JP4606624B2 - 毛髪化粧料 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、毛髪に対し、優れた柔軟性、平滑性及び油性感を付与し得る毛髪化粧料に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
毛髪化粧料には、毛髪に対して湿潤時の柔軟性や平滑性、油性感と、乾燥後の滑らかさ及び柔らかさ、櫛通りのよさを付与することが求められている。このような要求にこたえるため従来から、陽イオン性界面活性剤、例えばステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、ベヘニルトリメチルアンモニウムクロライド、ジステアリルジメチルアンモニウムクロライド等の長鎖アルキル基を有する第四級アンモニウム塩が主要成分として用いられている。また更に効果を向上させるためにセタノール等の長鎖アルコールや、炭化水素、シリコーン等の油剤が上記界面活性剤とともに使用されている。しかしながら、これらは毛髪の湿潤時と乾燥後の使用感を十分に満足するものではない。
【0003】
本発明の課題は、毛髪に対して特に湿潤時の柔軟性や平滑性、油性感、更には乾燥後の滑らかさ及び柔らかさ、櫛通りのよさを付与することができる毛髪化粧料を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明は、一般式(I)で表される第4級アンモニウム塩(以下第4級アンモニウム塩(I)という)から選ばれる少なくとも1種を含有する毛髪化粧料を提供する。
【0005】
【化3】
【0006】
[式中、R1は炭素数8〜30の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基、Yは炭素数1〜10の直鎖もしくは分岐鎖のアルキレン基又はアルケニレン基、R2は炭素数1〜24の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、アルケニル基又はヒドロキシアルキル基、あるいは式(II)
【0007】
【化4】
【0008】
(式中、R1及びYは前記の意味を示す)で表される基、R3及びR4は、同一又は異なって、炭素数1〜24の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、アルケニル基又はヒドロキシアルキル基、X-は陰イオン基を示す。]
【0009】
【発明の実施の形態】
第4級アンモニウム塩(I)において、R1は炭素数8〜30、好ましくは炭素数10〜24の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基であり、例えばC11H23-、C12H25-、C13H27-、C14H29-、C15H31-、C16H33-、C17H35-、C18H37-、C22H45-、C24H49-等の基が好適である。Yは炭素数1〜10、好ましくは炭素数2〜6の直鎖もしくは分岐鎖のアルキレン基又はアルケニレン基であり、例えばエチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、へキシレン基、イソプロピレン基等が挙げられる。R2は上記の意味を示すが、炭素数1〜3の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、又は式(II)で表される基が好ましく、特にメチル基、エチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基等の炭素数1〜3のアルキル基又はヒドロキシアルキル基が好ましい。R3及びR4は上記の意味を示すが、好ましくは炭素数1〜5、更に好ましくは炭素数1〜3の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、アルケニル基又はヒドロキシアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基が好適である。X-で示される陰イオン基としてはCl-、Br-等のハロゲンイオンや、メチル硫酸、エチル硫酸等のアルキル硫酸イオンが好ましい。
【0010】
第4級アンモニウム塩(I)は、アルキルイソシアナートと対応するアミンを反応させる方法又はアルキルアミンと対応するアミノイソシアナートを反応させる方法等により得られる尿素結合含有第3級アミンを4級化すること等により得られる。また、これらは反応後更に精製を施しても良いし、そのまま反応生成物を使用してもよい。なお反応生成物には、それぞれの原料や原料の分解物等が含まれる。
【0011】
本発明の毛髪化粧料中における第4級アンモニウム塩(I)の含有量は特に制限されないが、良好な感触や製品安定性を得る観点から、0.1〜15重量%が好ましく、0.5〜10重量%が更に好ましい。
【0012】
本発明の毛髪化粧料は、さらに油状成分を含有することが好ましい。油状成分としては高級アルコール、エステル油、シリコーン、炭化水素類、グリセリド等が挙げられ、高級アルコール、エステル油等の油剤及び/又はシリコーンが好ましく、高級アルコール及び/又はシリコーンが特に好ましい。
【0013】
本発明に用いられる高級アルコールとしては、直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を有する高級アルコール類、好ましくは炭素数12〜26の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を有する高級アルコール類、具体例としては、セタノール、セチルアルコール、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール、セリルアルコール等の高級アルコールが挙げられ、特にセタノール、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコールが好ましい。ここでセタノールとはセチルアルコールを主成分とし、ステアリルアルコール、オレイルアルコール等の高級アルコールを含有するものである。エステル油としては、炭素数8〜40の脂肪酸と炭素数1〜4の低級アルコールとのエステル等が挙げられ、具体的には、パルミチン酸イソプロピル、ミリスチン酸イソプロピルが好ましい。
【0014】
本発明に用いられるシリコーンとしては、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、アミノ変性シリコーン、脂肪酸変性ポリシロキサン、アルコール変性シリコーン、脂肪族アルコール変性ポリシロキサン、ポリエーテル変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、環状シリコーン、アルキル変性シリコーン等が挙げられる。
【0015】
本発明の毛髪化粧料中の油状成分の含有量は特に制限されないが、油剤特有の柔軟性やしっとり感が発揮され、良好な製品安定性を得る観点から、0.1〜30重量%が好ましく、1〜20重量%がより好ましい。
【0016】
本発明の毛髪化粧料中の第4級アンモニウム塩(I)と油状成分の割合は、油状成分の乳化/分散安定性の観点から、第4級アンモニウム塩(I)/油状成分(重量比)=10/1〜1/10が好ましく、1/1〜1/10が更に好ましい。
【0017】
本発明の毛髪化粧料には、上記成分に加え、他の陽イオン界面活性剤や、陰イオン界面活性剤、非イオン界面活性剤、両性界面活性剤等の界面活性剤、ラノリン誘導体、高級脂肪酸類、グリセリン、アミノ酸、保湿剤、カチオン性ポリマー、多糖類、ポリペプタイド、パール化剤、溶剤、液晶形成剤、無機酸、有機酸、色素、香料、紫外線吸収剤、酸化防止剤、噴射剤、キレート剤、pH調整剤、防腐剤、抗フケ剤等を本発明の目的を損なわない範囲内で適宜配合することができる。
【0018】
本発明の毛髪化粧料は、ヘアリンス、ヘアコンディショナー、ヘアトリートメント、ヘアパック、ヘアクリーム、コンディショニングムース、ヘアムース、ヘアスプレー、ヘアローションシャンプー、リーブオントリートメント等として調製することができ、また形態としては溶液状、均一分散状、不均一分散状、乳化状等のいずれの剤型にも調製しうる。
【0019】
【実施例】
例中の%は、特記しない限り重量%である。また、実施例で用いたセタノールはセチルアルコール/ステアリルアルコールの重量比7/3の混合物である。
【0020】
実施例1
表1に示す第4級アンモニウム塩1〜5、又は表2に示す比較化合物a、bを用い、表3に示す組成のヘアリンス剤を常法により製造した。これらのヘアリンス剤について、下記の方法により柔軟性等を官能評価した。結果を表3に示す。
【0021】
【表1】
【0022】
【表2】
【0023】
<評価方法>
コールドパーマ等の化学処理をしたことのない日本人女性の毛髪20g(長さ20cm,平均直径60μm)を束ね、シャンプーを用いて洗浄した。このシャンプー組成は、ポリオキシエチレンアルキル(炭素数12)エーテル硫酸ナトリウム(エチレンオキシド平均付加モル数2.5)15%、ジエタノールアミド3%、残部は水である。その後ヘアリンス剤2.0gを均一に塗布し、30秒間約40℃の流水で濯いだ。この塗布・濯ぎ時の柔軟性、平滑性と油性感、及び乾燥後の柔軟性、平滑性、櫛通り感について、専門パネラー1人が下記の基準に従って評価した。
◎;非常に良好、○;良好、×;不良
【0024】
【表3】
【0025】
実施例2
下記組成のヘアリンス剤を製造した。
第4級アンモニウム塩1 1.0%
セタノール 4.0%
パルミチン酸イソプロピル 2.0%
ジメチルポリシロキサン*1 3.0%
プロピレングリコール 1.0%
ヒドロキシエチルセルロース*2 0.1%
50%クエン酸水溶液 0.2%
香料、メチルパラベン 適量
精製水 バランス
*1:信越化学工業製 KF96A−5000cs
*2:ダイセル化学工業製 SE−850
このリンス剤は、濯ぎ時の柔軟性、平滑性、油性感、及び乾燥後の柔らか感、櫛通り感とも良好であった。
【0026】
実施例3
下記組成のヘアトリートメントを製造した。
第4級アンモニウム塩2 1.5%
ステアリルアルコール 5.0%
ジメチルポリシロキサン*1 3.0%
アミノ変性シリコーン*2 0.5%
モノステアリン酸ポリオキシエチレンソルビタン 0.5%
(エチレンオキサイド平均付加モル数20)
流動パラフィン 2.0%
ジプロピレングリコール 3.0%
グリセリン 7.0%
50%クエン酸水溶液 0.2%
ヒドロキシエチルセルロース*3 0.1%
香料、メチルパラベン 適量
精製水 バランス
*1:信越化学工業製 KF96A−5000cs
*2:東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製 アミノアルキルシリコーンエマルションSM8702C
*3: ダイセル化学工業製 SE−850
このヘアトリートメントは、塗布時、濯ぎ時のリッチ感とその持続性、柔軟性、平滑性、及び乾燥後の柔らか感、櫛通り感も良好であった。
【0027】
実施例4
下記組成のコンディショニングシャンプーを製造した。
第4級アンモニウム塩3 3.0%
セタノール 0.5%
ポリオキシエチレンラウリルエーテル 10.0%
(エチレンオキサイド平均付加モル数=15)
ラウロイルジエタノールアミド 1.0%
ポリオキシエチレンラウリルエーテルスルホコハク酸エステル2Na 4.0%
(エチレンオキサイド平均付加モル数=3)
ジメチルポリシロキサン*1 2.0%
カチオン化セルロース*2 0.5%
エチレングリコールジステアレート 1.5%
50%クエン酸水溶液 0.05%
香料、メチルパラベン 適量
精製水 バランス
*1:信越化学工業製KF96A−5000cs
*2:ユニオンカーバイド社製 JR400
このコンディショニングシャンプーは、柔軟性、平滑性、油性感とも良好であった。
【0028】
【発明の効果】
本発明の毛髪化粧料は、毛髪に対して湿潤時の良好な柔軟性や平滑性、油性感、更には乾燥後の滑らかさ及び柔らかさ、櫛通りのよさを付与することができる。
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001074515A JP4606624B2 (ja) | 2001-03-15 | 2001-03-15 | 毛髪化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001074515A JP4606624B2 (ja) | 2001-03-15 | 2001-03-15 | 毛髪化粧料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002275035A JP2002275035A (ja) | 2002-09-25 |
JP4606624B2 true JP4606624B2 (ja) | 2011-01-05 |
Family
ID=18931767
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001074515A Expired - Fee Related JP4606624B2 (ja) | 2001-03-15 | 2001-03-15 | 毛髪化粧料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4606624B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050129643A1 (en) * | 2003-06-20 | 2005-06-16 | Lepilleur Carole A. | Hydrocolloids and process therefor |
FR2874818B1 (fr) * | 2004-09-08 | 2007-06-22 | Oreal | Composition cosmetique a base d'un tensioactif cationique, d'une silicone aminee, d'un alcool gras et d'un diol |
JP4970020B2 (ja) * | 2006-12-19 | 2012-07-04 | ライオン株式会社 | 毛髪化粧料 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3678157A (en) * | 1968-10-23 | 1972-07-18 | Oreal | Hair treatment compositions containing polycondensable compounds |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3238764B2 (ja) * | 1992-11-10 | 2001-12-17 | 花王株式会社 | 新規尿素誘導体及びその製造方法 |
JP3577841B2 (ja) * | 1996-05-25 | 2004-10-20 | 花王株式会社 | 毛髪処理剤組成物 |
FR2770523B1 (fr) * | 1997-11-04 | 1999-12-31 | Oreal | Compose de type ceramide, procede de preparation et utilisation |
-
2001
- 2001-03-15 JP JP2001074515A patent/JP4606624B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3678157A (en) * | 1968-10-23 | 1972-07-18 | Oreal | Hair treatment compositions containing polycondensable compounds |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002275035A (ja) | 2002-09-25 |
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JP2020007296A (ja) | 毛髪化粧料 | |
JPH04230615A (ja) | 毛髪化粧料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070709 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070709 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080814 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |