JP4622071B2 - モノマー、ポリマー、眼用レンズおよびコンタクトレンズ - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、モノマーおよび該モノマーからなるポリマーならびに眼用レンズに関するものである。本発明はコンタクトレンズ、眼内レンズ、人工角膜などの眼用レンズとして特に好適に用いられ、中でもコンタクトレンズとして最も好適である。
【０００２】
【従来の技術】
近年、眼用レンズ用のモノマーとして３−メタクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シランが利用されている（例えば、米国特許第３，８０８，１７８号公報）。
【０００３】
この３−メタクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シランからなるポリマーは、高酸素透過性を有するが、屈折率は高くないために光学的レンズ設計の自由度が低いという問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、分子内に硫黄原子を有し、高酸素透過性と高屈折率を同時に有するモノマーを提供することを目的とする。さらには該モノマーからなるポリマーならびに眼用レンズを提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明のモノマー、ポリマー、眼用レンズおよびコンタクトレンズは下記の構成を有する。
「〔１〕 下記一般式（ａ）で表されることを特徴とするモノマー、
【０００６】
【化４】

【０００７】
［式（ａ）中、Ａ^１〜Ａ^９はメチル基を表す。ａ、ｂ、ｃはそれぞれが互いに独立に０または１の整数を表す。ただし、式（ａ）中、下記式
【化４】

で表される基は、トリス（トリメチルシロキシ）シリル基、ビス（トリメチルシロキシ）メチルシリル基およびトリメチルシロキシジメチルシリル基から選ばれた基である。
ｋは１〜１０の整数を表す。Ｘは下記式（ｘ１）〜（ｘ６）で表される基から選ばれた基を示す。
【化５】

［式（ｘ１）〜（ｘ６）中、Ｒ ¹ はＨまたはメチル基を表す。］
〔２〕 〔１〕に記載のモノマーからなるポリマー、
〔３〕 〔２〕に記載のポリマーからなる眼用レンズ、
〔４〕 〔３〕に記載のポリマーからなるコンタクトレンズ。」
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を説明する。
【０００９】
本発明のモノマーは下記一般式（ａ）で表されることを特徴とする。
【００１０】
【化５】

【００１１】
［式（ａ）中、Ａ^１〜Ａ^９はメチル基を表す。ａ、ｂ、ｃはそれぞれが互いに独立に０または１の整数を表す。ただし、式（ａ）中、下記式
【化６】

で表される基は、トリス（トリメチルシロキシ）シリル基、ビス（トリメチルシロキシ）メチルシリル基およびトリメチルシロキシジメチルシリル基から選ばれた基である。
ｋは１〜１０の整数を表す。Ｘは下記式（ｘ１）〜（ｘ６）で表される基から選ばれた基を示す。
【化７】

［式（ｘ１）〜（ｘ６）中、Ｒ ¹ はＨまたはメチル基を表す。］
以下、式（ａ）中の置換基について説明する。
【００１２】
式（ａ）中、Ａ¹〜Ａ⁹はそれぞれが互いに独立にＨ、炭素数１〜８のアルキル基および炭素数６〜１２のアラルキル基および炭素数６〜１０のアリール基から選ばれた基を表す。その具体的な例としてはＨ；メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基などの炭素数１〜８のアルキル基；ベンジル基、フェネチル基などの炭素数６〜１２のアラルキル基；フェニル基、ナフチル基などの炭素数６〜１０のアリール基を挙げることができる。これらの中でも好ましいのはＨ、メチル基、フェニル基であり、最も好ましいのはメチル基である。
【００１３】
ａ、ｂ、ｃはそれぞれが互いに独立に０または１の整数を表す。
【００１４】
式（ａ）中、下記式
【００１５】
【化６】

【００１６】
で表される基として、最も好ましいものを挙げれば、トリス（トリメチルシロキシ）シリル基、ビス（トリメチルシロキシ）メチルシリル基およびトリメチルシロキシジメチルシリル基である。
【００１７】
ｋは１〜１０の整数を表すが、１〜３が好ましく、最も好ましくは３である。
【００１８】
Ｘは重合可能な炭素炭素不飽和結合を有する基を表すが、その具体的な例としては下記式（ｘ１）〜（ｘ６）で表される基を挙げることができる。中でも好ましいのは式（ｘ２）および（ｘ３）で表される基であり、最も好ましいのは式（ｘ２）で表される基である。
【００１９】
【化７】

