JP4639718B2 - 液体噴射ヘッドの圧力発生室形成板製造装置、液体噴射ヘッドの圧力発生室形成板製造方法及び液体噴射ヘッド - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 65
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 51
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 73
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 61
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 48
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 48
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 26
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 113
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 47
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 44
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 description 32
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 26
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 17
- 238000005242 forging Methods 0.000 description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 description 14
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 12
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 12
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 8
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 8
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 6
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000007730 finishing process Methods 0.000 description 4
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 3
- 238000009429 electrical wiring Methods 0.000 description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 3
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 3
- 230000000750 progressive effect Effects 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 2
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000851 Alloy steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007723 die pressing method Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005482 strain hardening Methods 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1632—Manufacturing processes machining
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/162—Manufacturing of the nozzle plates
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49401—Fluid pattern dispersing device making, e.g., ink jet
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- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49826—Assembling or joining
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Claims (8)
- 圧力発生室となる溝状窪部が列設されると共に、各上記溝状窪部の一端に板厚方向に貫通する連通口を形成した金属製の圧力発生室形成板と、上記連通口と対応する位置にノズル開口を穿設したノズルプレートと、上記溝状窪部の開口面を封止する金属製の封止板とを備え、上記圧力発生室形成板における上記溝状窪部側に上記封止板を、反対側に上記ノズルプレートをそれぞれ接合してなる液体噴射ヘッドの圧力発生室形成板製造装置であって、
少なくとも所定ピッチで平行に配列された突条部および各突条部の間に形成された空隙部が設けられ、上記突条部を金属素材板に押込んで上記溝状窪部を形成する第1金型と、
上記第1金型が押込まれる上記金属素材板を支持する第2金型とを含んで構成され、上記突条部には、上記溝状窪部の深さ方向の内壁を形成する内壁形成部と、上記溝状窪部の底部を略V字状に窪ませて形成する傾斜面部が設けられるとともに、上記内壁形成部と上記傾斜面部とを接続する接続面部が設けられ、上記第1金型と上記第2金型を使用して上記金属素材板を上記圧力発生室形成板に加工し、
上記突条部の押込み方向と上記接続面部とのなす狭角が、上記突条部の押込み方向と上記傾斜面部とのなす狭角より小さいことを特徴とする液体噴射ヘッドの圧力発生室形成板製造装置。 - 上記内壁形成部の延長面と上記傾斜面部の延長面とが交わる交差箇所と、上記接続面部の上記内壁形成部側端部と、上記接続面部の上記傾斜面部側端部とによって形成される三角形は、上記突条部の長手方向に対して垂直な仮想断面上において、上記接続面部を底辺とする略二等辺三角形の形状とされている請求項1記載の液体噴射ヘッドの圧力発生室形成板製造装置。
- 上記突条部の押込み方向と上記接続面部とのなす狭角は、8〜40度である請求項1記載の液体噴射ヘッドの圧力発生室形成板製造装置。
- 上記突条部の押込み方向と上記傾斜面部とのなす狭角は、40〜50度である請求項1記載の液体噴射ヘッドの圧力発生室形成板製造装置。
- 上記接続面部の上記傾斜面部側端部と上記内壁形成部との間の上記突条部の幅方向における寸法は、上記突条部の幅寸法に対して0.05〜0.15の比である請求項1〜4のいずれか一項に記載の液体噴射ヘッドの圧力発生室形成板製造装置。
- 上記接続面部の上記傾斜面部側端部と上記内壁形成部との間の上記突条部の幅方向における寸法は、上記空隙部の幅寸法に対して0.06〜0.45の比である請求項1〜5のいずれか一項に記載の液体噴射ヘッドの圧力発生室形成板製造装置。
- 圧力発生室となる溝状窪部が列設されると共に、各上記溝状窪部の一端に板厚方向に貫通する連通口を形成した金属製の圧力発生室形成板と、上記連通口と対応する位置にノズル開口を穿設したノズルプレートと、上記溝状窪部の開口面を封止する金属製の封止板とを備え、上記圧力発生室形成板における上記溝状窪部側に上記封止板を、反対側に上記ノズルプレートをそれぞれ接合してなる液体噴射ヘッドの圧力発生室形成板製造方法であって、
少なくとも所定ピッチで平行に配列された突条部および各突条部の間に形成された空隙部が設けられ、上記突条部を金属素材板に押込んで上記溝状窪部を形成する第1金型と、
上記第1金型が押込まれる上記金属素材板を支持する第2金型とを準備し、上記溝状窪部の深さ方向の内壁を形成する内壁形成部と、上記溝状窪部の底部を略V字状に窪ませて形成する傾斜面部が設けられるとともに、上記内壁形成部と上記傾斜面部とを接続する接続面部が設けられている突条部を、上記金属素材板に押込んで上記圧力発生室形成板に加工し、
上記突条部の押込み方向と上記接続面部とのなす狭角が、上記突条部の押込み方向と上記傾斜面部とのなす狭角より小さいことを特徴とする液体噴射ヘッドの圧力発生室形成板製造方法。 - 圧力発生室となる溝状窪部が列設されると共に、各上記溝状窪部の一端に板厚方向に貫通する連通口を形成した金属製の圧力発生室形成板と、上記連通口と対応する位置にノズル開口を穿設したノズルプレートと、上記溝状窪部の開口面を封止する金属製の封止板とを備え、上記圧力発生室形成板における上記溝状窪部側に上記封止板を、反対側に上記ノズルプレートをそれぞれ接合してなる液体噴射ヘッドであって、上記溝状窪部に、深さ方向に形成された内壁と、略V字状に窪ませて形成した底部と、上記内壁と上記底部とが平面又は曲面の少なくとも一方の面状態で連続された連続面とが設けられ、
上記溝状窪部の深さ方向と上記連続面とのなす狭角が、上記溝状窪部の深さ方向と上記底部とのなす狭角より小さいことを特徴とする液体噴射ヘッド。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004274623A JP4639718B2 (ja) | 2004-09-22 | 2004-09-22 | 液体噴射ヘッドの圧力発生室形成板製造装置、液体噴射ヘッドの圧力発生室形成板製造方法及び液体噴射ヘッド |
CNB2005101051105A CN100404259C (zh) | 2004-09-22 | 2005-09-22 | 制造液体喷头的方法、装置、模具以及液体喷头 |
US11/231,853 US7703894B2 (en) | 2004-09-22 | 2005-09-22 | Apparatus of fabricating and method of fabricating liquid ejection head, and liquid ejection head |
US12/053,470 US7669329B2 (en) | 2004-09-22 | 2008-03-21 | Apparatus of fabricating and method of fabricating liquid ejection head, and liquid ejection head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004274623A JP4639718B2 (ja) | 2004-09-22 | 2004-09-22 | 液体噴射ヘッドの圧力発生室形成板製造装置、液体噴射ヘッドの圧力発生室形成板製造方法及び液体噴射ヘッド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006088419A JP2006088419A (ja) | 2006-04-06 |
JP4639718B2 true JP4639718B2 (ja) | 2011-02-23 |
Family
ID=36073489
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004274623A Expired - Fee Related JP4639718B2 (ja) | 2004-09-22 | 2004-09-22 | 液体噴射ヘッドの圧力発生室形成板製造装置、液体噴射ヘッドの圧力発生室形成板製造方法及び液体噴射ヘッド |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7703894B2 (ja) |
JP (1) | JP4639718B2 (ja) |
CN (1) | CN100404259C (ja) |
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---|---|---|---|---|
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-
2004
- 2004-09-22 JP JP2004274623A patent/JP4639718B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-09-22 CN CNB2005101051105A patent/CN100404259C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-09-22 US US11/231,853 patent/US7703894B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-03-21 US US12/053,470 patent/US7669329B2/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7703894B2 (en) | 2010-04-27 |
US20080172854A1 (en) | 2008-07-24 |
US7669329B2 (en) | 2010-03-02 |
CN1751886A (zh) | 2006-03-29 |
CN100404259C (zh) | 2008-07-23 |
US20060061635A1 (en) | 2006-03-23 |
JP2006088419A (ja) | 2006-04-06 |
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Date | Code | Title | Description |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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A521 | Request for written amendment filed |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |