JP4691135B2 - 情報記録媒体用ガラス基板 - Google Patents
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Description
特に本発明は、人体及び環境に対して悪影響をおよぼす砒素成分やアンチモン成分を使用しなくとも、情報記録媒体基板用途としての物性を備えたガラス基板を提供するものである。
ダイレクトプレス法においては、ガラスを溶融する際に、溶融ガラスから泡を除くために清澄剤として砒素やアンチモン成分が使用されていたが、近年、人体及び環境に対して悪影響を及ぼす恐れがあるとして、その含有量を低減、あるいは使用しないことが求められている。
酸化物基準において、SiO2成分、Al2O3、R2O成分を必須で含有し、さらに清澄成分としてα元素を含有し、ガラス中のα元素酸化物とβ元素化合物のモル比βm/αmが0.1未満であり、比重が2.70未満であることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。ただし、α元素は、Sn、Ceのうちどちらか1種の元素であり、β元素は、Sn、Ce、Mn、W、Ta、Bi、S、Cl、およびFから選ばれる1種以上でありα元素と重複しない。また、Rは、Li、Na、Kから選ばれる1種以上である。
(構成2)
前記α元素の含有量は酸化物基準の質量%で、
SnO2 0.01〜2.3%、または、
CeO2 0.01〜2.5%、
である構成1に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
(構成3)
酸化物基準の質量%で
SiO2:55〜80%、および
Al2O3:2〜20%、および
R2O:3〜20%、
の各成分を含有する構成1または2に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
(構成4)
酸化物基準の質量%で
P2O5:0〜3.0%、および/または
ZrO2:0〜10%、および/または
B2O3:0〜15%、および/または
BaO:0〜15%、および/または
SrO:0〜15%、および/または
MgO:0〜20%、および/または
CaO:0〜20%、および/または
ZnO:0〜20%、および/または
TiO2:0〜10%、および/または
Gd2O3成分、La2O3成分、Y2O3成分、Nb2O5成分Ga2O3成分から選ばれる1種以上の合計の含有量:0〜15%、
の各成分を含有する構成1〜3のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板。
(構成5)
ヤング率が81GPa以上、かつ、ヤング率と比重の比である比弾性率が30以上である構成1〜4のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板。
(構成6)
前記β元素を実質的に含有しない構成1〜5のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板。
(構成7)
酸化物基準でAs2O3成分およびSb2O3成分を実質的に含有しない構成1〜6のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板。
(構成8)
構成1〜7のいずれかに記載の基板の表面に圧縮応力層を設けた情報記録媒体用ガラス基板。
(構成9)
前記圧縮応力層は表面層に存在するアルカリ成分よりもイオン半径の大きなアルカリ成分で置換することにより形成されてなる構成8に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
(構成10)
前記圧縮応力層は基板の加熱、その後急冷によって形成されたことを特徴とする構成8または9に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
(構成11)
表面粗度Ra(算術平均粗さ)が2Å以下であることを特徴とする構成1から10のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板。
(構成12)
構成1から11に記載の情報記録媒体用ガラス基板を用いた情報記録媒体。
本明細書において本発明のガラス基板とは、アモルファスガラス基板、結晶化ガラス基板を総称し、このガラス基板を構成する各組成成分について述べるとき、特に記載が無い場合は、各成分の含有量は酸化物基準の質量%で示す。ここで、「酸化物基準」とは、本発明のガラスの構成成分の原料として使用される酸化物、硝酸塩等が溶融時にすべて分解され酸化物へ変化すると仮定して、ガラス中に含有される各成分の組成を表記する方法であり、この生成酸化物の質量の総和を100質量%として、ガラス中に含有される各成分の量を表記する。
また、上記モル比の算出は次のように求める。まずβ元素として含有される成分を除外して、α元素を含めたガラスの構成成分が酸化物としてガラス中に存在すると仮定して、それら酸化物の総数を100モル%とした時のα元素酸化物のモル%をαmとし、前記β元素を除外したガラスを構成する各酸化物の総数に対するβ元素化合物のモル%をβmとする。
α元素を酸化物としてそのモル%を算出する場合は、SnをSnO2、CeをCeO2とする。β元素を化合物としてそのモル%を算出する場合は、SnをSnO2、CeをCeO2、MnをMnO2、WをWO3、TaをTa2O5、BiをBi2O3、SをSO3、ClをCl2、FをF2とする。
前記β元素は、ダイレクトプレス時のリボイルを抑制するためには実質的に含有しないことが最も好ましい。
一方、機械的強度を維持しつつ、比重を低くし、高い清澄効果を得て、かつダイレクトプレス時のリボイル抑制効果を高めるためには、SnO2成分の含有量の上限は2.3%が好ましく、2.2%がより好ましく、2.0%が最も好ましく、CeO2成分の上限は2.5%が好ましく、2.3%がより好ましく、2.1%が最も好ましい。
上記SnO2成分とCeO2成分はα元素として含有されるのはどちらか一方のみであるが、α元素として含有されない他方の元素については、β元素として上記に規定したβm/αmの比を満たす範囲であれば含有することができる。
上記ヤング率、およびヤング率[GPa]/比重で表わされる比弾性率の値は、上記比重の値を特定の範囲に限定することで達成することができる。
まず、上記の組成範囲のガラス構成成分を有する様に酸化物、炭酸塩、硝酸塩等の原料を混合し、白金や石英等の坩堝を使用した通常の溶解装置を用いて、ガラス融液の粘度が2.3〜3.0dPa・sとなる温度で溶解する。
次にガラス融液の温度を、粘度が1.5〜2.3dPa・s、好ましくは1.9〜2.2dPa・sとなる温度まで昇温し、ガラス融液内に泡を発生させ撹拌効果を引き起こし均質度を向上させる。
その後、ガラス融液の温度を、粘度が2.2〜2.6dPa・s、好ましくは2.3〜2.5dPa・sとなる温度まで降温し、ガラス内部に発生していた泡の消泡、清澄を行い、その後この温度を維持する。
さらに坩堝からプレス成型形へガラスを導くためのガラス流出パイプの温度を、ガラスの粘度が2.2〜2.6dPa・s、好ましくは2.3〜2.5dPa・sとなる温度に設定し、前記下型上に所定量のガラスを滴下し、上型と下型を接近させプレスし、ガラス成形体を得る。
情報記録媒体用基板の製造においては、1枚あたりのコスト低減が求められるため、プレススピード150〜700mm/sec、サイクルタイム(プレス開始後次のプレス開始までの時間)1〜2secという高速でプレスするが、このようなプレス時の衝撃においても本発明のガラスを使用し、ガラス融液の温度と製造装置の温度を上記の様に管理することで、プレス時のリボイルの発生を抑制することが可能となる。
なお、表面粗度Ra(算術平均粗さ)は原子間力顕微鏡(AFM)にて測定した。
また、本発明のガラスの温度−粘度グラフを図1に示す。
ガラスの粘度測定は球引上げ式粘度計(有限会社オプト企業製BVM−13LH)を用いて測定した。
また、平均線膨張係数はJOGIS(日本光学硝子工業会規格)16−2003「光学ガラスの常温付近の平均線膨張係数の測定方法」に則り、温度範囲を25℃から100℃に換えて測定した値をいう。
比重はアルキメデス法、ヤング率は超音波法を用いて測定した。
実施例1の2.5インチHDD用研磨基板(65φ×0.635mmt)を400℃の硝酸カリウムと硝酸ナトリウムの混合塩(KNO3:NaNO3=1:3)に0.5時間浸漬し、表面に圧縮応力層を形成した。この基板はリング曲げ強度が圧縮応力層形成前(260MPa)の7倍に向上していることが確認された。なお、リング曲げ強度とは、直径が65mmで厚み0.635mmの薄い円板状試料を作成し、円形の支持リングと荷重リングにより該円板状試料の強度を測定する同心円曲げ法で測定した曲げ強度をいう。
実施例9の2.5インチHDD用研磨基板(65φ×0.635mmt)をに400℃の硝酸カリウムと硝酸ナトリウムの混合塩(KNO3:NaNO3=1:3)に0.5時間浸漬し、表面に圧縮応力層を形成した。この基板はリング曲げ強度が圧縮応力層形成前(280MPa)の5倍に向上していることが確認された。
実施例1の2.5インチHDD用研磨基板(65φ×0.635mmt)を300℃〜600℃に加熱した後に空冷法で急速冷却を実施し、表面に圧縮応力層を形成した。この基板はリング曲げ強度が向上していることが確認された。
実施例1のガラスを500℃〜650℃で熱処理し核形成工程を行い、この核形成工程の後に、600℃〜850℃の範囲で核形成工程より高い温度で熱処理することにより結晶成長工程を行うことにより、二珪酸リチウム及び二珪酸リチウム固溶体、α−石英、α石英固溶体が析出し、比重2.48g/cm3、ヤング率102GPa、ヤング率/比重41.1、CTE85×10−7/℃のガラスを作製することができた。なお、結晶相の同定はX線回折装置(パナリティカル社製、商品名:X’pert−MPD)で得たX線回折図形から求めた。
また、実施例29の2.5インチHDD用研磨基板(65φ×0.635mmt)を公知の方法で作製し、400℃の硝酸カリウムと硝酸ナトリウムの混合塩(KNO3:NaNO3=1:3)に0.5時間浸漬し、表面に圧縮応力層を形成した。この基板はリング曲げ強度が圧縮応力層形成前(500MPa)の3倍に向上していることが確認された。
また、上記の実施例により得られた基板に、DCスパッタ法により、クロム合金下地層、コバルト合金磁性層を成膜し、さらにダイヤモンドライクカーボン層を形成し、次いでパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を塗布して、情報磁気記録媒体を得た。
Claims (8)
- 酸化物基準の質量%において、SiO2成分57〜80%、Al2O3成分2〜20%、R2O成分(Rは、Li、Na、Kから選ばれる1種以上である)3〜20%を必須で含有し、
さらに、B2O3成分の含有量が0〜9.5%であり、
清澄成分としてSnO2成分及びCeO2成分のどちらか一方のみを含有し、SnO2成分を含有する場合にはSnO2成分の含有量が0.5〜2.3%であり、CeO2成分を含有する場合にはCeO2成分の含有量が0.01〜2.5%であり、As2O3成分およびSb2O3成分を含まず、
比重が2.70未満であり、ダイレクトプレス成形により形成された情報記録媒体用ガラス基板(ただし、Au、Cu及びAgからなる群より選択される1種以上を含有するものを除く)。 - 酸化物基準の質量%で
P2O5:0〜3.0%、および
ZrO2:0〜10%、および
BaO:0〜15%、および
SrO:0〜15%、および
MgO:0〜20%、および
CaO:0〜20%、および
ZnO:0〜20%、および
TiO2:0〜10%、および
Gd2O3成分、La2O3成分、Y2O3成分、Nb2O5成分、Ga2O3成分から選ばれる1種以上の合計の含有量:0〜15%、
の各成分を含有する請求項1に記載の情報記録媒体用ガラス基板。 - ヤング率が81GPa以上、かつ、ヤング率と比重の比である比弾性率が30以上である請求項1または2に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の基板の表面に圧縮応力層を設けた情報記録媒体用ガラス基板。
- 前記圧縮応力層は表面層に存在するアルカリ成分よりもイオン半径の大きなアルカリ成分で置換することにより形成されてなる請求項4に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
- 前記圧縮応力層は基板の加熱、その後急冷によって形成されたことを特徴とする請求項4または5に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
- 表面粗度Ra(算術平均粗さ)が2Å以下であることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板。
- 請求項1から7のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板を用いた情報記録媒体。
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