【００２０】
［式（ｘ１）〜（ｘ６）中、Ｒ¹はＨまたはメチル基を表す。］
一般式（ａ）で表されるモノマーの合成法の一例としては、以下の方法を挙げることができる。すなわち、下記式（ａ１）
【００２１】
【化８】

【００２２】
［式（ａ１）中、ａ、ｂ、ｃおよびｋは式（ａ）中と同じ意味を表す。Ｒ¹¹〜Ｒ¹³はそれぞれが互いに独立に、アルキレン基を表す。Ｂ¹〜Ｂ³はそれぞれが互いに独立に、Ｈおよびアルキル基から選ばれた基を表す。］
で表される化合物と、モノクロロシランまたはモノアルコキシシランを水の存在下で反応させることにより、下記式（ａ２）
【００２３】
【化９】

【００２４】
［式（ａ２）中、各記号は式（ａ）中の各記号と同じ意味を表す。］
で表される化合物を得る。
【００２５】
次に式（ａ２）で表される化合物と重合可能な炭素炭素不飽和結合を有する適当な化合物と反応させることによって式（ａ）で表される化合物を得る方法である。
【００２６】
重合可能な炭素炭素不飽和結合を有する適当な化合物とは、Ｘの種類によって異なるが、例えばＸが式（ｘ１）で表される基である場合は、下記式（ｘ１−１）
【００２７】
【化１０】

【００２８】
［式（ｘ１−１）中、Ｒ¹はＨまたはメチル基を表す。］
の化合物である。
【００２９】
式（ａ２）で表される化合物と式（ｘ１−１）の化合物の反応は、チオール類とエポキシ類の通常の付加反応方法を適用することができる。一例を挙げれば、無機または有機の塩基性化合物の共存下で加熱する方法である。
【００３０】
また例えばＸが式（ｘ２）で表される基である場合は、重合可能な炭素炭素不飽和結合を有する適当な化合物とは下記式（ｘ２−１）または式（ｘ２−２）
【００３１】
【化１１】

【００３２】
［式（ｘ２−１）および（ｘ２−２）中、Ｒ¹はＨまたはメチル基を表す。Ｑはハロゲン基を表す。］の化合物である。
【００３３】
式（ａ２）で表される化合物と式（ｘ２−１）の化合物の反応は、チオール類と酸ハロゲン化物の通常の反応方法を適用することができる。一例を挙げれば、無機または有機の塩基性化合物の共存下で反応させる方法である。また、式（ａ２）で表される化合物と式（ｘ２−２）の化合物の反応は、チオール類と酸の通常のチオエステル化反応方法を適用することができる。一例を挙げれば、無機または有機の酸性触媒または塩基性触媒の共存下で反応させる方法である。
【００３４】
また例えばＸが式（ｘ３）で表される基である場合は、重合可能な炭素炭素不飽和結合を有する適当な化合物とは下記式（ｘ３−１）
【００３５】
【化１２】

【００３６】
［式（ｘ３−１）中、Ｒ¹はＨまたはメチル基を表す。］
の化合物である。
【００３７】
式（ａ２）で表される化合物と式（ｘ３−１）の化合物の反応は、チオール類とイソシアネート類の通常の反応方法を適用することができる。一例を挙げれば、スズ系などの無機触媒またはアミン類などの有機触媒の共存下で反応させる方法である。
【００３８】
また例えばＸが式（ｘ４）で表される基である場合は、重合可能な炭素炭素不飽和結合を有する適当な化合物とは下記式（ｘ４−１）
【００３９】
【化１３】

【００４０】
［式（ｘ４−１）中、Ｒ¹はＨまたはメチル基を表す。］
の化合物である。
【００４１】
式（ａ２）で表される化合物と式（ｘ４−１）の化合物の反応は、チオール類とイソシアネート類の通常の反応方法を適用することができる。一例を挙げれば、スズ系などの無機触媒またはアミン類などの有機触媒の共存下で反応させる方法である。
【００４２】
また例えばＸが式（ｘ５）で表される基である場合は、重合可能な炭素炭素不飽和結合を有する適当な化合物とは下記式（ｘ５−１）
【００４３】
【化１４】

【００４４】
［式（ｘ５−１）中、Ｒ¹はＨまたはメチル基を表す。Ｑはハロゲン基を表す。］
の化合物である。
【００４５】
式（ａ２）で表される化合物と式（ｘ５−１）の化合物の反応は、チオール類とハロゲン化アルキル類の通常の置換反応方法を適用することができる。無機または有機の塩基性化合物の共存下で加熱する方法である。
【００４６】
また例えばＸが式（ｘ６）で表される基である場合は、重合可能な炭素炭素不飽和結合を有する適当な化合物とは下記式（ｘ６−１）または（ｘ６−２）
【００４７】
【化１５】

【００４８】
［式（ｘ６−１）および（ｘ６−２）中、Ｒ¹はＨまたはメチル基を表す。Ｑはハロゲン基を表す。］
の化合物である。
【００４９】
式（ａ２）で表される化合物と式（ｘ６−１）の化合物の反応は、チオール類と酸ハロゲン化物の通常の反応方法を適用することができる。一例を挙げれば、無機または有機の塩基性化合物の共存下で反応させる方法である。また、式（ａ２）で表される化合物と式（ｘ６−２）の化合物の反応は、チオール類と酸の通常のチオエステル化反応方法を適用することができる。一例を挙げれば、無機または有機の酸性触媒または塩基性触媒の共存下で反応させる方法である。
【００５０】
本発明のポリマーは、式（ａ）で表されるモノマーを単独で重合して得ることも、他のモノマーと共重合して得ることも可能である。他のモノマーと共重合する場合の共重合モノマーとしては、共重合さえ可能であれば何ら制限はなく、(メタ)アクリロイル基、スチリル基、アリル基、ビニル基および他の共重合可能な炭素炭素不飽和結合を有するモノマーを使用することができる。
【００５１】
以下、その例をいくつか挙げるがこれらに限定されるものではない。（メタ）アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、ビニル安息香酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレートなどのアルキル(メタ)アクリレート類、ポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリアルキレングリコールモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、ポリアルキレングリコールビス（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリス（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラキス（メタ）アクリレート、両末端に炭素炭素不飽和結合を有するシロキサンマクロマーなどの多官能（メタ）アクリレート類、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロイソプロピル(メタ)アクリレートなどのハロゲン化アルキル(メタ)アクリレート類、２−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、２，３−ジヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなどの水酸基を有するヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアクリルアミド、 Ｎ，Ｎ−ジｎ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルホリン、Ｎ−アクリロイルピペリジン、Ｎ−アクリロイルピロリジン、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミドなどの（メタ）アクリルアミド類、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルピリジンなどの芳香族ビニルモノマー、マレイミド類、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルオキサゾリドン、１−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルカルバゾール、ビニルピリジン、ビニルピラジンなどのヘテロ環ビニルモノマー、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−ビニルアセトアミドなどのＮ−ビニルカルボキサミド類、酢酸ビニルなどのビニルエステル類、３−［トリス（トリメチルシロキシ）シリル］プロピル（メタ）アクリレート、３−［ビス（トリメチルシロキシ）メチルシリル］プロピル（メタ）アクリレート、３−［（トリメチルシロキシ）ジメチルシリル］プロピル（メタ）アクリレート、３−［トリス（トリメチルシロキシ）シリル］プロピル（メタ）アクリルアミド、３−［ビス（トリメチルシロキシ）メチルシリル］プロピル（メタ）アクリルアミド、３−［（トリメチルシロキシ）ジメチルシリル］プロピル（メタ）アクリルアミド、［トリス（トリメチルシロキシ）シリル］メチル（メタ）アクリレート、［ビス（トリメチルシロキシ）メチルシリル］メチル（メタ）アクリレート、［（トリメチルシロキシ）ジメチルシリル］メチル（メタ）アクリレート、［トリス（トリメチルシロキシ）シリル］メチル（メタ）アクリルアミド、［ビス（トリメチルシロキシ）メチルシリル］メチル（メタ）アクリルアミド、［（トリメチルシロキシ）ジメチルシリル］メチル（メタ）アクリルアミド、［トリス（トリメチルシロキシ）シリル］スチレン、［ビス（トリメチルシロキシ）メチルシリル］スチレン、［（トリメチルシロキシ）ジメチルシリル］スチレン、Ｎ−〔３−［トリス（トリメチルシロキシ）シリル］プロピル〕カルバミン酸ビニル、Ｎ−〔３−［ビス（トリメチルシロキシ）メチルシリル］プロピル〕カルバミン酸ビニル、Ｎ−〔３−［（トリメチルシロキシ）ジメチルシリル］プロピル〕カルバミン酸ビニルおよび下記式（ｃ１）〜（ｃ３）の化合物などである。
【００５２】
【化１６】

【００５３】
［式（ｃ１）〜（ｃ３）中、Ｒ¹¹はＨまたはメチル基を表す。ｓは１〜３の整数を表す。］
本発明のポリマーにおいては、良好な機械物性が得られ、消毒液や洗浄液に対する良好な耐性が得られるという意味で、１分子中に２個以上の共重合可能な炭素炭素不飽和結合を有するモノマーを共重合成分として用いることが好ましい。１分子中に２個以上の共重合可能な炭素炭素不飽和結合を有するモノマーの共重合比率は０．１重量％〜７０重量％が好ましく、０．２重量％〜４０重量％がより好ましい。
【００５４】
また、高酸素透過性と他の物性（例えば含水率）をバランスさせるという点からは、本発明のポリマーは式（ａ）で表されるモノマーを他のモノマーと共重合して用いることが好ましく、その場合の式（ａ）で表されるモノマーの共重合比率は３０重量％〜９７重量％、より好ましくは５０重量％〜９５重量％、最も好ましくは６０重量％〜９０重量％である。式（ａ）で表されるモノマーの共重合比率が低すぎる場合はポリマーの酸素透過性が低くなり、高すぎる場合は例えば含水率が低くなる傾向が有り好ましくない。
【００５５】
本発明のポリマーは、紫外線吸収剤や色素、着色剤などを含むものでもよい。また重合性基を有する紫外線吸収剤や色素、着色剤を、共重合した形で含有してもよい。
【００５６】
本発明のポリマーの重合方法、成形方法としては、公知の方法を使用することができる。例えば、一旦、丸棒や板状等に重合、成形しこれを切削加工等によって所望の形状に加工する方法、モールド重合法、およびスピンキャスト重合法などである。
【００５７】
本発明のポリマーを（共）重合により得る際は、重合をしやすくするために過酸化物やアゾ化合物に代表される熱重合開始剤や、光重合開始剤を添加することが好ましい。熱重合を行う場合は、所望の反応温度に対して最適な分解特性を有するものを選択して使用する。一般的には１０時間半減期温度が４０〜１２０℃のアゾ系開始剤および過酸化物系開始剤が好適である。光重合開始剤としてはカルボニル化合物、過酸化物、アゾ化合物、硫黄化合物、ハロゲン化合物、および金属塩などを挙げることができる。これらの重合開始剤は単独または混合して用いられ、およそ１重量％くらいまでの量で使用される。
【００５８】
本発明のポリマーを（共）重合により得る際は、重合溶媒を使用することができる。溶媒としては有機系、無機系の各種溶媒が適用可能であり特に制限は無い。例を挙げれば、水、メチルアルコール、エチルアルコール、ノルマルプロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ノルマルブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール等のアルコール系溶剤、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、乳酸エチル、安息香酸メチル等のエステル系溶剤、ノルマルヘキサン、ノルマルヘプタン、ノルマルオクタン等の脂肪族炭化水素系溶剤、シクロへキサン、エチルシクロへキサン等の脂環族炭化水素系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤、石油系溶剤等各種のものであり、これらは単独あるいは混合して使用することができる。
【００５９】
本発明のポリマーの重合方法、成形方法としては、公知の方法を使用することができる。例えば、一旦、丸棒や板状等に重合、成形しこれを切削加工等によって所望の形状に加工する方法、モールド重合法、およびスピンキャスト重合法などである。
【００６０】
一例として本発明のポリマーをモールド重合法により得る場合について、次に説明する。
【００６１】
モノマー組成物を一定の形状を有する２枚のモールドの空隙に充填する。そして光重合あるいは熱重合を行ってモールドの形状に賦型する。モールドは、樹脂、ガラス、セラミックス、金属等で製作されているが、光重合の場合は光学的に透明な素材が用いられ、通常は樹脂またはガラスが使用される。ポリマーを製造する場合には、多くの場合、２枚の対向するモールドにより空隙が形成されており、その空隙にモノマー組成物が充填されるが、モールドの形状やモノマーの性状によってはポリマーに一定の厚みを与えかつ充填したモノマー組成物の液モレを防止する目的を有するガスケットを併用してもよい。空隙にモノマー組成物を充填したモールドは、続いて紫外線のような活性光線を照射されるか、オーブンや液槽に入れて加熱されて重合される。光重合の後に加熱重合したり、逆に加熱重合後に光重合する両者を併用する方法もありうる。光重合の場合は、例えば水銀ランプや捕虫灯を光源とする紫外線を多く含む光を短時間（通常は１時間以下）照射するのが一般的である。熱重合を行う場合には、室温付近から徐々に昇温し、数時間ないし数十時間かけて６０℃〜２００℃の温度まで高めて行く条件が、ポリマーの光学的な均一性、品位を保持し、かつ再現性を高めるために好まれる。
【００６２】
本発明のポリマーは、種々の方法で改質処理を行うことができる。表面の水濡れ性を向上させるためには、該改質処理を行うことが好ましい。
【００６３】
ポリマーの具体的な改質方法としては、電磁波（光を含む）照射、プラズマ照射、蒸着およびスパッタリングなどケミカルベーパーデポジション処理、加熱、塩基処理、酸処理、その他適当な表面処理剤の使用、およびこれらの組み合わせを挙げることができる。これらの改質手段の中で、簡便であり好ましいのは塩基処理および酸処理である。
【００６４】
塩基処理または酸処理方法の一例としては、ポリマーを塩基性または酸性溶液に接触させる方法、ポリマーを塩基性または酸性ガスに接触させる方法等が挙げられる。そのより具体的な方法としては、例えば塩基性または酸性溶液にポリマーを浸漬する方法、ポリマーに塩基性または酸性溶液または塩基性または酸性ガスを噴霧する方法、ポリマーに塩基性または酸性溶液をヘラ、刷毛等で塗布する方法、ポリマーに塩基性または酸性溶液をスピンコート法やディップコート法で塗布する方法などを挙げることができる。最も簡便に大きな改質効果が得られる方法は、ポリマーを塩基性または酸性溶液に浸漬する方法である。
【００６５】
ポリマーを塩基性溶液または酸性溶液に浸漬する際の温度は特に限定されないが、通常−５０℃〜３００℃程度の温度範囲内で行われる。作業性を考えれば−１０℃〜１５０℃の温度範囲がより好ましく、−５℃〜６０℃が最も好ましい。
【００６６】
ポリマーを塩基性または酸性溶液に浸漬する時間については、温度によっても最適時間は変化するが、一般には１００時間以内が好ましく、２４時間以内がより好ましく、１２時間以内が最も好ましい。接触時間が長すぎると、作業性および生産性が悪くなるばかりでなく、酸素透過性の低下や機械物性の低下などの悪影響が出る場合がある。
【００６７】
塩基としてはアルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、各種炭酸塩、各種ホウ酸塩、各種リン酸塩、アンモニア、各種アンモニウム塩、各種アミン類、およびポリエチレンイミン、ポリビニルアミン等の高分子量塩基などが使用可能である。これらの中では、低価格であることおよび処理効果が大きいことからアルカリ金属水酸化物が最も好ましい。
【００６８】
酸としては、硫酸、燐酸、塩酸、硝酸などの各種無機酸、酢酸、ギ酸、安息香酸、フェノールなどの各種有機酸、およびポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリスルホメチルスチレンなどの高分子量酸が使用可能である。これらの中では、処理効果が大きく他の物性への悪影響が少ないことから高分子量酸が最も好ましい。
【００６９】
塩基性または酸性溶液の溶媒としては、無機、有機の各種溶媒が使用できる。例えば、水、メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリンなどの各種アルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの各種芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、石油エーテル、ケロシン、リグロイン、パラフィンなどの各種脂肪族炭化水素、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどの各種ケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、フタル酸ジオクチルなどの各種エステル類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジアルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、トリエチレングリコールジアルキルエーテル、テトラエチレングリコールジアルキルエーテル、ポリエチレングリコールジアルキルエーテルなどの各種エーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルイミダゾリジノン、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、ジメチルスルホキシドなどの各種非プロトン性極性溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタントリクロロエタン、トリクロロエチレンなどのハロゲン系溶媒、およびフロン系溶媒などである。中でも経済性、取り扱いの簡便さ、および化学的安定性などの点で水が最も好ましい。溶媒としては、２種類以上の物質の混合物も使用可能である。
【００７０】
本発明において使用される塩基性または酸性溶液は、塩基性物質または酸性物質および溶媒以外の成分を含んでいてもよい。
【００７１】
本発明において、ポリマーは、塩基または酸処理の後、洗浄により塩基性または酸性物質を除くことができる。
【００７２】
洗浄溶媒としては、無機、有機の各種溶媒が使用できる。例えば、水、メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリンなどの各種アルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの各種芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、石油エーテル、ケロシン、リグロイン、パラフィンなどの各種脂肪族炭化水素、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどの各種ケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、フタル酸ジオクチルなどの各種エステル類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジアルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、トリエチレングリコールジアルキルエーテル、テトラエチレングリコールジアルキルエーテル、ポリエチレングリコールジアルキルエーテルなどの各種エーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルイミダゾリジノン、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、ジメチルスルホキシドなどの各種非プロトン性極性溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタントリクロロエタン、トリクロロエチレンなどのハロゲン系溶媒、およびフロン系溶媒などである。一般的には水が最も好適である。
【００７３】
洗浄溶媒としては、２種類以上の溶媒の混合物を使用することもできる。洗浄溶媒は、溶媒以外の成分、例えば無機塩類、界面活性剤、および洗浄剤を含有してもよい。
【００７４】
該改質処理は、ポリマー全体に対して行っても良く、例えば表面のみに行うなどポリマーの一部のみに行ってもよい。表面のみに改質処理を行った場合にはポリマー全体の性質を大きく変えることなく表面の水濡れ性のみを向上させることができる。
【００７５】
本発明のポリマーは、酸素透過性は、酸素透過係数が４０×１０^-11（ｃｍ²／ｓｅｃ）［ｍＬＯ₂／（ｍＬ・ｈＰａ）］以上が好ましく、５０×１０^-11（ｃｍ²／ｓｅｃ）［ｍＬＯ₂／（ｍＬ・ｈＰａ）］以上がより好ましく、６０×１０^-11（ｃｍ²／ｓｅｃ）［ｍＬＯ₂／（ｍＬ・ｈＰａ）］以上が最も好ましい。酸素透過係数をこの範囲にすることにより、コンタクトレンズとして使用した場合に目に対する負担をより軽減することができ、連続装用が容易になる。
【００７６】
本発明は、コンタクトレンズ、眼内レンズ、人工角膜などの眼用レンズとして特に好適に用いられ、中でもコンタクトレンズとして最も好適である。
【００７７】
【実施例】
以下、実施例により、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれによって限定されるものではない。
〔測定方法〕
本実施例における各種測定は、以下に示す方法で行った。
（１）プロトン核磁気共鳴スペクトル
日本電子社製のＥＸ２７０型を用いて測定した。溶媒にクロロホルム−ｄを使用し、クロロホルムのピークを内部標準（７．２６ｐｐｍ）とした。
（２）屈折率
プルフリッヒの屈折率計（ＫＰＲ−２型、カルニュー光学工業社製）を用い、ｅ線によって測定した。
（３）酸素透過係数
理化精機工業社製の製科研式フィルム酸素透過率計を用いて３５℃の水中にてコンタクトレンズ状サンプルの酸素透過係数を測定した。なお、サンプルの膜厚は必要に応じて複数枚を重ね合わせることによって調整した。
〔合成例１〕 式（Ｊ１）の化合物の合成
【００７８】
【化１７】

【００７９】
１Ｌ三ツ口フラスコにヘキサン（５０ｇ）、メタノール（５０ｇ）および水（１００ｇ）を入れた。フラスコを氷浴に浸漬し、スリーワンモーターでフラスコ内を激しく撹拌した。ここへ、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン（チッソ社製“サイラエースＳ８１０”、６４．８ｇ）およびクロロトリメチルシラン（２１５．１ｇ）からなる混合物を約１．５時間かけて滴下した。このときフラスコ内の温度は１０〜２０℃であった。滴下終了後、１５〜２５℃において３時間撹拌を続けた。反応液は２層に分かれるので、分液ロートにより上層を分取した。これを、飽和食塩水（３回）および水（１回）によりこの順に洗浄した。無水硫酸ナトリウムにより脱水を行った後、ロータリーバキュームエバポレーターで溶媒を留去した。減圧蒸留（油回転真空ポンプ、Full Vacuum、沸点７８〜８０℃）により精製し、式（Ｊ１）の化合物を無色透明液体として得た。
〔合成例２〕 式（Ｊ２）の化合物の合成
【００８０】
【化１８】

【００８１】
３−メルカプトプロピルトリメトキシシランのかわりに３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン（アヅマックス社試薬）を使用する他は合成例１と同様に行って、式（Ｊ２）の化合物を無色透明液体として得た。
〔実施例１〕 式（Ｍ１）の化合物の合成
【００８２】
【化１９】

