JP4696546B2 - 排気ガス浄化用触媒 - Google Patents
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Description
上記触媒層は、少なくとも2つの層が積層されたものであり、
上記中空状酸化物粉末は、セリア系酸化物又はアルミナ系酸化物の粉末であり、上記触媒層のうちの上記ハニカム状担体側に存する最下層に含まれ、
上記触媒層のうちの上記排気ガス通路を流れる排気ガスに直接晒される上層に、中実状Zr−Ce複酸化物粉末が含まれ、
上記中空状酸化物粉末に、触媒金属としてPt及びPdのうちの少なくとも一方が担持され、
上記中実状Zr−Ce複酸化物粉末に、触媒金属としてRhを担持されていることを特徴とする。
上記中空状酸化物粉末は、上記ハニカム状担体における排気ガス流れ方向の上流端より下流端へ向かう所定範囲にのみ設けられていることを特徴とする。
上記上層には、触媒金属としてさらにPtが含まれていることを特徴とする。
(触媒の構成)
本例は、上層7にはハニカム状担体の全長にわたって中実状のRh担持Zr−Ce複酸化物粉末を配置し、下層6にはハニカム状担体の全長にわたって中空状のPt担持La含有アルミナ粉末を配置したものである。
上記中空状Pt担持La含有アルミナ粉末は以下の方法によって調製した。
そうして、上記中空状Pt担持La含有アルミナ粉末をバインダ及び水と混合してスラリーを調製し、このスラリーにハニカム状担体を浸漬して引き上げ、エアブローによって余分なスラリーを吹き飛ばした。しかる後、大気雰囲気において150℃で2時間の乾燥及び500℃で2時間の焼成を行なうことにより、下層を形成した。
上層7は実施例1−1と同じ構成(全長にわたって中実状Rh担持Zr−Ce複酸化物粉末を配置,Zr−Ce複酸化物担持量50g/L,Rh担持量0.15g/L)とした。
上層7は実施例1−1と同じ構成(全長にわたって中実状Rh担持Zr−Ce複酸化物粉末を配置,Zr−Ce複酸化物担持量50g/L,Rh担持量0.15g/L)とした。
上層7には、実施例1−1と同じくハニカム状担体2の全長にわたって中実状Rh担持Zr−Ce複酸化物粉末を配置した。但し、Zr−Ce複酸化物担持量は50g/Lとなるようにしたが、Rh担持量は実施例1−1とは違って0.1g/Lとなるようにした。Zr−Ce複酸化物のZrO2/CeO2の質量比は75/25である。
上層7は実施例2−1と同じ構成(全長にわたって中実状Rh担持Zr−Ce複酸化物粉末を配置,Zr−Ce複酸化物担持量50g/L,Rh担持量0.1g/L)とした。
上層7は実施例2−1と同じ構成(全長にわたって中実状Rh担持Zr−Ce複酸化物粉末を配置,Zr−Ce複酸化物担持量50g/L,Rh担持量0.1g/L)とした。
上層7にはハニカム状担体の全長にわたって中実状Rh担持Zr−Ce複酸化物粉末と中実状Pt担持La含有アルミナ粉末との混合物を配置した。中実状Rh担持Zr−Ce複酸化物粉末は実施例2−1の上層のそれと同じくZrO2/CeO2質量比が75/25の中実状Zr−Ce複酸化物にRhを担持したものであって、担持量はZr−Ce複酸化物が50g/L、Rhが0.1g/Lとなるようにした。一方、上層7の中実状Pt担持La含有アルミナ粉末は、La/Alモル比が5/100の中実状La含有アルミナにPtを担持したものであって、La含有アルミナ担持量は50g/L、Pt担持量は0.1g/Lである。
上層7は実施例3−1と同じ構成(全長にわたって中実状Rh担持Zr−Ce複酸化物粉末と中実状Pt担持La含有アルミナ粉末との混合物を配置,Zr−Ce複酸化物担持量50g/L,Rh担持量0.1g/L,La含有アルミナ担持量50g/L,Pt担持量0.1g/L)とした。
上層7は実施例3−1と同じ構成(全長にわたって中実状Rh担持Zr−Ce複酸化物粉末と中実状Pt担持La含有アルミナ粉末との混合物を配置,Zr−Ce複酸化物担持量50g/L,Rh担持量0.1g/L,La含有アルミナ担持量50g/L,Pt担持量0.1g/L)とした。
上記実施例及び比較例の各触媒について、大気雰囲気において1000℃の温度に24時間保持するエージングを行なった後、モデルガス流通反応装置に取り付け、空燃比リッチのモデルガス(温度600℃)を20分間流した後、下記のモデルガスにより、HC、CO及びNOx(窒素酸化物)の浄化に関するライトオフ温度T50を測定した。T50は、触媒に流入するモデルガス温度を常温から500℃まで漸次上昇させていき、浄化率が50%に達したときの触媒入口のガス温度である。モデルガスは、A/F=14.7±0.9とした。すなわち、A/F=14.7のメインストリームガスを定常的に流しつつ、所定量の変動用ガスを1Hzでパルス状に添加することにより、A/Fを±0.9の振幅で強制的に振動させた。空間速度SVは60000h−1、昇温速度は30℃/分である。
2 ハニカム状担体
3 セル(排気ガス通路)
5 セル壁
6 下層
6a 上流側下層
6b 下流側下層
7 上層
8 中空殻
Claims (3)
- ハニカム状担体の排気ガス通路壁の表面に、中空状酸化物粉末と、該酸化物粉末に担持された触媒金属とを含有する触媒層が形成されている排気ガス浄化用触媒において、
上記触媒層は、少なくとも2つの層が積層されたものであり、
上記中空状酸化物粉末は、セリア系酸化物又はアルミナ系酸化物の粉末であり、上記触媒層のうちの上記ハニカム状担体側に存する最下層に含まれ、
上記触媒層のうちの上記排気ガス通路を流れる排気ガスに直接晒される上層に、中実状Zr−Ce複酸化物粉末が含まれ、
上記中空状酸化物粉末に、触媒金属としてPt及びPdのうちの少なくとも一方が担持され、
上記中実状Zr−Ce複酸化物粉末に、触媒金属としてRhを担持されていることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 請求項1において、
上記中空状酸化物粉末は、上記ハニカム状担体における排気ガス流れ方向の上流端より下流端へ向かう所定範囲にのみ設けられていることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 請求項1又は請求項2において、
上記上層には、触媒金属としてさらにPtが含まれていることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。
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