JP4766685B2 - 活性酸素を含有したオキシアパタイト、その製造方法、及びそれからなる光触媒 - Google Patents
活性酸素を含有したオキシアパタイト、その製造方法、及びそれからなる光触媒 Download PDFInfo
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Description
すなわち、本発明は以下のとおりである。
(1) 活性酸素を含有するオキシアパタイト。
(2) 該活性酸素を含有するオキシアパタイト中に光活性点を有することを特徴とする上記(1)に記載の活性酸素を含有するオキシアパタイト。
(3) 該活性酸素を含有するオキシアパタイトが下記一般式(1)で表されることを特徴とする上記(1)又は(2)に記載の活性酸素を含有するオキシアパタイト。
(式中のM1はCa、Mg、Sr、Ba、Sn、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ru、Pb、Cd、Agのうちの少なくとも1種類以上の元素を表し、M2はSc、Y、La、Sb、Bi、Eu、Nd、Al、Ga、Inのうちの少なくとも1種類以上の元素を表し、M3はP、Si、Mn、As、Cr、V、Ge、B、W、Moのうちの少なくとも1種類以上の元素を表す。a+b=10、0.1≦b≦2.0を表す。Xは、O−、O2 −、O3 −のうちの少なくとも1種類以上の活性酸素を表し、YはX以外でオキシアパタイトの電荷を補償するものであってO2−、O2 2−、OH−、F−、Cl−、I−、Br−、S2−、NCN2−、CO3 2−、SO4 2−、NO2 2−、H−、e−で表され、Xのみでオキシアパタイトの電荷が補償されるときは、Yはなくてよい。)
M1aM2b(M3O4)6 Y
(式中の
M1はCa、Mg、Sr、Ba、Sn、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ru、Pb、Cd、Agのうちの少なくとも1種類以上の元素を表し、
M2はSc、Y、La、Sb、Bi、Eu、Nd、Al、Ga、Inのうちの少なくとも1種類以上の元素を表し、
M3はP、Si、Mn、As、Cr、V、Ge、B、W、Moのうちの少なくとも1種類以上の元素を表す。
a+b=10、0.1≦b≦2.0を表す。
Yは、O2−を表す。)
(6) 上記(4)に記載の活性酸素を含有するオキシアパタイトの製造方法であって、該一般式(1)中のM1、M2、M3の各々の元素の酸化物、水酸化物、炭酸化物、塩化物、フッ化物、硝酸塩、硫酸塩、アルコキシから選ばれた化合物をa+b=10、0.1≦b≦2.0を満たす組成割合で、加熱温度50℃以上1800℃以下、水蒸気分圧102Pa以下の乾燥雰囲気で反応させて得ることを特徴とする請求項4に記載の活性酸素を含有するオキシアパタイトの製造方法。
(7) 上記(5)または(6)に記載の活性酸素を含有するオキシアパタイトの製造方法に、さらに光照射する工程を行うことを特徴とする活性酸素を含有するオキシアパタイトの製造方法。
(8) 上記(1)〜(4)のいずれかに記載の活性酸素を含有するオキシアパタイトからなる光触媒。
本発明における活性酸素とは、O−、O2 −、O3 −をいい、アパタイト構造中にいずれか1種類で含有されていてもよく、それら複数種の混合体として含有されていてもよい。活性酸素が存在することにより、より強い光触媒作用が生じる。
(式中のM1はCa、Mg、Sr、Ba、Sn、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ru、Pb、Cd、Agのうちの少なくとも1種類以上の元素を表し、M2はSc、Y、La、Sb、Bi、Eu、Nd、Al、Ga、Inのうちの少なくとも1種類以上の元素を表し、M3はP、Si、Mn、As、Cr、V、Ge、B、W、Moのうちの少なくとも1種類以上の元素を表す。a+b=10で0.1≦b≦2.0を表す。Xは、O−、O2 −、O3 −のうちの少なくとも1種類以上の活性酸素を表し、YはX以外でオキシアパタイトの電荷を補償するものであってO2−、O2 2−、OH−、F−、Cl−、I−、Br−、S2−、NCN2−、CO3 2−、SO4 2−、NO2 2−、H−、e−で表され、Xのみでオキシアパタイトの電荷が補償されるときは、Yはなくてよい。)
本発明の光触媒に用いるオキシアパタイトは、上記要件を満たしていれば特に限定はされるものではないが、高い活性酸素の含有濃度を達成しやすい、合成が比較的容易である、構造が安定である等からCa8La2(PO4) 6 O2、Ca8Y2(PO4) 6 O2、Ca8Al2(PO4)6O2、Ca8In2(PO4) 6 O2、Ca8La2(SiO4) 6 O2が好適である。また、特に可視光による光触媒として用いるときはCr、V、Mnなどを含むCa8La2(CrO4) 6 O2、Ca8La2(VO4) 6 O2、Ca8Bi2(VO4) 6 O2、Ca8La2(MnO4) 6 O2、Ca8Bi2(MnO4) 6 O2などが好適である。
通常、アパタイトは従来技術に見られるように、水蒸気又は加湿雰囲気下で合成することにより特性を得ようとされてきた。しかし本発明においては、従来の常套手段をとらずオキシアパタイトを水蒸気分圧102Pa以下の乾燥雰囲気下で合成することにより、活性酸素を含有することが可能になった。
(XRD)(株)リガク製RINT2000において、CuのKα線を用いて測定する。測定条件は、加速電圧50kV、加速電流は200mA、受光スリット幅0.15mm、走査速度4°/分、サンプリング0.02°である。なお回折線はグラファイトのモノクロメーターにより単色化されてカウントされる。構造は、MaterialsData社製のJADEを用いてまたは、過去の論文を参考にしてアパタイト構造の同定を行う。
(IR) Perkin Elmer社製のSpectrum Oneを使用する。測定条件は400−4000cm−1の範囲で分解能1cm−1である。3600cm−1付近に観察されるOH伸縮振動を確認する。
(耐熱性試験)1400℃のオーブン中で4時間処理し、上記記載のXRD測定で構造の変化を確認する。
(光触媒能試験)0.02mmol/Lのメチレンブルー(和光純薬工業(株))水溶液を調整しこれをブランク溶液とする。一方、0.02mmol/Lのメチレンブルー水溶液に0.05g/Lとなるようにオキシアパタイトを加える。両者を25℃で撹拌しながら光照射を行い、所定時間ごとに日立ハイテクノロジー(株)製分光光度計U4000を用いて、660nm付近のメチレンブルーの吸収ピーク量を測定して、吸収量の減少すなわちメチレンブルーの分解量からオキシアパタイトの光触媒性能確認する。
2.00gのCaCO3((株)高純度化学研究所)と7.61gのCaHPO4(和光純薬工業(株))を800℃で加熱して得られたCa2P2O7と3.25gのLa2O3((株)高純度化学研究所)をエタノール中で湿式混合して、均一混合された試料を得た。得られた試料を1400℃、6時間、水蒸気分圧6Paのドライ酸素フロー中(300ml/min)で焼成した。得られた化合物はXRDにより六方晶アパタイト構造に帰属でき、IR分析よりOH伸縮がないことを確認した。得られた化合物のEPR測定より、活性酸素の濃度は2×1016cm−3と定量された。以上よりLa2Ca8(PO4)6O(2+α)の合成を確認した。(αは活性酸素の存在により酸素原子が増加していることを表す。)また得られた化合物は、耐熱性試験後も構造に変化は見られず、耐熱性に優れることが分かった。
2.00gのCa(NO3)2・4H2O((株)高純度化学研究所)と0.81gのY(NO3)3・6H2O((株)高純度化学研究所)を純水に溶かし、30%アンモニア水を加えてpH=10程度に調整して溶液Aを得た。一方 0.84gの(NH4)2HPO4((株)高純度化学研究所)を純水に溶かし30%アンモニア水を加えてpH=10程度に調整して溶液Bを得た。両溶液に室温で窒素ガスを1時間バブリングして溶存炭酸ガスを取り除いた。
その後攪拌しながら、脱炭酸ガスをした溶液A中に脱炭酸ガスをした溶液BをpH=10程度になるように30%アンモニア水を加えてながら添加して、沈殿物を得た。得られた沈殿物を90℃、24時間、水蒸気分圧6Paのドライ酸素フロー中(300ml/min)で加熱した。
実施例1で作製した2.00gのオキシアパタイトに紫外線を15分照射した。得られた化合物は、XRDにより六方晶アパタイト構造に帰属でき、IR分析よりOH伸縮がないことを確認した。得られた化合物のEPR測定より、活性酸素の濃度は1×1017cm−3と定量され実施例1に比べ活性酸素の濃度が増加していた。また得られた化合物は、耐熱性試験後も構造に変化は見られず、耐熱性に優れることが分かった。
2.00gのCaCO3((株)高純度化学研究所)と1.29gのV2O5((株)高純度化学研究所)と0.81gのLa2O3((株)高純度化学研究所)をエタノール中で湿式混合して、均一混合された試料を得た。得られた試料を1300℃、6時間、300ml/minドライ酸素フロー中で焼成した。得られた化合物はXRDにより六方晶アパタイト構造に帰属でき、IR分析よりOH伸縮がないことを確認した。得られた化合物のEPR測定より、活性酸素の濃度は2×1016cm−3と定量された。以上よりCa8La2(VO4)6O(2+α)の合成を確認した。また得られた化合物は、耐熱性試験後も構造に変化は見られず、耐熱性に優れることが分かった。
[実施例5]
2.00gのCaCO3((株)高純度化学研究所)と1.22gのV2O5((株)高純度化学研究所)と0.57gのLa2O3((株)高純度化学研究所)をエタノール中で湿式混合して、均一混合された試料を得た。得られた試料を1250℃、6時間、300ml/minドライ酸素フロー中で焼成した。得られた化合物はXRDにより六方晶アパタイト構造に帰属でき、IR分析よりOH伸縮がないことを確認した。得られた化合物のEPR測定より、活性酸素の濃度は7×1016cm−3と定量された。以上よりCa8.5La1.5(VO4)6O(2+α)の合成を確認した。また得られた化合物は、耐熱性試験後も構造に変化は見られず、耐熱性に優れることが分かった。
[実施例6]
実施例4、5で作製した2.00gのオキシアパタイトにそれぞれ可視光線を15分照射した。得られた化合物は、XRDにより六方晶アパタイト構造に帰属でき、IR分析よりOH伸縮がないことを確認した。得られた化合物のEPR測定より、活性酸素の濃度はそれぞれ2×1017cm−3、2×1018cm−3と定量され実施例4、5に比べ活性酸素の濃度が増加していた。また得られた化合物は、耐熱性試験後も構造に変化は見られず、耐熱性に優れることが分かった。
[実施例7]
実施例4で作成したオキシアパタイトを可視光(400nm以上の波長)照射による光触媒能試験を行った結果、
1251954927853_0
に示すようにブランクに比べ、メチレンブルーの分解が顕著に進行しており、オキシアパタイトが光触媒能に非常に優れることが分かった。
[比較例1]
2.00gのCaCO3((株)高純度化学研究所)と3.81gのCaHPO4(和光純薬工業(株))を800℃で加熱して得られたCa2P2O7をエタノール中で湿式混合して、均一混合された試料を得た。得られた試料を1400℃、6時間、水蒸気分圧約103kPaの大気中で焼成した。得られた化合物はXRDにより六方晶アパタイト構造に帰属できた。IR分析よりOH伸縮観察され、ハイドロキシアパタイトが生成していると考えられた。以上よりCa10(PO4)6(OH)2の合成を確認した。得られた化合物のEPR測定より、活性酸素ラジカルに帰属できる吸収バンドは観察されなかった。また得られた化合物の耐熱性試験後は、構造を維持しておらず熱的安定性にかける。
2.00gのCaCO3((株)高純度化学研究所)と7.61gのCaHPO4(和光純薬工業(株))を800℃で加熱して得られたCa2P2O7と3.25gのLa2O3 ((株)高純度化学研究所)をエタノール中で湿式混合して、均一混合された試料を得た。得られた試料を1400℃、6時間、水蒸気分圧約103kPaの大気中で焼成した。得られた化合物はXRDにより六方晶アパタイト構造に帰属できた。以上よりLa2Ca8(PO4)6O2の合成を確認した。得られた化合物のEPR測定より、活性酸素ラジカルに帰属できる吸収バンドは観察されなかった。
2.00gのCa(NO3)2・4H2O((株)高純度化学研究所)と0.81gのY(NO3)3・6H2O((株)高純度化学研究所)を純水に溶かし、30%アンモニア水を加えてpH=10程度に調整して溶液Aを得た。一方0.84gの(NH4)2HPO4((株)高純度化学研究所)を純水に溶かし30%アンモニア水を加えてpH=10程度に調整して溶液Bを得た。両溶液に室温で窒素ガスを1時間バブリングして溶存炭酸ガスを取り除いた。その後攪拌しながら、脱炭酸ガスをした溶液A中に脱炭酸ガスをした溶液BをpH=10程度になるように30%アンモニア水を加えてながら添加して、沈殿物を得た。得られた沈殿物を水蒸気分圧約103kPaの大気雰囲気で800℃、1時間仮焼し、次にこの仮焼後の粉末をペレット上に形成し、水蒸気分圧約103kPaの大気中で1250℃、1時間焼成した。得られた化合物はXRDにより六方晶アパタイト構造に帰属できた。以上よりY2Ca8(PO4)6O2の合成を確認した。得られた化合物の室温でのEPR測定より、活性酸素ラジカルに帰属できる吸収バンドは観察されなかった。
Claims (8)
- 活性酸素を含有するオキシアパタイト。
- 該活性酸素を含有するオキシアパタイト中に光活性点を有することを特徴とする請求項1に記載の活性酸素を含有するオキシアパタイト。
- 該活性酸素を含有するオキシアパタイトが下記一般式(1)で表されることを特徴とする請求項1又は2に記載の活性酸素を含有するオキシアパタイト。
M1aM2b(M3O4)6XY (1)
(式中のM1はCa、Mg、Sr、Ba、Sn、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ru、Pb、Cd、Agのうちの少なくとも1種類以上の元素を表し、M2はSc、Y、La、Sb、Bi、Eu、Nd、Al、Ga、Inのうちの少なくとも1種類以上の元素を表し、M3はP、Si、Mn、As、Cr、V、Ge、B、W、Moのうちの少なくとも1種類以上の元素を表す。a+b=10、0.1≦b≦2.0を表す。Xは、O−、O2 −、O3 −のうちの少なくとも1種類以上の活性酸素を表し、YはX以外でオキシアパタイトの電荷を補償するものであってO2−、O2 2−、OH−、F−、Cl−、I−、Br−、S2−、NCN2−、CO3 2−、SO4 2−、NO2 2−、H−、e−で表され、Xのみでオキシアパタイトの電荷が補償されるときは、Yはなくてよい。) - 該一般式(1)に記載のYがO 2− であることを特徴とする請求項3に記載の活性酸素を含有するオキシアパタイト。
- 下記一般式で表されるオキシアパタイトを、加熱温度50℃以上1800℃以下、水蒸気分圧102Pa以下の乾燥雰囲気で処理して得られることを特徴とする請求項4に記載の活性酸素を含有するオキシアパタイトの製造方法。
M1aM2b(M3O4)6 Y
(式中の
M1はCa、Mg、Sr、Ba、Sn、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ru、Pb、Cd、Agのうちの少なくとも1種類以上の元素を表し、
M2はSc、Y、La、Sb、Bi、Eu、Nd、Al、Ga、Inのうちの少なくとも1種類以上の元素を表し、
M3はP、Si、Mn、As、Cr、V、Ge、B、W、Moのうちの少なくとも1種類以上の元素を表す。
a+b=10、0.1≦b≦2.0を表す。
Yは、O2−を表す。) - 請求項4に記載の活性酸素を含有するオキシアパタイトの製造方法であって、該一般式(1)中のM1、M2、M3の各々の元素の酸化物、水酸化物、炭酸化物、塩化物、フッ化物、硝酸塩、硫酸塩、アルコキシから選ばれた化合物をa+b=10、0.1≦b≦2.0を満たす組成割合で、加熱温度50℃以上1800℃以下、水蒸気分圧10 2 Pa以下の乾燥雰囲気で反応させて得ることを特徴とする請求項4に記載の活性酸素を含有するオキシアパタイトの製造方法。
- 請求項5または請求項6に記載の活性酸素を含有するオキシアパタイトの製造方法に、さらに光照射する工程を行うことを特徴とする活性酸素を含有するオキシアパタイトの製造方法。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の活性酸素を含有するオキシアパタイトからなる光触媒。
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