JP4651471B2 - 半導体レーザ装置 - Google Patents
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Description
また、前記制御部は、劣化判定時の前記半導体レーザ素子の劣化の進行と前記プローブの劣化の進行に対し、予め設定された所定の水準を用いて前記半導体レーザ素子及び前記プローブの劣化を判定する構成にすることもできる。
まず、第1の実施の形態に係る半導体レーザ装置の構造について説明する。図1は、本実施の形態に係る半導体レーザ装置の一構成例を示すブロック図である。半導体レーザモジュール2は、半導体レーザ素子(LD)3および光検出器(PD)4を有する。光検出器4は、例えばフォトダイオードで構成され、半導体レーザ素子3からの漏れ光あるいはレーザ光を分配した光を光電変換し、光量を電流量に変換することにより、半導体レーザ素子3のレーザ光をモニタリングする。制御部5は、半導体レーザ装置1の全体を制御する。制御部5は、レーザ照射時には半導体レーザ素子3に対して、レーザ発振用の駆動電流を供給し、光検出器4はレーザ光強度に応じた出力電流を制御部5へ入力する。
P11=P1×T1∝(k×Ip1)×T1 (式1)
P22=P2×T2∝(k×Ip2)×T2 (式2)
と表わすことができる。P11とP22との比は、式1および式2を用いると、
P22/P11∝(Ip2/Ip1)×(T2/T1) (式3)
となる。ここで、Ip1およびIp2は光検出器4の出力電流であり、P11およびP22は光パワーメータ7で計測されるパワーであるため、検出可能である。従って式3を
(T2/T1)=k’{(P22/P11)/(Ip2/Ip1)} (式4)
ただし、k’は光出力、出力電流の桁を合わせるための定数
に変形することによりプローブ6の透過率の変化を検出することができる。すなわち、k’を適当に選ぶことにより、光検出器4の出力電流の比Ip2/Ip1がプローブ6の入出力パワーの比P22/P11とほぼ等しければ、T2/T1がほぼ1となり、透過率が変化していないことを検出できる。また、光検出器4の出力電流の比Ip2/Ip1がプローブ6の入出力パワーの比P22/P11より大きい場合はT2/T1<1となり、プローブ6が劣化したことを検出できる。
図4は、本発明の第2の実施の形態に係る半導体レーザ装置の構成を示すブロック図である。第1の実施の形態に対してプローブ検出器12が付加された点が異なり、第1の実施の形態と同一の構成については同一の符号を付して説明を省略する。
2 半導体レーザモジュール
3 半導体レーザ素子
4 光検出器
5、13 制御部
6 プローブ
7 光パワーメータ
8 記憶部
9 表示ランプ
10 初期値データ設定スイッチ
12 プローブ検出器
Claims (4)
- レーザ光を発生する半導体レーザ素子と、
前記半導体レーザ素子から発生されたレーザ光の出力強度をモニタリングするレーザ光検出器と、
前記レーザ光を照射対象物へ導光するプローブと、
前記プローブから出力された光の強度を計測する光パワーメータと、
前記半導体レーザ素子及び前記プローブの劣化判定前に、前記半導体レーザ素子を駆動する電流の値、前記半導体レーザ素子から発生されたレーザ光の出力強度、及び前記プローブから出力された前記レーザ光の出力強度を予め計測した初期値データとして記憶する記憶部と、
前記初期値データと、劣化判定時に計測された前記半導体レーザ素子を駆動する電流の値、前記半導体レーザ素子から発生されたレーザ光の出力強度、及び前記プローブから出力された前記レーザ光の出力強度の計測結果とに基づき、前記半導体レーザ素子及び前記プローブの劣化を判定する制御部と、
前記プローブが半導体レーザ装置本体に装着されているか否かを検出して前記制御部にその検出信号を送信するプローブ検出部と、を備え、
前記制御部は、前記プローブ検出部により前記プローブが前記半導体レーザ装置本体に装着されたことを検出した検出信号を受信した場合に、前記初期値データを取得して前記記憶部へ保存することを特徴とする半導体レーザ装置。 - 前記制御部は、劣化判定前の前記半導体レーザ素子を駆動する電流の値及び前記半導体レーザ素子から発生されたレーザ光の出力強度と、劣化判定時の前記半導体レーザ素子を駆動する電流の値及び前記半導体レーザ素子から発生されたレーザ光の出力強度とを用いて、前記半導体レーザ素子の劣化の進行を演算する請求項1に記載の半導体レーザ装置。
- 前記制御部は、劣化判定前の前記半導体レーザ素子から発生されたレーザ光の出力強度と及び前記プローブから出力されたレーザ光の出力強度と、劣化判定時の前記半導体レーザ素子から発生されたレーザ光の出力強度と及び前記プローブから出力されたレーザ光の出力強度とを用いて、前記プローブの劣化の進行を演算する請求項1又は2に記載の半導体レーザ装置。
- 前記制御部は、劣化判定時の前記半導体レーザ素子の劣化の進行と前記プローブの劣化の進行に対し、予め設定された所定の水準を用いて前記半導体レーザ素子及び前記プローブの劣化を判定する請求項1〜3のいずれか一つに記載の半導体レーザ。
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