【００８３】
撹拌羽根を備えた３００ｍＬ三ツ口フラスコに、式（Ｊ１）の化合物（合成例１参照、３０．０ｇ）、メタクリル酸クロリド（１０．２ｇ）およびトルエン（２００ｍＬ）を入れた。このナスフラスコを氷浴に浸漬し、モーターで撹拌しているところへ、トリエチルアミン（８．２ｇ）およびトルエン（１５ｍＬ）からなる溶液を約３０分かけて滴下した。滴下終了後、室温で７時間撹拌を行った。析出したトリエチルアミン塩酸塩を吸引ろ過で除いた。ろ液を分液ロートに入れ、食塩水で５回洗浄した。無水硫酸ナトリウムにより脱水を行った後、ロータリーバキュームエバポレーターで溶媒を留去した。減圧蒸留により精製し、微黄色透明液体を得た。この液体のプロトン核磁気共鳴スペクトルを測定し分析した結果、０．１ｐｐｍ付近（２７Ｈ）、０．６ｐｐｍ付近（２Ｈ）、１．６ｐｐｍ付近（２Ｈ）、１．９ｐｐｍ付近（３Ｈ）、２．９ｐｐｍ付近（２Ｈ）、５．５ｐｐｍ付近（１Ｈ）および６．１ｐｐｍ付近（１Ｈ）にピークが検出されたことから式（Ｍ１）の化合物であることを確認した。該モノマーの屈折率は１．４４１という高い値であった。
〔実施例２〕 式（Ｍ２）の化合物の合成
【００８４】
【化２０】

【００８５】
撹拌羽根を備えた３００ｍＬ三ツ口フラスコに、式（Ｊ１）の化合物（３０．００ｇ）、アクリル酸クロリド（８．７９ｇ）およびトルエン（１５０ｍＬ）を入れた。このフラスコをアイスソルトバスに浸漬しモーターで撹拌しているところへ、トリエチルアミン（８．１８ｇ）およびトルエン（２０ｍＬ）からなる溶液を約３０分かけて滴下した（反応液温度−７〜−５℃）。滴下終了後、室温で３時間撹拌を行い、その後室温で一晩放置した。ヘキサン（２００ｍＬ）を加えた。反応液を分液ロートに入れ、食塩水で４回、水で４回洗浄した。無水硫酸ナトリウムにより脱水を行った後、ロータリーバキュームエバポレーターで溶媒を留去した。減圧蒸留により精製し、微黄色透明液体を得た。この液体のプロトン核磁気共鳴スペクトルを測定し分析した結果、０．１ｐｐｍ付近（２７Ｈ）、０．６ｐｐｍ付近（２Ｈ）、１．６ｐｐｍ付近（２Ｈ）、３．０ｐｐｍ付近（２Ｈ）、５．６ｐｐｍ付近（１Ｈ）および６．３ｐｐｍ付近（２Ｈ）にピークが検出されたことから式（Ｍ２）の化合物であることを確認した。該モノマーの屈折率は１．４４１という高い値であった。
〔比較例１〕
３−メタクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シランの屈折率を測定したところ１．４１８であり、実施例１および２と比較して低い値であった。
〔比較例２〕
３−アクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シランの屈折率を測定したところ１．４１６であり、実施例１および２と比較して低い値であった。
〔実施例３〕 式（Ｍ３）の化合物の合成
【００８６】
【化２１】

【００８７】
式（Ｊ１）の化合物のかわりに式（Ｊ２）の化合物（合成例２参照）を使用する他は実施例１と同様に行って微黄色透明液体を得た。この液体のプロトン核磁気共鳴スペクトルを測定し分析した結果、０．０ｐｐｍ付近（３Ｈ）、０．１ｐｐｍ付近（１８Ｈ）、０．６ｐｐｍ付近（２Ｈ）、１．６ｐｐｍ付近（２Ｈ）、１．９ｐｐｍ付近（３Ｈ）、２．９ｐｐｍ付近（２Ｈ）、５．５ｐｐｍ付近（１Ｈ）および６．１ｐｐｍ付近（１Ｈ）にピークが検出されたことから式（Ｍ３）の化合物であることを確認した。
〔実施例４〕 式（Ｍ４）の化合物の合成
【００８８】
【化２２】

【００８９】
式（Ｊ１）の化合物のかわりに式（Ｊ２）の化合物（合成例２参照）を使用する他は実施例２と同様に行って微黄色透明液体を得た。この液体のプロトン核磁気共鳴スペクトルを測定し分析した結果、０．０ｐｐｍ付近（３Ｈ）、０．１ｐｐｍ付近（１８Ｈ）、０．６ｐｐｍ付近（２Ｈ）、１．６ｐｐｍ付近（２Ｈ）、３．０ｐｐｍ付近（２Ｈ）、５．６ｐｐｍ付近（１Ｈ）および６．３ｐｐｍ付近（２Ｈ）にピークが検出されたことから式（Ｍ４）の化合物であることを確認した。
〔実施例５〕 式（Ｍ５）の化合物の合成
【００９０】
【化２３】

【００９１】
マグネット式回転子を備えた２００ｍＬナスフラスコに、式（Ｊ１）の化合物（合成例１参照、３．００ｇ）、トリエチルアミン（０．０５ｇ）およびトルエン（２０ｍＬ）を入れた。このナスフラスコを氷浴に浸漬し、撹拌しているところへ、２−イソシアナトエチルメタクリレート（１．２６ｇ）およびトルエン（１０ｍＬ）からなる溶液を約３０分かけて滴下した。滴下終了後、５０で７時間撹拌を行った。ロータリーバキュームエバポレーターで溶媒を留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒、酢酸エチル／ヘキサン）により精製し、微黄色透明液体を得た。この液体のプロトン核磁気共鳴スペクトルを測定し分析した結果、０．１ｐｐｍ付近（２７Ｈ）、０．６ｐｐｍ付近（２Ｈ）、１．６ｐｐｍ付近（２Ｈ）、１．９ｐｐｍ付近（３Ｈ）、２．９ｐｐｍ付近（２Ｈ）、３．３ｐｐｍ付近（２Ｈ）、４．２ｐｐｍ付近（２Ｈ）、５．０ｐｐｍ付近（１Ｈ）、５．５ｐｐｍ付近（１Ｈ）および６．１ｐｐｍ付近（１Ｈ）にピークが検出されたことから式（Ｍ５）の化合物であることを確認した。
〔実施例６〕
実施例１で得た式（Ｍ１）の化合物（７０重量部）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド（３０重量部）、トリエチレングリコールジメタクリレート（１重量部）および重合開始剤“ダロキュア１１７３”（ＣＩＢＡ社製、０．５重量部）を均一に混合し、このモノマー混合物をアルゴン雰囲気下で脱気した。窒素雰囲気のグローブボックス中で透明樹脂（ポリ４−メチルペンテン−１）製のコンタクトレンズ用モールドに注入し、捕虫灯を用いて光照射（１ｍＷ／ｃｍ²、１０分間）して重合した。得られたコンタクトレンズを純水中に室温で２４時間浸漬した後、０．２５Ｍ水酸化ナトリウム水溶液に室温で２４時間浸漬した。該コンタクトレンズを純水で洗浄した後、バイアル瓶中のホウ酸緩衝液（ｐＨ７．１〜７．３）に浸漬し、バイアル瓶を密封した。該バイアル瓶をオートクレーブに入れ、１２０℃で３０分間煮沸処理した。透明で濁りのないコンタクトレンズが得られた。得られたコンタクトレンズの酸素透過係数を表１に示した。
〔実施例７〜１０〕
式（Ｍ１）の化合物のかわりに、それぞれ実施例２〜５で得た式（Ｍ２）〜式（Ｍ５）の化合物を用いる他は、実施例６と全く同様に重合および後処理を行ってコンタクトレンズを得た。いずれの場合も透明で濁りのないコンタクトレンズが得られた。得られた各コンタクトレンズの酸素透過係数を表１に示した。
【００９２】
【表１】

【００９３】
【発明の効果】
本発明により、分子内に硫黄原子を有し、高酸素透過性と高屈折率を同時に有するモノマーが得られる。さらには該モノマーからなるポリマーならびに眼用レンズを得ることができる。該ポリマーならびに眼用レンズは高酸素透過性を有するために目への負荷が小さく、しかも高屈折率を同時に有するために光学的レンズ設計の自由度が高いという特長を有する。

Claims (5)

1. 下記一般式（ａ）で表されることを特徴とするモノマー。
   

   

   ［式（ａ）中、Ａ¹〜Ａ⁹はメチル基を表す。ａ、ｂ、ｃはそれぞれが互いに独立に０または１の整数を表す。ただし、式（ａ）中、下記式
   

   

   で表される基は、トリス（トリメチルシロキシ）シリル基、ビス（トリメチルシロキシ）メチルシリル基およびトリメチルシロキシジメチルシリル基から選ばれた基である。
   ｋは１〜１０の整数を表す。Ｘは下記式（ｘ１）〜（ｘ６）で表される基から選ばれた基を示す。
   

   

   ［式（ｘ１）〜（ｘ６）中、Ｒ¹はＨまたはメチル基を表す。］
2. 一般式（ａ）において、ｋ＝３であることを特徴とする請求項１に記載のモノマー。
3. 請求項１または２に記載のモノマーからなるポリマー。
4. 請求項３に記載のポリマーからなる眼用レンズ。
5. 請求項４に記載のポリマーからなるコンタクトレンズ。