JP4532545B2 - 光学素子のための位置決めユニット及び調節デバイス - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 84
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 10
- 238000001393 microlithography Methods 0.000 claims description 6
- 238000009434 installation Methods 0.000 abstract 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 84
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 3
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 241000238631 Hexapoda Species 0.000 description 1
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/003—Alignment of optical elements
- G02B7/005—Motorised alignment
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/003—Alignment of optical elements
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/003—Alignment of optical elements
- G02B7/004—Manual alignment, e.g. micromanipulators
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
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- G—PHYSICS
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
- G02B7/023—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses permitting adjustment
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
- G02B7/182—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors
- G02B7/1822—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors comprising means for aligning the optical axis
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/7015—Details of optical elements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Description
調節デバイスに設けられた複数の中間部を介して外部ホルダに接続される。
例えばプロジェクションオブジェクティブのような、オブジェクティブストラクチャーに対して位置決めされたホルダに対する、例えば、センタリングカラーまたはホルダフランジとしてもよい。これらのような基準面は、個別のホルダの互いに対するアライメントのためにも同様に使用される。
内部ホルダの中に接続される前には、例えば、光学素子としてのレンズの通称スフェリゼイション(spherization)によって補正されるけれども、接続後の段階の処理が、それにもかかわらず、ホルダの基準面に対して、レンズが偏心することを引き起こしうる。これは例えば、接着剤の硬化につれて接着材が収縮した結果、発生しうる。
本発明のさらなる課題は、上述した従来技術の不利点を回避することであり、特に、光学素子が、基準面に対して可能な限り6自由度に移動しうるものであり、また、光学素子が適切に調節されうるものであり、しかし、非常に精密な調節にかかわらず、十分に高い剛性レベルが保持されうる調節装置を提供することである。
本発明によれば、この場合、第1接続領域Aは光学素子に直接またはインナーリングを介して接続される頭部としてもよい。第2接続領域Bは、外部ホルダまたは外部ホルダの一部の構造に強固に接続される脚部としてもよい。
Z軸は、好ましくは光学軸である。
本発明の位置決めユニット及び装置は、例えばプロジェクションオブジェクティブのようなオブジェクティブストラクチャーへの取付けの直前でさえ、正確な位置決め、そして、もし要求されれば、外部ホルダに対する光学素子の並進移動及び角度調節を可能とする。これは、本発明によれば、光学素子の中央エリア全体が、外部ホルダに対して補正されることを意味している。
本発明の非常に有利な改良は、調節エレメントが第2可動中間部を介して中央部に接続されることを含み、中央部は、内部ホルダまたは光学素子に配置された頭部に接続され、また、中央部は、頭部を中央部に対してZ軸に垂直な方向に移動可能であり、且つ、中央部に対してZ軸に垂直な軸周り、及び、Z軸周りに回動可能とするような態様の少なくとも1つの第3可動中間部を有する。
好ましくは、板ばね、または、板ばね状のレバーにて形成されたソリッドヒンジジョイントの形である本発明の中間エレメントの配置が、要求されれば、外部ホルダと相対的に6自由度に移動しうる光学素子を用いた調節機構を実現する。
図1は、マイクロリソグラフィー用の投影露光装置1を図示している。これは、基板に
構造物を作り付けるための露光に用いられる。基板は、感光性材料でコーティングされると共に一般に主にシリコンからなるウェーハ2と呼ばれるものであり、例えばコンピュータチップのような半導体部品の製造のためのものである。
露光が実行された後で、ウェーハ2は、夫々レチクル5によって予め定められたストラクチャーを有する多数の個々のフィールドが同じウェーハ2上に露光されるように、矢印の方向に前方へ移動する。投影露光装置1におけるウェーハ2の段階的な供給動作のために、この装置はしばしばステッパーとも言及される。
図2に図示したような基準面22a,22b及び22cの配置は、もちろん、単に例としてみなされるべきである。発明の範囲内で、他の配置及び基準面を用いることができ、例えば、極座標に基づいていてもよい。
ローカル座標系のZ軸は、頭部25、中央部24及び脚部23の間を結ぶ線上に配置されている。X軸及びY軸は、Z軸に対して垂直な面上に配置されている。Z軸は一般的に光学軸と平行である。
調節ねじ28、29は、脚部23に対する調節エレメント27の回動角度を設定または固定するために使用されうる。特に、図3に示すように、2本の調節ねじ28、29は、脚部23のねじ穴に保持されている。この目的のために、脚部23のこの部分は、突出した部分の間で調節エレメント27が保持されるU型部に形成されている。それゆえに、調節エレメント27は、2本の調節ねじ28及び29の端部の間で挟み固定される。調節エレメント27は、調節ねじ28、29の動きにより、X方向の軸の周囲に回動しうる。
1.脚部23と調節エレメント27との間の第1弾性中間部26は、調節エレメント27が、脚部23に対してローカルX方向に平行な軸周りに回動可能とする。
2.脚部23と調節エレメント32との間の第1弾性中間部31は、調節エレメント32が、脚部23に対してローカルX方向に平行な軸周りに回動可能とする。
3.第2弾性中間部30は、中央部24を調節エレメント27に接続する。
4.調節エレメント32と中央部24との間の第2弾性中間部33は、第2弾性中間部30に対して角度2αで配置される。その結果、調節エレメント27及び32が固定されたとき、第2弾性中間部30及び33は、共に、中央部24の脚部23に対するローカルX方向に平行な軸周りの回動動作のみを許可する。
5.第3弾性中間部36は、頭部25の中央部24に対するローカルX方向への移動を許可し、頭部25の中央部24に対するローカルY軸及びローカルZ軸周りの回動を許可する。
図14及び図15に示すように、3つの調節デバイス21のローカルZ軸は、グローバル座標系におけるZo軸(光学軸)と平行に配置される必要はなく、それに対して、傾いて配置されうる。
回動対称性を有する光学素子に対して特に有利な、ある模範となる動作状態の実施形態を示している。図16に図示された実施形態は、基本的に、図6から図9に示す模範的な実施形態と同様に設計されており、この場合にも同じ参照符号をそのまま用いている。図6から図9に示す模範的な実施形態の場合と同様にして、第3中間部36もまた2つの部分に分割されており、具体的には、2つの板ばねジョイント36a及び36bに分割されている。
その発明による構成は、光学素子8が、好ましくない振動をおこすことにより容易に励起されないように、衝撃に対する抵抗が非常にあり、同時に非常に剛性のあるソリッドジョイントメジャーメントをもたらす。強固なアクチュエータとマニュピレータは、特にY及びZ方向、また、他の方向においても、大きなフレキシビリティを与える。これは、例えば、鏡のような大きく重い光学素子のための動的な要求の遵守を可能とするために重要である。
頭部25のインターナルホルダ20に対する接続の代わりに、もちろん、頭部25は直接光学素子8に取り付けることが可能である。
図23は、傾斜ばねジョイント47及び48及び中央部24bが、板面がYZ平面に配置された板ばねによって置き換えられた実施形態を図示している。
図26に示すように、傾斜ばねジョイント49は、頭部25の中央部24cに対する傾斜軸上で傾斜ばねジョイント49のヒンジジョイント面に交差するヒンジジョイント491a及び491bのヒンジジョイント面を有する、ヒンジジョイント491a,491b及びセンターピース491cを備えたヒンジジョイントカプラーを介した、頭部25の中央部24への追加の接続により、Y方向が強化されうる。
Claims (35)
- 光学素子を調節するための装置であって、
前記光学素子は、オブジェクティブストラクチャー内の外部ホルダ、または、近接され、且つ、反対に配置されたホルダに対する光学軸を有し、
前記光学素子は、調節デバイスによって供給される複数の中間部を介して外部ホルダに接続され、
各調節デバイス(21)は、第1可動中間部(26,31)をZ軸に垂直な軸周りに回動可能とする方法で、外部ホルダ(22)上で、且つ、調節エレメント(27,32)に配置及び接続された可動中間部上に配置された脚部(23)を備え、
前記調節エレメント(27,32)は、第2可動中間部を介して中央部(24)に接続されており、
前記中央部(24)は、内部ホルダまたは前記光学素子(8)に配置された頭部(25)に接続され、
前記調節エレメント(27,32)が固定された場合に、前記光学素子(20)または中央部(24)と、前記調節エレメント(27,32)との間に配置された前記第2可動中間部(30,33)は、前記光学素子(8)が、Z軸に垂直な軸周りに前記脚部(23)に対して回動可能とし、
前記頭部(25)が前記中央部(24)に対して前記Z軸に垂直な方向に移動可能であり、且つ、前記中央部(24)に対して前記Z軸に垂直な軸周り、及び、前記Z軸周りに回動可能となるような態様で前記Z軸の面上に位置する少なくとも1つの第3弾性中間部(36)を有し、
前記第2中間部(30,33)は、前記第2中間部(30,33)の中央軸の延長が、前記中央部(24)の前記第3弾性中間部(36)の中心点(40)で交差するような方法で配置された装置。 - 前記Z軸が、前記頭部(25)、前記中央部(24)及び前記脚部(23)と、を結ぶ線上に位置する請求項1に記載の装置。
- 前記第2中間部(30,33)が、前記Z軸に対して角度αで配置される請求項1に記載の装置。
- 前記Z軸は前記光学軸である請求項1に記載の装置。
- 前記第1及び第2中間部(26,31及び30,33)は、弾力性がある請求項1に記載の装置。
- 前記第1及び第2中間部(26,31及び30,33)は、第1及び第2ソリッドヒンジジョイントにて形成された請求項5に記載の装置。
- 前記外部ホルダ(22)には、前記オブジェクトストラクチャー(10)、または、その近傍に配置されたホルダに対して位置決めされる外部ホルダ(22)を用いて、基準面(22a,22b,22c)が設けられた請求項1に記載の装置。
- 前記ソリッドヒンジジョイントが、板ばね状の接続部またはカプラーにて形成された請求項7に記載の装置。
- 前記各調節デバイス(21)は、調節エレメント(27,32)として2つの調節レバーを有し、
前記調節エレメント(27,32)は、互いのなす角度が、前記第2中間部(30,33)と前記Z軸との間の角度の2倍となるように配置された請求項3に記載の装置。 - 間の角度が2αである前記2つの調節レバー(27,32)は、前記Z軸に対して対称に配置された請求項9に記載の装置。
- 前記調節エレメント(27,32)と前記中央部(24)との間に配置された第2弾性中間部(30,33)は、角度2αで配置された請求項9に記載の装置。
- 前記Z軸(光学軸)に対する各角度をαとした前記配置は、前記角度が90度より大きい配置である請求項10に記載の装置。
- 前記第3弾性中間部(36)は、前記頭部(25)と共に、前記脚部(23)に対して、前記Z軸に垂直な方向にオフセットして配置された請求項1に記載の装置。
- 前記Z軸に対して垂直な軸は、前記X軸であると共に前記第3弾性中間部(36)の面に垂直に配置された請求項1に記載の装置。
- 前記頭部(25)の前記中央部(24)に対するY回動軸を表す、前記中央部(24)の前記第3弾性中間部(36)の弾性たわみ軸と、
前記頭部(25)の前記中央部(24)に対するZ回動軸を表す、前記第3弾性中間部(36)のねじれ軸と、
が、前記第3弾性中間部(36)の中心点(40)を貫通する請求項1に記載の装置。 - 前記第3弾性中間部(36)は板ばねにて形成された請求項1に記載の装置。
- 前記中央部(24)の前記第3弾性中間部(36)は、前記Y軸に平行な軸周りに夫々傾いた2つの板ばねジョイント(36a,36b)にて形成された請求項1に記載の装置。
- 前記2つの板ばねジョイント(36a,36b)は、センターピース(36c)によって、互いに分離された請求項17に記載の装置。
- 前記センターピース(36c)は、前記Z方向に沿って形成され、且つ、互いに所定の間隔をあけて配置された多数の切れ目またはスロット(43)を有する2つの板ばねジョイント(36a,36b)の間に提供された請求項18に記載の装置。
- 前記板ばねジョイント(36a,36b)には、前記X方向沿って形成され、互いに所定の間隔をあけて配置された多数の切れ目が設けられた請求項18に記載の装置。
- 前記脚部(23)と前記調節エレメント(27,32)との間に配置された前記第1弾性中間部(26,31)は、夫々、チルティングジョイント(26a,31a)にて形成された請求項1に記載の装置。
- 前記調節エレメント(27,32)と前記中央部(24)との間に配置された前記第2可動中間部(30,33)は、夫々、下方及び上方チルティングジョイント(30a,30b及び33a,33b)にて形成された請求項1に記載の装置。
- 前記2つの下方及び上方チルティングジョイント(30a,30b及び33a,33b)は、少なくとも1つの接続部(30c及び33c)によって夫々接続された請求項22に記載の装置。
- 前記2つの板ばねジョイント(36a,36b)の1つの前記板ばねジョイントは、前記中央部(24)と前記頭部(25)との間の前記上方板ばねジョイント(36b)として配置され、他の1つの前記板ばねジョイントは、前記中央部(24)と前記脚部(23)との間に前記下方板ばねジョイント(36a)として配置され、両方の板ばねジョイント(36a,36b)が傾きうる請求項17に記載の装置。
- 前記調節デバイス(21)のローカルZ軸は、前記光学素子(8)のグローバルZo軸(光学軸)と平行に位置する請求項24に記載の装置。
- 前記下方板ばねジョイント(36a)は、何れの場合においても、前記下方及び上方チルティングジョイント(30a,33b及び30b,33a)に配置された請求項22又は24に記載の装置。
- 前記2つの下方及び上方チルティングジョイント(30a,33b及び30b,33a)は、夫々、2つの接続部(30c,30d及び33c,33d)を用いて接続されており、2つの接続部の1つ(30c及び33c)は、前記下方チルティングジョイント(30a,33b)と前記板ばねジョイント(36a)との間に配置され、また、他方の接続部(30d及び33d)は、前記下方板ばねジョイント(36a)と前記上方チルティングジョイント(30b,33a)との間に配置された請求項23又は26に記載の装置。
- 3つの調節デバイス(21)は、円周周りに分散して配置された請求項1に記載の装置。
- 前記3つの調節デバイス(21)は、前記光学素子(8)の前記光学軸に対して傾斜された請求項28に記載の装置。
- 各調節デバイス(21)は、円周方向において互いに所定の間隔をあけて配置された2つの調節エレメント(27,32)を有する請求項1に記載の装置。
- 前記調節エレメント(27,32)には、互いに個別に操作しうる操作部が設けられた請求項30に記載の装置。
- 前記操作部は、調節ねじ(28,29,34,35)を有する請求項31に記載の装置。
- 前記操作部は、電磁気、ピエゾアクチュエータ、空気、磁気歪み、または、水力の駆動部を有する請求項32に記載の装置。
- 前記調節デバイス(21)は、複数の部分を有する請求項1に記載の装置。
- マイクロリソグラフィーのためのプロジェクションオブジェクティブを備えた投影露光装置であって、
前記プロジェクションオブジェクティブには、請求項1〜34の何れかに記載の光学素子(8)を調節するための装置が少なくとも1つ設けられた投影露光装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US58409504P | 2004-06-29 | 2004-06-29 | |
PCT/EP2005/006583 WO2006000352A1 (de) | 2004-06-29 | 2005-06-18 | Positioniereinheit und vorrichtung zur justage für ein optisches element |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010076382A Division JP4851608B2 (ja) | 2004-06-29 | 2010-03-29 | 光学素子の位置決めユニット |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008504579A JP2008504579A (ja) | 2008-02-14 |
JP2008504579A5 JP2008504579A5 (ja) | 2008-09-11 |
JP4532545B2 true JP4532545B2 (ja) | 2010-08-25 |
Family
ID=34970274
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007518496A Expired - Fee Related JP4532545B2 (ja) | 2004-06-29 | 2005-06-18 | 光学素子のための位置決めユニット及び調節デバイス |
JP2010076382A Expired - Fee Related JP4851608B2 (ja) | 2004-06-29 | 2010-03-29 | 光学素子の位置決めユニット |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010076382A Expired - Fee Related JP4851608B2 (ja) | 2004-06-29 | 2010-03-29 | 光学素子の位置決めユニット |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (8) | US7738193B2 (ja) |
JP (2) | JP4532545B2 (ja) |
WO (1) | WO2006000352A1 (ja) |
Families Citing this family (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP4532545B2 (ja) | 2004-06-29 | 2010-08-25 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 光学素子のための位置決めユニット及び調節デバイス |
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-
2005
- 2005-06-18 JP JP2007518496A patent/JP4532545B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-06-18 US US11/631,370 patent/US7738193B2/en active Active
- 2005-06-18 WO PCT/EP2005/006583 patent/WO2006000352A1/de active Application Filing
-
2010
- 2010-03-29 JP JP2010076382A patent/JP4851608B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-04-27 US US12/768,286 patent/US8035903B2/en active Active
-
2011
- 2011-09-12 US US13/230,398 patent/US8416515B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-01-28 US US13/751,284 patent/US8493674B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2013-06-25 US US13/926,102 patent/US8760777B2/en active Active
-
2014
- 2014-05-19 US US14/280,872 patent/US9075174B2/en active Active
-
2015
- 2015-06-22 US US14/746,358 patent/US9664873B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2017
- 2017-05-23 US US15/602,249 patent/US10133021B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20160041360A1 (en) | 2016-02-11 |
US8035903B2 (en) | 2011-10-11 |
US8760777B2 (en) | 2014-06-24 |
US10133021B2 (en) | 2018-11-20 |
US20140368933A1 (en) | 2014-12-18 |
US20170351047A1 (en) | 2017-12-07 |
US7738193B2 (en) | 2010-06-15 |
US20100245847A1 (en) | 2010-09-30 |
JP2008504579A (ja) | 2008-02-14 |
US9075174B2 (en) | 2015-07-07 |
US20120019798A1 (en) | 2012-01-26 |
US20130135760A1 (en) | 2013-05-30 |
US8416515B2 (en) | 2013-04-09 |
JP2010183097A (ja) | 2010-08-19 |
US20130286490A1 (en) | 2013-10-31 |
JP4851608B2 (ja) | 2012-01-11 |
WO2006000352A1 (de) | 2006-01-05 |
US9664873B2 (en) | 2017-05-30 |
US20070206297A1 (en) | 2007-09-06 |
US8493674B2 (en) | 2013-07-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A621 | Written request for application examination |
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|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20080925 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090924 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20091228 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100108 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100518 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100610 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4532545 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130618 Year of fee payment: 3 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |