, etc.), linear or branched unsubstituted alkynyl group having 2 to 40 carbon atoms (for example, acetylene group, propargyl group, 3-butynyl group, 4-pentynyl group, 5-hexynyl group, 4-hexynyl group, 3-hexynyl group, 2-hexynyl group, etc.), linear or branched substituted alkynyl group having 2 to 40 carbon atoms (such as alkoxyl group, aryl group, etc.) (for example, 2-phenyl Acetylene group, 3-phenylpropargyl group, etc.) are preferred.
脂環式化合物基としては置換または無置換の炭素数3ないし40のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロヘキシル基、2,6-ジメチルシクロヘキシル基、4-tert- ブチルシクロヘキシル基、4-フェニルシクロヘキシル基、3-メトキシシクロヘキシル基、シクロヘプチル基等)、置換または無置換の炭素数4ないし40のシクロアルケニル基(例えば、1-シクロヘキセニル基、2-シクロヘキセニル基、3-シクロヘキセニル基、2,6-ジメチル-3-シクロヘキセニル基、4-tert-ブチル-2-シクロヘキセニル基、2-シクロヘプテニル基、3-メチル-3-シクロヘプテニル基等)等を、芳香族基としては置換もしくは無置換の炭素数6ないし50のアリール基(置換基としてはアルキル基、アルコキシル基、アリール基、ハロゲン原子等)(例えば、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、アントラニル基、o−クレジル基、m−クレジル基、p−クレジル基、p−エチルフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、3,5−ジ−tert−ブチルフェニル基、p−n−アミルフェニル基、p−tert−アミルフェニル基、2,6−ジメチル−4−tert−ブチルフェニル基、p−シクロヘキシルフェニル基、オクチルフェニル基、p−tert−オクチルフェニル基、ノニルフェニル基、p−n−ドデシルフェニル基、m−メトキシフェニル基、p−ブトキシフェニル基、m−オクチルオキシフェニル基、ビフェニル基、m−クロロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、2−(5−メチルナフチル基)等)等が好ましい。 The alicyclic compound group includes a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 40 carbon atoms (for example, cyclopropyl group, cyclohexyl group, 2,6-dimethylcyclohexyl group, 4-tert-butylcyclohexyl group, 4-phenyl). A cyclohexyl group, a 3-methoxycyclohexyl group, a cycloheptyl group, etc.), a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group having 4 to 40 carbon atoms (for example, a 1-cyclohexenyl group, a 2-cyclohexenyl group, a 3-cyclohexenyl group, 2,6-dimethyl-3-cyclohexenyl group, 4-tert-butyl-2-cyclohexenyl group, 2-cycloheptenyl group, 3-methyl-3-cycloheptenyl group, etc.), etc. Substituted aryl groups having 6 to 50 carbon atoms (the substituents are alkyl groups, alkoxyl groups, aryl groups, halogen atoms, etc.) (for example, phenyl Group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, anthranyl group, o-cresyl group, m-cresyl group, p-cresyl group, p-ethylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, 3,5-di- tert-butylphenyl group, p-n-amylphenyl group, p-tert-amylphenyl group, 2,6-dimethyl-4-tert-butylphenyl group, p-cyclohexylphenyl group, octylphenyl group, p-tert- Octylphenyl group, nonylphenyl group, p-n-dodecylphenyl group, m-methoxyphenyl group, p-butoxyphenyl group, m-octyloxyphenyl group, biphenyl group, m-chlorophenyl group, pentachlorophenyl group, 2- ( 5-methylnaphthyl group) and the like are preferred.
ヘテロ環としては、置換もしくは無置換の炭素数4ないし40の環状エーテル(例えばフリル基、4-ブチル-3-フリル基、ピラニル基、5-オクチル-2H-ピラン-3-イル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基等)、置換もしくは無置換の炭素数4ないし40の含窒素環(例えば、2H−ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、インドリジニル基、モルホリル基等)等が好ましい。 Heterocycles include substituted or unsubstituted cyclic ethers having 4 to 40 carbon atoms (eg, furyl, 4-butyl-3-furyl, pyranyl, 5-octyl-2H-pyran-3-yl, isobenzo A furanyl group, a chromenyl group, etc.), a substituted or unsubstituted nitrogen-containing ring having 4 to 40 carbon atoms (for example, 2H-pyrrolyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, indolizinyl group, morpholyl group, etc.). .
これらの中でも、炭素数1ないし24の直鎖、環状または分枝の無置換アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-アミル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、1,1,3−トリメチルヘキシル基、n−デシル基、n−ドデシル基、セチル基、ヘキサデシル基、2−ヘキシルデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、2−オクチルドデシル基、ドコシル基、テトラコシル基、2−デシルテトラデシル基等)、置換基の炭素数を除いた炭素数が1ないし24の直鎖、環状または分枝の置換アルキル基(例えば、6−フェノキシヘキシル基、12−フェニルドデシル基、18−フェニルオクタデシル基、ヘプタデシルフルオロオクチル基、12−(p−クロロフェニル)ドデシル基、4-tert-ブチルシクロヘキシル基等)、炭素数2ないし24の直鎖、環状または分枝の無置換アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基、2-メチル-2-ブテニル基、4-ペンテニル基、5-ヘキセニル基、3-ヘキセニル基、3-シクロヘキセニル基、7-オクテニル基、9-デセニル基、オレイル基、リノレイル基、リノレニル基等)、炭素数2ないし24の直鎖、環状または分枝の置換アルケニル基(例えば、2-フェニルビニル基、9,10-ジブロモ-12-オクタデセニル基等)、炭素数6ないし30の置換もしくは無置換のアリール基(例えば、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、p-クレジル基、p-エチルフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、p−tert−アミルフェニル基、オクチルフェニル基、p−tert−オクチルフェニル基、ノニルフェニル基、p−n−ドデシルフェニル基、m−オクチルオキシフェニル基、ビフェニル基、等)が特に好ましい。 Among these, a linear, cyclic or branched unsubstituted alkyl group having 1 to 24 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-amyl group, n-hexyl group) Cyclohexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, n-nonyl group, 1,1,3-trimethylhexyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, cetyl group, hexadecyl group, 2-hexyldecyl group, octadecyl group, eicosyl group, 2-octyldodecyl group, docosyl group, tetracosyl group, 2-decyltetradecyl group, etc.), straight chain having 1 to 24 carbon atoms excluding the carbon number of the substituent A cyclic or branched substituted alkyl group (for example, 6-phenoxyhexyl group, 12-phenyldodecyl group, 18-phenyloctadecyl group, heptadecylfluorooctyl group, 12- (p-chloropheny ) Dodecyl group, 4-tert-butylcyclohexyl group, etc.), linear, cyclic or branched unsubstituted alkenyl group having 2 to 24 carbon atoms (for example, vinyl group, allyl group, 2-methyl-2-butenyl group, 4-pentenyl group, 5-hexenyl group, 3-hexenyl group, 3-cyclohexenyl group, 7-octenyl group, 9-decenyl group, oleyl group, linoleyl group, linolenyl group, etc.), straight chain having 2 to 24 carbon atoms Cyclic or branched substituted alkenyl groups (for example, 2-phenylvinyl group, 9,10-dibromo-12-octadecenyl group), substituted or unsubstituted aryl groups having 6 to 30 carbon atoms (for example, phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, p-cresyl group, p-ethylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, p-tert-amylphenyl group, octylphenyl group, p-tert-octylphenyl group, nonylpheny Group, p-n-dodecylphenyl group, m-octyloxyphenyl group, biphenyl group, etc.) are particularly preferred.
Q1、Q2及びQ3はそれぞれ独立に、単結合、酸素原子、硫黄原子または−N(R3)−(R3は、水素原子または上記で定義したR2 を表す)の中から選ばれる。これらの内、単結合、酸素原子または−N(R3)−が好ましく、Q1、Q2及びQ3の内少なくとも2つ以上が酸素原子であることが特に好ましい。ここで、単結合とは、元素が存在しないことをいう。 Q 1 , Q 2 and Q 3 are each independently selected from a single bond, an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 3 ) — (R 3 represents a hydrogen atom or R 2 as defined above). It is. Among these, a single bond, an oxygen atom or —N (R 3 ) — is preferable, and at least two of Q 1 , Q 2 and Q 3 are particularly preferably oxygen atoms. Here, a single bond means that an element does not exist.
Lは2価の連結基を表し、好ましくは下記一般式で表される基である。 L represents a divalent linking group, preferably a group represented by the following general formula.
式中Y1、Y2及びY3はそれぞれ同じであっても異なっていても良い、炭素数1ないし40の置換もしくは無置換のアルキレン基、炭素数6ないし40の置換もしくは無置換のアリーレン基(置換基としては、上記R1の定義中に示したものに同じ)を表し、アルキレン基としてはメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、1,4−シクロヘキシレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基、2−メトキシ−1,3−プロピレン基等、アリーレン基としてはo−フェニレン基、m-フェニレン基、p−フェニレン基、3−クロロ−1,4−フェニレン基、1,4−ナフチレン基、1,5−ナフチレン基等が好ましい。これらのうち特に好ましいのはエチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、1,4−シクロヘキシレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基、m-フェニレン基、p−フェニレン基である。 In the formula, Y 1 , Y 2 and Y 3 may be the same or different, each substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 40 carbon atoms, substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 40 carbon atoms (The substituent is the same as that shown in the definition of R 1 above), and the alkylene group is a methylene group, ethylene group, propylene group, trimethylene group, tetramethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, 1,4-cyclohexylene group, octamethylene group, decamethylene group, 2-methoxy-1,3-propylene group, etc., and arylene groups include o-phenylene group, m-phenylene group, p-phenylene group, 3-chloro- 1,4-phenylene group, 1,4-naphthylene group, 1,5-naphthylene group and the like are preferable. Among these, ethylene group, propylene group, trimethylene group, tetramethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, 1,4-cyclohexylene group, octamethylene group, decamethylene group, m-phenylene group, p- A phenylene group.
J1、J2及びJ3はそれぞれ同じであっても異なっていても良い2価の結合ユニットを表し、単結合、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−CON(R4)−(R4は水素原子、炭素数1ないし6の無置換アルキル基または置換基の炭素数を除いた炭素数が1ないし6の置換アルキル基(置換基としてはアリール基、アルコキシル基、ハロゲン原子等)を表す。)、−N(R4)CO−(R4は上記に示したものに同じ)、−CON(R4)CO−(R4は上記に示したものに同じ)、−N(R4)CON(R5)−(R4、R5はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、上記R4で定義したものに同じ)、−OCON(R4)−(R4は上記に示したものに同じ)、−N(R4)COO−(R4は上記に示したものに同じ)、−SO2−、−SO2N(R4)−(R4は上記に示したものに同じ)、−N(R4)SO2−(R4は上記に示したものに同じ)、−N(COR4)−(R4は上記に示したものに同じ)、−OP(=O)(OR1)O−(R1は上記に定義したものに同じ)等が好ましい。これらの中では、単結合、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−CON(R4)−(R3は水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基を表す。)、−N(R4)CO−(R4は上記に示したものに同じ)、−SO2N(R4)−(R4は上記に示したものに同じ)、−N(R4)SO2−(R4は上記に示したものに同じ)等が特に好ましい。 J 1 , J 2 and J 3 each represent a divalent bond unit which may be the same or different, and represent a single bond, —O—, —S—, —CO—, —COO— or —OCO—. , —CON (R 4 ) — (R 4 is a hydrogen atom, an unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms excluding the carbon number of the substituent (the substituent is aryl Group, an alkoxyl group, a halogen atom, etc.)), —N (R 4 ) CO— (R 4 is the same as described above), —CON (R 4 ) CO— (R 4 is the same as above) -N (R 4 ) CON (R 5 )-(R 4 and R 5 may be the same or different, and are the same as those defined for R 4 above), -OCON (R 4 )-(R 4 is the same as shown above), -N (R 4 ) COO- (R 4 is the same as shown above),- SO 2 —, —SO 2 N (R 4 ) — (R 4 is the same as shown above), —N (R 4 ) SO 2 — (R 4 is the same as shown above), —N (COR 4 ) — (R 4 is the same as described above), —OP (═O) (OR 1 ) O— (R 1 is the same as defined above) and the like are preferable. Among these, a single bond, —O—, —S—, —CO—, —COO—, —OCO—, —CON (R 4 ) — (R 3 is a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, ), —N (R 4 ) CO— (R 4 is the same as shown above), —SO 2 N (R 4 ) — (R 4 is the same as shown above), —N (R 4 ) SO 2 — (R 4 is the same as described above) and the like are particularly preferable.
p、qおよびrはそれぞれ独立に0ないし5の整数値である。好ましくはp、q、rともそれぞれ独立な0ないし3の整数値であり、p、q、rがそれぞれ独立に0または1の整数値を取る場合が特に好ましい。sは1ないし10の整数値であり、好ましくは1ないし5、特に好ましくは1ないし3の整数値である。aおよびbはそれぞれ独立に0ないし50の整数値である。これらのうち、a、bがそれぞれ独立に0ないし20の整数値を取ることが好ましく、a、bが0ないし10の整数値を取る場合が特に好ましい。 p, q and r are each independently an integer of 0 to 5. Preferably, p, q, and r are each independently an integer value of 0 to 3, and it is particularly preferable that p, q, and r each independently take an integer value of 0 or 1. s is an integer value of 1 to 10, preferably 1 to 5, particularly preferably 1 to 3. a and b are each independently an integer of 0 to 50. Among these, it is preferable that a and b each independently take an integer value of 0 to 20, and it is particularly preferable that a and b take an integer value of 0 to 10.
Zは好ましくは親水性のアニオンまたはカチオン性のイオン性基であり、特に好ましいのはアニオン性基である。アニオン性基としては−COOM、−SO3M、−OSO3M、−PO(OM)2−OPO(OM)2(Mは対カチオンを表し、好ましくはアルカリ金属イオン(例えば、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン等)、アルカリ土類金属イオン(例えば、マグネシウムイオン、カルシウムイオン等)およびアンモニウムイオンを表す。特に好ましいのはナトリウムイオン、カリウムイオンである。)が好ましく、カチオン性基としては−NH3 +・X-、−NH2(R6)+・X-、−NH(R6)2 +・X-、−N(R6)3 +・X-(R6は炭素数1ないし3のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、2−ヒドロキシエチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基等)を表し、メチル基、2−ヒドロキシエチル基が好ましい。Xは対アニオンを表し、好ましくはハロゲンイオン(フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン等)、複合無機アニオン(水酸化物イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、燐酸イオン等)および有機化合物アニオン(シュウ酸イオン、蟻酸イオン、酢酸イオン、プロピオン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、p−トルエンスルホン酸イオン等)を表し、特に好ましいのは塩素イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオンである。 Z is preferably a hydrophilic anion or a cationic ionic group, and particularly preferably an anionic group. Examples of the anionic group include —COOM, —SO 3 M, —OSO 3 M, —PO (OM) 2 —OPO (OM) 2 (M represents a counter cation, preferably an alkali metal ion (for example, lithium ion, sodium Ions, potassium ions, etc.), alkaline earth metal ions (for example, magnesium ions, calcium ions, etc.) and ammonium ions are preferred. Sodium ions and potassium ions are particularly preferred. NH 3 + · X − , —NH 2 (R 6 ) + · X − , —NH (R 6 ) 2 + · X − , —N (R 6 ) 3 + · X − (R 6 has 1 to 3 represents an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a 2-hydroxyethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, etc.), and is preferably a methyl group or a 2-hydroxyethyl group, where X is a counter anion. Preferably halogen ions (fluorine ions, chlorine ions, bromine ions, etc.), complex inorganic anions (hydroxide ions, sulfate ions, nitrate ions, phosphate ions, etc.) and organic compound anions (oxalate ions, formate ions, acetic acid) Ion, propionate ion, methanesulfonate ion, p-toluenesulfonate ion, etc.), and particularly preferred are chloride ion, sulfate ion, nitrate ion and acetate ion.
R2は上記R1で定義された基または上記−L−Zで定義された基の中から選ばれる一価の基であり、R1の定義範囲から選択される場合は同一分子内に存在するR1と同一構造であっても異なった構造であっても良い。また、−L−Zの定義範囲から選択される場合でも同一分子内に存在する−L−Zと同一構造であっても異なった構造であっても良い。R2はR1の定義範囲から選択される場合が特に好ましい。さらに、R1とR2の炭素数の合計が6以上80以下になることが好ましく、8以上50以下になる場合が特に好ましい。 R 2 is a monovalent group selected from the group defined by R 1 or the group defined by -LZ, and when selected from the definition range of R 1 , it is present in the same molecule. It may be the same structure as R 1 or a different structure. Even when selected from the definition range of -LZ, the structure may be the same as or different from -LZ existing in the same molecule. R 2 is particularly preferably selected from the definition range of R 1 . Further, the total number of carbon atoms of R 1 and R 2 is preferably 6 or more and 80 or less, and particularly preferably 8 or more and 50 or less.
前記界面活性化合物の具体例を以下に例示するが、これら具体例に限定されるものではない。 Specific examples of the surface active compound are illustrated below, but are not limited to these specific examples.
本発明のハニカム状多孔質フィルムは、少なくとも上述した一般式(I)で表されるリン酸エステル系界面活性剤と、疎水性有機溶媒とを含むフィルム材料溶液からなるフィルム材料層を形成し、前記フィルム材料層に相対湿度50〜95%の気体を送風し、前記疎水性有機溶媒を揮発させるとともに、前記フィルム材料層表面に結露を生成し、該結露を蒸発させることにより形成された空孔、すなわち自己組織化により形成された空孔を有することが好ましい。 The honeycomb-shaped porous film of the present invention forms a film material layer composed of a film material solution containing at least a phosphate ester-based surfactant represented by the above general formula (I) and a hydrophobic organic solvent, Air holes formed by blowing a gas having a relative humidity of 50 to 95% to the film material layer, volatilizing the hydrophobic organic solvent, generating condensation on the surface of the film material layer, and evaporating the condensation. That is, it is preferable to have pores formed by self-assembly.
本発明のハニカム状多孔質フィルムの製造方法は、少なくとも前記一般式(I)で表されるリン酸エステル系界面活性剤と、疎水性有機溶媒とを含むフィルム材料溶液からなるフィルム材料層を形成し、前記フィルム材料層に相対湿度50〜95%の気体を送風し、前記疎水性有機溶媒を揮発させるとともに、前記フィルム材料層表面に結露を生成し、該結露を蒸発させることにより空孔を形成することを含み、必要に応じて、適宜選択したその他の工程を含む。 The method for manufacturing a honeycomb-shaped porous film of the present invention forms a film material layer comprising a film material solution containing at least a phosphate ester-based surfactant represented by the general formula (I) and a hydrophobic organic solvent. The film material layer is blown with a gas having a relative humidity of 50 to 95%, volatilizes the hydrophobic organic solvent, generates condensation on the surface of the film material layer, and evaporates the condensation to form pores. Including other processes appropriately selected as necessary.
前記ハニカム状多孔質フィルムの製造方法においては、前記有機溶媒が揮発する際に、潜熱を奪われて温度が下がった前記フィルム材料層表面で、前記気体中の水が結露して微小液滴となり付着する。前記フィルム材料層中の前記リン酸エステル系界面活性剤の親水性部分の働きによって、水と疎水性有機溶媒の間の表面張力が減少し、水滴の凝集が防止され、前記有機溶媒の揮発と周囲からの補填による未揮発の前記有機溶媒の流れにより液滴が移送・集積され、更に横毛管力により最密充填され、最後に水が蒸発することにより、空孔がハニカム状に並んで形成されることにより得られる。 In the method for manufacturing the honeycomb-shaped porous film, when the organic solvent volatilizes, the water in the gas is condensed on the surface of the film material layer where the temperature is lowered due to the removal of latent heat to form fine droplets. Adhere to. The surface tension between water and the hydrophobic organic solvent is reduced by the action of the hydrophilic portion of the phosphate ester-based surfactant in the film material layer, aggregation of water droplets is prevented, and the organic solvent is volatilized. The droplets are transported and collected by the flow of the non-volatile organic solvent by filling from the surroundings, and are further closely packed by the transverse capillary force, and finally the water evaporates to form pores arranged in a honeycomb shape. Can be obtained.
前記空孔は、具体的には、図2A〜図2Dに示すようにして形成される。
図2Aに示すように、相対湿度50〜95%の気体35中の水分(モデル的に図示している)43は、フィルム材料層40上で結露して液滴44となる。そして、図2Bに示すように液滴44を核として水分43が結露して液滴44を成長させる。図2Cに示すように乾燥風37がフィルム材料層40に送風されると、疎水性有機溶媒42がフィルム材料層40より揮発する。なお、この際にも液滴44からも水分が揮発するが、疎水性有機溶媒42の揮発速度の方が速い。そのため、液滴44は、疎水性有機溶媒42の揮発に伴い表面張力により略均一の形態となる。更に、乾燥が進行すると図2Dに示すように、フィルム材料層40の液滴44から水分が水蒸気48として揮発する。フィルム材料層40から液滴44が蒸発すると、液滴44を形成していた箇所が空孔47となり、層の厚さに応じて、空孔が貫通した(断面図を図3Aに示す)、又は空孔が貫通していない(断面図を図3Bに示す)ハニカム状多孔質フィルムが得られる。
Specifically, the holes are formed as shown in FIGS. 2A to 2D.
As shown in FIG. 2A, moisture (modeled) 43 in the gas 35 having a relative humidity of 50 to 95% is condensed on the film material layer 40 to form droplets 44. Then, as shown in FIG. 2B, the moisture 43 is condensed using the droplet 44 as a nucleus to grow the droplet 44. As shown in FIG. 2C, when the dry air 37 is blown to the film material layer 40, the hydrophobic organic solvent 42 is volatilized from the film material layer 40. At this time, water is volatilized also from the droplets 44, but the volatilization rate of the hydrophobic organic solvent 42 is faster. Therefore, the droplets 44 have a substantially uniform shape due to surface tension as the hydrophobic organic solvent 42 volatilizes. Further, when the drying proceeds, as shown in FIG. 2D, moisture evaporates from the droplets 44 of the film material layer 40 as water vapor 48. When the droplet 44 evaporates from the film material layer 40, the portion where the droplet 44 was formed becomes a hole 47, and the hole penetrated according to the thickness of the layer (a cross-sectional view is shown in FIG. 3A). Alternatively, a honeycomb-like porous film without pores (a cross-sectional view is shown in FIG. 3B) can be obtained.
前記ハニカム状多孔質フィルムの厚みとしては、孔径サイズ以上、最大200μm程度であることが好ましい。前記フィルム材料溶液中のポリマー濃度を高めることにより、図3Bに示すように、空孔のない肉厚の層を設けることもできる。この場合、前記空孔のない肉厚の層の厚みとしては、1〜500μmの範囲が好ましい。 The thickness of the honeycomb-like porous film is preferably not less than the pore size and about 200 μm at the maximum. By increasing the polymer concentration in the film material solution, as shown in FIG. 3B, a thick layer without voids can be provided. In this case, the thickness of the thick layer without voids is preferably in the range of 1 to 500 μm.
前記フィルム材料溶液としては、少なくとも前記一般式(I)で表されるリン酸エステル系界面活性剤と、前記疎水性有機溶媒とを含む溶液であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、疎水性ポリマー、及び適宜選択したその他の成分を含んでいてもよい。 The film material solution is not particularly limited as long as it is a solution containing at least the phosphate ester surfactant represented by the general formula (I) and the hydrophobic organic solvent, and is appropriately selected depending on the purpose. And may contain a hydrophobic polymer and other components selected as appropriate.
前記リン酸エステル系界面活性剤の配合量としては、前記フィルム材料溶液中、0.005〜30質量%であることが好ましく、0.01〜10質量%であることがより好ましい。
前記リン酸エステル系界面活性剤の配合量が0.005質量%未満であると、空孔径を小さく制御できなくなることがある。
As a compounding quantity of the said phosphate ester type surfactant, it is preferable that it is 0.005-30 mass% in the said film material solution, and it is more preferable that it is 0.01-10 mass%.
When the blending amount of the phosphoric ester surfactant is less than 0.005% by mass, the pore diameter may not be controlled to be small.
ここで、本発明において、空孔径が小さいとは、空孔径が5μm以下であることを指す。
なお、前記空孔は、粒径の揃った水滴の六方細密充填構造を鋳型として形成されるため、理想的なハニカム構造では孔の形は正六角形であるが、実際には水滴間距離が長くなるにつれ円形になる。本発明のハニカム状多孔質フィルムにおいては、空孔が円形であることが多いため、空孔の大きさはフィルム表面に形成された円の直径で規定する。平均孔径とは、任意の100個以上の空孔の直径の平均値とする。一方、空孔が正六角形の場合は、長い方の径と短い方の径の平均で規定する。
Here, in the present invention, the small pore diameter means that the pore diameter is 5 μm or less.
The pores are formed using a hexagonal close-packed structure of water droplets having a uniform particle size as a mold, so in an ideal honeycomb structure, the shape of the holes is a regular hexagon, but in practice the distance between the water droplets is long. As it becomes, it becomes circular. In the honeycomb-shaped porous film of the present invention, since the pores are often circular, the size of the pores is defined by the diameter of a circle formed on the film surface. The average pore diameter is an average value of the diameters of arbitrary 100 or more pores. On the other hand, when the hole is a regular hexagon, it is defined by the average of the longer diameter and the shorter diameter.
本発明のハニカム状多孔質フィルター中に、前記リン酸エステル系界面活性剤が含まれていることは、作製された前記ハニカム状多孔質フィルターを適当な重水素化溶媒に溶解し、1H−NMR測定を行うことにより確認することができる。また、他のポリマー成分を含有する場合、該ポリマー成分と前記リン酸エステル系界面活性剤との含有量比も定量することができる。 The fact that the phosphate-based surfactant is contained in the honeycomb-shaped porous filter of the present invention is that the prepared honeycomb-shaped porous filter is dissolved in a suitable deuterated solvent, and 1H-NMR. This can be confirmed by measuring. Moreover, when it contains another polymer component, content ratio of this polymer component and the said phosphate ester-type surfactant can also be quantified.
<疎水性ポリマー>
前記疎水性ポリマーとしては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができる。分子内に重合性基を有する重合性(架橋性)ポリマーであることも好ましい。例えば、ビニル重合ポリマー(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリヘキサフルオロプロペン、ポリビニルエーテル、ポリビニルカルバゾール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルカルバゾール、ポリテトラフルオロエチレンなど)、ポリエステル(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンサクシネート、ポリブチレンサクシネート、ポリ乳酸など)、ポリラクトン(例えばポリカプロラクトンなど)、ポリアミド又はポリイミド(例えば、ナイロンやポリアミド酸など)、ポリウレタン、ポリウレア、ポリカーボネート、ポリアロマティックス、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリシロキサン誘導体、などが挙げられる。
これらは、溶解性、光学的物性、電気的物性、膜強度、弾性等の観点から、必要に応じてホモポリマーとしてもよいし、コポリマーやポリマーブレンドの形態をとってもよい。なお、これらのポリマーは必要に応じて2種以上のポリマーの混合物として用いてもよい。
<Hydrophobic polymer>
There is no restriction | limiting in particular as said hydrophobic polymer, According to the objective, it can select suitably from well-known things. A polymerizable (crosslinkable) polymer having a polymerizable group in the molecule is also preferred. For example, vinyl polymer (e.g., polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyacrylate, polymethacrylate, polyacrylamide, polymethacrylamide, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinylidene fluoride, polyhexafluoropropene, polyvinyl ether, polyvinyl carbazole, Polyvinyl acetate, polyvinyl carbazole, polytetrafluoroethylene, etc.), polyester (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene succinate, polybutylene succinate, polylactic acid, etc.), polylactone (eg, polycaprolactone, etc.), polyamide or polyimide (For example, nylon or polyamic acid), polyurethane, polyurea, polycarbonate, poly Matikkusu, polysulfone, polyether sulfone, polysiloxane derivatives, and the like.
From the viewpoints of solubility, optical physical properties, electrical physical properties, film strength, elasticity, etc., these may be homopolymers as necessary, or may take the form of copolymers or polymer blends. In addition, you may use these polymers as a mixture of 2 or more types of polymers as needed.
前記疎水性ポリマーの数平均分子量(Mn)としては、1,000〜10,000,000が好ましく、5,000〜1,000,000がより好ましい。 The number average molecular weight (Mn) of the hydrophobic polymer is preferably 1,000 to 10,000,000, and more preferably 5,000 to 1,000,000.
前記疎水性ポリマーの前記リン酸エステル系界面活性剤との組成比率は、全固形分中の質量%として0〜99.95が好ましく、50〜99.9がより好ましい。 The composition ratio of the hydrophobic polymer to the phosphate ester surfactant is preferably from 0 to 99.95, more preferably from 50 to 99.9, as mass% in the total solid content.
<その他の成分>
前記その他の成分としては、例えば、重合性の多官能モノマー(以下、「多官能モノマー」という)を配合することができる。
前記多官能モノマーとしては、反応性の点から多官能(メタ)アクリレートが好ましい。前記多官能(メタ)アクリレートの例としては、ジペンタエリスリトールペンタアクリレ−ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールカプロラクトン付加物へキサアクリレート又はこれらの変性物、エポキシアクリレートオリゴマー、ポリエステルアクリレートオリゴマー、ウレタンアクリレートオリゴマ−、N−ビニル−2−ピロリドン、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、又はこれらの変性物などが使用できる。これらの多官能モノマーは耐擦傷性と柔軟性のバランスから、単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。
<Other ingredients>
As said other component, a polymerizable polyfunctional monomer (henceforth "polyfunctional monomer") can be mix | blended, for example.
As the polyfunctional monomer, polyfunctional (meth) acrylate is preferable from the viewpoint of reactivity. Examples of the polyfunctional (meth) acrylate include dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol caprolactone adduct hexaacrylate or a modified product thereof, epoxy acrylate oligomer, polyester acrylate oligomer, Urethane acrylate oligomer, N-vinyl-2-pyrrolidone, tripropylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, or a modified product thereof can be used. These polyfunctional monomers are used singly or in combination of two or more from the balance of scratch resistance and flexibility.
前記多官能モノマーを含むフィルム材料溶液を用いて作製したハニカム状多孔質フィルムに対し、熱硬化法、紫外線硬化法、電子線硬化法等の公知の方法によって硬化処理を施すことも好ましい。 It is also preferable to subject the honeycomb-shaped porous film produced using the film material solution containing the polyfunctional monomer to a curing treatment by a known method such as a heat curing method, an ultraviolet curing method, or an electron beam curing method.
前記エチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤又は熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。 Polymerization of the monomer having an ethylenically unsaturated group can be carried out by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photo radical initiator or a thermal radical initiator.
前記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−アルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。
前記アセトフェノン類としては、例えば、2,2−エトキシアセトフェノン、p−メチルアセトフェノン、1−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノンなどが挙げられる。
前記ベンゾイン類としては、例えば、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどが挙げられる。
前記ベンゾフェノン類としては、例えば、ベンゾフェノン、2,4−クロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノン、p−クロロベンゾフェノンなどが挙げられる。
前記ホスフィンオキシド類としては、例えば、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドなどが挙げられる。
前記光ラジカル重合開始剤としては、最新UV硬化技術(P.159,発行人;高薄一弘,発行所;(株)技術情報協会,1991年発行)にも種々の例が記載されている。
また、市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製のイルガキュア(651,184,907)等が好ましい例として挙げられる。
前記光重合開始剤は、多官能モノマー100質量部に対して、0.1〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、1〜10質量部の範囲で使用することがより好ましい。
なお、前記光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。外光増感剤の具体例とし
て、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトン、チオキサントン、などが挙げられる。
Examples of the radical photopolymerization initiator include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-alkyldione compounds, Examples include disulfide compounds, fluoroamine compounds, and aromatic sulfoniums.
Examples of the acetophenones include 2,2-ethoxyacetophenone, p-methylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone, 2 -Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone and the like.
Examples of the benzoins include benzoin benzene sulfonate, benzoin toluene sulfonate, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether.
Examples of the benzophenones include benzophenone, 2,4-chlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone, p-chlorobenzophenone, and the like.
Examples of the phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
Various examples of the radical photopolymerization initiator are also described in the latest UV curing technology (P.159, issuer; Kazuhiro Takasawa, publisher; Technical Information Association, Inc., published in 1991).
Further, as a commercially available photocleavable photoradical polymerization initiator, Irgacure (651, 184, 907) manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. and the like are preferable examples.
The photopolymerization initiator is preferably used in the range of 0.1 to 15 parts by mass, and more preferably in the range of 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyfunctional monomer.
In addition to the photopolymerization initiator, a photosensitizer may be used. Specific examples of the external photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone, and thioxanthone.
前記熱ラジカル開始剤としては、例えば、有機過酸化物、無機過酸化物、有機アゾ化合物、有機ジアゾ化合物、などを用いることができる。
具体的には、有機過酸化物としては、例えば、過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシドなどが挙げられる。前記無機過酸化物としては、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等が挙げられる。前記アゾ化合物としては、例えば、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(プロピオニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)等が挙げられる。前記ジアゾ化合物としては、例えば、ジアゾアミノベンゼン、p−ニトロベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。
As said thermal radical initiator, an organic peroxide, an inorganic peroxide, an organic azo compound, an organic diazo compound, etc. can be used, for example.
Specific examples of the organic peroxide include benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide, and butyl hydroperoxide. Examples of the inorganic peroxide include hydrogen peroxide, ammonium persulfate, and potassium persulfate. Examples of the azo compound include 2,2′-azobis (isobutyronitrile), 2,2′-azobis (propionitrile), 1,1′-azobis (cyclohexanecarbonitrile), and the like. Examples of the diazo compound include diazoaminobenzene, p-nitrobenzenediazonium, and the like.
<疎水性有機溶媒>
前記疎水性有機溶媒としては、例えば、クロロホルム、塩化メチレン等のハロゲン系有機溶剤;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;メチルイソブチルケトン等の非水溶性ケトン類;ジエチルエーテル等のエーテル類;二硫化炭素、などが挙げられる。これらは、1種単独で用いても、又はこれらの溶媒を組み合わせた混合溶媒として使用しても構わない。
<Hydrophobic organic solvent>
Examples of the hydrophobic organic solvent include halogen-based organic solvents such as chloroform and methylene chloride; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; water-insoluble such as methyl isobutyl ketone Ketones; ethers such as diethyl ether; carbon disulfide; and the like. These may be used singly or as a mixed solvent in which these solvents are combined.
前記フィルム材料溶液中のポリマー濃度としては、0〜30質量%が好ましく、0.01〜10質量%がより好ましい。前記ポリマー濃度が30質量%を超えると、十分なハニカム構造体が得られにくくなることがある。 The polymer concentration in the film material solution is preferably 0 to 30% by mass, and more preferably 0.01 to 10% by mass. When the polymer concentration exceeds 30% by mass, it may be difficult to obtain a sufficient honeycomb structure.
(ハニカム複合膜)
本発明のハニカム複合膜は、本発明のハニカム状多孔質フィルムの少なくとも一方の面に、仮支持体を剥離可能に有する。
前記仮支持体を剥離可能に有することにより、薄く取扱いが困難な前記ハニカム状多孔質フィルムを保護して取扱性を向上させることができ、使用時には前記仮支持体を容易に除去することができる。
(Honeycomb composite film)
The honeycomb composite membrane of the present invention has a temporary support that can be peeled off on at least one surface of the honeycomb-shaped porous film of the present invention.
By having the temporary support so as to be peelable, the honeycomb-like porous film that is thin and difficult to handle can be protected to improve the handleability, and the temporary support can be easily removed during use. .
また、前記ハニカム状多孔質フィルムの少なくとも一方の面に、剥離層を有し、該剥離層上に仮支持体を有する態様、及び前記ハニカム状多孔質フィルムの両面に剥離層を有し、該両方の剥離層上に仮支持体を有する態様が好ましい。
更に、前記ハニカム状多孔質フィルムの片面に剥離層と、該剥離層上に仮支持体とを有し、かつ前記ハニカム状多孔質フィルムの剥離層を有さない側の面に支持体を有する態様が好ましい。
本発明のハニカム複合膜の例を、図4B、図4C、及び図5Dに示す。
Also, an embodiment having a release layer on at least one surface of the honeycomb-like porous film, and having a temporary support on the release layer, and having a release layer on both sides of the honeycomb-like porous film, An embodiment having temporary supports on both release layers is preferred.
Furthermore, it has a release layer on one side of the honeycomb-shaped porous film, a temporary support on the release layer, and a support on the side of the honeycomb-like porous film that does not have the release layer. Embodiments are preferred.
Examples of the honeycomb composite film of the present invention are shown in FIGS. 4B, 4C, and 5D.
図4Bに示す前記ハニカム複合膜は、前記ハニカム状多孔質フィルム12の一方の面に、剥離層2を有し、該剥離層2上に前記仮支持体1を有する態様であり、前記仮支持体1の剥離層2上に本発明のハニカム状多孔質フィルム12を形成したものであってもよく、また、図4Aに示すような任意の支持体3上に形成した本発明のハニカム状フィルム12を、該支持体3から剥離し、剥離層を有する前記仮支持体1上の前記剥離層2と貼り合わせて形成したものであってもよい。 The honeycomb composite film shown in FIG. 4B is an aspect in which the release layer 2 is provided on one surface of the honeycomb-shaped porous film 12 and the temporary support 1 is provided on the release layer 2. The honeycomb-shaped porous film 12 of the present invention may be formed on the release layer 2 of the body 1, and the honeycomb-shaped film of the present invention formed on an arbitrary support 3 as shown in FIG. 4A. 12 may be formed by being peeled from the support 3 and bonded to the release layer 2 on the temporary support 1 having a release layer.
図4Cに示す前記ハニカム複合膜は、前記ハニカム状多孔質フィルムの片面に剥離層と、該剥離層上に仮支持体とを有し、かつ前記ハニカム状多孔質フィルムの剥離層を有さない側の面に支持体を有する態様であり、例えば、図4Aに示すような支持体3上に形成した本発明のハニカム状フィルム12を、該支持体3から剥離せずに、前記仮支持体1上の前記剥離層2と貼り合わせて形成してもよい。 The honeycomb composite membrane shown in FIG. 4C has a release layer on one side of the honeycomb-like porous film and a temporary support on the release layer, and does not have the release layer of the honeycomb-like porous film. For example, the temporary support may be formed without peeling the honeycomb film 12 of the present invention formed on the support 3 as shown in FIG. 4A from the support 3. 1 may be bonded to the release layer 2 on the substrate 1.
図4Dに示す前記ハニカム複合膜は、前記ハニカム状多孔質フィルムの両面に剥離層を有し、該両方の剥離層上に仮支持体を有する態様であり、例えば、図4Bに示す前記ハニカム複合膜の前記ハニカム状多孔質フィルム上に、さらに剥離層を有する前記仮支持体1上の前記剥離層2と貼り合わせて形成したものが挙げられる。 The honeycomb composite film shown in FIG. 4D has a mode in which release layers are provided on both sides of the honeycomb-shaped porous film, and a temporary support is provided on both of the release layers. For example, the honeycomb composite film shown in FIG. A film formed by bonding the release layer 2 on the temporary support 1 having a release layer on the honeycomb-like porous film of the membrane.
<剥離層>
前記剥離層は、前記ハニカム状多孔質フィルムと前記仮支持体との剥離性を向上させるために設けられることが好ましく、例えば、前記仮支持体上に形成されることがより好ましい。
前記剥離層としては、前記ハニカム状多孔質フィルムと前記仮支持体とを損傷させることなく剥離させることができる限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、少なくとも離型剤を含むことが好ましい。
<Peeling layer>
The release layer is preferably provided in order to improve the peelability between the honeycomb-shaped porous film and the temporary support, and more preferably, for example, is formed on the temporary support.
The release layer is not particularly limited as long as it can be peeled off without damaging the honeycomb-shaped porous film and the temporary support, and can be appropriately selected according to the purpose. Preferably it contains a mold.
前記離型剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エマルジョン型、溶剤型又は無溶剤型のシリコーン樹脂、フッ素樹脂、アミノアルキド樹脂、ポリエステル樹脂、ワックス、等が挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、エポキシアクリレートオリゴマーなどが挙げられる。
The release agent is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose.For example, emulsion type, solvent type or solventless type silicone resin, fluororesin, aminoalkyd resin, polyester resin, wax, Etc. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
There is no restriction | limiting in particular as said other component, Although it can select suitably according to the objective, For example, an epoxy acrylate oligomer etc. are mentioned.
前記剥離層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、該剥離層を形成する箇所(例えば、前記仮支持体上)に、前記離型剤を含む剥離層形成用溶液を塗布する方法などが挙げられる。
前記塗布方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ブレード塗布法、エアナイフ塗布法、グラビア塗布法、ロールコーテイング塗布法、スプレー塗布法、ディップ塗布法、バー塗布法、エクストルージョン塗布法、スピン塗布法、などが挙げられる。
前記離型層形成用溶液の付着量としては、固形分で0.4〜3.0g/m2が好ましく、0.5〜2.0g/m2がより好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as a formation method of the said peeling layer, According to the objective, it can select suitably, The peeling which contains the said mold release agent in the location (for example, on the said temporary support body) which forms this peeling layer. Examples thereof include a method of applying a layer forming solution.
The coating method is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, blade coating method, air knife coating method, gravure coating method, roll coating coating method, spray coating method, dip coating method, bar Examples thereof include a coating method, an extrusion coating method, and a spin coating method.
The adhesion amount of the release layer forming solution is preferably 0.4 to 3.0 g / m 2 , more preferably 0.5 to 2.0 g / m 2 in terms of solid content.
<仮支持体>
前記仮支持体としては、前記ハニカム状多孔質フィルムを保護し、かつ取扱性を向上させることが可能であり、さらに、使用時に容易に除去することができる材料であることが好ましく、例えば、ガラス、金属、シリコンウエハー等の無機材料;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル;ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン;ポリアミド、ポリエーテル、ポリスチレン、ポリエステルアミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルエステル、ポリ塩化ビニル、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリエーテルケトン、ポリフッ化エチレン等の耐有機溶剤性に優れた有機材料;水、流動パラフィン、液状ポリエーテル等の液体、などが挙げられる。
<Temporary support>
The temporary support is preferably a material that can protect the honeycomb-like porous film and improve handling properties, and can be easily removed at the time of use. For example, glass Inorganic materials such as metal and silicon wafers; polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polyolefins such as polyethylene and polypropylene; polyamides, polyethers, polystyrenes, polyester amides, polycarbonates, polyphenylene sulfides, polyether esters, polyvinyl chloride, Examples thereof include organic materials having excellent organic solvent resistance such as polyacrylic acid ester, polymethacrylic acid ester, polyether ketone, and polyfluorinated ethylene; and liquids such as water, liquid paraffin, and liquid polyether.
前記仮支持体の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、0.02〜4.0mmが好ましい。 There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said temporary support body, Although it can select suitably according to the objective, For example, 0.02-4.0 mm is preferable.
<支持体>
前記支持体としては、その表面で前記ハニカム状多孔質フィルムを形成可能である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、前記仮支持体と同様の材料、前記ハニカム状多孔質フィルムを表面に形成することによりデバイス化される基材(例えば、ガラス基板、電極材料等)、及び前記ハニカム状多孔質フィルムを製造するためのフィルム製造設備における流延ベルトなどが挙げられる。
<Support>
The support is not particularly limited as long as the honeycomb porous film can be formed on the surface thereof, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, the same material as the temporary support, a base material (for example, a glass substrate, an electrode material, etc.) that is made into a device by forming the honeycomb porous film on the surface, and the honeycomb porous film are manufactured. For example, a casting belt in a film manufacturing facility for performing the above-described process may be used.
<ハニカム状多孔質フィルム>
前記ハニカム複合膜における前記ハニカム状多孔質フィルムとしては、加工されていてもよく、好ましい態様としては、例えば、延伸されてなるハニカム状多孔質フィルム、表面に金属層を有するハニカム状多孔質フィルム、空孔内に屈折率制御材料が充填されているハニカム状多孔質フィルム等が挙げられる。
<Honeycomb porous film>
The honeycomb-like porous film in the honeycomb composite film may be processed, and preferred embodiments include, for example, a stretched honeycomb-like porous film, a honeycomb-like porous film having a metal layer on the surface, Examples thereof include a honeycomb-like porous film in which pores are filled with a refractive index control material.
−延伸−
前記延伸としては、例えば、一軸延伸、逐次二軸延伸、同時二軸延伸、及び三軸延伸のいずれかが好ましい。
前記ハニカム状多孔質フィルムを延伸する方法としては、特に制限はなく、種々の延伸機を用いて実施することができ、例えば、機械的流れ方向に延伸する縦一軸延伸、機械的流れ方向に直交する方向に延伸するテンター延伸などが好適に利用できる。
前記延伸における延伸倍率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、一方向に延伸する場合は約1.05〜12倍、好ましくは1.2〜10倍であり、二軸延伸の場合は面積倍率で1.2〜60倍、好ましくは1.5〜50倍である。
前記延伸により、前記ハニカム状多孔質フィルムには楕円状乃至スリット状の空孔が形成され、特に、フィルム表面に楕円状乃至スリット状に開口した空孔が形成される。この場合、前記空孔は、直線状に配列していることにより、後述する金属層を形成した際にワイヤーグリッド機能を発揮させることができる点で好ましい。
-Stretching-
As the stretching, for example, any one of uniaxial stretching, sequential biaxial stretching, simultaneous biaxial stretching, and triaxial stretching is preferable.
The method for stretching the honeycomb-shaped porous film is not particularly limited, and can be carried out using various stretching machines, for example, longitudinal uniaxial stretching for stretching in the mechanical flow direction, orthogonal to the mechanical flow direction. Tenter stretching that stretches in the direction of stretching can be suitably used.
There is no restriction | limiting in particular as a draw ratio in the said extending | stretching, According to the objective, it can select suitably, For example, when extending | stretching to one direction, it is about 1.05 to 12 times, Preferably it is 1.2 to 10 times In the case of biaxial stretching, the area magnification is 1.2 to 60 times, preferably 1.5 to 50 times.
By the stretching, elliptical or slit-like pores are formed in the honeycomb-like porous film, and in particular, pores that are open in the elliptical or slit-like shape are formed on the film surface. In this case, it is preferable that the holes are arranged in a straight line so that the wire grid function can be exhibited when a metal layer described later is formed.
−金属層−
前記ハニカム状多孔質フィルム表面には、金属層を設けることができ、特に、前記延伸により楕円状乃至スリット状に開口した空孔を有する前記ハニカム状多孔質フィルム表面には、金属層を設けることが好ましい。
前記金属層における金属としては、金、銀、銅、アルミニウム、鉄、ニッケル、チタン、タングステン、クロム及びこれらの合金から選択される少なくとも1種であることが好ましい。
-Metal layer-
A metal layer can be provided on the surface of the honeycomb-like porous film, and in particular, a metal layer is provided on the surface of the honeycomb-like porous film having pores opened in an elliptical shape or a slit shape by the stretching. Is preferred.
The metal in the metal layer is preferably at least one selected from gold, silver, copper, aluminum, iron, nickel, titanium, tungsten, chromium, and alloys thereof.
前記金属層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メッキ法、印刷法、スパッタリング法、CVD法、真空蒸着法、電鋳法、などが挙げられ、これらの中でも、真空蒸着法、メッキ法、電鋳法が特に好ましい。
前記金属層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、前記ハニカム状多孔質フィルムに金属層を形成した偏光膜の場合、該金属層の厚みとしては、50〜1000nmが好ましい。
The method for forming the metal layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include a plating method, a printing method, a sputtering method, a CVD method, a vacuum deposition method, and an electroforming method. Of these, vacuum deposition, plating, and electroforming are particularly preferable.
There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said metal layer, According to the objective, it can select suitably. For example, in the case of a polarizing film in which a metal layer is formed on the honeycomb-shaped porous film, the thickness of the metal layer is preferably 50 to 1000 nm.
また、前記ハニカム状多孔質フィルム表面の空孔内に金属層を有し、ワイヤーグリッド機能を有することが好ましい。即ち、楕円状乃至スリット状空孔が直線状に配列し、該空孔内に金属層を有することにより、互いに平行をなすように多数の金属ワイヤーが等間隔に並んだ構造と近似した構造を形成することができる。
前記ハニカム状多孔質フィルム表面の空孔内に金属層を形成する方法としては、フィルム表面に金属層を形成した後、空孔以外の金属層部分をエッチングにより除去する方法、などが挙げられる。
Moreover, it is preferable to have a metal layer in the void | hole of the said honeycomb-like porous film surface, and to have a wire grid function. That is, a structure approximated to a structure in which a large number of metal wires are arranged at equal intervals so as to be parallel to each other by arranging elliptical or slit-like holes in a straight line and having a metal layer in the holes. Can be formed.
Examples of the method for forming the metal layer in the pores on the surface of the honeycomb-shaped porous film include a method in which after the metal layer is formed on the film surface, the metal layer portion other than the pores is removed by etching.
−屈折率制御材料−
前記ハニカム状多孔質フィルムにおける空孔内には、該フィルム材料の屈折率と異なる屈折率を有する屈折率制御材料を充填することが、位相差機能を発揮させることができる点から好ましい。
前記屈折率制御材料としては、前記ハニカム状多孔質フィルムを構成するフィルム材料の屈折率と異なる屈折率を有する材料であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、(1)前記フィルム材料よりも屈折率が小さい低屈折率材料、及び(2)前記フィルム材料よりも屈折率が高い高屈折率材料のいずれであってもよいが、前記高屈折率材料(2)が特に好ましい。
-Refractive index control material-
The pores in the honeycomb-like porous film are preferably filled with a refractive index control material having a refractive index different from the refractive index of the film material from the viewpoint of exhibiting a retardation function.
The refractive index control material is not particularly limited as long as it is a material having a refractive index different from that of the film material constituting the honeycomb-shaped porous film, and can be appropriately selected according to the purpose. It may be any of a low refractive index material having a refractive index smaller than that of the film material, and (2) a high refractive index material having a refractive index higher than that of the film material. Particularly preferred.
ここで「屈折率」とは、前記ハニカム状多孔質フィルムを構成するフィルム材料、及び屈折率制御材料の各々単独の屈折率を指し、一般に市販されているアッベの屈折計(Abbe refractometer)を用い、ISO489(1999)、又はJIS 7142−1996(プラスチックの屈折率測定方法)に準拠した方法で測定することができる。なお、本発明の屈折率は、光の波長としてD線(589nm)を用いた値である。また、既存のポリマー材料の屈折率については種々文献により公知であり、例えばJ.Brandrup、E.H.Immergut編、「Polymer Handbook」第2版、1975年(John Wiley & Sons, Inc.)III−241-244等の記載を参考にすることができる。 Here, the “refractive index” refers to the refractive index of each of the film material constituting the honeycomb-shaped porous film and the refractive index control material, and uses a commercially available Abbe refractometer. , ISO 489 (1999), or JIS 7142-1996 (plastic refractive index measurement method). The refractive index of the present invention is a value using D line (589 nm) as the wavelength of light. Further, the refractive index of existing polymer materials is known from various literatures, for example, J. Brandrup, EHImmergut, “Polymer Handbook”, 2nd edition, 1975 (John Wiley & Sons, Inc.) III-241- The description of 244 etc. can be referred to.
前記屈折率制御材料としては、前記ハニカム状多孔質フィルムを構成するフィルム材料フィルムの屈折率と異なる屈折率を有し、空孔内に充填可能な材料であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリマー材料、無機材料、及びこれらの混合物が挙げられる。前記ポリマー材料としては、水又は有機溶媒等の溶媒に分散又は溶解するポリマーが好ましく、前記無機材料としては、無機微粒子の混合物であることが好ましい。 The refractive index control material is not particularly limited as long as the material has a refractive index different from that of the film material film constituting the honeycomb-shaped porous film and can be filled in the pores. It can be appropriately selected depending on the case, and examples thereof include polymer materials, inorganic materials, and mixtures thereof. The polymer material is preferably a polymer that is dispersed or dissolved in a solvent such as water or an organic solvent, and the inorganic material is preferably a mixture of inorganic fine particles.
前記屈折率制御材料に用いられるポリマーとしては、例えば、ビニルポリマー、縮合系ポリマー(ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレア、ポリカーボネート、ポリカルボジイミド等)などが挙げられる。 Examples of the polymer used for the refractive index control material include vinyl polymers and condensation polymers (polyurethane, polyester, polyamide, polyurea, polycarbonate, polycarbodiimide, etc.).
前記ビニルポリマーを形成するモノマーとしては、例えば、アクリル酸、2−カルボキシエチルアクリレート、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、等の酸類、アクリル酸エステル類やメタクリル酸エステル類(エステル基は置換基を有してもよいアルキル基、アリール基を含むエステル基であり、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、tert−オクチル基、2−クロロエチル基、シアノエチル基、2−アセトキシエチル基、2−ヒドロキシエチル基、テトラヒドロフルフリル基、5−ヒドロキシペンチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、ヒドロキシエチル基、3−メトキシブチル基、2−(2−メトキシエトキシ)エチル基、2,2,2−テトラフルオロエチル基、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシル基、フェニル基、2,4,5−テトラメチルフェニル基、4−クロロフェニル基等)などが挙げられる。 Examples of monomers that form the vinyl polymer include acids such as acrylic acid, 2-carboxyethyl acrylate, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, acrylic esters and methacrylic esters (the ester group has a substituent). An ester group including an alkyl group or an aryl group which may have, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, hexyl group 2-ethylhexyl group, tert-octyl group, 2-chloroethyl group, cyanoethyl group, 2-acetoxyethyl group, 2-hydroxyethyl group, tetrahydrofurfuryl group, 5-hydroxypentyl group, cyclohexyl group, benzyl group, hydroxyethyl Group, 3-methoxybutyl group, 2- (2-methoxy group) Toxi) ethyl group, 2,2,2-tetrafluoroethyl group, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyl group, phenyl group, 2,4,5-tetramethylphenyl group, 4-chlorophenyl group, etc.) Is mentioned.
前記ビニルエステル類としては、具体的には、置換基を有してもよい脂肪族カルボン酸ビニルエステル(例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート等)、置換基を有してもよい芳香族カルボン酸ビニルエステル(例えば、安息香酸ビニル、4−メチル安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル等)などが挙げられる。 Specific examples of the vinyl esters include aliphatic carboxylic acid vinyl esters which may have a substituent (for example, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl caproate). , Vinyl chloroacetate, etc.), and optionally substituted aromatic carboxylic acid vinyl esters (for example, vinyl benzoate, vinyl 4-methylbenzoate, vinyl salicylate, etc.).
前記アクリルアミド類としては、具体的には、アクリルアミド、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、N−モノ置換アクリルアミド、N−ジ置換アクリルアミド(置換基は置換基を有してもよいアルキル基,アリール基,シリル基であり、例えば、メチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基、tert−オクチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、ヒドロキシメチル基、アルコキシメチル基、フェニル基、2,4,5−テトラメチルフェニル基、4−クロロフェニル基、トリメチルシリル等)などが挙げられる。 Specific examples of the acrylamides include acrylamide, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, N-monosubstituted acrylamide, and N-disubstituted acrylamide (the substituent is an alkyl group that may have a substituent, Aryl group, silyl group, for example, methyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, tert-butyl group, tert-octyl group, cyclohexyl group, benzyl group, hydroxymethyl group, alkoxymethyl group, Phenyl group, 2,4,5-tetramethylphenyl group, 4-chlorophenyl group, trimethylsilyl, etc.).
前記メタクリルアミド類としては、具体的には、メタクリルアミド、N−モノ置換メタクリルアミド、N−ジ置換メタクリルアミド(置換基は置換基を有してもよいアルキル基,アリール基,シリル基であり、例えば、メチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基、tert−オクチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、ヒドロキシメチル基、アルコキシメチル基、フェニル基、2,4,5−テトラメチルフェニル基、4−クロロフェニル基、トリメチルシリル等)などが挙げられる。 Specific examples of the methacrylamides include methacrylamide, N-monosubstituted methacrylamide, N-disubstituted methacrylamide (the substituent is an alkyl group, aryl group, or silyl group which may have a substituent). For example, methyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, tert-butyl group, tert-octyl group, cyclohexyl group, benzyl group, hydroxymethyl group, alkoxymethyl group, phenyl group, 2,4, 5-tetramethylphenyl group, 4-chlorophenyl group, trimethylsilyl, etc.).
前記オレフィン類としては、例えば、エチレン、プロピレン、1−ペンテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレン、クロロプレン、ブタジエン等が挙げられる。前記スチレン類としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、イソプロピルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン等が挙げられる。前記ビニルエーテル類としては、例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテルなどが挙げられる。 Examples of the olefins include ethylene, propylene, 1-pentene, vinyl chloride, vinylidene chloride, isoprene, chloroprene, and butadiene. Examples of the styrenes include styrene, methyl styrene, isopropyl styrene, methoxy styrene, acetoxy styrene, chlorostyrene, and the like. Examples of the vinyl ethers include methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, and methoxyethyl vinyl ether.
前記その他のモノマーとしては、例えば、ビニルスルホン酸、クロトン酸エステル、イタコン酸エステル、マレイン酸ジエステル、フマル酸ジエステル、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、N−ビニルオキサゾリドン、N−ビニルピロリドン、ビニリデンクロライド、メチレンマロンニトリル、ビニリデン、ジフェニル−2−アクリロイルオキシエチルホスフェート、ジフェニル−2−メタクリロイルオキシエチルホスフェート、ジブチル−2−アクリロイルオキシエチルホスフェート、ジオクチル−2−メタクリロイルオキシエチルホスフェート、などが挙げられる。 Examples of the other monomers include vinyl sulfonic acid, crotonic acid ester, itaconic acid ester, maleic acid diester, fumaric acid diester, methyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone, methoxyethyl vinyl ketone, N-vinyl oxazolidone, and N-vinyl. Examples include pyrrolidone, vinylidene chloride, methylenemalonnitrile, vinylidene, diphenyl-2-acryloyloxyethyl phosphate, diphenyl-2-methacryloyloxyethyl phosphate, dibutyl-2-acryloyloxyethyl phosphate, dioctyl-2-methacryloyloxyethyl phosphate, etc. It is done.
前記ポリウレタンとしては、基本的にジオール化合物とジイソシアネート化合物を原料とした重付加反応により得られるものである。
前記ジオール化合物の具体例としては、非解離性のジオールとしてエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、2,3-ブタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、1,4−ペンタンジオール、2,4−ペンタンジオール、3,3−ジメチル−1,2−ブタンジオール、2−エチル−2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2,5−ヘキサンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、2,4−ジメチル−2,4−ペンタンジオール、2−メチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、1,2−オクタンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール(平均分子量=200,300,400,600,1000,1500,4000)、ポリプロピレングリコール(平均分子量=200,400,1000)、ポリエステルポリオール、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、4,4’−ジヒドロキシフェニルスルホン、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸等を挙げることができる。
The polyurethane is basically obtained by a polyaddition reaction using a diol compound and a diisocyanate compound as raw materials.
Specific examples of the diol compound include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 2,3-butanediol, 2,2- Dimethyl-1,3-propanediol, 1,4-pentanediol, 2,4-pentanediol, 3,3-dimethyl-1,2-butanediol, 2-ethyl-2-methyl-1,3-propanediol 1,6-hexanediol, 2,5-hexanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 2,2-diethyl-1,3-propanediol, 2,4-dimethyl-2,4-pentane Diol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2,5-dimethyl-2,5-hexanediol, 2-ethyl-1,3-hexa Diol, 1,2-octanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, diethylene glycol, triethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, polyethylene glycol (average Molecular weight = 200,300,400,600,1000,1500,4000), polypropylene glycol (average molecular weight = 200,400,1000), polyester polyol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 4,4 ′ -Dihydroxyphenylsulfone, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) butanoic acid and the like can be mentioned.
前記ジイソシアネートの好ましい具体例としては、エチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート,1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、2,4-トルエンジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート,m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、3,3’−ジメチル−4,4’―ジフェニルメタンジイソシアネート、3,3’−ジメチルビフェニレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)等を挙げることができる。 Preferable specific examples of the diisocyanate include ethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate, 2,4-toluene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, m- Examples thereof include phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 3,3′-dimethyl-4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 3,3′-dimethylbiphenylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, and methylenebis (4-cyclohexylisocyanate).
前記ポリエステルとしては、基本的にジオール化合物とジカルボン酸化合物の脱水縮合によって得られるものである。
前記ジカルボン酸化合物の具体的な例としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、ジメチルマロン酸、アジピン酸、ピメリン酸、α,α―ジメチルコハク酸、アセトンジカルボン酸、セバシン酸、1,9−ノナンジカルボン酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、2−ブチルテレフタル酸、テトラクロロテレフタル酸、アセチレンジカルボン酸、ポリ(エチレンテレフタレート)ジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、ω―ポリ(エチレンオキシド)ジカルボン酸、p−キシリレンジカルボン酸などを挙げることができる。
これらの化合物は、ジオール化合物と重縮合反応を行う際に、ジカルボン酸のアルキルエステル(例えば、ジメチルエステル)やジカルボン酸の酸塩化物の形で用いてもよいし、無水マレイン酸や無水コハク酸、無水フタル酸のように酸無水物の形で用いてもよい。
The polyester is basically obtained by dehydration condensation of a diol compound and a dicarboxylic acid compound.
Specific examples of the dicarboxylic acid compound include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, dimethylmalonic acid, adipic acid, pimelic acid, α, α-dimethylsuccinic acid, acetone dicarboxylic acid, sebacic acid, 1 , 9-nonanedicarboxylic acid, fumaric acid, maleic acid, itaconic acid, citraconic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 2-butyl terephthalic acid, tetrachloroterephthalic acid, acetylenedicarboxylic acid, poly (ethylene terephthalate) dicarboxylic acid 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, ω-poly (ethylene oxide) dicarboxylic acid, p-xylylene dicarboxylic acid, and the like.
These compounds may be used in the form of an alkyl ester of a dicarboxylic acid (for example, dimethyl ester) or an acid chloride of a dicarboxylic acid when performing a polycondensation reaction with a diol compound, or maleic anhydride or succinic anhydride. Alternatively, it may be used in the form of an acid anhydride such as phthalic anhydride.
前記ジオール化合物としては、上記ポリウレタンにおいて記載したジオール類と同じ群から選ばれる化合物を用いることができる。
前記ポリエステルの代表的な合成法は上記のジオール化合物とジカルボン酸もしくはその誘導体の縮合反応であるが、ヒドロキシカルボン酸(例えば、乳酸、12-ヒドロキシステアリン酸)のようなヒドロキシカルボン酸を縮合して得ることができる。
As the diol compound, a compound selected from the same group as the diols described in the polyurethane can be used.
A typical method for synthesizing the polyester is a condensation reaction of the above diol compound and a dicarboxylic acid or a derivative thereof, but by condensing a hydroxycarboxylic acid such as hydroxycarboxylic acid (for example, lactic acid, 12-hydroxystearic acid). Obtainable.
前記ポリアミドは、ジアミン化合物とジカルボン酸化合物の重縮合、アミノカルボン酸化合物の重縮合もしくはラクタム類の開環重合等によって得ることができる。
前記ジアミン化合物としては、例えば、エチレンジアミン、1,3-プロパンジアミン、1,2-プロパンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、o−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、p-フェニレンジアミン、ピペラジン、2,5-ジメチルピペラジン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3‘−ジアミノジフェニルスルホン、キシリレンジアミン等を挙げることができる。
前記アミノカルボン酸としては、例えば、グリシン、アラニン、フェニルアラニン、ω―アミノヘキサン酸、ω―アミノデカン酸、ω―アミノウンデカン酸、アントラニル酸が挙げられる。また、開環重合に用い得る単量体としてはε―カプロラクタム、アゼチジノン、ピロリドン等を挙げることができる。
前記ジカルボン酸化合物としては、上記ポリエステルにおいて説明したジカルボン酸類と同じ群から選ばれる化合物を用いることができる。
The polyamide can be obtained by polycondensation of a diamine compound and a dicarboxylic acid compound, polycondensation of an aminocarboxylic acid compound, or ring-opening polymerization of lactams.
Examples of the diamine compound include ethylenediamine, 1,3-propanediamine, 1,2-propanediamine, hexamethylenediamine, octamethylenediamine, o-phenylenediamine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, piperazine, 2 , 5-dimethylpiperazine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,3′-diaminodiphenyl sulfone, xylylenediamine and the like.
Examples of the aminocarboxylic acid include glycine, alanine, phenylalanine, ω-aminohexanoic acid, ω-aminodecanoic acid, ω-aminoundecanoic acid, and anthranilic acid. Examples of monomers that can be used for ring-opening polymerization include ε-caprolactam, azetidinone, and pyrrolidone.
As said dicarboxylic acid compound, the compound chosen from the same group as dicarboxylic acids demonstrated in the said polyester can be used.
前記ポリウレアは、基本的にジアミン化合物とジイソシアネート化合物の重付加もしくはジアミン化合物と尿素の脱アンモニア反応によって得ることができ、原料であるジアミン化合物は上記ポリアミドにおいて記載したジアミン類、ジイソシアネート化合物は上記ポリウレタンにおいて記載したジイソシアネート類と同じ群から選ばれる化合物を用いることができる。 The polyurea can be basically obtained by polyaddition of a diamine compound and a diisocyanate compound or a deammonia reaction of a diamine compound and urea. The diamine compound as a raw material is the diamine described in the above polyamide, and the diisocyanate compound is in the above polyurethane. Compounds selected from the same group as the described diisocyanates can be used.
前記ポリカーボネートは、基本的にジオール化合物とホスゲンもしくは炭酸エステル誘導体(例えば、ジフェニルカーボネート等の芳香族エステル)を反応させる事により得ることができ、原料であるジオール化合物は上記ポリウレタンにおいて記載したジオール類と同じ群からなる化合物を用いることができる。 The polycarbonate can be basically obtained by reacting a diol compound with phosgene or a carbonic acid ester derivative (for example, an aromatic ester such as diphenyl carbonate). Compounds from the same group can be used.
前記ポリカルボジイミドは、基本的にジイソシアネート化合物の縮合反応によって得ることができ、原料であるジイソシアネート化合物は上記ポリウレタンにおいて記載したジイソシアネート類と同じ群から選ばれる化合物を用いることができる。 The polycarbodiimide can be basically obtained by a condensation reaction of a diisocyanate compound, and the diisocyanate compound as a raw material can be a compound selected from the same group as the diisocyanates described in the polyurethane.
以下、前記屈折率制御材料に好適なポリマー、及び該ポリマーの屈折率値を示すが、本発明のハニカム状多孔質フィルムの空孔に充填される前記屈折率制御材料は、これらに限定されるものではない。なお、括弧内に示す屈折率値は、各ポリマーの固形分の値である。 Hereinafter, the polymer suitable for the refractive index control material and the refractive index value of the polymer will be shown, but the refractive index control material filled in the pores of the honeycomb-shaped porous film of the present invention is limited to these. It is not a thing. In addition, the refractive index value shown in a parenthesis is a value of solid content of each polymer.
前記屈折率制御材料として好適なポリマーとしては、ポリテトラフルオロエチレン(1.35)、ポリトリフルオロエチルアクリレート(1.407)、ポリトリフルオロエチルメタクリレート(1.437)、ポリt−ブチルメタクリレート(1.4638)、ポリ−4−メチルペンテン(1.466)、ポリ酢酸ビニル(1.4665)、ポリエチルアクリレート(1.4685)、ポリメチルメタクリレート(1.4893)、ポリシクロヘキシルメタクリレート(1.5066)、ポリエチレン(1.51)、ポリアクリロニトリル(1.52)、ポリメタクリロニトリル(1.52)、ナイロン6(1.53)、スチレン−ブタジエン(25/75)共重合体(1.535)、ポリベンジルメタクリレート(1.5680)、ポリフェニルメタクリレート(1.5706)、ポリジアリルフタレート(1.572)、ポリエチレンテレフタレート(1.576)、ポリ安息香酸ビニル(1.5775)、ポリスチレン(1.59〜1.592(ポリマーの立体構造に依存))、ポリN−ベンジルメタクリルアミド(1.5965)、ポリo−クロロスチレン(1.6098)、ポリ塩化ビニル(1.63)、ポリスルホン(1.63)、ポリビニルナフタレン(1.682)、ポリビニルカルバゾール(1.683)、ポリペンタブロモフェニルメタクリレート(1.71)などが挙げられる。 Polymers suitable as the refractive index control material include polytetrafluoroethylene (1.35), polytrifluoroethyl acrylate (1.407), polytrifluoroethyl methacrylate (1.437), poly t-butyl methacrylate ( 1.4638), poly-4-methylpentene (1.466), polyvinyl acetate (1.4665), polyethyl acrylate (1.4685), polymethyl methacrylate (1.4893), polycyclohexyl methacrylate (1. 5066), polyethylene (1.51), polyacrylonitrile (1.52), polymethacrylonitrile (1.52), nylon 6 (1.53), styrene-butadiene (25/75) copolymer (1. 535), polybenzyl methacrylate (1.5680), polyphenyl methacrylate Tacrylate (1.5706), polydiallyl phthalate (1.572), polyethylene terephthalate (1.576), polyvinyl benzoate (1.5775), polystyrene (1.59 to 1.592 (depending on the three-dimensional structure of the polymer) )), Poly N-benzylmethacrylamide (1.5965), poly o-chlorostyrene (1.6098), polyvinyl chloride (1.63), polysulfone (1.63), polyvinyl naphthalene (1.682), Polyvinyl carbazole (1.683), polypentabromophenyl methacrylate (1.71), etc. are mentioned.
前記屈折率制御材料として好適な無機材料としては、特に制限はなく、従来公知のものを目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、二酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、炭酸亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、酸化スズ、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、硫化カルシウム、酸化鉄、炭酸ストロンチウム、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、水酸化アルミニウム、ヨウ化銀、珪酸アルミニウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、コロイダルシリカ、コロイダルアルミナ、アルミナ、ゼオライト、カオリン、タルク、クレー、珪藻土、サチンホワイト、及びケイソウ土などが挙げられ、これらの中でも金属酸化物、及び金属硫化物がより好ましい。 The inorganic material suitable as the refractive index control material is not particularly limited, and a conventionally known material can be appropriately selected according to the purpose. For example, titanium dioxide, zinc oxide, zinc sulfide, zinc carbonate, oxide Zirconium, silicon oxide, tin oxide, magnesium carbonate, magnesium hydroxide, calcium carbonate, calcium sulfide, iron oxide, strontium carbonate, barium sulfate, calcium sulfate, aluminum hydroxide, silver iodide, aluminum silicate, calcium silicate, magnesium silicate, Examples thereof include colloidal silica, colloidal alumina, alumina, zeolite, kaolin, talc, clay, diatomaceous earth, satin white, and diatomaceous earth. Among these, metal oxides and metal sulfides are more preferable.
前記無機材料は、単独で用いてもよく、前記ポリマーとの混合物として用いてもよいが、膜の物理特性や後に行う延伸工程を勘案すると、前記ポリマーとの混合物として用いることが好ましい。この場合、前記無機材料は、無機微粒子として前記ポリマーと混合して用いるのが好ましい。 Although the said inorganic material may be used independently and may be used as a mixture with the said polymer, when the physical characteristic of a film | membrane and the extending process performed later are taken into consideration, it is preferable to use as a mixture with the said polymer. In this case, the inorganic material is preferably used as inorganic fine particles mixed with the polymer.
前記屈折率制御材料は、分子内に重合性基を有することも好ましい。また、前記屈折率制御材料とともに、重合性の多官能モノマーを配合し、この配合物をハニカム膜の空孔内に充填した後、熱硬化法、紫外線硬化法、電子線硬化法等の公知の方法によって硬化処理を施すことも好ましい。前記屈折率制御材料と併用される好ましい多官能モノマーは、疎水性ポリマーの説明で挙げたものと同じである。また、好ましい光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤も疎水性ポリマーの説明で挙げたものと同じである。 The refractive index control material preferably has a polymerizable group in the molecule. Further, a polymerizable polyfunctional monomer is blended together with the refractive index control material, and after filling the blend into the pores of the honeycomb film, a known method such as a thermosetting method, an ultraviolet curing method, an electron beam curing method or the like is used. It is also preferable to perform a curing treatment by a method. Preferred polyfunctional monomers used in combination with the refractive index control material are the same as those mentioned in the description of the hydrophobic polymer. Preferred photoradical initiators or thermal radical initiators are also the same as those mentioned in the description of the hydrophobic polymer.
前記無機材料は、重合性のポリマー材料や多官能モノマーとともに空孔内に充填することも好ましい。この際、無機材料をあらかじめ重合性の表面修飾剤で表面処理することも好ましい。
前記屈折率制御材料を空孔内に充填する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、溶融状態の屈折率制御材料を空孔に充填する方法、ハニカム状多孔質フィルムを溶解しない溶媒で調製した溶液を空孔に充填する方法、空孔内にモノマーを充填した後、加熱又は光照射により重合させる方法、などが挙げられる。
The inorganic material is preferably filled in the pores together with a polymerizable polymer material and a polyfunctional monomer. At this time, it is also preferable to surface-treat the inorganic material in advance with a polymerizable surface modifier.
The method of filling the refractive index control material into the pores is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose.For example, a method of filling the refractive index control material in a molten state into the pores, Examples thereof include a method of filling pores with a solution prepared with a solvent that does not dissolve the honeycomb-like porous film, a method of polymerizing by heating or light irradiation after filling the pores with a monomer.
(ハニカム複合膜の製造方法)
本発明のハニカム複合膜の製造方法は、剥離層形成工程と、ハニカム状多孔質フィルム作製工程とを含んでなり、必要に応じて貼合工程、延伸工程、金属層形成工程、及びその他の工程を含んでなる。
具体的には、(1)仮支持体上に剥離層を形成する剥離層形成工程と、前記ハニカム状多孔質フィルムを支持体上に作製するハニカム状多孔質フィルム作製工程と、前記仮支持体上の前記剥離層と、前記ハニカム状多孔質フィルムとを貼り合わせる貼合工程とを少なくとも含む第一の態様、及び(2)仮支持体上に剥離層を形成する剥離層形成工程と、ハニカム状多孔質フィルムを前記仮支持体上の前記剥離層上に作成するハニカム状多孔質フィルム作製工程とを少なくとも含む第二の態様が挙げられる。
(Manufacturing method of honeycomb composite film)
The method for manufacturing a honeycomb composite film of the present invention includes a release layer forming step and a honeycomb porous film manufacturing step, and if necessary, a bonding step, a stretching step, a metal layer forming step, and other steps. Comprising.
Specifically, (1) a release layer forming step of forming a release layer on the temporary support, a honeycomb porous film preparation step of manufacturing the honeycomb porous film on the support, and the temporary support A first embodiment comprising at least a laminating step of laminating the release layer and the honeycomb porous film; and (2) a release layer forming step of forming a release layer on a temporary support, and a honeycomb. A second embodiment including at least a honeycomb-like porous film production step of producing a porous porous film on the release layer on the temporary support.
−剥離層形成工程−
前記剥離層形成工程は、仮支持体上に剥離層を形成する工程である。
前記剥離層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記仮支持体上に剥離層用塗布液を塗布する方法などが挙げられる。
-Release layer formation process-
The release layer forming step is a step of forming a release layer on the temporary support.
There is no restriction | limiting in particular as a formation method of the said peeling layer, According to the objective, it can select suitably, For example, the method of apply | coating the coating liquid for peeling layers on the said temporary support body etc. are mentioned.
−ハニカム状多孔質フィルム作製工程−
前記フィルム作製工程は、少なくとも前記リン酸エステル系界面活性剤と、前記疎水性有機溶媒とを含む前記フィルム材料溶液を用いて前記フィルム材料層を形成し、該フィルム材料層に相対湿度50〜95%の気体を送風し、前記疎水性有機溶媒を揮発させるとともに、前記フィルム材料層表面に結露を生成し、該結露を蒸発させることにより空孔を有するハニカム状多孔質フィルムを作製する工程である。
-Honeycomb porous film production process-
The film production step forms the film material layer using the film material solution containing at least the phosphate ester surfactant and the hydrophobic organic solvent, and the relative humidity of the film material layer is 50 to 95. % Of the gas, volatilizes the hydrophobic organic solvent, generates condensation on the surface of the film material layer, and evaporates the condensation to produce a honeycomb porous film having pores. .
前記フィルム材料層は、前記フィルム材料溶液を、前記支持体又は前記仮支持体上にキャストすることにより形成することができ、該キャスト法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スライド法、エクストリュージョン法、バー法、グラビア法、などが挙げられる。 The film material layer can be formed by casting the film material solution on the support or the temporary support, and the casting method is not particularly limited and is appropriately selected depending on the purpose. Examples thereof include a slide method, an extrusion method, a bar method, and a gravure method.
前記空孔を形成し、フィルム材料層をハニカム状多孔質フィルムとして成膜する環境としては、相対湿度が50〜95%の範囲にあることが好ましく、フィルム材料層に相対湿度50〜95%の気体を送風することが好ましい。
前記相対湿度が50%未満であると、溶媒表面での水の凝結が不十分となることがあり、95%を超えると、環境のコントロールが難しく、均一な成膜を維持しにくくなることがある。
As an environment for forming the pores and forming the film material layer as a honeycomb-like porous film, the relative humidity is preferably in the range of 50 to 95%, and the film material layer has a relative humidity of 50 to 95%. It is preferable to blow gas.
If the relative humidity is less than 50%, water condensation on the solvent surface may be insufficient, and if it exceeds 95%, it may be difficult to control the environment and maintain uniform film formation. is there.
また、前記フィルム材料層に送風する気体は、風量が一定の定常風であることが好ましく、風速としては0.1〜20m/sが好ましい。
前記風速が0.1m/s未満であると、環境のコントロールが困難になることがあり、20m/sを超えると、溶媒表面の乱れを引き起こし、均一な膜が得にくくなることがある。
The gas blown to the film material layer is preferably a steady air with a constant air volume, and the wind speed is preferably 0.1 to 20 m / s.
If the wind speed is less than 0.1 m / s, it may be difficult to control the environment, and if it exceeds 20 m / s, the solvent surface may be disturbed and a uniform film may be difficult to obtain.
また、前記気体を送風する方向としては、前記フィルム材料層表面に対して0〜90°の範囲であれば、いずれの方向であってもよいが、形成される空孔の均一性を高めるためには0〜60°が好ましい。 In addition, the direction of blowing the gas may be any direction as long as it is in the range of 0 to 90 ° with respect to the film material layer surface, but in order to increase the uniformity of the formed holes. Is preferably 0 to 60 °.
前記気体としては、例えば、空気の他、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガスを用いることができるが、事前にフィルターを通過させるなどの除塵処置を施すことが好ましい。雰囲気中の塵は水蒸気の凝結核となって成膜に影響を及ぼすため、製造現場にも除塵設備等を設置することが好ましい。 As the gas, for example, in addition to air, an inert gas such as nitrogen gas or argon gas can be used, but it is preferable to perform dust removal treatment such as passing through a filter in advance. Since dust in the atmosphere acts as a condensation nucleus of water vapor and affects film formation, it is preferable to install a dust removal facility or the like at the manufacturing site.
前記成膜を行う環境は、市販の定露点湿度発生装置等を用いるなどして厳密に管理することが好ましい。風量は送風装置等で一定に制御し、外気による影響を防ぐために閉鎖された空間を用いることが好ましい。また、室内は気体が層流にて置換されるよう気体の導入出路及び成膜環境を設定しておくことが好ましい。更に、成膜品質を管理するために温度、湿度、流量等の計測器によるモニターを行うことが好ましい。孔径及び膜厚を高精度で制御するためには、これらのパラメータ(特に湿度、流量)を厳密に管理することが必須である。 The environment in which the film is formed is preferably strictly controlled by using a commercially available constant dew point humidity generator or the like. The air volume is preferably controlled with a blower or the like, and it is preferable to use a closed space in order to prevent the influence of outside air. In addition, it is preferable to set a gas introduction / extraction path and a film formation environment so that the gas is replaced by a laminar flow. Furthermore, it is preferable to monitor the temperature, humidity, flow rate and the like with a measuring instrument in order to control the film formation quality. In order to control the hole diameter and film thickness with high accuracy, it is essential to strictly manage these parameters (especially humidity and flow rate).
−延伸工程−
前記延伸工程は、前記ハニカム状多孔質フィルムを延伸し、楕円状乃至スリット状の空孔を形成する工程である。
前記延伸としては、一軸延伸、逐次二軸延伸、同時二軸延伸、及び三軸延伸のいずれかであることが好ましい。
また、前記延伸は、縦方向及び横方向のいずれの方向に実施してもよい。縦方向に延伸する場合は、一組以上のニップロールを用い、入口側の搬送速度より出口側の搬送速度を速くすることにより達成することができる。一方、横方向に延伸する場合は、両端をチャックで把持し、これを幅方向に広げる方法(テンター延伸)により達成することができる。延伸はこれらの方法を単独で行ってもよく、又はこれらの方法を組み合わせてもよい。
-Stretching process-
The stretching step is a step of stretching the honeycomb-shaped porous film to form elliptical or slit-like pores.
The stretching is preferably any one of uniaxial stretching, sequential biaxial stretching, simultaneous biaxial stretching, and triaxial stretching.
Moreover, you may implement the said extending | stretching in any direction of a vertical direction and a horizontal direction. The stretching in the machine direction can be achieved by using one or more sets of nip rolls and increasing the transport speed on the outlet side from the transport speed on the inlet side. On the other hand, when stretching in the lateral direction, it can be achieved by a method of gripping both ends with a chuck and expanding it in the width direction (tenter stretching). Stretching may be carried out by these methods alone, or a combination of these methods.
−金属層形成工程−
前記金属層形成工程は、前記ハニカム状多孔質フィルム表面に金属層を形成する工程である。前記金属層の形成方法は、メッキ法、印刷法、スパッタリング法、CVD法、真空蒸着法、電鋳法、などが挙げられ、これらの中でも、真空蒸着法、メッキ法、電鋳法が特に好ましい。
前記メッキ法としては、例えば、電解メッキ法、無電解メッキ法、などが挙げられる。
前記無電解メッキ法としては、酸化還元反応を利用した方法及び置換反応を利用した方法等を用いることができる。例えば、めっきされる金属のイオンが無電解めっき液中で自己触媒的な還元反応を示すことにより金、銀、銅、ニッケル及びパラジウム等をめっきする方法、及び銀鏡反応を利用した方法等を用いることができる。
前記電鋳とは、電気めっきによる金属製品の製造又は複製を意味する。
-Metal layer formation process-
The metal layer forming step is a step of forming a metal layer on the surface of the honeycomb-like porous film. Examples of the method for forming the metal layer include a plating method, a printing method, a sputtering method, a CVD method, a vacuum deposition method, and an electroforming method. Among these, a vacuum deposition method, a plating method, and an electroforming method are particularly preferable. .
Examples of the plating method include an electrolytic plating method and an electroless plating method.
As the electroless plating method, a method using an oxidation-reduction reaction, a method using a substitution reaction, or the like can be used. For example, a method of plating gold, silver, copper, nickel, palladium, or the like by the metal ions to be plated exhibiting an autocatalytic reduction reaction in an electroless plating solution, a method using a silver mirror reaction, or the like is used. be able to.
The electroforming means production or reproduction of a metal product by electroplating.
−貼合工程−
前記貼合工程は、前記第一の態様において、前記支持体上に作製されたハニカム状多孔質フィルムと、前記仮支持体上の前記剥離層とを貼り合わせる工程である。貼り合せる方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の方法から適宜選択することができる。
なお、該貼合工程によって、図4Cに示される構造の前記ハニカム複合膜が得られ、該張合工程後、前記支持体から剥離させて図4Bに示される構造の前記ハニカム複合膜を得ることもできる。
-Bonding process-
In the first aspect, the bonding step is a step of bonding the honeycomb-shaped porous film produced on the support and the release layer on the temporary support. There is no restriction | limiting in particular as a method to bond, According to the objective, it can select suitably from a well-known method.
The bonding step yields the honeycomb composite membrane having the structure shown in FIG. 4C, and after the pasting step, the honeycomb composite membrane having the structure shown in FIG. 4B is obtained by peeling from the support. You can also.
(ハニカム状多孔質フィルム製造設備、ハニカム複合膜製造設備)
図5〜10に、本発明のハニカム状多孔質フィルム、及びハニカム複合膜を製造するのに好適なフィルム製造設備の概略図を示す。
(Honeycomb porous film manufacturing equipment, honeycomb composite film manufacturing equipment)
5 to 10 show schematic views of a film production facility suitable for producing the honeycomb-shaped porous film and the honeycomb composite film of the present invention.
図5に示すフィルム製造装置20は、フィルム材料溶液21がタンク22に入れられている。タンク22には攪拌翼23が備えられ、攪拌翼23が回転することで、フィルム材料溶液21を均一に混合している。フィルム材料溶液21は、ポンプ24により流延ダイ25に送液される。流延ダイ25は、流延ベルト26上に備えられている。また、流延ベルト26は、回転ローラ27,28に掛け渡されている。回転ローラ27,28が図示しない駆動装置により回転することで、流延ベルト26は無端で走行する。また、回転ローラ27,28には温調機29が取り付けられている。回転ローラ27,28の温度を調整することで、流延ベルト26の温度調整を可能としている。また、流延ベルト26上に形成されたハニカム状多孔質フィルム40を剥ぎ取る際に、ハニカム状多孔質フィルム40を支持する剥取ローラ30、及びハニカム状多孔質フィルム40を巻き取る巻取機31も備えられている。 In the film manufacturing apparatus 20 shown in FIG. 5, a film material solution 21 is placed in a tank 22. The tank 22 is provided with a stirring blade 23, and the film material solution 21 is uniformly mixed by rotating the stirring blade 23. The film material solution 21 is sent to the casting die 25 by the pump 24. The casting die 25 is provided on the casting belt 26. Further, the casting belt 26 is stretched around rotating rollers 27 and 28. The rotation belts 27 and 28 are rotated by a driving device (not shown), so that the casting belt 26 travels endlessly. Further, a temperature controller 29 is attached to the rotary rollers 27 and 28. The temperature of the casting belt 26 can be adjusted by adjusting the temperature of the rotating rollers 27 and 28. Further, when the honeycomb-like porous film 40 formed on the casting belt 26 is peeled off, a peeling roller 30 that supports the honeycomb-like porous film 40 and a winder that winds the honeycomb-like porous film 40 31 is also provided.
前記ハニカム状多孔質フィルム作製工程は、図2A〜図2Dと合わせて説明する。
図2Aに示すように、流延ダイ25から流延ベルト(支持体)26上に、フィルム材料溶液21がキャスト(流延)され、フィルム材料層40が形成される。なお、フィルム材料層40の表面温度(以下、「膜面温度」と称することがある)をTL(℃)とする。本発明において、膜面温度TLは0℃以上であることが好ましい。膜面温度TLが0℃未満であると、フィルム材料層40中の液滴が凝固して所望の孔が形成されないおそれが生じる。
The honeycomb porous film production process will be described with reference to FIGS. 2A to 2D.
As shown in FIG. 2A, the film material solution 21 is cast (cast) on the casting belt (support) 26 from the casting die 25 to form the film material layer 40. The surface temperature of the film material layer 40 (hereinafter sometimes referred to as “film surface temperature”) is TL (° C.). In the present invention, the film surface temperature TL is preferably 0 ° C. or higher. If the film surface temperature TL is less than 0 ° C., the droplets in the film material layer 40 may solidify and a desired hole may not be formed.
図5に示すフィルム製造装置20において流延が行われる流延室内は、結露ゾーン32と乾燥ゾーン33とに区画されている。結露ゾーン32には送風機34が備えられている。送風機34から結露用に調整されている風35を流延ベルト26上のフィルム材料層40に送風する。送風機34は、図5に示されているように送風口34a,34c,34eと吸引口34b,34d,34fとからなる複数の送風ユニットから構成されていることが好ましい。これにより、フィルム材料層40の結露条件を調整することが容易となる。なお、図5では、3ユニットから構成されているものを示しているが、本発明においては図示されている形態に限定されるものではない。 In the film production apparatus 20 shown in FIG. 5, the casting chamber in which casting is performed is partitioned into a condensation zone 32 and a drying zone 33. The condensation zone 32 is provided with a blower 34. An air 35 adjusted for condensation is blown from the blower 34 to the film material layer 40 on the casting belt 26. As shown in FIG. 5, the blower 34 is preferably composed of a plurality of blower units composed of blower ports 34a, 34c, 34e and suction ports 34b, 34d, 34f. Thereby, it becomes easy to adjust the dew condensation conditions of the film material layer 40. Note that FIG. 5 shows a structure composed of three units, but the present invention is not limited to the illustrated form.
乾燥ゾーン33には、乾燥機36が設けられている。乾燥機36からフィルム材料層40に乾燥風37を送風する。乾燥機36も、図5に示されているように送風口36a,36c,36e,36gと吸引口36b,36d,36f,36hとからなる複数の送風ユニットから構成されていることが好ましい。これにより、フィルム材料層40の乾燥条件を調整することが容易となる。なお、図5では、4ユニットから構成されているものを示しているが、本発明においては図示されている形態に限定されるものではない。 A dryer 36 is provided in the drying zone 33. Drying air 37 is blown from the dryer 36 to the film material layer 40. As shown in FIG. 5, the dryer 36 is preferably composed of a plurality of air blowing units each consisting of air blowing ports 36a, 36c, 36e, 36g and suction ports 36b, 36d, 36f, 36h. Thereby, it becomes easy to adjust the drying conditions of the film material layer 40. Note that FIG. 5 illustrates a configuration including four units, but the present invention is not limited to the illustrated form.
温調機29を用いて回転ローラ27,28を介して流延ベルト26の温度調整を行うことがより好ましい。温度調整の方法としては、回転ローラ27,28の内部に液流路を設け、その液流路に伝熱媒体を送液することで調整する方法などが挙げられる。温度の調整は、下限値を流延ベルト26の温度を0℃以上とすることが好ましい。また、上限値はフィルム材料溶液21の溶媒沸点以下とすることが好ましく、より好ましくは(溶媒沸点−3℃)とすることである。これにより、結露した水分が凝固することも無く、またフィルム材料溶液21の溶媒が急激に蒸発することが抑制されるため、形状に優れるハニカム構造フィルム12を得ることができる。更に、温度調整は、フィルム材料層40の幅方向にわたって、温度分布を±3℃以内とすることにより、膜面温度の分布も±3℃以内となる。フィルム材料層40の幅方向の温度分布を減少させることにより、ハニカム構造フィルム12の孔の形成に異方性が生じることが抑制されるので、商品価値が向上する。 It is more preferable to adjust the temperature of the casting belt 26 through the rotary rollers 27 and 28 using the temperature controller 29. Examples of the method for adjusting the temperature include a method in which a liquid flow path is provided inside the rotary rollers 27 and 28 and the heat transfer medium is fed into the liquid flow path for adjustment. In adjusting the temperature, it is preferable that the lower limit value is 0 ° C. or higher. Moreover, it is preferable to make it an upper limit into the solvent boiling point or less of the film material solution 21, More preferably, it is set as (solvent boiling point-3 degreeC). Accordingly, the condensed moisture does not solidify, and the solvent of the film material solution 21 is suppressed from being rapidly evaporated, so that the honeycomb structure film 12 having an excellent shape can be obtained. Furthermore, in the temperature adjustment, the temperature distribution is within ± 3 ° C. across the width direction of the film material layer 40, so that the film surface temperature distribution is also within ± 3 ° C. By reducing the temperature distribution in the width direction of the film material layer 40, it is possible to suppress the formation of anisotropy in the formation of pores in the honeycomb structure film 12, so that the commercial value is improved.
また、流延ベルト26の搬送方向を水平方向に対して±10°以内とすることが好ましい。搬送方向を調整することにより液滴44の形態を調整することができる。液滴44の形態を調整することにより、空孔の形態を調整することが可能となる。 Further, it is preferable that the conveying direction of the casting belt 26 is within ± 10 ° with respect to the horizontal direction. The form of the droplet 44 can be adjusted by adjusting the transport direction. By adjusting the form of the droplet 44, the form of the holes can be adjusted.
送風機34から風35が送風されている。風35の露点TD1(℃)は、結露ゾーン32を通過するフィルム材料層40の表面温度TL(℃)に対して0℃≦(TD1−TL)℃が好ましく、0℃≦(TD1−TL)℃≦80℃がより好ましく、5℃以上60℃以下が更に好ましく、10℃以上40℃以下が特に好ましい。前記(TD1−TL)℃が0℃未満であると、結露が生じ難くなることがあり、80℃を超えると、結露と乾燥とが急峻となり、孔寸法制御やその均一化することが困難となることがある。また、風35の温度は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、5℃以上100℃以下が好ましい。前記風の温度が5℃未満であると、液特に水の蒸発が生じ難く、形状が良好なハニカム構造フィルム12を得ることができないおそれがある。また、100℃を超えると、フィルム材料層40内に液滴44が生じる前に、水蒸気として揮発してしまうおそれがある。 Wind 35 is blown from the blower 34. The dew point TD1 (° C.) of the wind 35 is preferably 0 ° C. ≦ (TD1-TL) ° C. with respect to the surface temperature TL (° C.) of the film material layer 40 passing through the condensation zone 32, and 0 ° C. ≦ (TD1-TL) More preferably, the temperature is more preferably from 5 ° C. to 60 ° C., particularly preferably from 10 ° C. to 40 ° C. When the (TD1-TL) ° C. is less than 0 ° C., condensation may be difficult to occur, and when it exceeds 80 ° C., condensation and drying become steep, and it is difficult to control the pore size and make it uniform. May be. Further, the temperature of the wind 35 is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose, and is preferably 5 ° C. or higher and 100 ° C. or lower. When the temperature of the wind is less than 5 ° C., the liquid, particularly water, hardly evaporates and the honeycomb structure film 12 having a good shape may not be obtained. Moreover, when it exceeds 100 degreeC, before the droplet 44 arises in the film material layer 40, there exists a possibility of volatilizing as water vapor | steam.
図2Aに示すように結露ゾーン32で風35中の水分(モデル的に図示している)43は、フィルム材料層40上で結露して液滴44となる。そして、図2Bに示すように液滴44を核として水分43が結露して液滴44を成長させる。図2Cに示すように乾燥ゾーン33で乾燥風37がフィルム材料層40に送風されると、有機溶媒42がフィルム材料層40より揮発する。なお、この際にも液滴44からも水分が揮発するが、有機溶媒42の揮発速度の方が速い。そのため、液滴44は、有機溶媒42の揮発に伴い表面張力により略均一の形態となる。更に、乾燥が進行すると図2Dに示すようにフィルム材料層40の液滴44から水分が水蒸気48として揮発する。フィルム材料層40から液滴44が蒸発すると、液滴44を形成していた箇所が孔47となり、図3A又は図3Bに示すようなハニカム状多孔質フィルム12が得られる。
本発明においてハニカム状多孔質フィルム12の形態は特に限定されるものではないが、具体的には、図3Cに示す隣接する孔47の距離L2は、それらの中心間距離で0.05μm以上100μm以下に制御することができる。
As shown in FIG. 2A, moisture (modeled) 43 in the wind 35 in the condensation zone 32 is condensed on the film material layer 40 into droplets 44. Then, as shown in FIG. 2B, the moisture 43 is condensed using the droplet 44 as a nucleus to grow the droplet 44. As shown in FIG. 2C, when the drying air 37 is blown to the film material layer 40 in the drying zone 33, the organic solvent 42 is volatilized from the film material layer 40. At this time, water is volatilized also from the droplets 44, but the volatilization rate of the organic solvent 42 is faster. Therefore, the droplets 44 have a substantially uniform shape due to surface tension as the organic solvent 42 volatilizes. Further, as the drying proceeds, moisture evaporates as water vapor 48 from the droplets 44 of the film material layer 40 as shown in FIG. 2D. When the droplets 44 evaporate from the film material layer 40, the portions where the droplets 44 were formed become holes 47, and the honeycomb-shaped porous film 12 as shown in FIG. 3A or FIG. 3B is obtained.
In the present invention, the form of the honeycomb-shaped porous film 12 is not particularly limited. Specifically, the distance L2 between the adjacent holes 47 shown in FIG. 3C is 0.05 μm or more and 100 μm at the center-to-center distance. The following can be controlled.
風35の送風向きは、フィルム材料層40の移動方向と平行流(並流)とする。風を向流として送風すると、フィルム材料層40の膜面に乱れが生じて、液滴の成長が阻害されるおそれがある。また、風35の送風速度は、フィルム材料層40の移動速度との相対速度が0.1m/s以上20m/s以下が好ましく、0.5m/s以上15m/s以下がより好ましく、2m/s以上10m/s以下が更に好ましい。前記送風速度が0.1m/s未満であると、液滴44がフィルム材料層40中で充分に成長しないままフィルム材料層40が乾燥ゾーン33に搬送されるおそれがある。また、20m/sを超えると、フィルム材料層40表面に乱れが生じたり、結露が充分に進行しなかったりするおそれがある。 The blowing direction of the wind 35 is parallel to the moving direction of the film material layer 40 (cocurrent flow). When the wind is blown as a countercurrent, the film surface of the film material layer 40 may be disturbed, and the growth of droplets may be hindered. Moreover, as for the blowing speed of the wind 35, the relative speed with the moving speed of the film material layer 40 is preferably 0.1 m / s or more and 20 m / s or less, more preferably 0.5 m / s or more and 15 m / s or less, and 2 m / s. More preferably, it is s or more and 10 m / s or less. If the blowing speed is less than 0.1 m / s, the film material layer 40 may be conveyed to the drying zone 33 without the droplets 44 growing sufficiently in the film material layer 40. Moreover, when it exceeds 20 m / s, there exists a possibility that disorder may arise in the film material layer 40 surface, or condensation may not fully advance.
フィルム材料層40が結露ゾーン32を通過する時間は0.1秒以上100秒以下とすることが好ましい。前記通過時間が0.1秒未満であると、液滴44が充分成長しないまま形成されるため所望の孔を形成することが困難となることがあり、100秒を超えると、液滴44のサイズが大きくなり過ぎハニカム状の空孔を有するフィルムが得られないおそれが生じる。 The time for the film material layer 40 to pass through the condensation zone 32 is preferably 0.1 seconds or more and 100 seconds or less. If the passage time is less than 0.1 seconds, it may be difficult to form a desired hole because the droplets 44 are formed without being sufficiently grown. There is a possibility that a film having honeycomb-like pores cannot be obtained because the size becomes too large.
乾燥ゾーン33でフィルム材料層40を乾燥する乾燥風37の送風速度は、0.1m/s以上20m/s以上が好ましく、0.5m/s以上15m/s以下がより好ましく、2m/s以上10m/s以下が更に好ましい。前記送風速度が0.1m/s未満であると、液滴44からの水分の蒸発が充分に進行しないおそれがあり、生産性にも劣ることがあり、20m/sを超えると、液滴44から水分の蒸発が急激に生じて、形成される孔37の形態が乱れるおそれがある。 The blowing speed of the drying air 37 for drying the film material layer 40 in the drying zone 33 is preferably 0.1 m / s or more and 20 m / s or more, more preferably 0.5 m / s or more and 15 m / s or less, and 2 m / s or more. 10 m / s or less is still more preferable. If the blowing speed is less than 0.1 m / s, the evaporation of moisture from the droplets 44 may not proceed sufficiently, and the productivity may be inferior. If it exceeds 20 m / s, the droplets 44 are inferior. As a result, the evaporation of moisture suddenly occurs and the shape of the formed hole 37 may be disturbed.
乾燥風37の露点をTD2(℃)とする場合に、膜面温度TL(℃)との関係を(TL−TD2)℃≧1℃とすることが好ましい。これにより、乾燥ゾーン33でフィルム材料層40の液滴44の成長を停止させて、液滴を構成する水分を水蒸気48として揮発させることが可能となる。 When the dew point of the drying air 37 is TD2 (° C.), the relationship with the film surface temperature TL (° C.) is preferably (TL−TD2) ° C. ≧ 1 ° C. As a result, the growth of the droplet 44 of the film material layer 40 is stopped in the drying zone 33, and the water constituting the droplet can be volatilized as the water vapor 48.
送風機34,37からの風の送風は、2Dノズルで送風する方法以外に、減圧乾燥法により乾燥することも可能である。減圧乾燥を行うことで、有機溶媒42と液滴44の水分43との蒸発速度を調整することが可能となる。これを調整することで、フィルム材料層40中に液滴44を形成し、有機溶媒42を蒸発させつつ液滴44を蒸発させ、前記液滴が設けられている位置に孔47を形成する本発明における孔の大きさ、形状などを変更することができる。 The air blowing from the blowers 34 and 37 can be dried by a reduced pressure drying method in addition to the method of blowing air with a 2D nozzle. By performing drying under reduced pressure, it is possible to adjust the evaporation rate of the organic solvent 42 and the moisture 43 of the droplets 44. By adjusting this, a droplet 44 is formed in the film material layer 40, the droplet 44 is evaporated while the organic solvent 42 is evaporated, and a hole 47 is formed at a position where the droplet is provided. The size and shape of the holes in the invention can be changed.
また、減圧乾燥法により乾燥する方法や、膜面から3〜20mm程度離れた位置に、膜面より冷却され表面に溝を有する凝縮器を設けて、凝縮器の表面で水蒸気(揮発有機溶媒も含む)を凝縮させて乾燥させる方法も適用することができる。前記いずれかの乾燥方法を適用することで、フィルム材料層40の膜面への動的な影響を少なくして乾燥させることができるため、より平滑な膜面を得ることができる。 Also, a method of drying by a reduced pressure drying method, or a condenser cooled from the membrane surface and having a groove on the surface at a position about 3 to 20 mm away from the membrane surface, water vapor (volatile organic solvent is also on the surface of the condenser) In addition, a method of condensing and drying can also be applied. By applying any one of the drying methods, the film material layer 40 can be dried with less dynamic influence on the film surface, so that a smoother film surface can be obtained.
また、送風機34、乾燥機36の送風ユニットを複数用いたり、複数のゾーンに区画したりすることにより、異なる露点条件を設定したり、異なる乾燥温度条件を設定したりすることができる。これら条件を選択することで、空孔47の寸法制御性の向上や孔均一性の向上を図ることができる。なお、送風ユニットやゾーンの数は特に限定されるものではないが、フィルムの品質と設備のコストの点から最適な組み合わせを決定する。 Further, by using a plurality of blower units of the blower 34 and the dryer 36 or by dividing the blower unit into a plurality of zones, different dew point conditions can be set or different drying temperature conditions can be set. By selecting these conditions, it is possible to improve the dimensional controllability of the holes 47 and the hole uniformity. The number of blower units and zones is not particularly limited, but an optimal combination is determined in terms of film quality and equipment cost.
膜面温度TL(℃)と結露ゾーン又は乾燥ゾーンの露点温度TDn(℃)(nは、nゾーン番号を意味する)との関係を0℃≦|TDn−TL|℃≦80℃とすることが好ましい。差を80℃以下とすることにより、有機溶媒及び水分の少なくともいずれかの急激な揮発を抑制でき、所望の形態のハニカム状多孔質フィルム12を得ることができる。また、フィルム材料層40に不純物が混入すると、ハニカム構造の形成を阻害する原因となる。そのため、送風口34a,34c,34e,36a,36c,36e,36gの塵埃度がクラス1000以下とすることが好ましい。そこで、送風機34,乾燥機36が設置されているハウジング38に空調設備39を取り付け、ハウジング38内の空調を行うことが好ましい。これにより、フィルム材料層40中に不純物が混入するおそれが減少し、良好なハニカム状多孔質フィルム12を得ることができる。 The relationship between the film surface temperature TL (° C.) and the dew point temperature TDn (° C.) of the condensation zone or drying zone (n means the n zone number) shall be 0 ° C. ≦ | TDn−TL | ° C. ≦ 80 ° C. Is preferred. By setting the difference to 80 ° C. or less, rapid volatilization of at least one of the organic solvent and moisture can be suppressed, and the honeycomb-shaped porous film 12 having a desired form can be obtained. In addition, when impurities are mixed in the film material layer 40, the formation of the honeycomb structure is hindered. Therefore, it is preferable that the dust levels of the air outlets 34a, 34c, 34e, 36a, 36c, 36e, and 36g be class 1000 or less. Therefore, it is preferable to attach an air conditioner 39 to the housing 38 in which the blower 34 and the dryer 36 are installed, thereby performing air conditioning in the housing 38. Thereby, the possibility that impurities are mixed into the film material layer 40 is reduced, and a good honeycomb porous film 12 can be obtained.
乾燥が進行したハニカム状多孔質フィルム12は、剥取ローラ30で支持しながら流延ベルト26から剥ぎ取られ、巻取機32により巻き取られる。なお、ハニカム状多孔質フィルム12の搬送速度は、特に限定されるものではないが、0.1m/min以上60m/min以下が好ましい。前記搬送速度が0.1m/min未満であると、生産性に劣りコストの点から好ましくない。一方、60m/minを超えると、ハニカム状多孔質フィルムを搬送する際に、過大な張力が付与され裂け、ハニカム構造乱れなどの欠陥の発生原因となる。以上の方法によりハニカム状多孔質フィルム12を連続して製造することができる。
得られたハニカム状多孔質フィルムは、延伸工程により延伸が施され、楕円状乃至スリット状の空孔が形成される。
また、必要に応じて、フィルム表面に金属層を形成することもできる。
The dried honeycomb-like porous film 12 is peeled off from the casting belt 26 while being supported by the peeling roller 30, and taken up by the winder 32. In addition, the conveyance speed of the honeycomb-like porous film 12 is not particularly limited, but is preferably 0.1 m / min or more and 60 m / min or less. If the conveyance speed is less than 0.1 m / min, the productivity is inferior and the cost is not preferable. On the other hand, if it exceeds 60 m / min, excessive tension is applied to the honeycomb-shaped porous film when it is transported, causing defects such as a honeycomb structure disorder. The honeycomb porous film 12 can be continuously manufactured by the above method.
The obtained honeycomb-like porous film is stretched by a stretching process to form elliptical or slit-like pores.
Moreover, a metal layer can also be formed on the film surface as needed.
図6に本発明に係るハニカム状多孔質フィルムの製造に好適なフィルム製造設備60を示す。送出機61から支持体であるフィルム62が搬送される。フィルム62はバックアップローラ63に巻き掛けられながら搬送される。バックアップローラ63に対向してスライドコータ64が設けられている。また、スライドコータ64には減圧チャンバ65が設けられている。フィルム材料溶液供給装置66から送液ポンプで送られてくるフィルム材料溶液67が、スライドコータ64から押し出されて、フィルム62上に塗布され、フィルム材料層68が形成される。 FIG. 6 shows a film manufacturing facility 60 suitable for manufacturing a honeycomb-shaped porous film according to the present invention. A film 62 as a support is conveyed from the delivery device 61. The film 62 is conveyed while being wound around the backup roller 63. A slide coater 64 is provided facing the backup roller 63. The slide coater 64 is provided with a decompression chamber 65. The film material solution 67 sent from the film material solution supply device 66 by the liquid feed pump is pushed out from the slide coater 64 and applied onto the film 62 to form a film material layer 68.
スライドコータ64は、フィルム62の搬送方向の均一塗布性に優れており、かつ高速でフィルム材料層68の形成が可能であることから生産性においても高い塗布機であるといえる。また、フィルム62の表面に凹凸がある場合でも、フィルム62がバックアップローラ63に巻き掛けられている際に平滑化されるので、均一な塗布性に優れている。更に、フィルム62に非接触で塗布を行うので、フィルム62の表面を傷つけることなく、均一塗布が可能である。 The slide coater 64 is excellent in uniform coating property in the transport direction of the film 62 and can form the film material layer 68 at a high speed. Even when the surface of the film 62 is uneven, the film 62 is smoothed when it is wound around the backup roller 63, so that it has excellent uniform coating properties. Furthermore, since the coating is performed in a non-contact manner on the film 62, uniform coating is possible without damaging the surface of the film 62.
フィルム62上に形成されているフィルム材料層68は、送風機69の風70により、図2A〜図2Dに示す結露乾燥工程が行われる。結露乾燥工程を経た後、得られたハニカム状多孔質フィルム71は巻取ロール72に巻き取られる。また、フィルム62も巻取ロール73に巻き取られる。フィルム材料層68が形成されているフィルム62の搬送方向は、水平方向に対して±10°以内とすることが好ましい。また、フィルム62にフィルム材料溶液66の有機溶媒を吸収しやすい性質の素材から形成されているものを用いることがより好ましい。それら素材は、有機溶媒を吸収するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、フィルム材料溶液67の主溶媒に酢酸メチルを用いている際には、フィルム62の素材にセルロースアシレートを用いることが好ましい。
なお、支持体としてのフィルム62を、支持体、仮支持体、及び剥離層を形成した仮支持体のいずれかとして、ハニカム状多孔質フィルム71と一体のフィルムとして巻き取ることにより、本発明のハニカム複合膜を製造することもできる。
The film material layer 68 formed on the film 62 is subjected to the condensation drying process shown in FIGS. 2A to 2D by the wind 70 of the blower 69. After passing through the condensation drying step, the obtained honeycomb porous film 71 is wound around a winding roll 72. Further, the film 62 is also taken up by the take-up roll 73. The transport direction of the film 62 on which the film material layer 68 is formed is preferably within ± 10 ° with respect to the horizontal direction. It is more preferable to use a film 62 made of a material that easily absorbs the organic solvent of the film material solution 66. These materials are not particularly limited as long as they absorb an organic solvent, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, when methyl acetate is used as the main solvent of the film material solution 67, it is preferable to use cellulose acylate as the material of the film 62.
In addition, by winding the film 62 as the support as one of the support, the temporary support, and the temporary support on which the release layer is formed, as a film integral with the honeycomb porous film 71, A honeycomb composite film can also be manufactured.
図7に、本発明に係るハニカム状多孔質フィルムの製造方法に用いられる他の実施形態のフィルム製造設備80を示す。なお、図6に示すフィルム製造設備60と同じ箇所の説明は省略する。送出機81から支持体となるフィルム82が搬送される。フィルム82はバックアップローラ83に巻き掛けられながら搬送される。バックアップローラ83に対向して多層式スライドコータ84が設けられている。また、多層式スライドコータ84には減圧チャンバ85が設けられている。フィルム材料溶液供給装置86から送液ポンプで送られてくるフィルム材料溶液87が、多層式スライドコータ84から押し出されて、支持体であるフィルム82上に塗布され、フィルム材料層88が形成される。フィルム82上に形成されているフィルム材料層88は、送風機89の風90により結露乾燥工程11が行われる。結露乾燥工程11を経た後にハニカム状多孔質フィルム91は巻取ロール92に巻き取られる。また、フィルム82も巻取ロール93に巻き取られる。 FIG. 7 shows a film manufacturing facility 80 according to another embodiment used in the method for manufacturing a honeycomb-shaped porous film according to the present invention. In addition, description of the same location as the film manufacturing equipment 60 shown in FIG. A film 82 serving as a support is conveyed from the delivery machine 81. The film 82 is conveyed while being wound around the backup roller 83. A multi-layer slide coater 84 is provided opposite to the backup roller 83. The multilayer slide coater 84 is provided with a decompression chamber 85. A film material solution 87 sent from a film material solution supply device 86 by a liquid feed pump is pushed out from a multilayer slide coater 84 and applied onto a film 82 as a support to form a film material layer 88. . The film material layer 88 formed on the film 82 is subjected to the condensation drying process 11 by the wind 90 of the blower 89. After passing through the condensation drying step 11, the honeycomb-shaped porous film 91 is wound around a winding roll 92. Further, the film 82 is also taken up by the take-up roll 93.
多層からなるフィルム材料溶液87をフィルム82上にキャスト(塗布)することにより、ハニカム状多孔質フィルム91の厚み方向における形態、物性などを変更することが可能となる。
なお、支持体としてのフィルム82を、支持体、仮支持体、及び剥離層を形成した仮支持体のいずれかとして、ハニカム状多孔質フィルム91と一体のフィルムとして巻き取ることにより、本発明のハニカム複合膜を製造することもできる。
By casting (coating) the multilayer film material solution 87 on the film 82, it is possible to change the form, physical properties, and the like in the thickness direction of the honeycomb-shaped porous film 91.
In addition, by winding the film 82 as a support as a film integral with the honeycomb-shaped porous film 91 as any one of the support, the temporary support, and the temporary support with the release layer formed, A honeycomb composite film can also be manufactured.
図8に、本発明に係るフィルムの製造方法に用いられる他の実施形態のフィルム製造設備100を示す。なお、図6に示すフィルム製造設備60と同じ箇所の説明は省略する。送出機101から支持体となるフィルム102が搬送される。フィルム102はバックアップローラ103に巻き掛けられながら搬送される。バックアップローラ103に対向してエクストリュージョンコータ104が設けられている。また、エクストリュージョンコータ104には減圧チャンバ105が設けられている。フィルム材料溶液供給装置106から送液ポンプで送られてくるフィルム材料溶液107が、エクストリュージョンコータ104から押し出されて、支持体であるフィルム102上に塗布され、フィルム材料層108が形成される。フィルム102上に形成されているフィルム材料層108は、送風機109の風110により結露乾燥工程が行われる。結露乾燥工程を経た後にハニカム状多孔質フィルム111は巻取ロール112に巻き取られる。また、フィルム102も巻取ロール113に巻き取られる。 In FIG. 8, the film manufacturing equipment 100 of other embodiment used for the manufacturing method of the film which concerns on this invention is shown. In addition, description of the same location as the film manufacturing equipment 60 shown in FIG. 6 is abbreviate | omitted. A film 102 serving as a support is conveyed from the delivery machine 101. The film 102 is conveyed while being wound around the backup roller 103. An extrusion coater 104 is provided facing the backup roller 103. The extrusion coater 104 is provided with a decompression chamber 105. A film material solution 107 sent from the film material solution supply device 106 by a liquid feed pump is pushed out from the extrusion coater 104 and applied onto the film 102 as a support to form a film material layer 108. . The film material layer 108 formed on the film 102 is subjected to a condensation drying process by the wind 110 of the blower 109. After passing through the condensation drying step, the honeycomb-shaped porous film 111 is wound on the winding roll 112. Further, the film 102 is also taken up by the take-up roll 113.
図9に、本発明に係るハニカム状多孔質フィルムを製造するフィルム製造設備120を示して説明する。ワイヤーバー塗布機121を用いてフィルム材料溶液122をフィルム123に塗布する。一定速度で移動するフィルム123の移動方向に回転するワイヤーバー124は、その回転により1次側フィルム材料溶液槽125から液貯留部分126にフィルム材料溶液122を引き上げる。この液貯留部分126のフィルム材料溶液122が、フィルム123にワイヤーバー124を介し接触することにより均一な厚さのフィルム材料層127が形成される。このフィルム材料層127を送風機128の風129により前記結露乾燥工程を行うことで、ハニカム状多孔質フィルム130を得ることができる。ワイヤーバー124を用いたハニカム状多孔質フィルム130の製造方法は、液貯留部分126がフィルム材料溶液122とフィルム123との接触部に空気が混入しないようにするので、フィルム材料層127に気泡が混入しにくくなるという利点がある。 FIG. 9 shows and describes a film manufacturing facility 120 for manufacturing a honeycomb-shaped porous film according to the present invention. The film material solution 122 is applied to the film 123 using a wire bar applicator 121. The wire bar 124 that rotates in the moving direction of the film 123 that moves at a constant speed pulls the film material solution 122 from the primary-side film material solution tank 125 to the liquid storage portion 126 by the rotation. The film material solution 122 in the liquid storage portion 126 comes into contact with the film 123 via the wire bar 124, thereby forming a film material layer 127 having a uniform thickness. The film-like material layer 127 is subjected to the condensation drying step by the wind 129 of the blower 128, whereby the honeycomb-like porous film 130 can be obtained. In the manufacturing method of the honeycomb-shaped porous film 130 using the wire bar 124, the liquid storage portion 126 prevents air from entering the contact portion between the film material solution 122 and the film 123, so that bubbles are generated in the film material layer 127. There is an advantage that mixing is difficult.
なお、支持体としてのフィルム102を、支持体、仮支持体、及び剥離層を形成した仮支持体のいずれかとして、ハニカム状多孔質フィルム130と一体のフィルムとして巻き取ることにより、本発明のハニカム複合膜を製造することもできる。 In addition, by winding the film 102 as a support as one of the support, the temporary support, and the temporary support formed with a release layer as a film integral with the honeycomb-shaped porous film 130, A honeycomb composite film can also be manufactured.
図10に、本発明に係るハニカム複合膜を製造する製造設備140を示す。支持体、仮支持体、及び剥離層を形成した仮支持体のいずれかとしてのフィルム141が圧胴142に巻き掛けられながら搬送される。圧胴142に対向して版胴143が配置されている。版胴143の表面には所望のパターンが形成されている。フィルム材料溶液槽144に入れられているフィルム材料溶液145は版胴143が回転することにより、その凹部に溜まる。ドクターブレード146により過剰なフィルム材料溶液145がかきとられる。その後に圧胴142に巻きかかって走行しているフィルム141上にフィルム材料溶液145が塗布されてフィルム材料層147が形成される。 FIG. 10 shows a manufacturing facility 140 for manufacturing a honeycomb composite film according to the present invention. A film 141 as one of the support, the temporary support, and the temporary support on which the release layer is formed is conveyed while being wound around the impression cylinder 142. A plate cylinder 143 is disposed opposite the impression cylinder 142. A desired pattern is formed on the surface of the plate cylinder 143. The film material solution 145 stored in the film material solution tank 144 is accumulated in the recess as the plate cylinder 143 rotates. Excess film material solution 145 is scraped off by doctor blade 146. Thereafter, the film material solution 145 is applied on the film 141 that is wound around the impression cylinder 142 and the film material layer 147 is formed.
送風機148によりフィルム材料層147の前記結露乾燥工程が行われる。送風機148から送風される風149は、フィルム141の搬送方向と同方向の平行流とする。フィルム材料層147は、前記結露乾燥工程を経ることによりハニカム状多孔質フィルム150が形成される。フィルム141は、所望のパターンでハニカム状多孔質フィルム150が形成されているハニカム複合膜151となる。 The condensation drying process of the film material layer 147 is performed by the blower 148. The wind 149 blown from the blower 148 is a parallel flow in the same direction as the transport direction of the film 141. As for the film material layer 147, the honeycomb-like porous film 150 is formed through the condensation drying process. The film 141 becomes the honeycomb composite film 151 in which the honeycomb porous film 150 is formed in a desired pattern.
本発明のハニカム複合膜の製造方法に従って得られた本発明のハニカム複合膜は、初めから所望の仮支持体に設けられた剥離層上に製造することでそのまま使用してもよいし、エタノール等の適当な溶媒に浸してから製造時の支持体より剥離した後に所望の基体上に設置して使用してもよい。なお、剥離して使用する場合には、新たな基体との密着性を上げる目的で材料及び所望の基体の材質に合ったエポキシ樹脂、シランカップリング剤等の接着剤を使用してもよい。 The honeycomb composite film of the present invention obtained according to the method for manufacturing a honeycomb composite film of the present invention may be used as it is by manufacturing it on the release layer provided on the desired temporary support from the beginning, or ethanol or the like. After immersing in an appropriate solvent, the substrate may be peeled off from the support at the time of production and then used on a desired substrate. In the case of use after peeling, an adhesive such as an epoxy resin or a silane coupling agent suitable for the material and the material of the desired substrate may be used for the purpose of improving the adhesion to a new substrate.
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものではない。 Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to the following examples.
(実施例1)
−剥離層付き仮支持体の作製−
前記仮支持体として、厚み200μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、前記剥離層形成用溶液としてシリコーン系樹脂A(東レシリコーン株式会社製、SRX−211)100質量部と、シリコーン系樹脂B(東レシリコーン株式会社製、SRX−212)0.6質量部との混合樹脂の3質量%トルエン液を、乾燥後の厚みが1μmとなるようにワイヤーコーターにて塗布し、120℃にて2分間乾燥させることにより、剥離層付き仮支持体を作製した。
Example 1
-Production of temporary support with release layer-
As the temporary support, on one side of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 200 μm, 100 parts by mass of silicone resin A (SRX-211, manufactured by Toray Silicone Co., Ltd.) and silicone resin B (Toray Silicone) are used as the release layer forming solution. Co., Ltd., SRX-212) A 3% by weight toluene solution of a mixed resin with 0.6 parts by mass is applied with a wire coater so that the thickness after drying is 1 μm, and dried at 120 ° C. for 2 minutes. Thereby, the temporary support body with a peeling layer was produced.
−ハニカム状多孔質フィルムの作製−
フィルム材料溶液として、重量平均分子量45,000のポリスチレンと、下記式(PW−6)で表されるリン酸エステル系界面活性剤を質量比で10:1の割合で混合した塩化メチレン溶液(ポリマー濃度として0.4質量%)0.5mLを調製した。
−Preparation of honeycomb-shaped porous film−
As a film material solution, a methylene chloride solution (polymer) in which polystyrene having a weight average molecular weight of 45,000 and a phosphate ester-based surfactant represented by the following formula (PW-6) are mixed at a mass ratio of 10: 1. 0.5 mL) was prepared as a concentration of 0.4% by mass.
次いで、外気の影響を受けない閉鎖空間にて、2℃に保温したHDD用ガラス基板上に前記フィルム材料溶液を全量展開してフィルム材料層を形成し、相対湿度70%の恒湿空気を毎分2Lの定常流量で前記フィルム材料層表面(基板面)に対して45°の方向から吹き付け、塩化メチレンを揮発させ、さらに結露を蒸発させることによって、空孔が均一に形成されたハニカム状多孔質フィルムを得た。
なお、前記恒湿空気は、市販の除塵エアーフィルタ(ろ過度:0.3μm)を設置した日立工機株式会社製のコンプレッサSC−820に、ヤマト科学株式会社製の湿度発生装置を接続して供給した。また、吹き付け部の空気の流速を実測したところ、0.3m/sであった。
Next, in a closed space that is not affected by outside air, the film material solution is fully developed on a glass substrate for HDD kept at 2 ° C. to form a film material layer, and constant humidity air with a relative humidity of 70% is applied every time. A honeycomb-like porous structure in which pores are uniformly formed by spraying from the direction of 45 ° with respect to the film material layer surface (substrate surface) at a steady flow rate of 2 liters, volatilizing methylene chloride, and evaporating condensation. A quality film was obtained.
The constant humidity air is obtained by connecting a humidity generator manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd. to a compressor SC-820 manufactured by Hitachi Koki Co., Ltd., which has a commercially available dust removal air filter (filtration degree: 0.3 μm). Supplied. Moreover, it was 0.3 m / s when the flow velocity of the air of a spraying part was measured.
−ハニカム複合膜の作製−
前記ハニカム状多孔質フィルム表面に、前記剥離層付き仮支持体の剥離層側表面を貼り合わせ、前記HDD用ガラス基板上から前記ハニカム状多孔質フィルムを剥ぎ取り、図4Bに示すようなハニカム複合膜HC−1を得た。
得られた前記ハニカム複合膜HC−1におけるハニカム状多孔質フィルムについて、以下の方法により、空孔の平均孔径を測定した。結果を表1に示す。
-Fabrication of honeycomb composite film-
The release layer side surface of the temporary support with release layer is bonded to the honeycomb porous film surface, the honeycomb porous film is peeled off from the HDD glass substrate, and the honeycomb composite as shown in FIG. 4B is obtained. Membrane HC-1 was obtained.
With respect to the honeycomb porous film in the obtained honeycomb composite membrane HC-1, the average pore diameter was measured by the following method. The results are shown in Table 1.
<空孔の平均孔径、粒径分布>
前記ハニカム複合膜の中央部の任意の5箇所について、光学顕微鏡を用いて1250倍で空孔を観察し、空孔の平均孔径を求めた。
<Average pore size and particle size distribution>
The pores were observed at 1250 times using an optical microscope at any five locations in the center of the honeycomb composite film, and the average pore diameter of the pores was determined.
(実施例2)
実施例1において、前記式(PW−6)で表されるリン酸エステル系界面活性剤に代えて、下記式(PW−29)で表されるリン酸エステル系界面活性剤を用いて前記フィルム材料溶液を調製した以外は、実施例1と同様にしてハニカム状多孔質フィルム及びハニカム複合膜HC−2を作製した。
得られた前記ハニカム複合膜HC−2におけるハニカム状多孔質フィルムについて、実施例1と同様にして空孔の平均孔径を評価した。結果を表1に示す。
(Example 2)
In Example 1, in place of the phosphate ester-based surfactant represented by the formula (PW-6), the phosphate ester-based surfactant represented by the following formula (PW-29) was used to form the film. A honeycomb-shaped porous film and a honeycomb composite film HC-2 were produced in the same manner as in Example 1 except that the material solution was prepared.
About the honeycomb-like porous film in the obtained honeycomb composite film HC-2, the average pore diameter of the pores was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.
(比較例1)
実施例1において、前記式(PW−6)で表されるリン酸エステル系界面活性剤に代えて、下記構造式で表される重量平均分子量50,000の両親媒性ポリマーを用いて前記フィルム材料溶液を調製した以外は、実施例1と同様にしてハニカム状多孔質フィルム及びハニカム複合膜HC−3を作製した。
得られた前記ハニカム複合膜HC−3におけるハニカム状多孔質フィルムについて、実施例1と同様にして空孔の平均孔径を評価した。結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
In Example 1, in place of the phosphate ester surfactant represented by the formula (PW-6), an amphiphilic polymer having a weight average molecular weight of 50,000 represented by the following structural formula was used to form the film. A honeycomb-shaped porous film and a honeycomb composite film HC-3 were produced in the same manner as in Example 1 except that the material solution was prepared.
About the honeycomb-like porous film in the obtained honeycomb composite film HC-3, the average pore diameter of the pores was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.
表1の結果から、リン酸エステル系界面活性剤を含む本発明のハニカム状多孔質フィルムは、従来の両親媒性ポリマーを含むハニカム状多孔質フィルムに比べ、空孔の孔径が小さいことがわかった。 From the results in Table 1, it can be seen that the honeycomb porous film of the present invention containing a phosphate ester-based surfactant has smaller pore diameters than the conventional honeycomb porous film containing an amphiphilic polymer. It was.
本発明のハニカム状多孔質フィルムは、空孔径が十分に小さく制御されているため、ハニカム複合膜として強度を増し、取り扱い性を向上することにより、例えば、位相差膜、偏光膜、スクリーン、カラーフィルタ、ディスプレイ用部材、細胞培養用部材、傷口保護膜、経皮吸収薬膜、音響振動材料、吸音材料及び制振材料などに幅広く好適に用いられる。 The honeycomb-shaped porous film of the present invention is controlled to have a sufficiently small pore diameter, so that the honeycomb composite film has increased strength and improved handleability, for example, a retardation film, a polarizing film, a screen, a color It is suitably used widely for filters, display members, cell culture members, wound protective membranes, transdermal absorption membranes, acoustic vibration materials, sound absorbing materials, vibration damping materials, and the like.
1 仮支持体
2 剥離層
3 支持体
12 ハニカム状多孔質フィルム
40 フィルム材料層
46 ハニカム構造膜
47 空孔
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Temporary support body 2 Peeling layer 3 Support body 12 Honeycomb porous film 40 Film material layer 46 Honeycomb structure film 47 Void
Claims (11)
前記フィルム材料層に相対湿度50〜95%の気体を送風し、前記疎水性有機溶媒を揮発させるとともに、前記フィルム材料層表面に結露を生成し、該結露を蒸発させることにより形成された空孔を有する請求項1に記載のハニカム状多孔質フィルム。 Forming a film material layer using a film material solution containing at least a surfactant represented by the general formula (I) and a hydrophobic organic solvent;
Air holes formed by blowing a gas having a relative humidity of 50 to 95% to the film material layer, volatilizing the hydrophobic organic solvent, generating condensation on the surface of the film material layer, and evaporating the condensation. The honeycomb-shaped porous film according to claim 1, comprising:
前記フィルム材料層に相対湿度50〜95%の気体を送風し、前記疎水性有機溶媒を揮発させるとともに、前記フィルム材料層表面に結露を生成し、該結露を蒸発させて、空孔を形成すること含むことを特徴とするハニカム状多孔質フィルムの製造方法。
The film material layer is blown with a gas having a relative humidity of 50 to 95% to volatilize the hydrophobic organic solvent, generate condensation on the surface of the film material layer, and evaporate the condensation to form pores. A method for producing a honeycomb-shaped porous film.
請求項1から2のいずれかに記載のハニカム状多孔質フィルムを支持体上に作製するハニカム状多孔質フィルム作製工程と、
前記仮支持体上の前記剥離層と、前記ハニカム状多孔質フィルムとを貼り合わせる工程と、を含むことを特徴とするハニカム複合膜の製造方法。 A release layer forming step of forming a release layer on the temporary support,
A honeycomb-shaped porous film production process for producing a honeycomb-shaped porous film according to claim 1 on a support;
A method for producing a honeycomb composite film, comprising: bonding the release layer on the temporary support to the honeycomb-like porous film.
請求項1から2のいずれかに記載のハニカム状多孔質フィルムを前記仮支持体上の前記剥離層上に作成するハニカム状多孔質フィルム作製工程と、を含むことを特徴とするハニカム複合膜の製造方法。 A release layer forming step of forming a release layer on the temporary support,
A honeycomb-shaped porous film preparation step for forming the honeycomb-shaped porous film according to any one of claims 1 to 2 on the release layer on the temporary support. Production method.
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