JP4539489B2 - Manufacturing method of multilayer capacitor - Google Patents
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Description
本発明は、積層コンデンサの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer capacitor.
従来の積層コンデンサの製造方法として次のように素子を形成する方法が知られている(下記特許文献1参照)。まず、支持体の上に1層のセラミックグリーン層を形成し、形成された1層のセラミックグリーン層から支持体を剥離し、剥離したセラミックグリーン層の上面に電極パターンを形成する。この電極パターンが形成されたセラミックグリーン層を複数積層して積層体を形成する。
近年、積層コンデンサの静電容量を大容量化するために、セラミックグリーン層の厚さを薄くして電極パターンの積層間隔を小さくすることが行われている。しかし、セラミックグリーン層の厚さが薄くなると、支持体をセラミックグリーン層から剥離しにくくなり、セラミックグリーン層の剥離面が変形しやすくなる。そのようなセラミックグリーン層を積層して製造した積層コンデンサは、セラミックグリーン層の積層間に気泡が形成される等の積層不良が発生する。この積層不良は、積層コンデンサとして特性不良の要因となると共に、積層間の剥離(デラミネーション)を引き起こす。 In recent years, in order to increase the capacitance of a multilayer capacitor, the thickness of the ceramic green layer is reduced to reduce the interval between the electrode patterns. However, when the thickness of the ceramic green layer is reduced, it becomes difficult to peel the support from the ceramic green layer, and the peeling surface of the ceramic green layer is likely to be deformed. In a multilayer capacitor manufactured by laminating such ceramic green layers, stacking faults such as formation of bubbles between the ceramic green layers are generated. This stacking fault causes a characteristic failure as a multilayer capacitor, and also causes delamination between the stacks.
本発明は、上記問題点を解消する為になされたものであり、セラミックグリーン層の積層不良を抑制する積層コンデンサの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a multilayer capacitor that suppresses a stacking failure of ceramic green layers.
本発明の積層コンデンサの製造方法は、支持体上に第1セラミックグリーン層を形成する第1層形成工程と、第1セラミックグリーン層の上面に第1電極パターンを形成する第1電極形成工程と、第1セラミックグリーン層及び第1電極パターンの上面に積層して第2セラミックグリーン層を形成する第2層形成工程と、第2セラミックグリーン層の上面であって、積層方向から見て第1電極パターンと互いに重なる位置に第2電極パターンを形成する第2電極形成工程と、第1セラミックグリーン層、第1電極パターン、第2セラミックグリーン層、及び第2電極パターンが積層された積層体から支持体を剥離する剥離工程と、支持体が剥離された積層体を複数用意して該複数の積層体を積層して素子を形成する素子形成工程と、複数の積層体のうち所定の積層体に含まれる第1電極パターンと第2電極パターンとに接続するように第1端子電極を素子の外表面に形成し、複数の積層体のうち所定の積層体に含まれる第1電極パターンと第2電極パターンと接続するように第2端子電極を素子の外表面に形成する端子形成工程と、を備えることを特徴とする。 The multilayer capacitor manufacturing method of the present invention includes a first layer forming step of forming a first ceramic green layer on a support, and a first electrode forming step of forming a first electrode pattern on the upper surface of the first ceramic green layer. A second layer forming step of forming a second ceramic green layer by laminating on the upper surfaces of the first ceramic green layer and the first electrode pattern, and an upper surface of the second ceramic green layer, the first seen from the laminating direction. A second electrode forming step of forming a second electrode pattern at a position overlapping with the electrode pattern, and a laminate in which the first ceramic green layer, the first electrode pattern, the second ceramic green layer, and the second electrode pattern are laminated A peeling step for peeling the support, an element forming step for preparing a plurality of laminates from which the support has been peeled off, and laminating the plurality of laminates, and a plurality of laminations The first terminal electrode is formed on the outer surface of the element so as to be connected to the first electrode pattern and the second electrode pattern included in the predetermined stacked body of the body, and included in the predetermined stacked body among the plurality of stacked bodies And a terminal forming step of forming a second terminal electrode on the outer surface of the element so as to be connected to the first electrode pattern and the second electrode pattern.
本発明の積層コンデンサの製造方法によれば、第1セラミックグリーン層と第1電極パターンと第2セラミックグリーン層と第2電極パターンとが形成された積層体を支持体上に形成した後に、積層体から支持体を剥離するので、1層のセラミックグリーン層と1層の電極パターンとが積層された後に支持体から剥離する場合よりも、支持体から剥離する際の積層体の厚さを厚く設定することができる。よって、積層体から支持体を剥離しやすくして、積層体の剥離面の変形を抑制することができる。従って、剥離面の変形がより少ない積層体を積層して、積層コンデンサにおけるセラミックグリーン層の積層不良を抑制することができる。 According to the multilayer capacitor manufacturing method of the present invention, a multilayer body in which the first ceramic green layer, the first electrode pattern, the second ceramic green layer, and the second electrode pattern are formed on the support, Since the support is peeled from the body, the thickness of the laminate when peeling from the support is made thicker than when the ceramic green layer and one electrode pattern are stacked and then peeled off from the support. Can be set. Therefore, the support can be easily peeled from the laminated body, and deformation of the peeled surface of the laminated body can be suppressed. Therefore, it is possible to stack the laminates with less deformation of the peeling surface and suppress the stacking failure of the ceramic green layers in the multilayer capacitor.
好ましくは、第1電極形成工程では、複数の第1電極パターンを2次元的に配列させて形成し、第2層形成工程では、第2セラミックグリーン層を第1セラミックグリーン層及び複数の第1電極パターンの上面に積層して形成し、第2電極形成工程では、複数の第2電極パターンを第2セラミックグリーン層の上面であって、積層方向から見て複数の第1電極パターンとそれぞれ互いに重なるように2次元的に配列させて形成し、素子形成工程では、複数の積層体を該積層体の積層方向に隣り合う第1電極パターン同士が、第1電極パターンの所定の配列方向には所定ピッチずれるように積層して集合体を形成し、所定の配列方向と平行であって隣り合う第1電極パターンの間を通る第1切断面と、所定の配列方向と垂直であって隣り合う第1電極パターンの間の面及び第1電極パターンの中央を通る面である第2切断面とで集合体を切断することにより複数の素子を形成する。 Preferably, in the first electrode forming step, a plurality of first electrode patterns are two-dimensionally arranged, and in the second layer forming step, the second ceramic green layer and the plurality of first ceramic green layers are formed. In the second electrode forming step, a plurality of second electrode patterns are formed on the upper surface of the second ceramic green layer, and are respectively formed on the upper surfaces of the electrode patterns and viewed from the stacking direction. In the element formation step, the plurality of stacked bodies are arranged in a predetermined arrangement direction of the first electrode patterns adjacent to each other in the stacking direction of the stacked bodies. An assembly is formed by stacking so as to deviate by a predetermined pitch, and is adjacent to a first cut surface that is parallel to a predetermined arrangement direction and passes between adjacent first electrode patterns and perpendicular to the predetermined arrangement direction. First Forming a plurality of elements by cutting the assembly at the surface and the second cutting surface is a plane passing through the center of the first electrode pattern between the electrode patterns.
この場合、複数の第1電極パターン及び複数の第2電極パターンを互いに重なるように2次元的に配列させて形成し、積層体を所定ピッチずれるように積層して集合体を形成してから、第1切断面と第2切断面とで切断することにより複数の素子を形成するので、上記の積層コンデンサを効率良く形成することができる。従って、セラミックグリーン層の積層不良を抑制して、複数の積層コンデンサを効率良く製造することができる。 In this case, a plurality of first electrode patterns and a plurality of second electrode patterns are two-dimensionally arranged so as to overlap each other, and the stacked body is stacked so as to deviate by a predetermined pitch. Since a plurality of elements are formed by cutting the first cut surface and the second cut surface, the multilayer capacitor can be formed efficiently. Therefore, it is possible to efficiently manufacture a plurality of multilayer capacitors while suppressing the stacking failure of the ceramic green layers.
また、本発明の積層コンデンサの製造方法では、第2電極形成工程において、第2電極パターンの輪郭線は第1電極パターンの輪郭線よりも積層方向から見て内側となるように形成されることも好ましい。 In the multilayer capacitor manufacturing method of the present invention, in the second electrode forming step, the contour line of the second electrode pattern is formed so as to be inside from the contour line of the first electrode pattern as viewed from the stacking direction. Is also preferable.
このようにすることによって、素子において、第2電極パターンの輪郭線は、対応する第1電極パターンの輪郭線よりも積層方向から見て内側となるように形成されることとなる。このことから素子における1の積層体に含まれる第1電極パターンと第2電極パターンとが重なる面積のばらつきを抑制することができる。よって、隣接する一方の積層体に含まれる第1電極パターン及び第2電極パターンと、他方の積層体に含まれる第1電極パターン及び第2電極パターンとの積層方向から見て重なり合う面積のばらつきを抑制することができる。したがって、積層コンデンサの静電容量のばらつきを抑制することができる。 By doing in this way, in the element, the contour line of the second electrode pattern is formed so as to be inside from the contour line of the corresponding first electrode pattern as viewed from the stacking direction. Accordingly, it is possible to suppress variation in the area where the first electrode pattern and the second electrode pattern included in one stacked body in the element overlap. Therefore, variation in the overlapping area when viewed from the stacking direction of the first electrode pattern and the second electrode pattern included in one adjacent stacked body and the first electrode pattern and the second electrode pattern included in the other stacked body is caused. Can be suppressed. Therefore, variation in the capacitance of the multilayer capacitor can be suppressed.
また、本発明の積層コンデンサの製造方法では、第1層形成工程において、第1セラミックグリーン層の厚さを調整して積層コンデンサの静電容量を調整することも好ましい。 In the multilayer capacitor manufacturing method of the present invention, it is also preferable to adjust the capacitance of the multilayer capacitor by adjusting the thickness of the first ceramic green layer in the first layer forming step.
このようにすることによって、支持体を剥離する際の積層体の厚さを剥離しやすい厚さに設定すると共に、第1セラミックグリーン層の厚さを調整して積層コンデンサの静電容量を容易に調整することができる。 In this way, the thickness of the multilayer body when peeling the support is set to a thickness that facilitates peeling, and the thickness of the first ceramic green layer is adjusted to facilitate the capacitance of the multilayer capacitor. Can be adjusted.
本発明によれば、セラミックグリーン層の積層不良を抑制する積層コンデンサの製造方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the multilayer capacitor which suppresses the lamination | stacking defect of a ceramic green layer can be provided.
以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素に同一の符号を付し、重複する説明を省略する。 The best mode for carrying out the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. In the description of the drawings, the same reference numerals are assigned to the same elements, and duplicate descriptions are omitted.
最初に、本実施形態に係る積層コンデンサの構成について説明する。図1は、本実施形態に係る積層コンデンサ1の斜視図である。積層コンデンサ1は、図1に示されるように、略直方体形状の素子5と、当該素子5に形成された一対の第1端子電極2及び第2端子電極4と、を備える。
First, the configuration of the multilayer capacitor according to this embodiment will be described. FIG. 1 is a perspective view of the
素子5は、素子5の長手方向に対向する一対の端面と、素子5の積層方向に対向する一対の側面と、長手方向及び積層方向に垂直な方向に対向する一対の側面とを有している。第1端子電極2は、一方の端面の全面を覆い、更にその一部が各側面上に回りこんで形成されている。第2端子電極4は、他方の端面の全面を覆い、更にその一部が各側面上に回り込んで形成されている。素子5の積層方向に対向する一対の側面のいずれか一方の側面は、積層コンデンサ1が外部基板に実装されたときに、当該外部基板に対向する面である。
The
図2を参照して、素子5の構成について説明する。図2は、本実施形態に係る積層コンデンサ1の断面図である。素子5は、矩形状の内部電極が複数形成された内層部9と、内層部9を挟む2つの外層部7と、を含んで構成される。内層部9が、積層コンデンサ1の静電容量成分を生成し、外層部7が、内層部9を保護すると共に積層コンデンサ1の厚さ寸法を調整する機能を有している。
The configuration of the
内層部9には、第1端子電極2に電気的に接続された第1内部電極11A及び第2内部電極13Aからなる第1内部電極対Aが複数対形成されている。矩形状に形成された各第1内部電極11A及び各第2内部電極13Aの一辺が、第1端子電極2が形成された端面に露出して、第1端子電極2と機械的かつ電気的に接続されている。本実施形態では、第1内部電極対Aは2対形成されている。1対の第1内部電極対Aに含まれる第1内部電極11Aと第2内部電極13Aとは、略同形状で、積層方向から見て誘電体層20を介して互いに重なり合うように形成されている。1対の第1内部電極対Aにおいて、第2内部電極13Aは第1内部電極11Aより面積が小さく、第2内部電極13Aの第1端子電極2との接続部分を除く輪郭線は第1内部電極11Aの第1端子電極2との接続部分を除く輪郭線よりも積層方向から見て内側となるように形成される。例えば、第2内部電極13Aの輪郭線は、第1内部電極11Aの輪郭線の30μm程度内側となるように形成されている。
In the
また、内層部9には、第2端子電極4に電気的に接続された第1内部電極11B及び第2内部電極13Bからなる第2内部電極対Bが複数形成されている。矩形状に形成された各第1内部電極11B及び各第2内部電極13Bの一辺が、第2端子電極4が形成された端面に露出して、第2端子電極4と機械的かつ電気的に接続されている。本実施形態では、第2内部電極対Bは2対形成されている。1対の第2内部電極対Bに含まれる第1内部電極11Bと第2内部電極13Bとは、略同形状で、積層方向から見て誘電体層20を介して互いに重なり合うように形成されている。1対の第2内部電極対Bにおいて、第2内部電極13Bは第1内部電極11Bより面積が小さく、第2内部電極13Bの第2端子電極4との接続部分を除く輪郭線は第1内部電極11Bの第2端子電極4との接続部分を除く輪郭線よりも積層方向から見て内側となるように形成される。例えば、第2内部電極13Bの輪郭線は、第1内部電極11Bの輪郭線の30μm程度内側となるように形成されている。
The
第1内部電極11Aと第1内部電極11Bとは略同形状かつ同程度の面積であり、第2内部電極13Aと第2内部電極13Bとも略同形状かつ同程度の面積である。また、1対の第1内部電極対Aに含まれる第1内部電極11Aと第2内部電極13Aとの間の誘電体層20の厚さと、第2内部電極対Bに含まれる第1内部電極11Bと第2内部電極13Bとの間の誘電体層20の厚さとは同程度の厚さD1である。
The first
内層部9において、第1内部電極対Aと第2内部電極対Bとは、誘電体層20を介して交互に積層されている。第1内部電極対Aと第2内部電極対Bとは、第1内部電極対Aが第1端子電極2側に、第2内部電極対Bが第2端子電極4側に、互いに所定寸法ずれて積層されている。また、第2内部電極13Aと、第2内部電極13Aと誘電体層20を挟んで隣接する第1内部電極11Bとの間の誘電体層20の厚さと、第2内部電極13Bと、第2内部電極13Bと誘電体層20を挟んで隣接する第1内部電極11Aとの間の誘電体層20の厚さとは同程度の厚さD2である。
In the
積層コンデンサ1の静電容量は、第2内部電極13Aと、第2内部電極13Aと誘電体層20を挟んで隣接する第1内部電極11Bとの間、及び、第2内部電極13Bと、第2内部電極13Bと誘電体層20を挟んで隣接する第1内部電極11Aとの間に主に発生することとなる。つまり、積層コンデンサ1の静電容量は、主に、厚さD2に依存することとなる。
The capacitance of the
引き続いて、本実施形態に係る積層コンデンサ1の製造方法について説明する。図3に本実施形態の積層コンデンサ1の製造方法の手順を示す。本実施形態の積層コンデンサ1の製造方法は、図3に示すように、第1層形成工程S1、第1電極形成工程S2、第2層形成工程S3、第2電極形成工程S4、剥離工程S5、素子形成工程S6、端子形成工程S7の各工程を備えている。
Subsequently, a method for manufacturing the
まず、積層体10を形成する工程として、第1層形成工程S1、第1電極形成工程S2、第2層形成工程S3、第2電極形成工程S4、及び剥離工程S5について、図4を参照しながら説明する。図4は、本実施形態に係る積層コンデンサ1の製造工程において形成される積層体10の断面図である。
First, as a process of forming the
第1層形成工程S1において、PETフィルムP1(支持体)上に第1セラミックグリーン層21を形成する。第1セラミックグリーン層21は、チタン酸バリウムを主成分とする誘電体材料にバインダ樹脂(例えば有機バインダ樹脂等)、溶剤、可塑剤等を加えて混合分散することにより得たセラミックスラリーをPETフィルムP1上に塗布後、乾燥することによって形成される。第1セラミックグリーン層21の厚さD2は、例えば、3.5μm程度である。
In the first layer forming step S1, the first ceramic
次に、第1電極形成工程S2において、第1セラミックグリーン層21の上面に複数の第1電極パターン11を形成する。第1電極パターン11は、第1セラミックグリーン層21の上面に電極ペーストを印刷後、乾燥することにより形成される。電極ペーストは、例えばNi、Ag、Pdなどの金属粉末にバインダ樹脂や溶剤等を混合したペースト状の組成物である。印刷手段として、例えばスクリーン印刷などを用いる。第1電極パターン11の厚さは、例えば、1.1〜1.2μm程度である。
Next, in the first electrode formation step S <b> 2, a plurality of
次に、第2層形成工程S3において、第1セラミックグリーン層21及び複数の第1電極パターン11の上面に第2セラミックグリーン層23を形成する。第2セラミックグリーン層23は、第1セラミックグリーン層23と同様に、セラミックスラリーを塗布後、乾燥することによって形成される。第2セラミックグリーン層23は、第1電極パターン11の上面を覆い、複数の第1電極パターン11の間にも充填されて、第2セラミックグリーン層23の上面は、平面状に形成される。第1電極パターン11の上面から第2セラミックグリーン層23の上面までの第2セラミックグリーン層23の厚さD1は、1.6μm程度である。
Next, in the second layer forming step S <b> 3, the second ceramic
次に、第2電極形成工程S4において、第2セラミックグリーン層23の上面であって、複数の第1電極パターン11と積層方向から見てそれぞれ互いに重なる位置に複数の第2電極パターン13を形成する。第2電極パターン13は、第1電極パターン11と同様に、電極ペーストを印刷後、乾燥することにより形成される。第2電極パターン13の厚さは、例えば、1.1〜1.2μm程度である。
Next, in the second electrode formation step S4, a plurality of
第2電極形成工程S4において、第2電極パターン13を印刷する際に、印刷した電極ペーストに含まれる溶剤によって第2セラミックグリーン層23が溶解し、第2電極パターン13と第1電極パターン11とが電気的に接続してしまう可能性がある。後述するように、第1電極パターン11と第2電極パターン13とは同極の端子電極と電気的に接続されるので、本実施形態の積層コンデンサにおいては、第2電極パターン13と第1電極パターン11とが電気的に接続した場合であっても性能上に問題がない。
In the second electrode formation step S4, when the
第2電極形成工程S4の後に、第2セラミックグリーン層23上において、第2電極パターン13が形成されていない余白部にセラミックペーストを印刷乾燥させて、補助層25を形成する。補助層25を形成するセラミックペーストと上記セラミックスラリーは同じ成分であってもよいし、異なる成分であってもよい。この際、補助層25の厚さと第2電極パターン13の厚さとが同じになるようにする。このように構成することにより、後述するように、第2電極パターン13の上に他の層を積層したときに厚さの差を生じないようにして、より精度よく層を積層することができる。なお、補助層25は必ず形成しなければならないというものではない。
After the second electrode forming step S4, the
以上の工程により、第1セラミックグリーン層21、複数の第1電極パターン11、第2セラミックグリーン層23、及び複数の第2電極パターン13が形成された積層体10が完成する。積層体10の厚さD3は、7.3〜7.5μm程度である。
Through the above steps, the laminate 10 in which the first ceramic
次に、剥離工程S5において、積層体10からPETフィルムP1を剥離する。このように形成された積層体10を図5に示す。図5は、本実施形態に係る積層コンデンサ1の製造工程において形成される積層体10の平面図である。
Next, in peeling process S5, PET film P1 is peeled from the
図5に示すように、第1電極形成工程S2においては、複数の第1電極パターン11を2次元的に配列させて形成する。その後、第2セラミックグリーン層23を形成した後に、第2電極形成工程S4において、複数の第2電極パターン13を第2セラミックグリーン層23の上面に形成する。この複数の第2電極パターン13は、積層方向から見て複数の第1電極パターン11とそれぞれ互いに重なるように2次元的に配列させて形成される。
As shown in FIG. 5, in the first electrode formation step S2, a plurality of
第1電極パターン11と第2電極パターン13とは、それぞれ略矩形状で、略同形状となるように形成される。第2電極形成工程S4において、第2電極パターン13の一辺の長さは、第1電極パターン11の一辺の長さより2・d1短く、第2電極パターン13の他辺の長さは、第1電極パターン11の他辺の長さより2・d1短くなるように形成される。すなわち、第1電極パターン11と第2電極パターン13との積層方向から見ると、第2電極パターン13の輪郭線は、第1電極パターン11の輪郭線から距離d1だけ内側に位置するように形成する。例えば、距離d1は30μm程度である。
The
引き続いて、図6を参照しながら、素子形成工程S6について説明する。図6は、本実施形態に係る積層コンデンサの製造工程において形成された集合体30を示す断面図である。素子形成工程S6では、PETフィルムP1が剥離された積層体10を複数用意して、複数の積層体10を積層して集合体30を形成し、集合体30を切断することによって複数の素子5を形成する。例えば、4つの積層体10A〜10Dを用意して、図6に示すように、用意した積層体10A〜10Dを積層して集合体30を形成する。集合体30は、外層部7及び複数の積層体10A〜10Dによって構成され、外層部7、積層体10A、積層体10B、積層体10C、積層体10D、外層部7の順に積層して圧着することにより形成される。外層部7は、電極パターンが形成されていないセラミックグリーン層を複数積層して形成される。
Subsequently, the element formation step S6 will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view showing the
積層方向に隣り合う第1電極パターン11同士が、第1電極パターン11の所定の配列方向には所定ピッチずれるように、積層体10A〜10Dを積層する。すなわち、積層方向に対して垂直方向、かつ、第1及び第2電極パターン11,13の所定の配列方向に平行な方向に1層毎に略半パターンずらして、積層体10A〜10Dを積層する。第1セラミックグリーン層21上における第1電極パターン11の形成間隔をdxとすると、各積層体10はdx/2だけずらして積層される。
The
続いて、互いに直行する第1切断面(図示せず)と第2切断面Lに沿って集合体30を切断して、複数の素子5を形成する。第1切断面は、積層方向と垂直で所定の配列方向と平行な面であり、配列して形成された第1及び第2電極パターン11,13同士の中間を通る面である。第2切断面Lは、積層方向及び所定の配列方向と垂直な面であり、第1及び第2電極パターン11,13の中央部を通る面と、第1及び第2電極パターン11,13同士の中間を通る面とである。
Subsequently, the
切断後、素子5の第1セラミックグリーン層21、第2セラミックグリーン層23及び補助層25に含まれるバインダを除去し、焼成する。
After cutting, the binder contained in the first ceramic
次に、端子形成工程S7において、素子5の外表面に第1端子電極2と第2端子電極4とを形成する。素子5において第2切断面Lによって切断された切断面であって、対向する切断面にそれぞれ第1,第2端子電極2,4を形成する。第2切断面Lによって中央部が切断されて素子5の側面に露出した第1電極パターン11と第2電極パターン13とは、形成された第1,第2端子電極2,4を介して電気的に接続される。
Next, in the terminal formation step S <b> 7, the first
例えば、積層体10Aと積層体10Cとに含まれて中央部が切断された第1電極パターン11と第2電極パターン13とが、第1端子電極2に接続されて、積層体10Bと積層体10Dとに含まれて中央部が切断された第1電極パターン11と第2電極パターン13とが、第2端子電極4に接続される。
For example, the
このように中央部が切断されて第1端子電極2に接続された第1電極パターン11と第2電極パターン13とは、それぞれ上述した積層コンデンサ1の第1内部電極11Aと第2内部電極13Aに相当する。また、中央部が切断されて第2端子電極4に接続された第1電極パターン11と第2電極パターン13とは、それぞれ上述した積層コンデンサ1の第1内部電極11Bと第2内部電極13Bとに相当する。なお、第1セラミックグリーン層21、第2セラミックグリーン層23、及び補助層25が誘電体層20を構成することとなる。以上説明した工程によって、積層コンデンサ1が完成する。
Thus, the
このように製造された積層コンデンサ1における、第2内部電極13Aと、第2内部電極13Aと誘電体層を挟んで隣接する第1内部電極11Bとの間の誘電体層の厚さと、第2内部電極13Bと、第2内部電極13Bと誘電体層を挟んで隣接する第1内部電極11Aとの間の誘電体層の厚さとは、第1セラミックグリーン層21の厚さD2に相当する。つまり、積層コンデンサ1の静電容量は、第1セラミックグリーン層21の厚さD2に主に依存する。
In the
上記第1セラミックグリーン層21の厚さD2は、所望の積層コンデンサ1の静電容量に応じて設定されている。さらに、積層体10の厚さD3は、PETフィルムP1を積層体10からより剥離しやすい寸法に設定されている。設定された積層体10の厚さD3が得られるように、厚さD2が設定されている。
The thickness D2 of the first ceramic
引き続いて、本実施形態に係る積層コンデンサ1の製造方法の作用効果を説明する。
Then, the effect of the manufacturing method of the
本実施形態の積層コンデンサ1の製造方法によれば、第1セラミックグリーン層21と第1電極パターン11と第2セラミックグリーン層23と第2電極パターン13とが形成された積層体10をPETフィルムP1上に形成した後に、積層体10からPETフィルムを剥離するので、1層のセラミックグリーン層と1層の電極パターンとが積層された後にPETフィルムP1から剥離する場合よりも、PETフィルムP1から剥離する際の積層体10の厚さを厚く設定することができる。よって、積層体10からPETフィルムP1を剥離しやすくして、積層体10におけるPETフィルムP1の剥離面の変形を抑制することができる。従って、剥離面の変形がより少ない積層体10を積層して、積層コンデンサ1におけるセラミックグリーン層の積層不良を抑制することができる。
According to the method for manufacturing the
また、本実施形態の積層コンデンサ1の製造方法では、第1層形成工程S1において、第1セラミックグリーン層11の厚さを調整して積層コンデンサ1の静電容量を調整することによって、PETフィルムP1を剥離する際の積層体10の厚さを剥離しやすい厚さに設定すると共に、第1セラミックグリーン層11の厚さを調整して積層コンデンサ1の静電容量を容易に調整することができる。
Moreover, in the manufacturing method of the
上記では、第1セラミックグリーン層21の厚さD2を3.5μm程度、第1電極パターン11の上面と第2電極パターン13の下面との間の誘電体層の厚さD1を1.6μm程度、積層体10の厚さD3を7.3〜7.5μ程度とした。例えば、第1セラミックグリーン層21の厚さD2を3.5μmより小さくすることによって、積層コンデンサ1の静電容量の値をより大きくすることができる。その際に、積層体10の厚さD3をPETフィルムP1から剥離しやすい厚さである7.3〜7.5μ程度に保つために、第1電極パターン11の上面と第2電極パターン13の下面との間の誘電体層の厚さD1をより大きくすることができる。
In the above description, the thickness D2 of the first ceramic
また、本実施形態の積層コンデンサ1の製造方法によれば、複数の第1電極パターン11及び複数の第2電極パターン13を互いに重なるように2次元的に配列させて形成し、積層体10を所定ピッチずれるように積層して集合体30を形成してから、第1切断面と第2切断面Lとで切断することにより複数の素子5を形成するので、積層コンデンサ1を効率良く形成することができる。従って、セラミックグリーン層の積層不良を抑制して、複数の積層コンデンサ1を効率良く製造することができる。
Further, according to the method for manufacturing the
また、本実施形態の積層コンデンサ1の製造方法では、第2電極形成工程S4において、第2電極パターン13の輪郭線は第1電極パターン11の輪郭線よりも積層方向から見て内側となるように形成されるようにすることによって、素子5において、第2切断面Lによる切断線を除く第2電極パターン13の輪郭線は、対応する第1電極パターン11の輪郭線よりも積層方向から見て内側となるように形成されることとなる。このことから素子5における1の積層体10に含まれる第1内部電極11Aと第2内部電極13A、及び、第1内部電極11Bと第2内部電極13Bとが重なる面積のばらつきを抑制することができる。よって、隣接する一方の積層体10に含まれる第1内部電極11A及び第2内部電極13Aと、他方の積層体に含まれる第1内部電極11B及び第2内部電極13Bとの積層方向から見て重なりあう面積のばらつきを抑制することができる。したがって、積層コンデンサ1の静電容量のばらつきを抑制することができる。
Further, in the method for manufacturing the
1…積層コンデンサ、2…第1端子電極、4…第2端子電極、5…素子、7…外層部、9…内層部、10、10A〜10D…積層体、11…第1電極パターン、11A…第1内部電極、11B…第1内部電極、13…第2電極パターン、13A…第2内部電極、13B…第2内部電極、20…誘電体層、21…第1セラミックグリーン層、23…第2セラミックグリーン層、25…補助層、30…集合体、A…内部電極対、B…内部電極対、D1〜D3…厚さ、d1…距離、L…第2切断面、P1…PETフィルム。
DESCRIPTION OF
Claims (2)
前記第1セラミックグリーン層の上面に複数の第1電極パターンを2次元的に配列させて形成する第1電極形成工程と、
前記第1セラミックグリーン層及び前記複数の第1電極パターンの上面に積層して第2セラミックグリーン層を形成する第2層形成工程と、
前記第2セラミックグリーン層の上面であって、積層方向から見て前記複数の第1電極パターンとそれぞれ互いに重なるように2次元的に配列させて複数の第2電極パターンを形成する第2電極形成工程と、
前記第1セラミックグリーン層、前記第1電極パターン、前記第2セラミックグリーン層、及び前記第2電極パターンが積層された積層体から前記支持体を剥離する剥離工程と、
前記支持体が剥離された前記積層体を複数用意して該複数の前記積層体を前記第1セラミックグリーン層と前記複数の第2電極パターンとが対向し且つ前記積層体の積層方向に隣り合う前記第1電極パターン同士が、前記第1電極パターンの所定の配列方向には所定ピッチずれるように積層して集合体を形成し、前記所定の配列方向と平行であって隣り合う前記第1電極パターンの間を通る第1切断面と、前記所定の配列方向と垂直であって隣り合う前記第1電極パターンの間の面及び前記第1電極パターンの中央を通る面である第2切断面とで前記集合体を切断し、焼成することにより複数の素子を形成する素子形成工程と、
前記素子の一方の端面に露出し且つ焼成された前記第1電極パターンからなる内部電極と前記素子の一方の端面に露出し且つ焼成された前記第2電極パターンからなる内部電極とに接続するように第1端子電極を前記素子の外表面に形成し、前記素子の他方の端面に露出し且つ焼成された前記第1電極パターンからなる内部電極と前記素子の他方の端面に露出し且つ焼成された前記第2電極パターンからなる内部電極と接続するように第2端子電極を前記素子の外表面に形成する端子形成工程と、を備え、
前記第2電極形成工程において、積層方向から見て前記第2電極パターンの輪郭線全体を前記第1電極パターンの輪郭線全体の内側となるように前記第2電極パターンを形成することを特徴とする積層コンデンサの製造方法。 A first layer forming step of forming a first ceramic green layer on a support;
A first electrode forming step of forming a plurality of first electrode patterns two-dimensionally on the upper surface of the first ceramic green layer;
A second layer forming step of forming a second ceramic green layer by laminating the first ceramic green layer and the plurality of first electrode patterns;
Forming a second electrode on the upper surface of the second ceramic green layer to form a plurality of second electrode patterns that are two-dimensionally arranged so as to overlap with the plurality of first electrode patterns as viewed from the stacking direction. Process,
A peeling step of peeling the support from a laminate in which the first ceramic green layer, the first electrode pattern, the second ceramic green layer, and the second electrode pattern are laminated;
A plurality of the laminates from which the support has been peeled are prepared, and the plurality of laminates are adjacent to each other in the stacking direction of the laminate, with the first ceramic green layer and the plurality of second electrode patterns facing each other. The first electrode patterns are stacked so as to be shifted by a predetermined pitch in a predetermined arrangement direction of the first electrode patterns to form an aggregate, and the first electrodes adjacent to each other in parallel to the predetermined arrangement direction A first cut surface that passes between the patterns, a second cut surface that is a surface that is perpendicular to the predetermined arrangement direction and is adjacent to the first electrode pattern, and a surface that passes through the center of the first electrode pattern; The element forming step of forming a plurality of elements by cutting and firing the aggregate in
To connect to the internal electrode made of one of the exposed end face and fired the second electrode pattern exposed is and baked on one end face of the inner electrode and the element consisting of the first electrode pattern of the element the first terminal electrodes are formed on the outer surface of the element, it is exposed and baked in the other end face of the other exposed end face and fired internal electrode and the element consisting of the first electrode pattern of the element And a terminal forming step of forming a second terminal electrode on the outer surface of the element so as to be connected to the internal electrode comprising the second electrode pattern,
In the second electrode forming step, the second electrode pattern is formed so that the entire contour line of the second electrode pattern is located inside the entire contour line of the first electrode pattern when viewed from the stacking direction. A manufacturing method of a multilayer capacitor.
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