JP4649172B2 - Manufacturing method of stem for semiconductor package - Google Patents
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Description
本発明はレーザ素子を搭載する半導体パッケージ用ステムおよびその製造方法並びに半導体パッケージ用ステムにレーザ素子を搭載した光半導体装置に関する。 The present invention relates to a semiconductor package stem on which a laser element is mounted, a manufacturing method thereof, and an optical semiconductor device in which a laser element is mounted on a semiconductor package stem.
レーザ素子を搭載する半導体パッケージ用ステムには、いくつかの異なる構造の製品が提供されている。図5は、レーザ素子を搭載する半導体パッケージ用ステム10の基本的な構造を示している。半導体パッケージ用ステム10は、アイレット本体12と、アイレット本体12に設けられた放熱体14と、アイレット本体12に封着されたリード15とを備える。
この半導体パッケージ用ステム10は、放熱体14の側面にレーザ素子16を接合し、レーザ素子16とリード15とをワイヤボンディングによって接続し、光透過窓17を備えたキャップ18をアイレット本体12に溶接することにより、光半導体装置として組み立てられる。
Several different structures of products are provided for semiconductor package stems on which laser elements are mounted. FIG. 5 shows a basic structure of a
In this
半導体パッケージ用ステム10のアイレット本体12は通常、鉄系材料によって形成される。鉄系材料がリード15のガラス封着に好適であること、キャップ18を抵抗溶接によってアイレット本体12に接合するため、アイレット本体12にある程度の電気抵抗が必要だからである。しかしながら、最近の光半導体装置では発熱量の大きなレーザ素子が搭載されるようになってきたことから、より大きな熱放散性を備えた半導体パッケージ用ステム10が求められるようになってきた。
図6は、鉄と銅との2層構造からなるクラッド材を用いて形成した半導体パッケージ用ステム11を示す(特許文献1参照)。この半導体パッケージ用ステム11は、クラッド材をプレス加工し、プレス加工によって銅材部から放熱体14aを立ち上げ形状に形成したもので、アイレット本体12が鉄材部12aと銅材部12bからなる。
The eyelet body 12 of the
FIG. 6 shows a semiconductor package stem 11 formed using a clad material having a two-layer structure of iron and copper (see Patent Document 1). This semiconductor package stem 11 is formed by pressing a clad material and forming a heat radiator 14a in a raised shape from a copper material portion by pressing, and the eyelet body 12 includes an iron material portion 12a and a copper material portion 12b.
図6に示す半導体パッケージ用ステム11は放熱体14aを銅材によって形成したこと、アイレット本体12の一部に銅材が用いられていることから、熱放散性の点で優れているという利点がある。しかしながら、キャップが接合されるアイレット本体12の上部が銅からなるために、抵抗溶接によってキャップを接合しにくいという問題があり、鉄と銅との2層構造からなるクラッド材にかえて、一対の鉄層で銅層を両面から挟んだ、鉄−銅−鉄の3層構造からなるクラッド材を用いて半導体パッケージ用ステムを形成することが考えられた(特許文献2参照)。この3層構造のクラッド材を用いて形成した半導体パッケージ用ステムは、クラッド材に銅材を使用したことで、熱放散性に優れるとともに、アイレット本体12の上面が鉄材からなることから、キャップを確実に抵抗溶接できるという利点を有している。
上述したように、鉄−銅−鉄の3層構造からなる材料(クラッド材)を用いて形成した半導体パッケージ用ステムは、熱放散性に優れ、抵抗溶接によるキャップの取り付けが確実にできるという利点があるが、プレス加工によってアイレットと一体に放熱体を形成するために、放熱体の配置位置や放熱体の形状が制約を受けるという問題がある。
すなわち、アイレットと一体に放熱体を形成する場合は、加工工程上、被加工材に対してプレス加工を施した後に、リードをガラス封着するための透孔を孔あけ加工する。この透孔は、実際の製品では、放熱体の外面にきわめて接近して設けられることが多く、加工時に孔位置がわずかにずれただけで放熱体に接触してばりが生じてしまったり、所要の孔形状に加工できなかったりして不良発生の原因となる。
As described above, the semiconductor package stem formed by using a material (cladding material) having a three-layer structure of iron-copper-iron is excellent in heat dissipation and can be reliably attached to the cap by resistance welding. However, since the heat dissipator is formed integrally with the eyelet by pressing, there is a problem that the arrangement position of the heat dissipator and the shape of the heat dissipator are restricted.
That is, in the case where the heat radiator is formed integrally with the eyelet, a through hole for sealing the lead to the glass is punched after pressing the workpiece in the processing step. In actual products, this through-hole is often provided very close to the outer surface of the heat sink. If the hole shape cannot be processed, it may cause defects.
このため、放熱体と封着孔の孔位置の位置関係によっては加工が難しく、不良率が高くなり、設計通りの加工が困難になるという問題が生じる。
本発明はこれらの課題を解決すべくなされたものであり、熱放散性に優れるとともに、抵抗溶接によってキャップを接合する等の組み立て作業を支障なく行うことができ、加工上における問題によって放熱体の形状、配置等に制約が受けることがない半導体パッケージ用ステムおよびその製造方法を提供することを目的としている。
For this reason, depending on the positional relationship between the heat dissipating member and the sealing hole, processing becomes difficult, the defect rate becomes high, and processing as designed becomes difficult.
The present invention has been made to solve these problems, has excellent heat dissipation, and can perform assembly work such as joining caps by resistance welding without any trouble. An object of the present invention is to provide a stem for a semiconductor package and a method for manufacturing the same, which are not restricted in shape, arrangement, or the like.
本発明は、上記目的を達成するため次の構成を備える。
すなわち、アイレット本体と、アイレット本体に設けられた放熱体と、アイレット本体に封着されたリードとを備えた半導体パッケージ用ステムの製造方法であって、一対の鉄層で銅層を挟んだ3層構造からなるクラッド材に対して、アイレット本体の外形よりも大径に粗抜き加工する工程と、前記粗抜き加工が施されたクラッド材を、銅層を露出させる領域に合わせて凹部が形成されたプレス金型を用いて、鉄層部が段差状に突出する部位を形成する面側から押圧し、当該クラッド材の片面に形成された鉄層の放熱体を接合する領域部分を、クラッド材の表面から当該領域部分の鉄層部が段差状に突出するようにプレス加工する工程と、前記クラッド材の表面から段差状に突出した鉄層部を除去してクラッド材の表面を平坦面に形成するとともに、前記鉄層部の下層の銅層を露出させる平坦化加工を施す工程と、前記平坦化加工が施されたクラッド材に、リードを挿通して封着するための透孔を形成する孔あけ加工を施す工程と、前記孔あけ加工が施されたクラッド材からアイレット本体を個片に分離するとともに、アイレット本体の外形形状に合わせる外形抜き加工する工程と、前記個片のアイレット本体にリードをガラス封着する工程と、前記個片のアイレット本体とは別工程により形成した放熱体を、前記リードがガラス封着された前記個片のアイレット本体の前記銅層の露出面にろう付けする工程とを含むことを特徴とする。
The present invention has the following configuration in order to achieve the above object.
That is, a method for manufacturing a stem for a semiconductor package comprising an eyelet body, a heat dissipator provided in the eyelet body, and a lead sealed to the eyelet body, wherein a copper layer is sandwiched between a pair of
また、前記プレス加工により、前記鉄層部を、下層の銅層を一部含む前記鉄層の厚さ分以上に前記クラッド材の表面から段差状に突出させ、前記平坦化加工として、シェービング加工により、前記クラッド材の表面から段差状に突出する前記鉄層部を銅層から切削して除去し、銅層の表面を前記鉄層の表面と同一高さ面に露出させることを特徴とする。Further, the pressing process causes the iron layer portion to protrude in a step shape from the surface of the clad material to a thickness equal to or more than the thickness of the iron layer partially including the lower copper layer, and the shaving process is performed as the flattening process. By removing the iron layer portion protruding from the surface of the clad material stepwise from the copper layer, the surface of the copper layer is exposed to the same height as the surface of the iron layer .
また、前記個片のアイレット本体の前記銅層の露出面に前記放熱体をろう付けした後、当該放熱体のレーザ素子取り付け面となる側面を平押しして、位置出しすることを特徴とする。In addition, after the radiator is brazed to the exposed surface of the copper layer of the eyelet body of the individual piece, the side surface serving as the laser element mounting surface of the radiator is flattened and positioned. .
本発明に係る半導体パッケージ用ステムおよびその製造方法によれば、アイレット本体が銅層を備えたクラッド材からなり、放熱体が熱伝導性に優れた銅層に直に接合されていることにより、熱放散性の優れた半導体パッケージ用ステムとして提供することができ、発熱量の大きなレーザ素子を搭載する半導体パッケージ用ステムとして好適に使用することができる。また、アイレット本体と放熱体とを別体としたことで、放熱体の形状や配置位置について加工上の制約を受けることがなくなり、種々の製品に対応することが可能になる。 According to the semiconductor package stem and the manufacturing method thereof according to the present invention, the eyelet body is made of a clad material provided with a copper layer, and the radiator is directly bonded to the copper layer having excellent thermal conductivity. It can be provided as a semiconductor package stem having excellent heat dissipation, and can be suitably used as a semiconductor package stem on which a laser element with a large amount of heat generation is mounted. In addition, since the eyelet main body and the heat radiating body are separated from each other, the shape and arrangement position of the heat radiating body are not subject to processing restrictions, and various products can be handled.
図1は、本発明に係る半導体パッケージ用ステムの一実施形態の構成を示す断面図である。本実施形態の半導体パッケージ用ステム20は、アイレット本体21を一対の鉄層で銅層を挟んだ鉄−銅−鉄の3層構造からなるクラッド材を用いて形成し、アイレット本体21とは別体に形成した銅からなる放熱体25をアイレット本体21にろう付けして形成したものである。
アイレット本体21は、放熱体25が接合される面とは反対側の面から順に、第1の鉄層22と、銅層23と、第2の鉄層24とが積層された3層構造に形成され、アイレット本体21の上下両面が鉄材によって被覆された構造となっている。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of an embodiment of a stem for a semiconductor package according to the present invention. The
The
また、アイレット本体21の上面で、放熱体25がろう付けされている接合領域については、第2の鉄層24が除去され、銅層23がアイレット本体21の上面に露出し、この銅層23の露出面23aに放熱体25が接合されている。
アイレット本体21は、鉄−銅−鉄の3層構造からなるクラッド材にプレス加工やシェービング加工を施して、第2の鉄層24の表面と銅層23の露出面23aとが同一高さ面の平坦面になるように形成されている。放熱体25はこの露出面23aにろう付けされている。
Further, the
The
なお、アイレット本体21の上面には、放熱体25の基部近傍に発光をモニターするための素子(モニター用の素子)を搭載する傾斜凹部26が形成されている。この傾斜凹部26は上記3層構造からなるクラッド材にプレス加工を施す際に形成される。
また、リード15をアイレット本体21にガラス封着する透孔を形成し、この透孔にリード15がガラス封着される。図1において、リード15aはアース用のリードであり、アイレット本体21の下面に抵抗溶接によって接合されている。
An
Further, a through hole for sealing the
本実施形態の半導体パッケージ用ステム20は、アイレット本体21が第1の鉄層22と銅層23と第2の鉄層24が積層された3層構造となっていることから、アイレット本体21にキャップ18を抵抗溶接する際に、所要の電気抵抗が得られて確実にキャップ18を溶接することができる。また、放熱体25が銅材からなることにより放熱体25の熱放散性が良好であり、放熱体25がアイレット本体21の銅層23にろう付けされていることにより、ステム全体としての熱放散性が良好になり、アイレットの銅材をプレス加工して放熱体とアイレットとを一体成形した製品と同等の熱放散性を得ることが可能になる。
In the semiconductor package stem 20 of the present embodiment, the
また、本実施形態の半導体パッケージ用ステム20は、アイレット本体21とは別体に放熱体25を形成する構成としたから、アイレット本体21にリード15を封着するための透孔を加工する工程で、放熱体25の形状や配置位置に影響されることなく孔あけ加工を施すことができ、したがってアイレット本体21に確実にかつ正確に透孔を形成することが可能になる。また、放熱体25は孔加工後にろう付けしてアイレット本体21に接合するから、放熱体25の形状が孔加工(孔位置)の加工によって制約を受けることがなく、放熱体25として、より自由度の大きな設計が可能となり、種々用途の製品に対応することが可能になる。
In addition, since the semiconductor package stem 20 of the present embodiment has a configuration in which the
図2〜4は、上述した半導体パッケージ用ステム10の製造工程で特徴的なアイレット本体21の加工工程を示す。
図2(a)は、アイレット本体21を形成する鉄−銅−鉄の3層構造からなるクラッド材30に対して、アイレット本体21の外径よりも大径に粗抜き加工した状態を示す。クラッド材30は第1の鉄層22と、銅層23と、第2の鉄層24を積層して形成されたものである。本実施形態で使用したクラッド材30は、第1の鉄層22の厚さが0.75mm、銅層23の厚さが0.7mm、第2の鉄層24の厚さが0.15mmのものである。実際には、クラッド材30は長尺な帯状体として提供され、所要のプレス加工を施す加工ステージ間を順送りされて加工される。
2 to 4 show a processing process of the
FIG. 2A shows a state in which a
図2(b)、(c)は、粗抜き加工したクラッド材30に、放熱体25をろう付けする領域に合わせて銅層23を露出させるプレス加工を施す工程を示す。
図2(b)は、銅層23を露出させる部位に合わせた凹部42を形成したプレス金型40を、粗抜き加工したクラッド材30に位置合わせして型押しする工程を示す。凹部42は平面形状が円形で、内底面(天井面)が平坦面に形成されている。凹部42の深さは第2の鉄層24の下層の銅層23も若干入り込む程度の深さに設定する。凹部42以外のプレス金型40の型押し面44は平坦面に形成されている。
2 (b) and 2 (c) show a process of subjecting the roughly blanked clad
FIG. 2 (b) shows a step of aligning and pressing the press die 40 in which the concave portion 42 is formed in accordance with the portion where the
図2(c)は、プレス金型40をクラッド材30に型押ししている状態を示す。クラッド材30の下面は支持金型によって支持されており、クラッド材30はプレス金型40と支持金型によって挟圧される。プレス金型40を第2の鉄層24の厚さと略同一の深さまで押し込むことにより、凹部42に第2の鉄層24と銅層23が入り込み、凹部42に対応するクラッド材の部位では第2の鉄層24の下層の銅層23が盛り上がり形状となる。
図2(d)は、プレス金型40を用いてクラッド材30をプレス加工した後の状態を示す。クラッド材30の上面では、前記凹部42に対応した部位の鉄層部24a(下層の銅層を一部含む)が第2の鉄層24の厚さ分以上にクラッド材30の上面から段差状に突出する。この鉄層部24aを支持する銅層23の部位は台形状に盛り上がった形状となる。
FIG. 2 (c) shows a state in which the press die 40 is pressed onto the
FIG. 2 (d) shows a state after the
図3は、次に、クラッド材30の上面で段差状に突出する鉄層部24aをシェービング加工によって除去し、クラッド材30の上面を平坦化する平坦化加工の工程を示す。
図3(a)は、鉄層部24aの側面下部、すなわち第2の鉄層24の表面に切刃50の切削位置を位置合わせした状態で、図3(b)は、切刃50を第2の鉄層24の表面に沿って突き出すように動かして鉄層部24aをクラッド材30から切削する状態を示す。
図3(c)は、鉄層部24aを切削して除去したクラッド材30を示す。切刃50を第2の鉄層24の表面に沿って動かすことにより、鉄層部24aが銅層23から切削されて除去されるとともに、銅層23の表面が第2の鉄層24の表面と同一高さ面に形成されて銅層23が露出した露出面23aが形成される。
FIG. 3 shows a flattening process in which the iron layer portion 24a protruding in a step shape on the upper surface of the
FIG. 3A shows a state in which the cutting position of the
FIG. 3C shows the
なお、本実施形態では、切刃50を用いたシェービング加工によって鉄層部24aを除去したが、シェービング加工によらずに、ドリル加工等の他の機械加工によって鉄層部24aを露出させることも可能である。また、機械加工によらずに化学的エッチングを利用して鉄層部24aのみを除去することも可能である。
鉄層部24aを除去する工程は、鉄層部24aの下層の銅層23を露出させる目的と、放熱体25を精度よくろう付けできるようにするために、銅層23の露出面23aが平坦面となるように露出させる目的がある。したがって、化学的エッチングに比べてシェービング加工等の機械的な加工手段を利用する方が加工時間等を含めて有利である。
In the present embodiment, the iron layer portion 24a is removed by shaving using the
In the step of removing the iron layer portion 24a, the exposed surface 23a of the
図3(c)に示すように、放熱体25を接合する部位について銅層23を露出させた後、クラッド材にプレス加工を施してリード15を挿通して封着するための透孔を形成し、受光用の素子を搭載する傾斜凹部を形成した後、クラッド材30をアイレット本体21の外形形状に合わせて外形抜きする。この外径抜き加工によってアイレット本体21はクラッド材30の帯状体から分離して個片となる。
As shown in FIG. 3 (c), after exposing the
図4は、クラッド材30を粗抜きし、プレス加工とシェービング加工を施して銅層23を露出させた状態を示す。本実施形態ではクラッド材30の表面に直径が約3.0mmの円形に銅層23の露出面23aを露出させた。また、2点鎖線Aでアイレット本体21の外形抜き位置を示す。放熱体25は、銅層23の露出面23aの領域内に接合される。なお、銅層23を露出させる範囲は、図4に示すような円形形状に限られるものではないが、キャップ18が確実に溶接できるように、少なくともアイレット本体21に取り付けるキャップ18の溶接領域(アイレット本体の外周縁)が第2の鉄層24によって被覆されるように設定する。
FIG. 4 shows a state in which the clad
クラッド材30を外形抜きして個片に形成した後、必要に応じて、アイレット本体21の腐食を防止するニッケルめっき等のめっきを施す。
次いで、アイレット本体21にリード15をガラス封着した後、アイレット本体21に放熱体25をろう付けする。放熱体25はクラッド材30を用いてアイレット本体21を形成する工程とは別工程であらかじめ所定の個片に形成されている。
図3(d)は、アイレット本体21に形成した銅層の露出面23aに放熱体25をろう付けした状態を示す。ろう付け用の治具にアイレット本体21と銅からなる放熱体25とろう材とを配置し、加熱炉中でろう材を溶融してろう付けする。本実施形態では銀ろう付けによって放熱体25をアイレット本体21に接合した。25aが接合層である。
After the outer shape of the
Next, after the
FIG. 3 (d) shows a state where the
ろう付け用の治具にアイレット本体21と放熱体25とを配置することによって、アイレット本体21と放熱体25との相互位置が位置決めされるが、放熱体25をろう付けした後、放熱体25のレーザ素子取り付け面(放熱体の側面)を平押しして、レーザ素子取り付け面を正確に位置出しするようにしてもよい。
本実施形態の半導体パッケージ用ステムは、放熱体25をアイレット本体21にろう付けした後、アイレット本体21、放熱体25およびリード15、15aの外面にニッケルめっきおよび金めっきによる仕上げめっきが施される。
By disposing the
In the semiconductor package stem of this embodiment, after the
光半導体装置は、この半導体パッケージ用ステムの放熱体25の側面にレーザ素子を接合し、レーザ素子とリード15とをワイヤボンディングし、傾斜凹部26にレーザ素子の発光をモニターするモニター用の素子を搭載した後、アイレット本体21の外周縁にキャップ18を溶接して取り付けることによって組み立てられる。
In the optical semiconductor device, a laser element is bonded to the side surface of the
なお、上記実施形態においては、鉄−銅−鉄の3層構造からなるクラッド材30を使用してアイレット本体21を形成したが、クラッド材として銅−鉄の2層構造からなる材料を使用して半導体パッケージ用ステムを形成することも可能である。この銅−鉄の2層構造からなるクラッド材を使用する場合も、上述した方法と同様に、銅層の上面を被覆する鉄層側からプレス加工を施して放熱体を接合する領域の鉄層部をクラッド材の表面から突出させ、鉄層部を切除することによって銅層を露出させ、銅層の露出面に放熱体を接合することによって、放熱性にすぐれ、キャップの溶接も可能な半導体パッケージ用ステムとして提供することができる。
In the above embodiment, the
10、11、20 半導体パッケージ用ステム
12、21 アイレット本体
12a 鉄材部
12b 銅材部
16 レーザ素子
18 キャップ
22 第1の鉄層
23 銅層
23a 露出面
24 第2の鉄層
24a 鉄層部
25 放熱体
26 傾斜凹部
30 クラッド材
40 プレス金型
42 凹部
50 切刃
10, 11, 20 Stem for
Claims (3)
一対の鉄層で銅層を挟んだ3層構造からなるクラッド材に対して、アイレット本体の外形よりも大径に粗抜き加工する工程と、
前記粗抜き加工が施されたクラッド材を、銅層を露出させる領域に合わせて凹部が形成されたプレス金型を用いて、鉄層部が段差状に突出する部位を形成する面側から押圧し、当該クラッド材の片面に形成された鉄層の放熱体を接合する領域部分を、クラッド材の表面から当該領域部分の鉄層部が段差状に突出するようにプレス加工する工程と、
前記クラッド材の表面から段差状に突出した鉄層部を除去してクラッド材の表面を平坦面に形成するとともに、前記鉄層部の下層の銅層を露出させる平坦化加工を施す工程と、
前記平坦化加工が施されたクラッド材に、リードを挿通して封着するための透孔を形成する孔あけ加工を施す工程と、
前記孔あけ加工が施されたクラッド材からアイレット本体を個片に分離するとともに、アイレット本体の外形形状に合わせる外形抜き加工する工程と、
前記個片のアイレット本体にリードをガラス封着する工程と、
前記個片のアイレット本体とは別工程により形成した放熱体を、前記リードがガラス封着された前記個片のアイレット本体の前記銅層の露出面にろう付けする工程と
を含むことを特徴とする半導体パッケージ用ステムの製造方法。 A method for manufacturing a stem for a semiconductor package, comprising an eyelet body, a heat dissipator provided in the eyelet body, and a lead sealed to the eyelet body,
For a clad material having a three-layer structure in which a copper layer is sandwiched between a pair of iron layers, a step of roughing to a larger diameter than the outer shape of the eyelet body,
Pressing the roughly blanked clad material from the surface side where the iron layer portion forms a stepped portion using a press mold in which a recess is formed in accordance with the region where the copper layer is exposed. And a step of pressing the region portion to which the iron layer radiator formed on one side of the clad material is joined so that the iron layer portion of the region portion protrudes in a step shape from the surface of the clad material,
Removing the iron layer portion protruding stepwise from the surface of the clad material to form a surface of the clad material on a flat surface, and performing a flattening process to expose the copper layer under the iron layer portion;
A step of performing a drilling process for forming a through hole for inserting and sealing a lead into the clad material subjected to the flattening process;
Separating the eyelet body into individual pieces from the clad material subjected to the perforating process, and a process of removing the outer shape to match the outer shape of the eyelet body;
Sealing the lead to the individual eyelet body with glass;
Brazing a heat radiator formed in a separate process from the individual eyelet main body to the exposed surface of the copper layer of the individual eyelet main body having the lead sealed with glass. Manufacturing method of semiconductor package stem.
前記平坦化加工として、シェービング加工により、前記クラッド材の表面から段差状に突出する前記鉄層部を銅層から切削して除去し、銅層の表面を前記鉄層の表面と同一高さ面に露出させることを特徴とする請求項1記載の半導体パッケージ用ステムの製造方法。 By the press work, the iron layer portion is protruded in a step shape from the surface of the clad material to a thickness equal to or more than the thickness of the iron layer including a part of the lower copper layer,
As the flattening process, the iron layer portion protruding stepwise from the surface of the clad material is removed by cutting from the copper layer by shaving, and the surface of the copper layer is flush with the surface of the iron layer. 2. The method of manufacturing a stem for a semiconductor package according to claim 1, wherein the stem is exposed to the surface.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004324763A JP4649172B2 (en) | 2004-11-09 | 2004-11-09 | Manufacturing method of stem for semiconductor package |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004324763A JP4649172B2 (en) | 2004-11-09 | 2004-11-09 | Manufacturing method of stem for semiconductor package |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006135219A JP2006135219A (en) | 2006-05-25 |
JP2006135219A5 JP2006135219A5 (en) | 2007-10-04 |
JP4649172B2 true JP4649172B2 (en) | 2011-03-09 |
Family
ID=36728473
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004324763A Expired - Fee Related JP4649172B2 (en) | 2004-11-09 | 2004-11-09 | Manufacturing method of stem for semiconductor package |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4649172B2 (en) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5540412B2 (en) * | 2010-07-27 | 2014-07-02 | 新光電気工業株式会社 | Stem for semiconductor package and method for manufacturing stem for semiconductor package |
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DE102012102305A1 (en) * | 2012-03-19 | 2013-09-19 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Laser diode device for projection system, has crystalline protective layer made of dielectric material is formed on radiation uncoupling surface of laser diode chip which is provided on mounting element |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006135219A (en) | 2006-05-25 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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