JP4671511B2 - Wiring board manufacturing method - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体素子等が実装されて、各種電子機器に組み込まれる配線基板の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の配線基板としては、例えば図3に示す如く、ガラスやセラミックから成る基板11の上面に複数個の導体層12を所定パターンに被着させるとともに、該導体層12の上面に、半導体素子やフレキシブル配線板等の外部電気回路をボンディングする際のボンディング性を良好となしたり、或いは、導体層12の腐食を防止する目的で、クロムやニッケル、金等の耐腐食性に優れた金属から成るメッキ層13を被着させた構造のものが知られている。
【0003】
尚、前記メッキ層13は、従来周知の電界メッキ法によって形成するのが一般的であり、かかる手法によってメッキ層13を形成する場合、基板11の上面には、電界メッキの工程において導体層12に電源端子を接続するメッキリード層12aの一部が残存することとなる。
【0004】
またかかる配線基板の製造には、基板11よりもひと回り大きな基板素体が使用され、上述した電界メッキ法にて導体層12及びメッキリード層12aの表面にメッキ層13を形成した後、メッキリード層12aと電源端子との接続部が設けられる基板素体の外周部をダイシングホイール等の鋭利なカッターを用いて外形加工し、基板素体外周部の不要な部分を切り離すことによって所定の配線基板が得られる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述の如き工程を経て配線基板を製造する場合、基板素体を切断して外形加工を行った際に、メッキリード層12aの終端部が露出する形になる。
【0006】
このようなメッキリード層12aが、銀(Ag)を含む導電材料により形成されている場合、メッキリード層12a中に含まれている銀が前述の露出面で大気中の水分等と接触し、酸化腐食される。このような腐食が時間の経過と共に進行すると、銀の腐食がメッキリード層12aと連続的に形成されている導体層12にまで及んでしまい、その結果、配線基板として機能させることが不可となる欠点を有していた。
【0007】
またこのような従来の配線基板を使用した際、隣接する導体層間に電位差が生じると、基板11の端面において隣接するメッキリード層間でマイグレーションを発生することがあり、その場合、隣接する導体層同士が電気的に短絡する欠点も有していた。
【0008】
本発明は上記欠点に鑑み案出されたもので、その目的は、導体層の腐食や隣接する導体層間の短絡を有効に防止することが可能な高信頼性の配線基板の製造方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明の配線基板の製造方法は、パターン形成領域を有する基板素体の上面のうち、前記パターン形成領域に導体材料から成る導体層を、前記パターン形成領域から該領域の外側の領域にかけて前記導体層より延在されたメッキリード層を被着させる工程と、前記導体層及びメッキリード層の表面にメッキ層を被着させる工程と、前記基板素体に対し、前記パターン形成領域の外周に沿って上方より押圧するとともに、基板素体、メッキリード層及びメッキ層をパターン形成領域の外周部で切断することにより、前記メッキ層を前記メッキリード層の端面を覆うように圧延させて切断された前記基板素体の端面に被着させる工程と、を含むことを特徴とするものである。
また本発明の配線基板の製造方法は、パターン形成領域を有する基板素体の上面のうち、前記パターン形成領域に銀を含む導体材料から成る複数個の導体層を、前記パターン形成領域から該領域の外側の領域にかけて前記導体層より延在されたメッキリード層を被着させる工程と、前記パターン形成領域の外側に延在させたメッキリード層に電界メッキ用の電源端子を接続させるとともに前記基板素体をメッキ液中に浸漬することにより、前記導体層及びメッキリード層の表面にニッケル、金の少なくとも1種より成るメッキ層を被着させる工程と、前記基板素体に対し、パターン形成領域の外周に沿って上方よりスクライブホイールを押圧して、基板素体、メッキリード層及びメッキ層をパターン形成領域の外周部で切断するとともに、該切断面に臨むメッキリード層の端面を、上記スクライブホイールの押圧力によって圧延せしめたメッキ層の端部で被覆する工程と、を含むことを特徴とするものである。
【0011】
本発明によれば、基板の外周部まで延在されているメッキリード層の終端面をその上に被着されているメッキ層の端部で被覆するようにしたことから、銀を含んだ導電材料から成るメッキリード層等が大気と接触して腐食されてしまうことは殆どなく、従ってメッキリード層と連続的に形成されている導体層等の腐食が有効に防止され、配線基板を長期にわたり良好に機能させることができる。
【0012】
またこの場合、配線基板の使用に際して隣接する導体層間に電位差が生じても、メッキリード層の終端面はメッキ層でもって良好に被覆されているため、基板の端面において隣接するメッキリード層間でマイグレーションが発生することはなく、隣接する導体層同士の電気的短絡も有効に防止することができる。
【0013】
しかも本発明によれば、上述したメッキ層による被覆構造は、配線基板の外形加工において、導体層やメッキリード層が所定パターンに被着されている基板素体に対し、導体層のパターン形成領域の外周部で上方よりスクライブホイールを押圧して、基板素体、メッキリード層及びメッキ層をパターン形成領域の外周部で切断する際に、展性ならびに耐腐食性に優れたニッケルや金から成るメッキ層がスクライブホイールの押圧力によって圧延されることで同時に実現されるため、かかる被覆構造は、別途、被覆層を被着させたりすることなく比較的容易に得られ、配線基板の生産性を高く維持することができる利点もある。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を添付図面に基づいて詳細に説明する。
図1は本発明の一実施形態に係る配線基板の断面図であり、1は基板、2は下地層、3は導体層、3aはメッキリード層、4はメッキ層である。
【0015】
前記基板1は、アルミナセラミックス、ムライト、窒化アルミニウム、ガラスセラミックス、石英のセラミック材料やソーダライムガラス、無アルカリガラス等の高軟化点のガラス材料から成り、その上面には下地層2を介して複数個の導体層3が被着され、これらを支持する支持母材として機能する。
【0016】
また前記基板1の上面に被着されている下地層2は、後述する導体層3やメッキリード層3a等を基板1上に強固に被着させておくための密着層として機能するものであり、例えば鉛系ガラスやビスマス系ガラス等の低軟化点のガラス材料、もしくはポリイミド樹脂やフッ素系樹脂等の低軟化点の樹脂材料から成り、その上面には複数個の導体層3が所定パターンをなすように被着・形成される。
【0017】
前記導体層3は、銀(Ag)を例えば85wt%以上含む導電材料から成り、隣接する導体層間3−3には例えば10μm〜100μmの間隔が設けられ、配線基板の使用時、図示しないスイッチングトランジスタ等によって5mW〜15mWの電力が個々に選択的に印加されるようになっている。
【0018】
更に前記下地層2上には、各導体層3より基板外周部まで延在するようにメッキリード層3aが被着・形成されている。
【0019】
前記メッキリード層3aは、導体層3の表面に従来周知の電界メッキ法にてメッキ層4を形成する際に導体層3に対して電力を印加するためのものであり、先に述べた導体層3と同質の、銀を含む導体材料によって導体層3と連続的に、かつ略等しい膜厚で形成される。
【0020】
そして、前記導体層3及びメッキリード層3aの表面には、ニッケルもしくは金から成るメッキ層4が被着されている。
【0021】
前記メッキ層4は、半導体素子やフレキシブル配線板等の外部電気回路を導体層3にボンディングする際のボンディング性を良好となしたり、或いは、導体層3の腐食を防止したりするためのものであり、その厚みは導体層3やメッキリード層3aの厚みの10%以上に設定され、その一部が基板外周部に位置する各メッキリード層3aの終端面を被覆するように端部を前記終端面上まで延在させてある。
【0022】
このように、基板1の外周部まで延在されているメッキリード層3aの終端面をメッキ層4の端部で被覆するようにしたことから、メッキリード層3aを形成する導体材料中の銀が大気と接触して腐食されてしまうことは殆どなく、従ってメッキリード層3aと連続的に形成されている導体層3の腐食が有効に防止され、配線基板を長期にわたり良好に機能させることができる。
【0023】
またこの場合、配線基板の使用に際して隣接する導体層間3−3に電位差を生じたとしても、メッキリード層3aの終端面はメッキ層4でもって良好に被覆されているため、基板1や下地層等の端面において隣接するメッキリード層間3a−3aでマイグレーションが発生することはなく、隣接する導体層同士の電気的短絡も有効に防止することができる。
【0024】
尚、上述の効果をより確実になすためには、メッキ層4の端部を更に下方まで延在させて下地層2の端面や基板1の端面上まで到達させておくことが好ましい。
【0025】
次に上述した配線基板の製造方法について図2を用いて説明する。
(1)まず前述した基板1よりもひと回り大きな基板素体1’を準備し、その上面に、図2(a)に示す如く、下地層2を被着させる。
【0026】
前記基板素体1’は、基板1に対応したパターン形成領域を有しており、かかる基板素体1’をアルミナセラミックスから成る場合、アルミナ、シリカ、マグネシア等のセラミックス原料粉末に適当な有機溶剤等を添加・混合して泥漿状になし、これを従来周知のドクターブレード法等によってセラミックグリーンシート(セラミック生シート)に加工するとともに、該グリーンシートを所定形状に打ち抜き、高温(約1600℃)で焼成することによって製作される。
【0027】
また前記下地層2は、ガラスから成る場合、例えばビスマス系ガラスの粉末に適当な有機溶剤等を添加・混合して得た所定のガラスペーストを従来周知のスクリーン印刷により基板素体1’の上面全体にわたって印刷・塗布し、これを高温(例えば500℃〜580℃)で焼き付けることにより基板素体1’の上面に例えば1μm〜100μmの厚みに被着・形成される。
【0028】
(2)次に図2(b)に示す如く、下地層2が被着されている基板素体1’の上面のうち、パターン形成領域に銀を含む導体材料から成る複数個の導体層3を、パターン形成領域から該領域の外側の領域にかけて導体層3より延在されたメッキリード層3aをそれぞれ被着させる。
【0029】
前記導体層3及びメッキリード層3aは、銀粉末に適当な有機溶剤、樹脂バインダー、ガラスフリット等を添加・混合して得た所定の導電ペースト3’を下地層2の上面に従来周知のスクリーン印刷法等によって所定パターンに印刷・塗布し、これを高温(例えば500℃〜580℃)で焼き付けることによって基板素体1’上に同時に被着・形成され、このとき、メッキリード層3aはパターン形成領域の外周部を横断してその外側の領域まで延在する形となる。
【0030】
(3)次に図2(c)に示す如く、導体層3及びメッキリード層3aの表面に従来周知の電界メッキ法にて、展性ならびに耐腐食性に優れたニッケルもしくは金から成るメッキ層4を形成する。
【0031】
前記メッキ層4は、パターン形成領域の外側に延在させたメッキリード層3aに電界メッキ用の電源端子を接続させ、この状態で基板素体1’をニッケルメッキもしくは金メッキ用のメッキ液中に浸漬し、導体層3及びメッキリード層3aに電源電力を印加し続けることによって導体層3及びメッキリード層3aの表面に例えば1μm〜10μmの厚みに形成される。
【0032】
このとき、メッキ層4の厚みは、導体層3やメッキリード層3aの厚みの10%以上に設定しておくことが重要である。
【0033】
(4)そして、最後に図2(d)に示す如く、基板素体1’をパターン形成領域の外周に沿って切断し、基板素体外周の不要な部分を切り離すことによって配線基板が得られる。
【0034】
かかる基板素体1’の切断は、基板素体1’に対し、パターン形成領域の外周に沿ってスクライブホイールAを上方より押圧して、基板素体1’、メッキリード層3a及びメッキ層4をパターン形成領域の外周部で切断することによって行われ、このとき、切断面付近のメッキ層4はスクライブホイールAの押圧力によって圧延されて薄く引き延ばされ、同時に配線基板の切断面に臨むメッキリード層3aの端面に圧着されるため、メッキリード層3aの終端部はメッキ層4の端部で良好に被覆され、外部に露出することはない。
【0035】
従って、上述した如く、メッキリード層3aやこれと連続的に形成されている導体層3の腐食を有効に防止することができるとともに、配線基板の使用に際して隣接する導体層間3−3に電位差が生じても、基板1の端面におけるメッキリード層間3a−3aのマイグレーションを有効に防止することができ、配線基板を長期にわたり良好に機能させることが可能となる。
【0036】
また、このようなメッキ層4によるメッキリード層終端部の被覆構造は、導体層3及びメッキリード層3aが被着されている基板素体1’に対し、パターン形成領域の外周部でスクライブホイールを上方より押圧して、基板素体1’、メッキリード層3a及びメッキ層4を切断する際に同時に実現されるため、別途、被覆層を被着させたりすることなく比較的容易に得られ、配線基板の生産性を高く維持することができる。
【0037】
尚、本発明は上述の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良等が可能である。
【0038】
例えば上述の形態では、メッキ層4として金メッキもしくはニッケルメッキを使用するようにしたが、これに代えて、ニッケルメッキと金メッキを積層してメッキ層4を構成するようにしてもよい。
【0039】
また上述の形態では、導体層3やメッキリード層3aを下地層2を介して基板1上に形成するようにしたが、下地層2を設けずに、導体層3やメッキリード層3aを基板1の上面に直接、被着・形成させるようにしても構わない。
【0040】
更に上述の形態において導体層3の一部をエポキシ樹脂等から成る保護膜で被覆しても良いことは勿論であり、その場合、メッキ層4は、導体層3の表面全体に被着させるのではなく、少なくとも保護膜の存在しない部位に被着されることとなる。
【0041】
【発明の効果】
本発明によれば、基板の外周部まで延在されているメッキリード層の終端面をその上に被着されているメッキ層の端部で被覆するようにしたことから、銀を含んだ導電材料から成るメッキリード層等が大気と接触して腐食されてしまうことは殆どなく、従ってメッキリード層と連続的に形成されている導体層等の腐食が有効に防止され、配線基板を長期にわたり良好に機能させることができる。
【0042】
またこの場合、配線基板の使用に際して隣接する導体層間に電位差が生じても、メッキリード層の終端面はメッキ層でもって良好に被覆されているため、基板の端面において隣接するメッキリード層間でマイグレーションが発生することはなく、隣接する導体層同士の電気的短絡も有効に防止することができる。
【0043】
しかも本発明によれば、上述したメッキ層による被覆構造は、配線基板の外形加工において、導体層やメッキリード層が所定パターンに被着されている基板素体に対し、導体層のパターン形成領域の外周部で上方よりスクライブホイールを押圧して、基板素体、メッキリード層及びメッキ層をパターン形成領域の外周部で切断する際に、展性ならびに耐腐食性に優れたニッケルや金から成るメッキ層がスクライブホイールの押圧力によって圧延されることで同時に実現されるため、かかる被覆構造は、別途、被覆層を被着させたりすることなく比較的容易に得られ、配線基板の生産性を高く維持することができる利点もある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の製造方法によって製作した配線基板の断面図である。
【図2】(a)〜(d)は本発明の製造方法を説明するための工程毎の断面図である。
【図3】従来の配線基板の断面図である。
【符号の説明】
1・・・基板、3・・・導体層、3a・・・メッキリード層、4・・・メッキ層[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention provides a semiconductor element is mounted, a method for manufacturing a wiring board to be incorporated in various electronic apparatuses.
[0002]
[Prior art]
As a conventional wiring substrate, for example, as shown in FIG. 3, a plurality of
[0003]
The
[0004]
In manufacturing such a wiring board, a substrate body that is slightly larger than the
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, when a wiring board is manufactured through the processes as described above, the end portion of the
[0006]
When such a plating
[0007]
Further, when such a conventional wiring board is used, if a potential difference occurs between adjacent conductor layers, migration may occur between adjacent plating lead layers on the end face of the
[0008]
The present invention has been made in view of the above drawbacks, and its object is provide a method of manufacturing a highly reliable wiring board capable of effectively preventing the corrosion of adjacent conductors interlayer short of the conductor layer There is to do.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
In the method for manufacturing a wiring board according to the present invention, a conductor layer made of a conductive material is applied to the pattern forming region of the upper surface of the substrate body having the pattern forming region, and the conductor is applied from the pattern forming region to an area outside the region. A step of depositing a plating lead layer extending from the layer, a step of depositing a plating layer on the surfaces of the conductor layer and the plating lead layer, and an outer periphery of the pattern formation region with respect to the substrate body In addition to pressing from above, the substrate body, the plating lead layer, and the plating layer were cut at the outer periphery of the pattern formation region, so that the plating layer was rolled and covered so as to cover the end surface of the plating lead layer. And attaching to the end face of the substrate body.
In the method for manufacturing a wiring board according to the present invention, a plurality of conductor layers made of a conductive material containing silver in the pattern formation region of the upper surface of the substrate body having the pattern formation region may be disposed from the pattern formation region to the region. A step of depositing a plating lead layer extending from the conductor layer over a region outside the substrate, and connecting a power supply terminal for electroplating to the plating lead layer extending outside the pattern formation region and the substrate A step of depositing a plating layer made of at least one of nickel and gold on the surface of the conductor layer and the plating lead layer by immersing the element body in a plating solution; and a pattern forming region for the substrate element body The scribe wheel is pressed from above along the outer periphery of the substrate to cut the substrate body, the plating lead layer and the plating layer at the outer periphery of the pattern formation region, The end surface of the plating lead layer facing the cross, is characterized in that comprises a step of coating at the edge of the plating layer was allowed rolled by the pressing force of the scribing wheel, the.
[0011]
According to the present invention, since the end surface of the plating lead layer extending to the outer peripheral portion of the substrate is covered with the end portion of the plating layer deposited thereon, the conductive material containing silver is provided. The plating lead layer made of material is hardly corroded by contact with the atmosphere. Therefore, corrosion of the conductor layer etc. continuously formed with the plating lead layer is effectively prevented, and the wiring board is kept for a long time. It can function well.
[0012]
In this case, even if a potential difference occurs between adjacent conductor layers when the wiring board is used, the end surface of the plating lead layer is well covered with the plating layer, so that migration between adjacent plating lead layers on the end surface of the board is possible. Does not occur, and an electrical short circuit between adjacent conductor layers can be effectively prevented.
[0013]
In addition, according to the present invention, the above-described covering structure by the plating layer can be applied to the pattern forming region of the conductor layer with respect to the substrate body on which the conductor layer and the plating lead layer are adhered in a predetermined pattern in the external processing of the wiring board. When the substrate body, plating lead layer and plating layer are cut at the outer periphery of the pattern forming area by pressing the scribe wheel from above at the outer periphery of the substrate, it is made of nickel or gold having excellent malleability and corrosion resistance. Since the plating layer is simultaneously realized by rolling with the pressing force of the scribe wheel, such a coating structure can be obtained relatively easily without separately attaching the coating layer, and the productivity of the wiring board can be increased. There is also an advantage that it can be kept high.
[0014]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view of a wiring board according to an embodiment of the present invention, wherein 1 is a substrate, 2 is a base layer, 3 is a conductor layer, 3a is a plating lead layer, and 4 is a plating layer.
[0015]
The
[0016]
The
[0017]
The conductor layer 3 is made of a conductive material containing, for example, 85 wt% or more of silver (Ag), and an adjacent conductor layer 3-3 is provided with an interval of, for example, 10 μm to 100 μm. For example, power of 5 mW to 15 mW is selectively applied individually.
[0018]
Further, a plating lead layer 3a is deposited and formed on the
[0019]
The plating lead layer 3a is for applying electric power to the conductor layer 3 when the
[0020]
A
[0021]
The plated
[0022]
Since the end surface of the plating lead layer 3a extending to the outer peripheral portion of the
[0023]
In this case, even if a potential difference is generated between the adjacent conductor layers 3-3 when the wiring board is used, the end surface of the plating lead layer 3a is satisfactorily covered with the
[0024]
In order to achieve the above-described effect more reliably, it is preferable to extend the end of the
[0025]
Next, the manufacturing method of the wiring board described above will be described with reference to FIG.
(1) First, a
[0026]
The
[0027]
When the
[0028]
(2) Next, as shown in FIG. 2 (b), a plurality of conductor layers 3 made of a conductor material containing silver in the pattern formation region in the upper surface of the substrate body 1 'to which the
[0029]
The conductor layer 3 and the plating lead layer 3a are formed on the upper surface of the
[0030]
(3) Next, as shown in FIG. 2 (c), a plated layer made of nickel or gold having excellent malleability and corrosion resistance on the surface of the conductor layer 3 and the plating lead layer 3a by a conventionally known electroplating method. 4 is formed.
[0031]
The
[0032]
At this time, it is important that the thickness of the
[0033]
(4) Finally, as shown in FIG. 2D, the
[0034]
The
[0035]
Therefore, as described above, corrosion of the plating lead layer 3a and the conductor layer 3 formed continuously with the plating lead layer 3a can be effectively prevented, and a potential difference is generated between the adjacent conductor layers 3-3 when the wiring board is used. Even if it occurs, migration of the plating lead layers 3a-3a on the end face of the
[0036]
Further, such a coating structure of the plating lead layer end portion by the
[0037]
In addition, this invention is not limited to the above-mentioned form, A various change, improvement, etc. are possible in the range which does not deviate from the summary of this invention.
[0038]
For example, in the above-described embodiment, gold plating or nickel plating is used as the
[0039]
In the above-described embodiment, the conductor layer 3 and the plating lead layer 3a are formed on the
[0040]
Further, in the above-described embodiment, it is a matter of course that a part of the conductor layer 3 may be covered with a protective film made of epoxy resin or the like. In that case, the
[0041]
【The invention's effect】
According to the present invention, since the end surface of the plating lead layer extending to the outer peripheral portion of the substrate is covered with the end portion of the plating layer deposited thereon, the conductive material containing silver is provided. The plating lead layer made of material is hardly corroded by contact with the atmosphere. Therefore, the corrosion of the conductor layer continuously formed with the plating lead layer is effectively prevented, and the wiring board is kept for a long time. It can function well.
[0042]
In this case, even if a potential difference occurs between adjacent conductor layers when the wiring board is used, the end surface of the plating lead layer is well covered with the plating layer, so that migration between adjacent plating lead layers on the end surface of the board is possible. Does not occur, and an electrical short circuit between adjacent conductor layers can be effectively prevented.
[0043]
In addition, according to the present invention, the above-described covering structure by the plating layer can be applied to the pattern forming region of the conductor layer with respect to the substrate body on which the conductor layer and the plating lead layer are adhered in a predetermined pattern in the external processing of the wiring board. When the substrate body, plating lead layer and plating layer are cut at the outer periphery of the pattern forming area by pressing the scribe wheel from above at the outer periphery of the substrate, it is made of nickel or gold having excellent malleability and corrosion resistance. Since the plating layer is simultaneously realized by rolling with the pressing force of the scribe wheel, such a coating structure can be obtained relatively easily without separately attaching the coating layer, and the productivity of the wiring board can be increased. There is also an advantage that it can be kept high.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a wiring board manufactured by a manufacturing method of the present invention.
FIGS. 2A to 2D are cross-sectional views for each step for explaining the manufacturing method of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view of a conventional wiring board.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (2)
前記導体層及びメッキリード層の表面にメッキ層を被着させる工程と、
前記基板素体に対し、前記パターン形成領域の外周に沿って上方より押圧するとともに、基板素体、メッキリード層及びメッキ層をパターン形成領域の外周部で切断することにより、前記メッキ層を前記メッキリード層の端面を覆うように圧延させて切断された前記基板素体の端面に被着させる工程と、を含む配線基板の製造方法。Of the upper surface of the substrate body having a pattern formation region, a conductor layer made of a conductive material is provided in the pattern formation region, and a plating lead layer extending from the conductor layer from the pattern formation region to a region outside the region. A process of depositing;
Applying a plating layer to the surfaces of the conductor layer and the plating lead layer;
The substrate body is pressed from above along the outer periphery of the pattern formation region, and the substrate layer, the plating lead layer, and the plating layer are cut at the outer periphery of the pattern formation region, whereby the plating layer is A method of manufacturing a wiring board, comprising: attaching to the end face of the substrate body that is cut by rolling so as to cover the end face of the plating lead layer.
前記パターン形成領域の外側に延在させたメッキリード層に電界メッキ用の電源端子を接続させるとともに前記基板素体をメッキ液中に浸漬することにより、前記導体層及びメッキリード層の表面にニッケル、金の少なくとも1種より成るメッキ層を被着させる工程と、
前記基板素体に対し、パターン形成領域の外周に沿って上方よりスクライブホイールを押圧して、基板素体、メッキリード層及びメッキ層をパターン形成領域の外周部で切断するとともに、該切断面に臨むメッキリード層の端面を、上記スクライブホイールの押圧力によって圧延せしめたメッキ層の端部で被覆する工程と、を含む配線基板の製造方法。A plurality of conductor layers made of a conductive material containing silver in the pattern formation region of the upper surface of the substrate body having the pattern formation region extend from the conductor layer from the pattern formation region to a region outside the region. Depositing the plated lead layer,
By connecting a power supply terminal for electroplating to a plating lead layer extending outside the pattern formation region and immersing the substrate body in a plating solution, nickel is formed on the surfaces of the conductor layer and the plating lead layer. Applying a plating layer made of at least one kind of gold;
A scribe wheel is pressed from above along the outer periphery of the pattern formation region against the substrate element body to cut the substrate element body, the plating lead layer and the plating layer at the outer periphery of the pattern formation region, and to the cut surface. Covering the end surface of the plating lead layer facing the substrate with the end portion of the plating layer rolled by the pressing force of the scribe wheel.
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