JP4628260B2 - 感光性樹脂組成物、その製造方法及びそれを含むドライフィルムレジスト - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 56
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 80
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 41
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 38
- -1 phosphate ester Chemical class 0.000 claims description 22
- AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N oxophosphane Chemical compound P=O AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- GDALETGZDYOOGB-UHFFFAOYSA-N Acridone Natural products C1=C(O)C=C2N(C)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1O GDALETGZDYOOGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- FZEYVTFCMJSGMP-UHFFFAOYSA-N acridone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3NC2=C1 FZEYVTFCMJSGMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 14
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 13
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 8
- OYKPJMYWPYIXGG-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylbutane;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCC(C)(C)C OYKPJMYWPYIXGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 claims description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 6
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 6
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 claims description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 5
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N Leucocrystal Violet Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N [4-[2-(4-prop-2-enoyloxyphenyl)propan-2-yl]phenyl] prop-2-enoate Chemical class C=1C=C(OC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 4
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 4
- YKZMWXJHPKWFLS-UHFFFAOYSA-N (2-chlorophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1Cl YKZMWXJHPKWFLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GOUZWCLULXUQSR-UHFFFAOYSA-N (2-chlorophenyl) prop-2-enoate Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OC(=O)C=C GOUZWCLULXUQSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OBSKPJKNWVTXJQ-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O OBSKPJKNWVTXJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ASULPTPKYZUPFI-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl) prop-2-enoate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1OC(=O)C=C ASULPTPKYZUPFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- SIADNYSYTSORRE-UHFFFAOYSA-N (4-chlorophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(Cl)C=C1 SIADNYSYTSORRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NACSMDAZDYUKMU-UHFFFAOYSA-N (4-nitrophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 NACSMDAZDYUKMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XSQUPVXOENTCJV-UHFFFAOYSA-N (6-phenylpyridin-3-yl)boronic acid Chemical compound N1=CC(B(O)O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 XSQUPVXOENTCJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Butyleneglycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)CCOC(=O)C(C)=C VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)CCOC(=O)C=C FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCOC(=O)C(C)=C XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical group C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 claims description 3
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N bisphenol A dimethacrylate Chemical class C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PVEOYINWKBTPIZ-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid Chemical compound OC(=O)CC=C PVEOYINWKBTPIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 claims description 3
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims description 3
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 3
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 claims description 3
- SBYHFKPVCBCYGV-UHFFFAOYSA-N quinuclidine Chemical compound C1CC2CCN1CC2 SBYHFKPVCBCYGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ARWSNPDINLVISQ-UHFFFAOYSA-N (4-nitrophenyl)methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 ARWSNPDINLVISQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-methoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOC CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ITSVWEZKEZRAQJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-phosphonooxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOCCOP(O)(O)=O ITSVWEZKEZRAQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LLLMONBTTXCHNA-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-phosphonooxypropoxy)propoxy]propoxy]propoxy]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound OP(=O)(O)OC(C)COC(C)COC(C)COC(C)COC(C)COC(=O)C(C)=C LLLMONBTTXCHNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JBYNEFPZEWRHLW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyoctyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCC(O)COC(=O)C(C)=C JBYNEFPZEWRHLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DFTQGGWGWHNINU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyoctyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCC(O)COC(=O)C=C DFTQGGWGWHNINU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RBTBFTRPCNLSDE-UHFFFAOYSA-N 3,7-bis(dimethylamino)phenothiazin-5-ium Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 RBTBFTRPCNLSDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JUQPZRLQQYSMEQ-UHFFFAOYSA-N CI Basic red 9 Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC=C1C(C=1C=CC(N)=CC=1)=C1C=CC(=[NH2+])C=C1 JUQPZRLQQYSMEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NNBFNNNWANBMTI-UHFFFAOYSA-M brilliant green Chemical compound OS([O-])(=O)=O.C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 NNBFNNNWANBMTI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)CCOC IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- STZCRXQWRGQSJD-GEEYTBSJSA-M methyl orange Chemical compound [Na+].C1=CC(N(C)C)=CC=C1\N=N\C1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 STZCRXQWRGQSJD-GEEYTBSJSA-M 0.000 claims description 2
- 229940012189 methyl orange Drugs 0.000 claims description 2
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 claims description 2
- 229950004864 olamine Drugs 0.000 claims description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 claims description 2
- DWWMSEANWMWMCB-UHFFFAOYSA-N tribromomethylsulfonylbenzene Chemical compound BrC(Br)(Br)S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 DWWMSEANWMWMCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- WBBKYDCLZKGNSD-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O WBBKYDCLZKGNSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- VRIWPZCNGVKMOF-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOCCO VRIWPZCNGVKMOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- PACJPUCUUCMMFP-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propoxy]propoxy]propan-1-ol;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(O)COC(C)COC(C)COC(C)COC(C)CO PACJPUCUUCMMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- UEQXEQXNHPQBQO-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOCCOCCO UEQXEQXNHPQBQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- GZUAMTXEARYJRJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-(2-phosphonooxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOCCOCCOP(O)(O)=O GZUAMTXEARYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 claims 1
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- YVWPDYFVVMNWDT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-ethoxypropanoate Chemical compound CCOC(C)C(=O)OC YVWPDYFVVMNWDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 claims 1
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 11
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 9
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical group C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 4
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 3
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUVKSPPGPPFPQN-UHFFFAOYSA-N 10-Methyl-9(10H)-acridone Chemical compound C1=CC=C2N(C)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 XUVKSPPGPPFPQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDOBGDUGIFUCJV-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylbutane;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CCC(C)(C)C.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O GDOBGDUGIFUCJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QZPSXPBJTPJTSZ-UHFFFAOYSA-N aqua regia Chemical compound Cl.O[N+]([O-])=O QZPSXPBJTPJTSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- SYWIXHZXHQDFOO-UHFFFAOYSA-N methyl n-phenyliminocarbamate Chemical compound COC(=O)N=NC1=CC=CC=C1 SYWIXHZXHQDFOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GQLKCFQQTVFDTK-UHFFFAOYSA-N 10-butyl-2,4-diethylacridin-9-one Chemical compound C(CCC)N1C=2C(=CC(=CC2C(C2=CC=CC=C12)=O)CC)CC GQLKCFQQTVFDTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYMSWGOFSKMMCE-UHFFFAOYSA-N 10-butyl-2-chloroacridin-9-one Chemical compound ClC1=CC=C2N(CCCC)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 VYMSWGOFSKMMCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMUDJFBMMIDJAW-UHFFFAOYSA-N 10-butyl-2-propan-2-ylacridin-9-one Chemical compound C(CCC)N1C=2C=CC(=CC2C(C2=CC=CC=C12)=O)C(C)C GMUDJFBMMIDJAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICZOFWRAZVXIGZ-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-1-chloro-10H-acridin-9-one Chemical compound C(CCC)C1=C(C=2C(C3=CC=CC=C3NC=2C=C1)=O)Cl ICZOFWRAZVXIGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXNICUVVDOTUPD-UHFFFAOYSA-N CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)C1=CC=CC=C1 SXNICUVVDOTUPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 0 CCC1*(C)(CP(**)=O)CC(C)C1 Chemical compound CCC1*(C)(CP(**)=O)CC(C)C1 0.000 description 1
- 102100026735 Coagulation factor VIII Human genes 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000911390 Homo sapiens Coagulation factor VIII Proteins 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUVYSBJZBYRDHP-UHFFFAOYSA-N acetic acid;methoxymethane Chemical compound COC.CC(O)=O TUVYSBJZBYRDHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 1
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical class [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- PTMCGHPIYOSATH-UHFFFAOYSA-N hexaethylene glycol monophosphate Chemical compound OCCOCCOCCOCCOCCOCCOP(O)(O)=O PTMCGHPIYOSATH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
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Description
本発明のホスフィンオキシド系光重合開始剤は、下記化学式1で表される化合物の中で選択される1種以上であるのが好ましい。
実施例1及び実施例2(アルカリ可溶性アクリレート樹脂の製造)
下記表1のような組成と含量で重合して実施例1及び実施例2のアルカリ可溶性アクリレート樹脂を製造した。重合に使用した溶媒はプロピレングリコールモノメチルエーテル(以下、‘PGME’)であり、全体モノマー40重量部に対して溶媒60重量部を混合した。低温開始剤としてはアゾエステル系を利用して45℃で重合した。
実施例1及び実施例2によって製造されたアルカリ可溶性アクリレート樹脂に下記表2のような組成と含量で架橋性モノマー、光重合開始剤、及び染料を添加して溶解し、2時間常温(25℃)で攪拌し、不純物をろ過して実施例3〜7及び比較例1〜2の感光性樹脂組成物を製造した。
実施例3乃至7及び比較例1、2によって製造された感光性樹脂組成物を各々第1フィルムである25μm厚さのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム上にアプリケータを利用して塗布且つ乾燥して最終厚さ20μmの感光性樹脂組成物乾燥膜を形成した。前記感光性樹脂組成物乾燥膜上に再び第2フィルムである25μm厚さのポリエチレン(PE)フィルムを覆い、気泡が残らないようにゴムローラで被着して感光性ドライフィルムレジストを製造した。
Claims (26)
- a)アルカリ可溶性アクリレート樹脂と;
b)少なくとも2つのエチレン性二重結合を持つ架橋性モノマーと;
c)ホスフィンオキシド系光重合開始剤及びアクリドン系光重合開始剤とを含む感光性樹脂組成物。 - 前記感光性樹脂組成物はアルカリ可溶性アクリレート樹脂100重量部に対して、
a)少なくとも2つのエチレン性二重結合を持つ架橋性モノマー40乃至100重量部と;
b)ホスフィンオキシド系光重合開始剤及びアクリドン系光重合開始剤1.5乃至7重量部とを含む、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。 - 前記アルカリ可溶性アクリレート樹脂は重量平均分子量が20000乃至100000である、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記アルカリ可溶性アクリレート樹脂は重量平均分子量が30000乃至70000である、請求項3に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記アルカリ可溶性アクリレート樹脂はガラス転移温度が100℃以上である、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記アルカリ可溶性アクリレート樹脂は、i)不飽和カルボン酸モノマーと;ii)芳香族モノマーと;iii)ホスフェートエステル含有モノマーと;iv)脂肪族アクリルモノマーよりなる群から選択される1種以上のモノマーから重合されるものである、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記アルカリ可溶性アクリレート樹脂は、不飽和カルボン酸モノマー20乃至50重量%、芳香族モノマー15乃至45重量%、ホスフェートエステル含有モノマー1乃至15重量%、及び脂肪族アクリルモノマー10乃至50重量%を含むモノマー混合物から重合されるものである、請求項6に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記不飽和カルボン酸モノマーは、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸及びこれらの酸無水物よりなる群から選択される1種以上である、請求項6に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記芳香族モノマーは、スチレン、ベンジルメタクリレート、ベンジルアクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート、2-ニトロフェニルアクリレート、4-ニトロフェニルアクリレート、2-ニトロフェニルメタクリレート、4-ニトロフェニルメタクリレート、2-ニトロベンジルメタクリレート、4-ニトロベンジルメタクリレート、2-クロロフェニルアクリレート、4-クロロフェニルアクリレート、2-クロロフェニルメタクリレート、及び4-クロロフェニルメタクリレートよりなる群から選択される1種以上である、請求項6に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記ホスフェートエステル含有モノマーはペンタエチレングリコールホスフェートモノメタクリレート、ペンタプロピレングリコールホスフェートモノメタクリレート、及びヘキサエチレングリコールホスフェートモノメタクリレートよりなる群から選択される1種以上である、請求項6に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記脂肪族アクリルモノマーは2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシオクチルアクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシオクチルメタクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、及びn-ブチルアクリレートよりなる群から選択される1種以上である、請求項6に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記架橋性モノマーは、1,4-ブタンジオールジアクリレート、1,3-ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ビスフェノールAジアクリレート誘導体、トリメチルプロパントリアクリレート、エチレンオキシド付加型トリメチルプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールポリアクリレート、1,4-ブタンジオールジメタクリレート、1,3-ブチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ビスフェノールAジメタクリレート誘導体、トリメチルプロパントリメタクリレート、エチレンオキシド付加型トリメチルプロパントリメタクリレート、及びジペンタエリスリトールポリメタクリレートよりなる群から選択される1種以上である、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物は、ロイコクリスタルバイオレット、トリブロモメチルフェニルスルホン、ダイアモンドグリーンGH、ロダミンB、オラミン塩基、パラマゼンタ、メチルオレンジ、メチレンブルー、クリスタルバイオレット、エチルバイオレット、フタロシアニングリーン、マンシクブルー20及びナイトグリーンBよりなる群から選択される染料をさらに含む、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物は、コーティング性向上のための添加剤をさらに含む、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物は、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール、エタノール及びメタノールよりなる群から選択される1種以上の溶媒をさらに含む、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 不飽和カルボン酸モノマー、芳香族モノマー、ホスフェートエステル含有モノマー、及び脂肪族アクリルモノマーよりなる群から選択される1種以上のモノマーを重合してアルカリ可溶性アクリレート樹脂を製造する段階と;
アルカリ可溶性前記アクリレート樹脂、少なくとも2つのエチレン性二重結合を持つ架橋性モノマー、ホスフィンオキシド系光重合開始剤及びアクリドン系光重合開始剤を混合する段階とを含む感光性樹脂組成物の製造方法。 - 前記不飽和カルボン酸モノマーはアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸及びこれらの酸無水物よりなる群から選択される1種以上である、請求項18に記載の感光性樹脂組成物の製造方法。
- 前記芳香族モノマーはスチレン、ベンジルメタクリレート、ベンジルアクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート、2-ニトロフェニルアクリレート、4-ニトロフェニルアクリレート、2-ニトロフェニルメタクリレート、4-ニトロフェニルメタクリレート、2-ニトロベンジルメタクリレート、4-ニトロベンジルメタクリレート、2-クロロフェニルアクリレート、4-クロロフェニルアクリレート、2-クロロフェニルメタクリレート、及び4-クロロフェニルメタクリレートよりなる群から選択される1種以上である、請求項18に記載の感光性樹脂組成物の製造方法。
- 前記ホスフェートエステル含有モノマーはペンタエチレングリコールモノメタクリレート、ペンタプロピレングリコールモノメタクリレート、及びヘキサエチレングリコールモノメタクリレートよりなる群から選択される1種以上である、請求項18に記載の感光性樹脂組成物の製造方法。
- 前記脂肪族アクリルモノマーは2-ヒドロキシエチルエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート及びn-ブチルアクリレートよりなる群から選択される1種以上である、請求項18に記載の感光性樹脂組成物の製造方法。
- 前記架橋性モノマーは、1,4-ブタンジオールジアクリレート、1,3-ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ビスフェノールAジアクリレート誘導体、トリメチルプロパントリアクリレート、エチレンオキシド付加型トリメチルプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールポリアクリレート、1,4-ブタンジオールジメタクリレート、1,3-ブチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ビスフェノールAジメタクリレート誘導体、トリメチルプロパントリメタクリレート、エチレンオキシド付加型トリメチルプロパントリメタクリレート、及びジペンタエリスリトールポリメタクリレートよりなる群から選択される1種以上である、請求項18に記載の感光性樹脂組成物の製造方法。
- 請求項1に記載の感光性樹脂組成物を含む感光性ドライフィルムレジスト。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040099483A KR100599810B1 (ko) | 2004-11-30 | 2004-11-30 | 감광성 수지 조성물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는드라이 필름 레지스트 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006154825A JP2006154825A (ja) | 2006-06-15 |
JP4628260B2 true JP4628260B2 (ja) | 2011-02-09 |
Family
ID=36612045
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005341982A Expired - Fee Related JP4628260B2 (ja) | 2004-11-30 | 2005-11-28 | 感光性樹脂組成物、その製造方法及びそれを含むドライフィルムレジスト |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060141392A1 (ja) |
JP (1) | JP4628260B2 (ja) |
KR (1) | KR100599810B1 (ja) |
CN (1) | CN1782873B (ja) |
TW (1) | TWI310880B (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100903356B1 (ko) | 2003-05-07 | 2009-06-23 | 주식회사 동진쎄미켐 | 알칼리 가용성 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 드라이필름 레지스트 |
TWI290931B (en) * | 2005-07-01 | 2007-12-11 | Eternal Chemical Co Ltd | Photoimageable composition |
KR100648465B1 (ko) * | 2005-09-30 | 2006-11-27 | 삼성전기주식회사 | 인쇄회로기판의 미세 회로 형성 방법 |
JPWO2008010400A1 (ja) * | 2006-07-20 | 2009-12-17 | コニカミノルタエムジー株式会社 | 感光性平版印刷版材料 |
KR101300006B1 (ko) * | 2006-09-28 | 2013-08-26 | 주식회사 동진쎄미켐 | 전자 소자용 화합물 및 이를 포함하는 전자 소자 |
KR20090108781A (ko) * | 2008-04-14 | 2009-10-19 | 주식회사 동진쎄미켐 | 흑색 도전성 페이스트 조성물, 이를 포함하는 전자파차폐용 필터 및 표시 장치 |
BR112012015652B1 (pt) * | 2009-12-23 | 2020-12-01 | Momentive Performance Materials Inc. | composições reticuladas de copolímero de rede e produtos compreendendo as mesmas |
KR20120021488A (ko) * | 2010-08-03 | 2012-03-09 | 주식회사 동진쎄미켐 | 네가티브 감광성 수지 조성물 |
TWI409588B (zh) * | 2010-09-07 | 2013-09-21 | Daxin Materials Corp | 感光性樹脂組成物 |
TWI502031B (zh) * | 2012-03-01 | 2015-10-01 | Eternal Materials Co Ltd | 抗蝕刻組成物及其應用 |
CN103048884A (zh) * | 2012-12-05 | 2013-04-17 | 北京化工大学常州先进材料研究院 | 一种含有吖啶酮衍生物作为光引发剂的感光性组合物 |
JP6136414B2 (ja) * | 2013-03-19 | 2017-05-31 | 日立化成株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターン付き基板の製造方法及びプリント配線板の製造方法 |
KR101895910B1 (ko) * | 2016-01-19 | 2018-09-07 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막 및 이를 포함하는 컬러필터 |
JP6701602B2 (ja) * | 2016-03-02 | 2020-05-27 | 株式会社リコー | 活性エネルギー線硬化型組成物、硬化物、組成物収容容器、像形成装置、及び像形成方法 |
KR20220130672A (ko) * | 2020-01-28 | 2022-09-27 | 쇼와덴코머티리얼즈가부시끼가이샤 | 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성 방법 및 프린트 배선판의 제조 방법 |
CN113741147A (zh) * | 2021-09-22 | 2021-12-03 | 深圳惠美亚科技有限公司 | 一种具有高解析度和优异附着力的光致抗蚀剂 |
CN116836438B (zh) * | 2023-07-11 | 2024-02-09 | 江西塔益莱高分子材料有限公司 | 一种pcb干膜树脂及其制备方法 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61145203A (ja) * | 1984-12-19 | 1986-07-02 | Toray Ind Inc | 光増感剤 |
JPH0882922A (ja) * | 1994-07-11 | 1996-03-26 | Toray Ind Inc | 水なし平版印刷版原版 |
JPH11125902A (ja) * | 1997-10-22 | 1999-05-11 | Sumitomo Chem Co Ltd | 着色画像形成用レジスト組成物 |
JPH11184093A (ja) * | 1997-12-25 | 1999-07-09 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性組成物、感光液、感光性エレメント及びカラーフィルタ又はカラープルーフの製造法 |
JPH11231524A (ja) * | 1998-02-17 | 1999-08-27 | Jsr Corp | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
JP2002020441A (ja) * | 2000-07-04 | 2002-01-23 | Hitachi Chem Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物 |
JP2003128739A (ja) * | 2001-10-19 | 2003-05-08 | Hitachi Chem Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物 |
JP2003207904A (ja) * | 2002-01-17 | 2003-07-25 | Goo Chemical Co Ltd | リフトオフ法用ネガ型感光性樹脂組成物及びドライフィルム |
WO2004099876A1 (en) * | 2003-05-07 | 2004-11-18 | Dongjin Semichem Co., Ltd. | Photosensitive resin composition and dry film resist using the same |
JP2005107191A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Mitsubishi Chemicals Corp | 青紫色レーザー感光性画像形成材料、青紫色レーザー感光性画像形成材及び画像形成方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3331157A1 (de) * | 1983-08-30 | 1985-03-14 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Photopolymerisierbare mischungen, enthaltend tertiaere amine als photoaktivatoren |
US4689359A (en) * | 1985-08-22 | 1987-08-25 | Eastman Kodak Company | Composition formed from gelatin and polymer of vinyl monomer having a primary amine addition salt group |
DE3736180A1 (de) * | 1987-10-26 | 1989-05-03 | Basf Ag | Verfahren zum verschliessen und/oder abdichten von oeffnungen, hohl- oder zwischenraeumen bei auf formzylindern aufgebrachten druckplatten |
JP3442776B2 (ja) * | 1992-12-21 | 2003-09-02 | 株式会社アーデル | 可視光重合型接着剤用光重合開始剤組成物 |
CN1195356A (zh) * | 1996-06-12 | 1998-10-07 | 日本化药株式会社 | 光聚合引发剂和包含它的可能量射线固化的组合物 |
JP2002014463A (ja) * | 2000-06-28 | 2002-01-18 | Sumitomo Chem Co Ltd | 着色画像形成用感光液及びこれを用いたカラーフィルタ |
TWI230321B (en) * | 2000-08-10 | 2005-04-01 | Sumitomo Chemical Co | Photosensitive coloring composition, and color filter and liquid crystal display panel using the same |
US6987174B2 (en) * | 2003-04-01 | 2006-01-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Azo compound, colorant-containing curable composition, color filter and color filter production method |
KR101190921B1 (ko) * | 2004-07-22 | 2012-10-12 | 도레이 카부시키가이샤 | 감광성 페이스트 및 디스플레이 패널용 부재의 제조 방법 |
JP4357392B2 (ja) * | 2004-09-03 | 2009-11-04 | 富士フイルム株式会社 | 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法 |
-
2004
- 2004-11-30 KR KR1020040099483A patent/KR100599810B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2005
- 2005-11-28 JP JP2005341982A patent/JP4628260B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-11-30 TW TW094142171A patent/TWI310880B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-11-30 US US11/292,411 patent/US20060141392A1/en not_active Abandoned
- 2005-11-30 CN CN2005101258666A patent/CN1782873B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61145203A (ja) * | 1984-12-19 | 1986-07-02 | Toray Ind Inc | 光増感剤 |
JPH0882922A (ja) * | 1994-07-11 | 1996-03-26 | Toray Ind Inc | 水なし平版印刷版原版 |
JPH11125902A (ja) * | 1997-10-22 | 1999-05-11 | Sumitomo Chem Co Ltd | 着色画像形成用レジスト組成物 |
JPH11184093A (ja) * | 1997-12-25 | 1999-07-09 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性組成物、感光液、感光性エレメント及びカラーフィルタ又はカラープルーフの製造法 |
JPH11231524A (ja) * | 1998-02-17 | 1999-08-27 | Jsr Corp | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
JP2002020441A (ja) * | 2000-07-04 | 2002-01-23 | Hitachi Chem Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物 |
JP2003128739A (ja) * | 2001-10-19 | 2003-05-08 | Hitachi Chem Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物 |
JP2003207904A (ja) * | 2002-01-17 | 2003-07-25 | Goo Chemical Co Ltd | リフトオフ法用ネガ型感光性樹脂組成物及びドライフィルム |
WO2004099876A1 (en) * | 2003-05-07 | 2004-11-18 | Dongjin Semichem Co., Ltd. | Photosensitive resin composition and dry film resist using the same |
JP2006525407A (ja) * | 2003-05-07 | 2006-11-09 | ドウジン セミケム カンパニー リミテッド | 感光性樹脂組成物及びこれを利用したドライフィルムレジスト |
JP2005107191A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Mitsubishi Chemicals Corp | 青紫色レーザー感光性画像形成材料、青紫色レーザー感光性画像形成材及び画像形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006154825A (ja) | 2006-06-15 |
TWI310880B (en) | 2009-06-11 |
CN1782873A (zh) | 2006-06-07 |
CN1782873B (zh) | 2010-07-07 |
KR20060060419A (ko) | 2006-06-05 |
US20060141392A1 (en) | 2006-06-29 |
KR100599810B1 (ko) | 2006-07-12 |
TW200627064A (en) | 2006-08-01 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080808 |
|
A977 | Report on retrieval |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101027 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101109 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |