[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP4516779B2 - Metal oxide surface-treated particles, method for producing the same, and method for producing a resin composition - Google Patents

Metal oxide surface-treated particles, method for producing the same, and method for producing a resin composition Download PDF

Info

Publication number
JP4516779B2
JP4516779B2 JP2004119398A JP2004119398A JP4516779B2 JP 4516779 B2 JP4516779 B2 JP 4516779B2 JP 2004119398 A JP2004119398 A JP 2004119398A JP 2004119398 A JP2004119398 A JP 2004119398A JP 4516779 B2 JP4516779 B2 JP 4516779B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal oxide
particles
treated
silane coupling
coupling agent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2004119398A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2005298740A (en
Inventor
武 楊原
賛 安部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Admatechs Co Ltd
Original Assignee
Admatechs Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Admatechs Co Ltd filed Critical Admatechs Co Ltd
Priority to JP2004119398A priority Critical patent/JP4516779B2/en
Publication of JP2005298740A publication Critical patent/JP2005298740A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4516779B2 publication Critical patent/JP4516779B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

本発明は、表面がシランカップリング剤で処理された金属酸化物表面処理粒子及びその製造方法、およびその金属酸化物表面処理粒子を熱硬化性樹脂等に配合した樹脂組成物を製造する方法並びにその金属酸化物表面処理粒子をワニス中に分散させるワニスの製造方法に関する。 The present invention, the surface metal oxide surface treated treated with a silane coupling agent particles and a method for producing the same, and a method of the metal oxide surface treated particles child producing the resin composition obtained by blending a thermosetting resin The present invention also relates to a method for producing a varnish in which the metal oxide surface-treated particles are dispersed in the varnish .

半導体装置等の電子部品の封止材には、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂が多く用いられている。例えば、フリップチップ実装では、半導体素子と基板との隙間等に液状のエポキシ樹脂系封止材(アンダーフィル材)が充填される。封止材には、半導体素子の各種信頼性を確保するため、接着性、耐湿性、耐ヒートサイクル性等が要求される。このため、例えば、マトリックスとなるエポキシ樹脂に、シリカ等の金属酸化物粒子を配合したエポキシ樹脂組成物が開発されている。また、配合する金属酸化物粒子の表面をシランカップリング剤で処理することで、エポキシ樹脂組成物の成形性等を向上させる試みが提案されている(例えば、特許文献1、2参照。)。
特開2001−189407号公報 特開2002−114837号公報
A thermosetting resin such as an epoxy resin is often used as a sealing material for electronic components such as semiconductor devices. For example, in flip chip mounting, a liquid epoxy resin-based sealing material (underfill material) is filled in a gap between a semiconductor element and a substrate. The sealing material is required to have adhesiveness, moisture resistance, heat cycle resistance, and the like in order to ensure various reliability of the semiconductor element. For this reason, for example, an epoxy resin composition in which metal oxide particles such as silica are blended with an epoxy resin as a matrix has been developed. Moreover, the trial which improves the moldability of an epoxy resin composition etc. is proposed by processing the surface of the metal oxide particle to mix | blend with a silane coupling agent (for example, refer patent document 1, 2).
JP 2001-189407 A JP 2002-114837 A

上述したように、フリップチップ実装では、半導体素子と基板との間の極めて小さな隙間に、封止材を浸入させる必要がある。よって、封止材には高い流動性が要求される。しかしながら、シランカップリング剤で表面処理された金属酸化物粒子を樹脂に分散させた場合、樹脂中で金属酸化物粒子が凝集し易い。このため、樹脂組成物の粘度が高くなり、流動性が低下してしまう。また、金属酸化物粒子の表面状態によっては、樹脂との親和性が低く、樹脂と金属酸化物粒子との界面にクラックが発生し易い。このため、封止材としての接着性や耐久性も問題となる。   As described above, in the flip chip mounting, it is necessary to allow the sealing material to enter a very small gap between the semiconductor element and the substrate. Therefore, high fluidity is required for the sealing material. However, when the metal oxide particles surface-treated with the silane coupling agent are dispersed in the resin, the metal oxide particles are likely to aggregate in the resin. For this reason, the viscosity of a resin composition becomes high and fluidity | liquidity will fall. Further, depending on the surface state of the metal oxide particles, the affinity with the resin is low, and cracks are likely to occur at the interface between the resin and the metal oxide particles. For this reason, the adhesiveness and durability as a sealing material also become a problem.

本発明は、このような実状を鑑みてなされたものであり、樹脂に配合した場合に凝集し難く、樹脂との親和性の良好な金属酸化物表面処理粒子及びその製造方法を提供することを課題とする。また、その金属酸化物表面処理粒子を用いることで、流動性が高く、硬化後の接着性、耐久性の良好な樹脂組成物の製造方法を提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of such a situation, and provides a metal oxide surface-treated particle having good affinity with a resin and a method for producing the same , which hardly aggregates when blended in a resin. Let it be an issue. Another object of the present invention is to provide a method for producing a resin composition having high fluidity and good adhesion and durability after curing by using the metal oxide surface-treated particles.

本発明者は、上記課題に対して鋭意研究を重ねた結果、金属酸化物粒子の表面を所定の状態にすることで、樹脂中における分散性、および樹脂との親和性を共に向上させることができるとの知見に至った。   As a result of intensive research on the above problems, the present inventor can improve both the dispersibility in the resin and the affinity with the resin by bringing the surface of the metal oxide particles into a predetermined state. I have come to the knowledge that I can do it.

例えば、シリカ粒子の表面には、OH基(シラノール:Si−OH)がある。シラノールは親水性であるため、シリカ粒子を樹脂に配合した場合、シリカ粒子と樹脂とは馴染み難い。また、シリカ粒子に表面処理を施しても、粒子表面にシラノールが残存している場合には、樹脂との親和性は低い。このため、硬化後に、シリカ粒子と樹脂との界面でクラックが発生し易い。一方、多量のシランカップリング剤を用いてシリカ粒子の表面処理を行えば、シラノールを全て反応させて無くすことができる。しかし、粒子表面には、余剰のシランカップリング剤が付着する。これより、シランカップリング剤が縮合して有機溶剤に不溶なポリマー層が形成される。このポリマー層の強度は低いため、硬化後にポリマー層でクラックが発生し易い。また、表面にポリマー層が形成されると、シリカ粒子は凝集し易い。このため、樹脂組成物の粘度は高くなり、流動性は低下する。   For example, there are OH groups (silanol: Si—OH) on the surface of the silica particles. Since silanol is hydrophilic, when silica particles are blended with a resin, the silica particles and the resin are not easily adapted. Further, even if the silica particles are subjected to surface treatment, if silanol remains on the particle surface, the affinity with the resin is low. For this reason, cracks are likely to occur at the interface between the silica particles and the resin after curing. On the other hand, if the surface treatment of the silica particles is performed using a large amount of silane coupling agent, all of the silanol can be reacted and eliminated. However, excessive silane coupling agent adheres to the particle surface. Thus, the silane coupling agent is condensed to form a polymer layer insoluble in the organic solvent. Since the strength of this polymer layer is low, cracks are likely to occur in the polymer layer after curing. Moreover, when a polymer layer is formed on the surface, the silica particles tend to aggregate. For this reason, the viscosity of a resin composition becomes high and fluidity | liquidity falls.

これに対して、本発明の金属酸化物表面処理粒子は、金属酸化物粒子の表面がシランカップリング剤で処理された金属酸化物表面処理粒子であって、
該金属酸化物粒子の表面に形成された表面処理層は、
該処理前の該金属酸化物粒子の表面に存在した実質的に全てのOH基と該シランカップリング剤との反応により形成され、有機溶剤に不溶な反応不溶化層と、
該反応不溶化層の表面に形成され、有機溶剤に可溶な可溶化層と、
を含むことを特徴とする。
また、本発明の金属酸化物表面処理粒子の製造方法は、金属酸化物粒子の表面をシランカップリング剤により表面処理する金属酸化物表面処理粒子の製造方法であって、
気化させた前記シランカップリング剤を前記金属酸化物粒子の表面に接触させて前記金属酸化物粒子の表面に存在するOH基に前記シランカップリング剤を反応させて有機溶媒に不溶な反応不溶化層を形成する工程を有することを特徴とする。
そして、製造される前記金属酸化物表面処理粒子の表面には、前記シランカップリング剤からなり前記OH基に反応していない可溶化層を有することができる。
更に、製造される前記金属酸化物表面処理粒子の表面には、前記シランカップリング剤からなり前記OH基に反応していない可溶化層を有しないことが特に望ましい。
In contrast, the metal oxide surface-treated particles of the present invention are metal oxide surface-treated particles in which the surface of the metal oxide particles is treated with a silane coupling agent,
The surface treatment layer formed on the surface of the metal oxide particles is
A reaction insolubilized layer formed by a reaction between substantially all OH groups present on the surface of the metal oxide particles before the treatment and the silane coupling agent, and insoluble in an organic solvent;
A solubilized layer formed on the surface of the reaction insolubilized layer and soluble in an organic solvent;
It is characterized by including.
Further, the method for producing metal oxide surface-treated particles of the present invention is a method for producing metal oxide surface-treated particles, wherein the surface of the metal oxide particles is surface-treated with a silane coupling agent,
The vaporized silane coupling agent is brought into contact with the surface of the metal oxide particles, and the silane coupling agent is reacted with the OH groups present on the surface of the metal oxide particles, so that the reaction insolubilized layer is insoluble in an organic solvent. It has the process of forming .
And the surface of the said metal oxide surface treatment particle manufactured can have a solubilization layer which consists of the said silane coupling agent and has not reacted with the said OH group.
Furthermore, it is particularly desirable that the surface of the metal oxide surface-treated particles to be produced does not have a solubilized layer made of the silane coupling agent and not reacting with the OH group.

金属酸化物粒子の表面には、反応不溶化層と可溶化層とのうち少なくとも反応不溶化層を含む表面処理層が形成される。つまり、本発明の金属酸化物表面処理粒子には、金属酸化物粒子の表面に反応不溶化層のみが形成されている態様と、反応不溶化層と可溶化層との両方が形成されている態様と、の二つの態様がある。図1に、本発明の金属酸化物表面処理粒子の断面モデル図を示す。図1において、(a)は、表面処理層が反応不溶化層のみからなる態様を示し、(b)は、表面処理層が反応不溶化層と可溶化層とからなる態様を示す。図1(a)に示すように、金属酸化物表面処理粒子1は、金属酸化物粒子2と表面処理層3とからなる。表面処理層3は、反応不溶化層4からなる。反応不溶化層4は、金属酸化物粒子2の表面に形成される。また、図1(b)に示すように、金属酸化物表面処理粒子1は、金属酸化物粒子2と表面処理層3とからなる。表面処理層3は、反応不溶化層4と可溶化層5とからなる。反応不溶化層4は、金属酸化物粒子2の表面に形成される。可溶化層5は、反応不溶化層4の表面に形成される。   A surface treatment layer including at least the reaction insolubilized layer of the reaction insolubilized layer and the solubilized layer is formed on the surface of the metal oxide particles. That is, in the metal oxide surface-treated particles of the present invention, only the reaction insolubilized layer is formed on the surface of the metal oxide particles, and both the reaction insolubilized layer and the solubilized layer are formed. There are two modes. In FIG. 1, the cross-sectional model figure of the metal oxide surface treatment particle | grains of this invention is shown. In FIG. 1, (a) shows an embodiment in which the surface treatment layer consists only of a reaction insolubilized layer, and (b) shows an embodiment in which the surface treatment layer comprises a reaction insolubilized layer and a solubilized layer. As shown in FIG. 1 (a), the metal oxide surface-treated particles 1 are composed of metal oxide particles 2 and a surface-treated layer 3. The surface treatment layer 3 includes a reaction insolubilized layer 4. The reaction insolubilized layer 4 is formed on the surface of the metal oxide particles 2. Further, as shown in FIG. 1B, the metal oxide surface-treated particles 1 are composed of metal oxide particles 2 and a surface-treated layer 3. The surface treatment layer 3 includes a reaction insolubilized layer 4 and a solubilized layer 5. The reaction insolubilized layer 4 is formed on the surface of the metal oxide particles 2. The solubilized layer 5 is formed on the surface of the reaction insolubilized layer 4.

反応不溶化層は、表面処理前に金属酸化物粒子の表面に存在した全てのOH基とシランカップリング剤とが反応して形成される。反応により親水性のOH基が無くなることに加え、形成された反応不溶化層は樹脂に馴染み易い。よって、例えば、表面処理層が反応不溶化層のみからなる態様では、樹脂との親和性が高く、硬化後も樹脂との界面でクラックが発生し難い。また、樹脂中での凝集も起こり難い。   The reaction insolubilized layer is formed by reacting all OH groups present on the surface of the metal oxide particles with the silane coupling agent before the surface treatment. In addition to the disappearance of the hydrophilic OH group by the reaction, the formed reaction insolubilized layer is easily adapted to the resin. Therefore, for example, in a mode in which the surface treatment layer is composed only of the reaction insolubilized layer, the affinity with the resin is high, and cracks hardly occur at the interface with the resin even after curing. In addition, aggregation in the resin hardly occurs.

可溶化層は、反応不溶化層の表面に形成される。可溶化層は、金属酸化物粒子の表面にあったOH基との反応に使われなかったシランカップリング剤から形成される。可溶化層は、上記ポリマー層とは異なり、有機溶剤に可溶である。つまり、有機溶剤で洗浄すると、可溶化層は除去される。また、可溶化層は樹脂中に拡散し、分散する。よって、可溶化層が形成されていても、樹脂との親和性が阻害されることはない。このため、硬化後も樹脂との界面でクラックが発生し難く、樹脂中での凝集も起こり難い。このように、本発明の金属酸化物表面処理粒子は、樹脂中での分散性、および樹脂との親和性に優れる。   The solubilized layer is formed on the surface of the reaction insolubilized layer. The solubilized layer is formed from a silane coupling agent that has not been used for the reaction with the OH groups on the surface of the metal oxide particles. Unlike the polymer layer, the solubilized layer is soluble in an organic solvent. That is, the solubilized layer is removed by washing with an organic solvent. The solubilized layer diffuses and disperses in the resin. Therefore, even if the solubilized layer is formed, the affinity with the resin is not inhibited. For this reason, even after curing, cracks hardly occur at the interface with the resin, and aggregation in the resin hardly occurs. Thus, the metal oxide surface-treated particles of the present invention are excellent in dispersibility in the resin and affinity with the resin.

本発明の製造方法にて製造される金属酸化物表面処理粒子、以下に説明するように、樹脂やワニスに配合すると優れた効果を発揮する。すなわち、本発明の樹脂組成物の製造方法は、熱可塑性あるいは熱硬化性の樹脂に、上記本発明の金属酸化物粉体を配合したことを特徴とする。また、本発明のワニス組成物の製造方法は、織物クロス含浸用ワニスあるいはフィルム形成用ワニスに、上記本発明の金属酸化物粉体を配合したことを特徴とする。 Metal oxide surface treated particles to be produced by the production method of the present invention, as described below, it exhibits an excellent effect as incorporated into a resin or varnish. That is, the method for producing a resin composition of the present invention is characterized in that the metal oxide powder of the present invention is blended with a thermoplastic or thermosetting resin. The method for producing a varnish composition of the present invention is characterized in that the metal oxide powder of the present invention is blended with a woven cloth impregnating varnish or a film forming varnish.

本発明の樹脂組成物、ワニス組成物(以下、適宜「樹脂組成物等」と称す。)の製造方法には、上記本発明の製造方法にて製造された金属酸化物表面処理粒子が配合される。このため、本発明の樹脂組成物等の製造方法にて製造された樹脂組成物等では、金属酸化物表面処理粒子の凝集が抑制され、粘度の上昇も小さい。よって、本発明の製造方法にて製造された樹脂組成物等の流動性は高い。また、樹脂やワニスと金属酸化物表面処理粒子との親和性が良好であることから、両者の密着性が高く、硬化後に樹脂やワニスから金属酸化物表面処理粒子が脱落し難い。 In the method for producing the resin composition and varnish composition of the present invention (hereinafter appropriately referred to as “resin composition etc.”) , the metal oxide surface-treated particles produced by the production method of the present invention are blended. The For this reason, in the resin composition etc. manufactured with the manufacturing method of the resin composition etc. of this invention, aggregation of metal oxide surface treatment particle | grains is suppressed and the raise of a viscosity is also small. Therefore, the fluidity of the resin composition produced by the production method of the present invention is high. In addition, since the affinity between the resin or varnish and the metal oxide surface-treated particles is good, the adhesion between them is high, and the metal oxide surface-treated particles are difficult to fall off from the resin or varnish after curing.

このように、本発明の製造方法にて製造された樹脂組成物は、半導体装置等の電子部品の封止材等として好適である。また、本発明のワニス組成物によれば、熱膨張係数が小さく、信頼性の高い多層配線基板用プリプレグ、絶縁フィルム等を製造することができる。 Thus, the resin composition produced by the production method of the present invention is suitable as a sealing material for electronic parts such as semiconductor devices. Moreover, according to the varnish composition of the present invention, it is possible to produce a prepreg for a multilayer wiring board, an insulating film and the like having a small thermal expansion coefficient and high reliability.

本発明の製造方法にて製造された金属酸化物表面処理粒子の表面処理層は、反応不溶化層を有する。シランカップリング剤との反応により親水性のOH基が無くなるため、本発明の金属酸化物表面処理粒子は、樹脂との親和性が良い。また、反応不溶化層に加えて可溶化層を有する場合でも、可溶化層は樹脂中に拡散し、分散するため、樹脂との親和性が阻害されることはない。また、本発明の製造方法にて製造された金属酸化物表面処理粒子は、ポリマー層を持たないため、樹脂中で凝集し難い。 The surface treatment layer of the metal oxide surface treatment particles produced by the production method of the present invention has a reaction insolubilized layer. Since the hydrophilic OH group is eliminated by the reaction with the silane coupling agent, the metal oxide surface-treated particles of the present invention have good affinity with the resin. Moreover, even when it has a solubilization layer in addition to the reaction insolubilization layer, since the solubilization layer diffuses and disperses in the resin, the affinity with the resin is not inhibited. Moreover, since the metal oxide surface-treated particles produced by the production method of the present invention do not have a polymer layer, they are difficult to aggregate in the resin.

本発明方法にて製造された樹脂組成物等では、樹脂やワニス中で金属酸化物表面処理粒子が凝集し難いため、粘度の上昇は小さく、流動性が高い。また、樹脂やワニスと、金属酸化物表面処理粒子との親和性が良好であるため、両者の密着性が高く、硬化後に樹脂やワニスから金属酸化物表面処理粒子が脱落し難い。 In the resin composition produced by the method of the present invention, since the metal oxide surface-treated particles hardly aggregate in the resin or varnish, the increase in viscosity is small and the fluidity is high. In addition, since the affinity between the resin or varnish and the metal oxide surface-treated particles is good, the adhesion between the two is high, and the metal oxide surface-treated particles are difficult to drop off from the resin or varnish after curing.

以下、本発明の金属酸化物表面処理粒子及びその製造方法、および樹脂組成物等の製造方法について実施形態に基づき詳しく説明する。 Hereinafter, the metal oxide surface-treated particles of the present invention, the production method thereof, and the production method of the resin composition and the like will be described in detail based on the embodiments.

〈金属酸化物表面処理粒子の製造方法
本発明方法にて製造された金属酸化物表面処理粒子は、金属酸化物粒子の表面がシランカップリング剤で処理された金属酸化物表面処理粒子であって、該金属酸化物粒子の表面に形成された表面処理層は、該処理前の該金属酸化物粒子の表面に存在した全てのOH基と該シランカップリング剤との反応により形成され、有機溶剤に不溶な反応不溶化層と、該反応不溶化層の表面に形成され、有機溶剤に可溶な可溶化層と、のうち少なくとも該反応不溶化層を含む。
< Method for producing metal oxide surface-treated particles>
The metal oxide surface-treated particles produced by the method of the present invention are metal oxide surface-treated particles in which the surface of the metal oxide particles is treated with a silane coupling agent, and are formed on the surface of the metal oxide particles. The surface-treated layer formed by reaction of all OH groups present on the surface of the metal oxide particles before the treatment with the silane coupling agent, and a reaction-insolubilized layer insoluble in an organic solvent, and the reaction Of the solubilized layer formed on the surface of the insolubilized layer and soluble in the organic solvent, at least the reaction insolubilized layer is included.

金属酸化物粒子には、例えば、シリカ(SiO2)、アルミナ(Al23)、チタニア(TiO2)、ジルコニア(ZrO2)等の単一金属の酸化物粒子や、SiO2−Al23、SiO2−TiO2、SiO2−ZrO2等の複合酸化物粒子を用いればよい。なかでも、最も安価であり、酸およびアルカリによる腐食に強く化学的に安定であり、さらに低誘電率であること等を考慮すれば、シリカを主成分とする金属酸化物粒子を採用することが望ましい。なお、本明細書では、シリカを主成分とする金属酸化物粒子を「シリカ粒子」と称す。 Examples of the metal oxide particles include single metal oxide particles such as silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), titania (TiO 2 ), zirconia (ZrO 2 ), and SiO 2 —Al 2. Composite oxide particles such as O 3 , SiO 2 —TiO 2 , and SiO 2 —ZrO 2 may be used. Among them, it is possible to adopt metal oxide particles mainly composed of silica, considering that it is the cheapest, is strong and chemically stable against corrosion by acids and alkalis, and has a low dielectric constant. desirable. In the present specification, metal oxide particles containing silica as a main component are referred to as “silica particles”.

金属酸化物粒子の製造方法は、特に限定されるものではない。例えば、VMC(Vaperized Metal Combution)法等のように、金属を燃焼して製造することができる。VMC法とは、酸素を含む雰囲気中でバーナーにより化学炎を形成し、この化学炎中に、目的とする金属酸化物粒子を形成する金属粉末を粉塵雲が形成される程度の量投入し、爆燃を起こさせて金属酸化物粒子を得る方法である。VMC法は粉塵爆発の原理を利用するものである。VMC法によれば、瞬時に大量の金属酸化物粒子が得られる。得られる粒子は、略真球の形状をなす。例えば、シリカ粒子を得る場合にはシリコン粉末を投入、アルミナ粒子を得る場合にはアルミニウム粉末を投入すればよい。投入する粉末の粒子径、投入量、火炎温度等を調整することにより、得られる金属酸化物粒子の粒径を調整することが可能である。また、破砕した金属酸化物を溶融して、あるいは金属酸化物を破砕して製造してもよい。このように、金属を燃焼して得られる燃焼金属酸化物粒子、破砕した金属酸化物を溶融して得られる溶融金属酸化物粒子、金属酸化物を破砕した破砕金属酸化物粒子から選ばれる一種以上を金属酸化物粒子とすればよい。   The method for producing metal oxide particles is not particularly limited. For example, it can be manufactured by burning metal, such as VMC (Vaperized Metal Combution) method. With the VMC method, a chemical flame is formed by a burner in an atmosphere containing oxygen, and an amount of metal powder that forms the target metal oxide particles is introduced into the chemical flame so that a dust cloud is formed, In this method, metal oxide particles are obtained by deflagration. The VMC method uses the principle of dust explosion. According to the VMC method, a large amount of metal oxide particles can be obtained instantaneously. The obtained particles have a substantially spherical shape. For example, when obtaining silica particles, silicon powder may be charged, and when obtaining alumina particles, aluminum powder may be charged. It is possible to adjust the particle diameter of the metal oxide particles obtained by adjusting the particle diameter of the powder to be input, the input amount, the flame temperature, and the like. Moreover, you may manufacture by crushing the crushed metal oxide or crushing the metal oxide. Thus, one or more kinds selected from combustion metal oxide particles obtained by burning metal, molten metal oxide particles obtained by melting crushed metal oxide, and crushed metal oxide particles obtained by crushing metal oxide May be metal oxide particles.

シランカップリング剤には、既に公知の種々のシランカップリング剤を用いればよい。例えば、以下の表1に示すシランカップリング剤が挙げられる。なお、表1中「反応不溶化層形成量」については後述する。なかでも、エポキシシラン、メタクリルシラン、アミノシランを用いることが望ましい。これらにより処理された金属酸化物表面処理粒子を樹脂に配合することで、硬化後の物性がより良好な樹脂組成物が得られる。   As the silane coupling agent, various known silane coupling agents may be used. For example, the silane coupling agent shown in the following Table 1 is mentioned. In Table 1, “reaction insolubilized layer formation amount” will be described later. Among these, it is desirable to use epoxy silane, methacryl silane, or amino silane. By blending the metal oxide surface-treated particles thus treated with the resin, a resin composition having better physical properties after curing can be obtained.

Figure 0004516779
Figure 0004516779

本発明の金属酸化物表面処理粒子は、金属酸化物粒子の表面をシランカップリング剤で処理して製造される。シランカップリング剤による表面処理は、気化させたシランカップリング剤を接触させることにより行う。例えば、金属酸化物粒子からなる被処理粉体を処理容器に収容し、該被処理粉体を攪拌しながら気化させたシランカップリング剤と反応させるとよい。この反応により、金属酸化物粒子の表面に表面処理層が形成される。表面処理層は、表面処理の条件により、反応不溶化層のみが形成される態様と、反応不溶化層と可溶化層との両方が形成される態様とがある。使用するシランカップリング剤の量を低減するという観点では、表面処理層は、反応不溶化層のみからなる態様が望ましい。 The metal oxide surface-treated particles of the present invention are produced by treating the surface of metal oxide particles with a silane coupling agent. The surface treatment with the silane coupling agent is performed by contacting the vaporized silane coupling agent. For example, a powder to be treated made of metal oxide particles may be accommodated in a treatment container and reacted with a silane coupling agent vaporized while stirring the powder to be treated. By this reaction, a surface treatment layer is formed on the surface of the metal oxide particles. The surface treatment layer includes an aspect in which only the reaction insolubilized layer is formed and an aspect in which both the reaction insolubilized layer and the solubilized layer are formed depending on the surface treatment conditions. From the viewpoint of reducing the amount of the silane coupling agent to be used, it is desirable that the surface treatment layer has only a reaction insolubilized layer.

以下、本発明の金属酸化物表面処理粒子の特定方法について説明する。例えば、特定したい試料を有機溶剤で洗浄した後、赤外線分光分析により金属酸化物粒子表面のOH基の有無を確認すればよい。例えば、試料が、シランカップリング剤で表面処理されたシリカ粒子からなるシリカ粉体である場合、赤外吸収スペクトルにおいて3740cm-1付近のシラノール吸収が検出されなければ、シリカ粒子表面にはシラノールが無い、つまり、少なくとも反応不溶化層が形成されていると判断できる。一方、シラノール吸収が検出された場合、該シリカ粒子表面には、未反応のシラノールが残存していることになる。よって、この場合、当該試料は本発明の金属酸化物表面処理粒子からなるものではないと判定される。 Hereinafter, the identification method of the metal oxide surface treatment particle | grains of this invention is demonstrated. For example, after the sample to be specified is washed with an organic solvent, the presence or absence of OH groups on the surface of the metal oxide particles may be confirmed by infrared spectroscopic analysis. For example, when the sample is a silica powder composed of silica particles surface-treated with a silane coupling agent, if no silanol absorption near 3740 cm −1 is detected in the infrared absorption spectrum, silanol is not present on the silica particle surface. It can be judged that there is no, that is, at least a reaction insolubilized layer is formed. On the other hand, when silanol absorption is detected, unreacted silanol remains on the surface of the silica particles. Therefore, in this case, it is determined that the sample is not composed of the metal oxide surface-treated particles of the present invention.

赤外吸収スペクトルにおいてシラノール吸収が検出されない場合、反応不溶化層のみが形成されている態様、さらに可溶化層が形成されている態様(例えば過剰のシランカップリング剤の縮合によるポリマー層が形成されている態様が考えられる。そこで、有機溶剤で洗浄した後の上記試料を温度800℃で加熱して、加熱前後の重量減少量を測定する。800℃で加熱すると、シランカップリング剤は揮発する。よって、加熱前後の重量減少量を測定することで、シリカ粒子の表面に付着したシランカップリング剤量を知ることができる。なお、加熱時間は、1時とするIn the case where silanol absorption is not detected in the infrared absorption spectrum, only the reaction insolubilized layer is formed, and further the solubilized layer is formed (for example, a polymer layer is formed by condensation of an excess silane coupling agent). A mode ) . Therefore, the sample after washing with an organic solvent is heated at a temperature of 800 ° C., and the weight loss before and after heating is measured. When heated at 800 ° C., the silane coupling agent volatilizes. Therefore, the amount of silane coupling agent adhering to the surface of the silica particles can be known by measuring the amount of weight loss before and after heating. The heating time is, and for 1 hour.

シリカ粒子の表面に存在する全てのOH基と反応するシランカップリング剤の量、換言すれば、反応不溶化層を形成するシランカップリング剤の量は、計算により求めることができる。各種シランカップリング剤について計算された、シリカ粒子表面積1m2当たりの反応不溶化層形成量を、上記表1に示す。可溶化層が形成されている場合、予め試料を有機溶剤で洗浄することで、可溶化層は除去される。一方、ポリマー層は有機溶剤で洗浄しても除去されない。これより、800℃加熱前後の重量減少量を測定し、表1中の反応不溶化層形成量と比較することで、シリカ粒子表面におけるポリマー層の形成の有無を判断することができる。すなわち、加熱前後におけるシリカ粒子表面積1m2当たりの重量減少量が、表1中、対応するシランカップリング剤の反応不溶化層形成量の範囲内である場合には、当該試料は本発明の金属酸化物表面処理粒子からなると判定される。一方、同重量減少量が、対応するシランカップリング剤の反応不溶化層形成量の範囲外となった場合には、シリカ粒子はポリマー層を有し、当該試料は本発明の金属酸化物表面処理粒子からなるものではないと判定される。また、複数のシランカップリング剤により表面処理されている場合には、表1に示されるシランカップリング剤の反応不溶化層形成量と、使用したシランカップリング剤の重量分率とを乗じ、その和を反応不溶化層形成量として判定すればよい。 The amount of the silane coupling agent that reacts with all the OH groups present on the surface of the silica particles, in other words, the amount of the silane coupling agent that forms the reaction insolubilized layer can be determined by calculation. Table 1 shows the amount of reaction insolubilized layer formed per 1 m 2 of silica particle surface area calculated for various silane coupling agents. When the solubilized layer is formed, the solubilized layer is removed by washing the sample with an organic solvent in advance. On the other hand, the polymer layer is not removed by washing with an organic solvent. From this, the amount of weight reduction before and after heating at 800 ° C. is measured and compared with the amount of reaction insolubilized layer formed in Table 1 to determine whether or not a polymer layer is formed on the surface of the silica particles. That is, when the amount of weight reduction per 1 m 2 of silica particle surface area before and after heating is within the range of the reaction insolubilized layer formation amount of the corresponding silane coupling agent in Table 1, the sample is subjected to the metal oxidation of the present invention. It is determined to consist of object surface-treated particles. On the other hand, when the same weight reduction amount is outside the range of the reaction insolubilized layer formation amount of the corresponding silane coupling agent, the silica particles have a polymer layer, and the sample is subjected to the metal oxide surface treatment of the present invention. It is determined that it does not consist of particles. When the surface treatment is performed with a plurality of silane coupling agents, the reaction insolubilized layer formation amount of the silane coupling agent shown in Table 1 is multiplied by the weight fraction of the used silane coupling agent, The sum may be determined as the reaction insolubilized layer formation amount.

金属酸化物表面処理粒子
本実施形態の金属酸化物表面処理粒子は、金属酸化物粒子の表面がシランカップリング剤で処理された金属酸化物表面処理粒子である。金属酸化物粒子の表面には表面処理層が形成されている。その表面処理層は処理前の該金属酸化物粒子の表面に存在した全てのOH基とシランカップリング剤との反応により形成され、有機溶剤に不溶な反応不溶化層と、反応不溶化層の表面に形成され、有機溶剤に可溶な可溶化層とを含む。反応不溶化層と可溶化層とについては上述した通りであるため、更なる説明は省略する。
〈樹脂組成物等の製造方法
本発明の製造方法にて製造された金属酸化物表面処理粒子を配合することで、流動性が高く、硬化後の接着性、耐久性の良好な樹脂組成物等を構成することができる。必要に応じて表面処理を行っていない金属酸化物粒子を混合しても良い(以下、金属酸化物表面処理粒子とそれ以外の金属酸化物粒子とを合わせて「金属酸化物粉体」と称する)。
< Metal oxide surface treatment particles >
The metal oxide surface-treated particles of the present embodiment are metal oxide surface-treated particles in which the surface of the metal oxide particles is treated with a silane coupling agent. A surface treatment layer is formed on the surface of the metal oxide particles. The surface treatment layer is formed by the reaction of all OH groups present on the surface of the metal oxide particles before the treatment and the silane coupling agent, and is formed on the surface of the reaction insolubilization layer insoluble in the organic solvent and the surface of the reaction insolubilization layer. And a solubilized layer soluble in an organic solvent. Since the reaction insolubilized layer and the solubilized layer are as described above, further explanation is omitted.
< Method for producing resin composition, etc.>
By blending the metal oxide surface-treated particles produced by the production method of the present invention, it is possible to constitute a resin composition having high fluidity and good adhesion and durability after curing. Metal oxide particles not subjected to surface treatment may be mixed as necessary (hereinafter, the metal oxide surface-treated particles and other metal oxide particles are collectively referred to as “metal oxide powder”). ).

(1)本発明の樹脂組成物の製造方法は、熱可塑性あるいは熱硬化性の樹脂に、上記本発明の製造方法にて製造された金属酸化物表面処理粒子を配合してなる。ここで、樹脂の種類は、特に限定されるものではなく、例えば、熱硬化性樹脂として、エポキシ樹脂、ケイ素樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられる。また、熱可塑性樹脂として、フッ素樹脂、ポリイミド、ポリアミド樹脂(ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等)、ポリエステル(ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、全芳香族ポリエステル等)、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート等が挙げられる。 (1) The manufacturing method of the resin composition of this invention mix | blends the metal oxide surface treatment particle | grains manufactured with the manufacturing method of the said invention to the thermoplastic or thermosetting resin. Here, the kind of resin is not particularly limited, and examples of the thermosetting resin include an epoxy resin, a silicon resin, a phenol resin, a melamine resin, a urea resin, and an unsaturated polyester resin. Examples of the thermoplastic resin include fluorine resin, polyimide, polyamide resin (polyamideimide, polyetherimide, etc.), polyester (polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, wholly aromatic polyester, etc.), polysulfone resin, polycarbonate, and the like.

例えば、本発明の製造方法にて製造された樹脂組成物を、半導体装置等の封止材として用いる場合には、エポキシ樹脂を採用するとよい。エポキシ樹脂としては、1分子中にエポキシ基を2個以上有するモノマー、オリゴマー、ポリマーが好適である。例えば、ビフェニル型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、アルキル変性トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、トリアジン核含有エポキシ樹脂等が挙げられる。これらのうち一つを単独で、あるいは複数を混合して用いればよい。 For example, when using the resin composition manufactured by the manufacturing method of this invention as sealing materials, such as a semiconductor device, it is good to employ | adopt an epoxy resin. As the epoxy resin, monomers, oligomers and polymers having two or more epoxy groups in one molecule are suitable. For example, biphenyl type epoxy resin, stilbene type epoxy resin, bisphenol type epoxy resin, triphenol methane type epoxy resin, alkyl modified triphenol methane type epoxy resin, dicyclopentadiene modified phenol type epoxy resin, naphthol type epoxy resin, triazine core containing An epoxy resin etc. are mentioned. One of these may be used alone, or a plurality may be used in combination.

金属酸化物粉体の配合割合は、特に限定されるものではない。例えば、熱膨張係数、吸水率を低下させるという観点から、金属酸化物粉体の配合割合を、当該樹脂組成物の全体を100重量%とした場合の70重量%以上とすると好適である。85重量%以上とするとより好適である。また、金属酸化物粉体を、一種類の本発明の金属酸化物表面処理粒子から構成してもよく、二種類以上の本発明の金属酸化物表面処理粒子を混合して構成してもよい。また、本発明の金属酸化物表面処理粒子と他の金属酸化物等の粒子とを混合して構成してもよい。   The blending ratio of the metal oxide powder is not particularly limited. For example, from the viewpoint of reducing the thermal expansion coefficient and the water absorption rate, the blending ratio of the metal oxide powder is preferably 70% by weight or more when the entire resin composition is 100% by weight. More preferably, it is 85% by weight or more. Further, the metal oxide powder may be composed of one kind of the metal oxide surface-treated particles of the present invention, or may be composed of a mixture of two or more kinds of the metal oxide surface-treated particles of the present invention. . Moreover, you may comprise the metal oxide surface treatment particle | grains of this invention, and particles, such as another metal oxide, mixing.

金属酸化物粉体を構成する本発明の金属酸化物表面処理粒子の粒子径は、特に限定されるものではない。例えば、本発明の樹脂組成物を、半導体装置等の封止材として用いることを考慮した場合には、金属酸化物粉体の平均粒子径を0.05μm以上20μm以下とすることが望ましい。また、封止材、基板用として用いる場合には、粒子径の大きな粗粒は少ない方が望ましい。この場合、各々の用途に応じて、45μm、20μm、5μm、3μm以上の粗粒を除去すればよい。こうすることで、半導体回路のような極めて小さな隙間に充填した場合でも、不具合を生じ難い。このように、粗粒を少なくすることを考慮した場合には、平均粒子径が2μm以下の金属酸化物粉体を用いればよい。また、粗粒と粒子径の小さな粒子とを配合し、最密充填することにより、樹脂中により多量の粒子を配合することが可能となる。   The particle diameter of the metal oxide surface-treated particles of the present invention constituting the metal oxide powder is not particularly limited. For example, when considering using the resin composition of the present invention as a sealing material for a semiconductor device or the like, it is desirable that the average particle diameter of the metal oxide powder be 0.05 μm or more and 20 μm or less. Further, when used as a sealing material or a substrate, it is desirable that the number of coarse particles having a large particle diameter is small. In this case, coarse particles of 45 μm, 20 μm, 5 μm, 3 μm or more may be removed depending on each application. By doing so, even when a very small gap such as a semiconductor circuit is filled, it is difficult to cause a problem. Thus, when considering reducing coarse particles, a metal oxide powder having an average particle diameter of 2 μm or less may be used. Further, by blending coarse particles and particles having a small particle diameter and performing close packing, a larger amount of particles can be blended in the resin.

また、本発明の樹脂組成物の製造方法においては、上記樹脂および金属酸化物粉体に加え、硬化剤、硬化触媒を含む態様が望ましい。硬化剤には、既に公知の硬化剤を用いればよく、例えば、脂肪族ポリアミン、ポリアミドポリアミン、脂環族ポリアミン、芳香族ポリアミン等のアミン系硬化剤、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等の無水物系硬化剤、ο−クレゾール、p−クレゾール、t−ブチルフェノール、クミルフェノール等のフェノール系硬化剤等が挙げられる。硬化触媒には、既に公知の硬化触媒を用いればよく、例えば、三級アミン、四級アンモニウム塩、イミゾダール化合物、ホウ素化合物、有機金属錯塩等が挙げられる。さらに、必要に応じて、カーボンブラック、ベンガラ等の着色剤、天然ワックス、合成ワックス等の離型剤、シリコーンオイル、イオン補足剤、難燃剤、ゴム等の低応力添加剤等の種々の添加剤を配合してもよい。 Moreover, in the manufacturing method of the resin composition of this invention, the aspect containing a hardening | curing agent and a curing catalyst in addition to the said resin and metal oxide powder is desirable. As the curing agent, a known curing agent may be used. For example, amine curing agents such as aliphatic polyamine, polyamide polyamine, alicyclic polyamine, aromatic polyamine, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyl Examples thereof include anhydride-based curing agents such as hexahydrophthalic anhydride, and phenol-based curing agents such as o-cresol, p-cresol, t-butylphenol, and cumylphenol. As the curing catalyst, a known curing catalyst may be used, and examples thereof include tertiary amines, quaternary ammonium salts, imizodal compounds, boron compounds, and organometallic complex salts. Furthermore, as necessary, various additives such as colorants such as carbon black and bengara, mold release agents such as natural wax and synthetic wax, low stress additives such as silicone oil, ion supplement, flame retardant and rubber. May be blended.

本発明の樹脂組成物の製造方法としては、樹脂に金属酸化物粉体、硬化剤等を配合し、ミキサー等により常温で混合した後、熱ロール、ニーダー等で溶融混練し、冷却後に粉砕して製造する方法が具体的な例として挙げることができる。の樹脂組成物により、半導体素子等の電子部品を封止する場合には、トランスファーモールド、コンプレッションモールド、インジェクションモールド等の方法で成形硬化すればよい。 As a method for producing the resin composition of the present invention, a metal oxide powder, a curing agent, and the like are blended into a resin, mixed at room temperature with a mixer, etc., then melt-kneaded with a hot roll, a kneader, etc., and crushed after cooling. As a specific example, the manufacturing method can be given. By this resin composition, when sealing the electronic components such as semiconductor devices, transfer molding, compression molding may be molded cured by a method such as injection molding.

(2)本発明のワニス組成物の製造方法は、織物クロス含浸用ワニスあるいはフィルム形成用ワニスに、上記本発明の金属酸化物粉体を配合してなる。 (2) The manufacturing method of the varnish composition of this invention mix | blends the metal oxide powder of the said this invention with the varnish for textile cloth impregnation or the varnish for film formation.

織物クロス含浸用ワニス、フィルム形成用ワニスには、通常、エポキシ樹脂、BT(ビスマレイミド・トリアジン)レジン、ポリアミドイミド等の樹脂が用いられる。また、溶媒には、ケトン、芳香族硫化水素、DGMM(ジエチレングリコールモノメチルエーテル)等が用いられる。両ワニスとも、金属酸化物粉体の配合割合、金属酸化物表面処理粒子の粒子径、硬化剤、硬化触媒、各種添加剤については、上記樹脂組成物に準ずればよい。   Resins such as epoxy resins, BT (bismaleimide / triazine) resins, and polyamideimides are usually used for woven cloth impregnating varnishes and film forming varnishes. As the solvent, ketone, aromatic hydrogen sulfide, DGMM (diethylene glycol monomethyl ether) or the like is used. In both varnishes, the mixing ratio of the metal oxide powder, the particle diameter of the metal oxide surface-treated particles, the curing agent, the curing catalyst, and various additives may be in accordance with the above resin composition.

以上、本発明の金属酸化物表面処理粒子及びその製造方法、並びに樹脂組成物等の製造方法について実施形態を説明した。しかし、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、当業者が行い得る変更、改良等を施した種々の形態にて実施することができる。 It has been described an embodiment method for producing such metal oxide surface treated particles and a method for producing the same, and the resin composition of the present invention. However, the onset Ming is not intended to be limited to the disclosed embodiments without departing from the scope and spirit of the present invention, modifications that those skilled in the art can perform, can be carried out in various forms subjected to improvements etc. .

上記実施形態に基づいて、本発明の金属酸化物表面処理粒子からなる金属酸化物粉体を製造した。製造した金属酸化物粉体について、800℃加熱前後の重量減少量を測定し、FT−IR(フーリエ変換赤外線分光分析計)により赤外吸収スペクトルを測定した。また、製造した金属酸化物粉体を樹脂に配合して樹脂組成物を製造し、その粘度測定、および凝集状態の評価を行った。さらに、製造した樹脂組成物を硬化させ、その破断面を走査型電子顕微鏡(SEM)により観察した。以下、順に説明する。   Based on the said embodiment, the metal oxide powder which consists of the metal oxide surface treatment particle | grains of this invention was manufactured. About the manufactured metal oxide powder, the weight loss amount before and behind 800 degreeC heating was measured, and the infrared absorption spectrum was measured by FT-IR (Fourier transform infrared spectroscopy analyzer). Moreover, the manufactured metal oxide powder was mix | blended with resin, the resin composition was manufactured, the viscosity measurement and the evaluation of the aggregation state were performed. Further, the produced resin composition was cured, and the fracture surface was observed with a scanning electron microscope (SEM). Hereinafter, it demonstrates in order.

〈金属酸化物粉体の製造〉
(1)実施例1
図2に示す表面処理装置を使用して、金属酸化物粒子の表面処理を行った。図2に示すように、表面処理装置6は、処理容器7と、リボン攪拌翼8と、処理剤蒸発器9とを備える。処理容器7には、金属酸化物粒子からなる被処理粉体10が収容される。リボン攪拌翼8は、処理容器7の中央部に配置される。処理剤蒸発器9は、処理容器7の内側上方の一端に設置される。図2中、円Aの部分を拡大して示すように、処理剤蒸発器9は、円筒状の金属容器90と、ヒーター91と、ガラスウール92とを備える。ヒーター91は、金属容器90の外周に巻回される。ガラスウール92は、金属容器90の中に充填される。
<Manufacture of metal oxide powder>
(1) Example 1
The surface treatment of the metal oxide particles was performed using the surface treatment apparatus shown in FIG. As shown in FIG. 2, the surface treatment apparatus 6 includes a treatment container 7, a ribbon stirring blade 8, and a treatment agent evaporator 9. The processing container 7 contains a powder 10 to be processed made of metal oxide particles. The ribbon stirring blade 8 is disposed at the center of the processing container 7. The processing agent evaporator 9 is installed at one end on the inner upper side of the processing container 7. In FIG. 2, the processing agent evaporator 9 includes a cylindrical metal container 90, a heater 91, and glass wool 92 as shown by enlarging a circle A. The heater 91 is wound around the outer periphery of the metal container 90. Glass wool 92 is filled into a metal container 90.

まず、処理容器7に、被処理粉体10として、VMC法で製造された平均粒子径0.5μm、比表面積4.5m2/gのシリカ粉体(株式会社アドマテックス製:アドマファインSE2200−SQ)を20kg収容した。また、シランカップリング剤として200gのエポキシシラン(前出表1中の「γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン」、信越化学工業株式会社製:KBM−403)を、ガラスウール92に含浸させた。次いで、処理容器7を密閉し、80rpmの回転速度でリボン攪拌翼8を回転させながら、ヒーター91により金属容器90を加熱し、金属容器90の温度を150〜200℃とした。この状態を48時間維持することにより、シリカ粉体の表面処理を行った。得られた粉体を、実施例1の粉体とした。 First, a silica powder (manufactured by Admatechs Co., Ltd .: Admafine SE2200-) having an average particle diameter of 0.5 μm and a specific surface area of 4.5 m 2 / g produced by the VMC method as the powder to be treated 10 is placed in the treatment container 7. 20 kg of SQ) was stored. Further, 200 g of epoxy silane (“γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane” in Table 1 above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-403) as a silane coupling agent was impregnated into glass wool 92. . Next, the processing vessel 7 was sealed, and the metal vessel 90 was heated by the heater 91 while rotating the ribbon stirring blade 8 at a rotation speed of 80 rpm, and the temperature of the metal vessel 90 was set to 150 to 200 ° C. By maintaining this state for 48 hours, the surface treatment of the silica powder was performed. The obtained powder was used as the powder of Example 1.

(2)実施例2
上記実施例1の表面処理において、被処理粉体を平均粒子径0.2μm、比表面積17m2/gのシリカ粉体(株式会社アドマテックス製:アドマファインSC1500−SQ)とし、シランカップリング剤の量を400gとし、処理時間を72時間とした以外は、実施例1と同様にして、シリカ粉体の表面処理を行った。得られた粉体を、実施例2の粉体とした。
(2) Example 2
In the surface treatment of Example 1 above, the powder to be treated was silica powder having an average particle size of 0.2 μm and a specific surface area of 17 m 2 / g (manufactured by Admatechs Co., Ltd .: Admafine SC1500-SQ), and a silane coupling agent. The surface treatment of the silica powder was carried out in the same manner as in Example 1 except that the amount of was 400 g and the treatment time was 72 hours. The obtained powder was used as the powder of Example 2.

(3)実施例3
上記実施例1の表面処理において、被処理粉体を平均粒子径1.0μm、比表面積4.5m2/gのシリカ粉体(株式会社アドマテックス製:アドマファインSC4500−SQ)とした以外は、実施例1と同様にして、シリカ粉体の表面処理を行った。得られた粉体を、実施例3の粉体とした。
(3) Example 3
In the surface treatment of Example 1, the powder to be treated was a silica powder having an average particle size of 1.0 μm and a specific surface area of 4.5 m 2 / g (manufactured by Admatechs Co., Ltd .: Admafine SC4500-SQ). In the same manner as in Example 1, the surface treatment of the silica powder was performed. The obtained powder was used as the powder of Example 3.

(4)実施例4
上記実施例1の表面処理において、被処理粉体を平均粒子径1.5μm、比表面積4.5m2/gのシリカ粉体(株式会社アドマテックス製:アドマファインSC5500−SQ)とした以外は、実施例1と同様にして、シリカ粉体の表面処理を行った。得られた粉体を、実施例4の粉体とした。
(4) Example 4
In the surface treatment of Example 1 described above, the powder to be treated was a silica powder having an average particle size of 1.5 μm and a specific surface area of 4.5 m 2 / g (manufactured by Admatechs Co., Ltd .: Admafine SC5500-SQ). In the same manner as in Example 1, the surface treatment of the silica powder was performed. The obtained powder was used as the powder of Example 4.

(5)実施例5
上記実施例1の表面処理において、被処理粉体を平均粒子径2.0μm、比表面積2.0m2/gのシリカ粉体(株式会社アドマテックス製:アドマファインSC6500−SQ)とし、シランカップリング剤の量を100gとした以外は、実施例1と同様にして、シリカ粉体の表面処理を行った。得られた粉体を、実施例5の粉体とした。
(5) Example 5
In the surface treatment of Example 1, the powder to be treated was silica powder having an average particle size of 2.0 μm and a specific surface area of 2.0 m 2 / g (manufactured by Admatechs Co., Ltd .: Admafine SC6500-SQ), and a silane cup The silica powder was surface treated in the same manner as in Example 1 except that the amount of the ring agent was 100 g. The obtained powder was used as the powder of Example 5.

(6)実施例6
上記実施例1の表面処理において、被処理粉体を平均粒子径0.5μm、比表面積5.5m2/gのシリカ粉体(株式会社アドマテックス製:アドマファインSC2500−SQ)とし、シランカップリング剤の量を104gとした以外は、実施例1と同様にして、シリカ粉体の表面処理を行った。得られた粉体を、実施例6の粉体とした。
(6) Example 6
In the surface treatment of Example 1 above, the powder to be treated was silica powder having an average particle size of 0.5 μm and a specific surface area of 5.5 m 2 / g (manufactured by Admatechs Co., Ltd .: Admafine SC2500-SQ). The silica powder was subjected to a surface treatment in the same manner as in Example 1 except that the amount of the ring agent was changed to 104 g. The obtained powder was used as the powder of Example 6.

(7)実施例7
上記実施例1の表面処理において、被処理粉体を平均粒子径0.5μm、比表面積5.5m2/gのシリカ粉体(株式会社アドマテックス製:アドマファインSC2500−SQ)とし、シランカップリング剤として100gのエポキシシラン(信越化学工業株式会社製:KBM−403)と、100gのフェニルシラン(前出表1中の「フェニルトリメトキシシラン」、信越化学工業株式会社製:KBM−103)とを用いた以外は、実施例1と同様にして、シリカ粉体の表面処理を行った。得られた粉体を、実施例7の粉体とした。
(7) Example 7
In the surface treatment of Example 1 above, the powder to be treated was silica powder having an average particle size of 0.5 μm and a specific surface area of 5.5 m 2 / g (manufactured by Admatechs Co., Ltd .: Admafine SC2500-SQ). As a ring agent, 100 g of epoxy silane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-403) and 100 g of phenyl silane (“Phenyltrimethoxysilane” in Table 1 above, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-103) The silica powder was subjected to a surface treatment in the same manner as in Example 1 except that and were used. The obtained powder was used as the powder of Example 7.

(8)実施例8
上記実施例1の表面処理において、被処理粉体を平均粒子径0.5μm、比表面積5.5m2/gのシリカ粉体(株式会社アドマテックス製:アドマファインSC2500−SQ)とし、シランカップリング剤として200gのアクリルシラン(前出表1中の「γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン」、信越化学工業株式会社製:KBM−5103)を用いた以外は、実施例1と同様にして、シリカ粉体の表面処理を行った。得られた粉体を、実施例8の粉体とした。
(8) Example 8
In the surface treatment of Example 1 above, the powder to be treated was silica powder having an average particle size of 0.5 μm and a specific surface area of 5.5 m 2 / g (manufactured by Admatechs Co., Ltd .: Admafine SC2500-SQ). Except for using 200 g of acrylic silane (“γ-acryloxypropyltrimethoxysilane” in Table 1 above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-5103) as the ring agent, the same as in Example 1, The surface treatment of the silica powder was performed. The obtained powder was used as the powder of Example 8.

(9)実施例9
上記実施例1の表面処理において、被処理粉体を平均粒子径0.5μm、比表面積5.5m2/gのシリカ粉体(株式会社アドマテックス製:アドマファインSC2500−SQ)とし、シランカップリング剤として100gのビニルシラン(前出表1中の「ビニルトリメトキシシラン」、信越化学工業株式会社製:KBM−1003)を用いた以外は、実施例1と同様にして、シリカ粉体の表面処理を行った。得られた粉体を、実施例9の粉体とした。
(9) Example 9
In the surface treatment of Example 1 above, the powder to be treated was silica powder having an average particle size of 0.5 μm and a specific surface area of 5.5 m 2 / g (manufactured by Admatechs Co., Ltd .: Admafine SC2500-SQ). The surface of the silica powder in the same manner as in Example 1 except that 100 g of vinylsilane (“vinyltrimethoxysilane” in Table 1 above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-1003) was used as the ring agent. Processed. The obtained powder was used as the powder of Example 9.

(10)比較例1
ミキサーを使用して、金属酸化物粒子の表面処理を行った。まず、ミキサー(太平洋機工株式会社製:プローシェアーミキサWB−75型、以下同じ。)に、被処理粉体として、VMC法で製造された平均粒子径0.5μm、比表面積5.5m2/gのシリカ粉体(株式会社アドマテックス製:アドマファインSO−C2)を20kg収容した。次に、シランカップリング剤として200gのエポキシシラン(信越化学工業株式会社製:KBM−403)を噴霧しながら、30rpmの回転速度で15分間攪拌した。得られた粉体を、比較例1の粉体とした。
(10) Comparative Example 1
The surface treatment of the metal oxide particles was performed using a mixer. First, an average particle diameter of 0.5 μm and a specific surface area of 5.5 m 2 / manufactured by a VMC method as a powder to be processed in a mixer (manufactured by Taiheiyo Kiko Co., Ltd .: Proshear mixer WB-75 type, the same shall apply hereinafter). 20 kg of silica powder (manufactured by Admatechs Co., Ltd .: Admafine SO-C2) was accommodated. Next, the mixture was stirred for 15 minutes at a rotation speed of 30 rpm while spraying 200 g of epoxy silane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-403) as a silane coupling agent. The obtained powder was used as the powder of Comparative Example 1.

(11)比較例2
上記比較例1の表面処理において、被処理粉体を平均粒子径0.2μm、比表面積17m2/gのシリカ粉体(株式会社アドマテックス製:アドマファインSO−C1)とした以外は、比較例1と同様にして、シリカ粉体の表面処理を行った。得られた粉体を、比較例2の粉体とした。
(11) Comparative Example 2
In the surface treatment of Comparative Example 1 above, except that the powder to be treated was silica powder having an average particle diameter of 0.2 μm and a specific surface area of 17 m 2 / g (manufactured by Admatechs Co., Ltd .: Admafine SO-C1). In the same manner as in Example 1, the surface treatment of the silica powder was performed. The obtained powder was used as the powder of Comparative Example 2.

(12)比較例3
上記比較例1の表面処理において、被処理粉体を平均粒子径1.0μm、比表面積4.5m2/gのシリカ粉体(株式会社アドマテックス製:アドマファインSO−C3)とした以外は、比較例1と同様にして、シリカ粉体の表面処理を行った。得られた粉体を、比較例3の粉体とした。
(12) Comparative Example 3
In the surface treatment of Comparative Example 1, except that the powder to be treated was silica powder having an average particle size of 1.0 μm and a specific surface area of 4.5 m 2 / g (manufactured by Admatechs Co., Ltd .: Admafine SO-C3). In the same manner as in Comparative Example 1, the surface treatment of the silica powder was performed. The obtained powder was used as the powder of Comparative Example 3.

(13)比較例4
上記比較例1の表面処理において、被処理粉体を平均粒子径1.5μm、比表面積4.5m2/gのシリカ粉体(株式会社アドマテックス製:アドマファインSO−C5)とした以外は、比較例1と同様にして、シリカ粉体の表面処理を行った。得られた粉体を、比較例4の粉体とした。
(13) Comparative Example 4
In the surface treatment of Comparative Example 1, the powder to be treated was a silica powder having an average particle diameter of 1.5 μm and a specific surface area of 4.5 m 2 / g (manufactured by Admatechs Co., Ltd .: Admafine SO-C5). In the same manner as in Comparative Example 1, the surface treatment of the silica powder was performed. The obtained powder was used as the powder of Comparative Example 4.

(14)比較例5
上記比較例1の表面処理において、被処理粉体を平均粒子径2.0μm、比表面積2.0m2/gのシリカ粉体(株式会社アドマテックス製:アドマファインSO−C6)とし、シランカップリング剤の量を100gとした以外は、比較例1と同様にして、シリカ粉体の表面処理を行った。得られた粉体を、比較例5の粉体とした。
(14) Comparative Example 5
In the surface treatment of Comparative Example 1, the powder to be treated was silica powder having an average particle size of 2.0 μm and a specific surface area of 2.0 m 2 / g (manufactured by Admatechs Co., Ltd .: Admafine SO-C6). The silica powder was surface-treated in the same manner as in Comparative Example 1 except that the amount of the ring agent was 100 g. The obtained powder was used as the powder of Comparative Example 5.

(15)比較例6
上記比較例1の表面処理において、シランカップリング剤の量を104gとした以外は、比較例1と同様にして、シリカ粉体の表面処理を行った。得られた粉体を、比較例6の粉体とした。
(15) Comparative Example 6
In the surface treatment of Comparative Example 1, silica powder was surface treated in the same manner as Comparative Example 1 except that the amount of the silane coupling agent was changed to 104 g. The obtained powder was used as the powder of Comparative Example 6.

(16)比較例7
上記比較例1の表面処理において、シランカップリング剤として100gのエポキシシラン(信越化学工業株式会社製:KBM−403)と、100gのフェニルシラン(信越化学工業株式会社製:KBM−103)との混合液を用いた以外は、比較例1と同様にして、シリカ粉体の表面処理を行った。得られた粉体を、比較例7の粉体とした。
(16) Comparative Example 7
In the surface treatment of Comparative Example 1, 100 g of epoxy silane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-403) and 100 g of phenylsilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-103) are used as silane coupling agents. The silica powder was surface treated in the same manner as in Comparative Example 1 except that the mixed solution was used. The obtained powder was used as the powder of Comparative Example 7.

(17)比較例8
上記比較例1の表面処理において、シランカップリング剤として200gのアクリルシラン(信越化学工業株式会社製:KBM−5103)を用いた以外は、比較例1と同様にして、シリカ粉体の表面処理を行った。得られた粉体を、比較例8の粉体とした。
(17) Comparative Example 8
In the surface treatment of Comparative Example 1, silica powder surface treatment was performed in the same manner as in Comparative Example 1, except that 200 g of acrylic silane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-5103) was used as the silane coupling agent. Went. The obtained powder was used as the powder of Comparative Example 8.

(18)比較例9
上記比較例1の表面処理において、シランカップリング剤として100gのビニルシラン(信越化学工業株式会社製:KBM−1003)を用いた以外は、比較例1と同様にして、シリカ粉体の表面処理を行った。得られた粉体を、比較例9の粉体とした。
(18) Comparative Example 9
In the surface treatment of Comparative Example 1, the silica powder was surface treated in the same manner as in Comparative Example 1, except that 100 g of vinylsilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-1003) was used as the silane coupling agent. went. The obtained powder was used as the powder of Comparative Example 9.

〈金属酸化物粉体の評価〉
(1)評価方法
(a)FT−IRによる赤外吸収スペクトルを測定
製造した粉体を、それぞれイソプロピルアルコール(IPA)で洗浄、乾燥した。その後、希釈せずに4000〜2500cm-1の赤外吸収スペクトルを拡散反射法で測定し、3740cm-1付近のシラノール吸収の有無を調べた。
<Evaluation of metal oxide powder>
(1) Evaluation method (a) Infrared absorption spectrum measured by FT-IR Each of the produced powders was washed with isopropyl alcohol (IPA) and dried. Then, the infrared absorption spectrum of 4000~2500Cm -1 undiluted measured by diffuse reflection method was examined for silanol absorption around 3740cm -1.

(b)800℃加熱前後の重量減少量測定
製造した粉体の6gをそれぞれ試料として用いた。各試料と、24gのIPAとを遠心分離機の遠心管に入れ、500Wの超音波を1分間照射した。その後、遠心分離により固液分離し、上澄み液を除去した。さらに、24gのIPAを足し、攪拌して固形分を懸濁させて、500Wの超音波を1分間照射した。その後、遠心分離により固液分離し、上澄み液を除去した。さらに、24gのIPAを足し、攪拌して固形分を懸濁させて、500Wの超音波を1分間照射した。その後、遠心分離により固液分離し、上澄み液を除去した。固形分を120℃で3時間乾燥させた後、重量を測定した。この時の重量を加熱前重量とした。そして、乾燥した固形分を800℃で1時間加熱して、その後再度重量を測定した。この時の重量を加熱後重量とした。加熱前重量と加熱後重量との差を、重量減少量とし、加熱前重量に対する加熱減少量の割合を求めた。
(B) Measurement of weight loss before and after heating at 800 ° C. 6 g of the produced powder was used as a sample. Each sample and 24 g of IPA were placed in a centrifuge tube and irradiated with 500 W ultrasonic waves for 1 minute. Thereafter, solid-liquid separation was performed by centrifugation, and the supernatant was removed. Further, 24 g of IPA was added, and the solid content was suspended by stirring and irradiated with 500 W ultrasonic waves for 1 minute. Thereafter, solid-liquid separation was performed by centrifugation, and the supernatant was removed. Further, 24 g of IPA was added, and the solid content was suspended by stirring and irradiated with 500 W ultrasonic waves for 1 minute. Thereafter, solid-liquid separation was performed by centrifugation, and the supernatant was removed. The solid content was dried at 120 ° C. for 3 hours, and then the weight was measured. The weight at this time was defined as the weight before heating. And the dried solid content was heated at 800 degreeC for 1 hour, and measured the weight again after that. The weight at this time was defined as the weight after heating. The difference between the weight before heating and the weight after heating was defined as the weight reduction amount, and the ratio of the heat reduction amount to the weight before heating was determined.

(c)凝集評価
製造した各々の粉体18gと、液状エポキシ樹脂(東都化成株式会社製:ZX−1059、以下同じ。)13.33gと、潜在的硬化触媒の2PHZ(2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール)0.67gとを、遊星型混合機(公転速度:2000rpm、自転速度:800rpm)で1分間混合し、混合物を得た。各混合物を500mlのMEK(メチルエチルケトン)で希釈して、20μmの篩を通した。篩残を回収し、110℃で2時間乾燥した。乾燥後の篩残を秤量し、凝集量とした。
(C) Aggregation evaluation 18 g of each powder produced, 13.33 g of a liquid epoxy resin (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd .: ZX-1059, the same shall apply hereinafter), and 2PHZ (2-phenyl-4, 0.67 g of 5-dihydroxymethylimidazole) was mixed for 1 minute with a planetary mixer (revolution speed: 2000 rpm, rotation speed: 800 rpm) to obtain a mixture. Each mixture was diluted with 500 ml of MEK (methyl ethyl ketone) and passed through a 20 μm sieve. The sieve residue was collected and dried at 110 ° C. for 2 hours. The sieve residue after drying was weighed to obtain the amount of aggregation.

(d)粘度測定
製造した各々の粉体36gと、液状エポキシ樹脂26.67gと、潜在的硬化触媒の2PHZ1.33gとを、遊星型混合機(同上)で4.5分間混合し、混合物を得た。各混合物を三本ロールで分散させ、80℃で1時間エージングして、粘度測定用ワニスを得た。この粘度測定用ワニスの25℃の粘度を、E型粘度計で測定した。
(D) Viscosity measurement 36 g of each produced powder, 26.67 g of liquid epoxy resin, and 2PHZ1.33 g of a latent curing catalyst were mixed for 4.5 minutes with a planetary mixer (same as above), and the mixture was mixed. Obtained. Each mixture was dispersed with three rolls and aged at 80 ° C. for 1 hour to obtain a varnish for viscosity measurement. The viscosity at 25 ° C. of this varnish for measuring viscosity was measured with an E-type viscometer.

(e)SEM観察
上記(d)で製造した粘度測定用ワニスをワニス型に入れ、120℃で4時間、150℃で1時間加熱して硬化させ、硬化物を得た。この硬化物を破断して破断面をSEMで観察した。
(E) SEM observation The varnish for viscosity measurement produced in the above (d) was put into a varnish mold and cured by heating at 120 ° C. for 4 hours and 150 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. The cured product was broken and the fractured surface was observed with an SEM.

(2)結果
各粉体について、加熱前重量に対する加熱減少量の割合(重量減少率)、シリカ粒子表面積1m2当たりの重量減少量、シラノール吸収の有無、凝集量を表2にまとめた。また、赤外吸収スペクトルの一例として、実施例6の粉体および比較例6の粉体の赤外吸収スペクトルを図3に示す。
(2) Results Table 2 shows the ratio of the amount of heat reduction with respect to the weight before heating (weight reduction rate), the amount of weight reduction per 1 m 2 of silica particle surface area, the presence or absence of silanol absorption, and the amount of aggregation. As an example of the infrared absorption spectrum, the infrared absorption spectra of the powder of Example 6 and the powder of Comparative Example 6 are shown in FIG.

Figure 0004516779
Figure 0004516779

表2に示すように、実施例1〜9の粉体では、シリカ粒子表面積1m2当たりの重量減少量が、前出表1に示す反応不溶化層形成量の範囲内となった。また、測定された赤外吸収スペクトルにおいて、シラノール吸収は検出されなかった。すなわち、図3(a)に示すように、実施例6の粉体では、3740cm-1付近のシラノール吸収は検出されない。一方、図3(b)に示すように、比較例6の粉体では、3740cm-1付近にシラノール吸収が検出された。これらの結果より、実施例1〜9の粉体は、本発明の金属酸化物表面処理粒子からなるといえる。 As shown in Table 2, in the powders of Examples 1 to 9, the weight reduction amount per 1 m 2 of the silica particle surface area was within the range of the reaction insolubilized layer formation amount shown in Table 1 above. Moreover, silanol absorption was not detected in the measured infrared absorption spectrum. That is, as shown in FIG. 3A, in the powder of Example 6, silanol absorption around 3740 cm −1 is not detected. On the other hand, as shown in FIG. 3B, in the powder of Comparative Example 6, silanol absorption was detected in the vicinity of 3740 cm −1 . From these results, it can be said that the powders of Examples 1 to 9 consist of the metal oxide surface-treated particles of the present invention.

また、比較例1〜9の粉体では、0.80g以上の凝集量となったのに対し、実施例1〜9の粉体では、凝集量が0.08〜0.21gと極めて少なかった。これより、本発明の金属酸化物表面処理粒子からなる金属酸化物粉体は、樹脂中で凝集し難いことがわかる。   In addition, in the powders of Comparative Examples 1 to 9, the amount of aggregation was 0.80 g or more, whereas in the powders of Examples 1 to 9, the amount of aggregation was 0.08 to 0.21 g, which was very small. . From this, it can be seen that the metal oxide powder comprising the metal oxide surface-treated particles of the present invention hardly aggregates in the resin.

さらに、各粘度測定用ワニスを用いた粘度測定結果の一例として、実施例1の粉体を含むワニス(実施例1のワニス)、および比較例1の粉体を含むワニス(比較例1のワニス)の粘度測定結果を図4に示す。図4に示すように、比較例1のワニスと比較して、実施例1のワニスの粘度は低くなった。このように、実施例1のワニスでは、金属酸化物粉体が凝集し難いため、粘度上昇が抑制されている。   Furthermore, as an example of the viscosity measurement result using each varnish for viscosity measurement, the varnish containing the powder of Example 1 (varnish of Example 1) and the varnish containing the powder of Comparative Example 1 (varnish of Comparative Example 1) The viscosity measurement results of) are shown in FIG. As shown in FIG. 4, the viscosity of the varnish of Example 1 was lower than that of the varnish of Comparative Example 1. Thus, in the varnish of Example 1, since the metal oxide powder hardly aggregates, an increase in viscosity is suppressed.

また、図5(a)に、実施例1のワニス硬化物のSEM写真を、図5(b)に比較例1のワニス硬化物のSEM写真をそれぞれ示す。図5(a)に示すように、実施例1のワニス硬化物の破断面はなめらかである。これより、含有される粒子と樹脂との密着性が高く、粒子が樹脂から脱落し難いことがわかる。一方、図5(b)に示すように、比較例1のワニス硬化物の破断面には、粒子と、粒子の抜け落ちたクレーター状の穴との両方が観察される。つまり、比較例1のワニス硬化物では、含有される粒子と樹脂との密着性が悪いため、粒子と樹脂との界面で破断されている。   FIG. 5A shows an SEM photograph of the cured varnish of Example 1, and FIG. 5B shows an SEM photograph of the cured varnish of Comparative Example 1. As shown to Fig.5 (a), the torn surface of the varnish hardened | cured material of Example 1 is smooth. From this, it can be seen that the adhesion between the contained particles and the resin is high, and the particles are difficult to drop off from the resin. On the other hand, as shown in FIG.5 (b), both a particle | grain and the crater-like hole from which particle | grains fell are observed in the fracture surface of the varnish hardened | cured material of the comparative example 1. FIG. In other words, the cured varnish of Comparative Example 1 is broken at the interface between the particles and the resin because the adhesion between the contained particles and the resin is poor.

このように、本発明の金属酸化物表面処理粒子及び本発明方法にて製造されたの金属酸化物表面処理粒子は、樹脂中で凝集し難い。よって、樹脂組成物の粘度の上昇は抑制される。また、樹脂との密着性に優れるため、硬化後に樹脂から脱落し難い。 Thus, the metal oxide surface-treated particles of the present invention and the metal oxide surface-treated particles produced by the method of the present invention are unlikely to aggregate in the resin. Therefore, an increase in the viscosity of the resin composition is suppressed. Moreover, since it is excellent in adhesiveness with resin, it is hard to fall off from resin after hardening.

本発明の金属酸化物表面処理粒子の断面モデル図であり、(a)は、表面処理層が反応不溶化層のみからなる態様を示し、(b)は、表面処理層が反応不溶化層と可溶化層とからなる態様を示す。It is a cross-sectional model figure of the metal oxide surface treatment particle | grains of this invention, (a) shows the aspect which a surface treatment layer consists only of a reaction insolubilization layer, (b) is a surface treatment layer solubilized with a reaction insolubilization layer. The aspect which consists of a layer is shown. 金属酸化物粒子の表面処理を行う表面処理装置の概略図である。It is the schematic of the surface treatment apparatus which performs the surface treatment of a metal oxide particle. (a)は実施例6の粉体の赤外吸収スペクトルであり、(b)は比較例6の粉体の赤外吸収スペクトルである。(A) is the infrared absorption spectrum of the powder of Example 6, and (b) is the infrared absorption spectrum of the powder of Comparative Example 6. 実施例1のワニスおよび比較例1のワニスの粘度測定結果を示す。The viscosity measurement result of the varnish of Example 1 and the varnish of the comparative example 1 is shown. (a)は実施例1のワニス硬化物のSEM写真であり、(b)は比較例1のワニス硬化物のSEM写真である。(A) is a SEM photograph of the cured varnish of Example 1, and (b) is a SEM photograph of the cured varnish of Comparative Example 1.

符号の説明Explanation of symbols

1:金属酸化物表面処理粒子 2:金属酸化物粒子 3:表面処理層
4:反応不溶化層 5:可溶化層
6:表面処理装置 7:処理容器 8:リボン攪拌翼
9:処理剤蒸発器 90:金属容器 91:ヒーター 92:ガラスウール
10:被処理粉体
1: Metal oxide surface treatment particles 2: Metal oxide particles 3: Surface treatment layer 4: Reaction insolubilization layer 5: Solubilization layer 6: Surface treatment device 7: Treatment vessel 8: Ribbon stirring blade 9: Treatment agent evaporator 90 : Metal container 91: Heater 92: Glass wool 10: Powder to be treated

Claims (12)

金属酸化物粒子の表面がシランカップリング剤で処理された金属酸化物表面処理粒子であって、
該金属酸化物粒子の表面に形成された表面処理層は、
該処理前の該金属酸化物粒子の表面に存在した実質的に全てのOH基と該シランカップリング剤との反応により形成され、有機溶剤に不溶な反応不溶化層と、
該反応不溶化層の表面に形成され、有機溶剤に可溶な可溶化層と、
含むことを特徴とする金属酸化物表面処理粒子。
Metal oxide surface-treated particles in which the surface of the metal oxide particles is treated with a silane coupling agent,
The surface treatment layer formed on the surface of the metal oxide particles is
A reaction insolubilized layer formed by a reaction between substantially all OH groups present on the surface of the metal oxide particles before the treatment and the silane coupling agent, and insoluble in an organic solvent;
A solubilized layer formed on the surface of the reaction insolubilized layer and soluble in an organic solvent;
Metal oxide surface treated particles, which comprises a.
金属酸化物粒子の表面をシランカップリング剤により表面処理する金属酸化物表面処理粒子の製造方法であって、  A method for producing metal oxide surface-treated particles, wherein the surface of the metal oxide particles is surface-treated with a silane coupling agent,
気化させた前記シランカップリング剤を前記金属酸化物粒子の表面に接触させて前記金属酸化物粒子の表面に存在するOH基に前記シランカップリング剤を反応させて有機溶媒に不溶な反応不溶化層を形成する工程を有することを特徴とする金属酸化物表面処理粒子の製造方法。  The vaporized silane coupling agent is brought into contact with the surface of the metal oxide particles, and the silane coupling agent is reacted with the OH groups present on the surface of the metal oxide particles, so that the reaction insolubilized layer is insoluble in an organic solvent. A process for producing metal oxide surface-treated particles, comprising the step of forming a metal oxide.
製造される前記金属酸化物表面処理粒子の表面には、前記シランカップリング剤からなり前記OH基に反応していない可溶化層を有しない請求項2に記載の金属酸化物表面処理粒子の製造方法。  The production of the metal oxide surface-treated particles according to claim 2, wherein the surface of the metal oxide surface-treated particles to be produced does not have a solubilized layer made of the silane coupling agent and not reacting with the OH group. Method. 製造される前記金属酸化物表面処理粒子の表面には、前記シランカップリング剤からなり前記OH基に反応していない可溶化層を有する請求項2に記載の金属酸化物表面処理粒子の製造方法。  The method for producing metal oxide surface-treated particles according to claim 2, wherein the surface of the metal oxide surface-treated particles to be produced has a solubilized layer made of the silane coupling agent and not reacting with the OH group. . 前記金属酸化物粒子は、シリカを主成分とする請求項2〜4の何れか1項に記載の金属酸化物表面処理粒子の製造方法。  The method for producing metal oxide surface-treated particles according to any one of claims 2 to 4, wherein the metal oxide particles have silica as a main component. 前記シランカップリング剤は、下記表1に示されるもののいずれか一種であり、  The silane coupling agent is any one of those shown in Table 1 below,
製造された金属酸化物表面処理粒子は、有機溶剤で洗浄後、赤外線分光分析により3740cm  The manufactured metal oxide surface-treated particles were washed with an organic solvent, and then analyzed by infrared spectroscopic analysis at 3740 cm. -1-1 付近のシラノール吸収が検出されず、かつ、温度800℃で1時間加熱した場合の加熱前後の重量減少量として求められる反応不溶化層形成量が、該表1において該シランカップリング剤に対して規定された範囲内となる請求項5に記載の金属酸化物表面処理粒子の製造方法。In Table 1, the amount of reaction insolubilized layer formed determined as the amount of weight loss before and after heating when no nearby silanol absorption is detected and heating at a temperature of 800 ° C. for 1 hour is defined for the silane coupling agent in Table 1. The method for producing metal oxide surface-treated particles according to claim 5, which falls within the specified range.
Figure 0004516779
Figure 0004516779
前記シランカップリング剤は、下記表2に示されるものから選ばれる二種以上であり、  The silane coupling agent is two or more selected from those shown in Table 2 below,
製造された金属酸化物表面処理粒子は、有機溶剤で洗浄後、赤外線分光分析により3740cm  The manufactured metal oxide surface-treated particles were washed with an organic solvent, and then analyzed by infrared spectroscopic analysis at 3740 cm. -1-1 付近のシラノール吸収が検出されず、かつ、温度800℃で1時間加熱した場合の加熱前後の重量減少量として求められる反応不溶化層形成量が、前記二種以上の該シランカップリング剤の重量分率に応じて前記表2より計算された範囲内となる請求項5に記載の金属酸化物表面処理粒子の製造方法。Absorption of nearby silanol is not detected, and the amount of reaction insolubilized layer formed as the weight loss before and after heating when heated at 800 ° C. for 1 hour is the weight of the two or more silane coupling agents. The manufacturing method of the metal oxide surface treatment particle | grains of Claim 5 which becomes in the range calculated from the said Table 2 according to the rate.
Figure 0004516779
Figure 0004516779
請求項2〜7の何れか1項に記載の製造方法にて金属酸化物表面処理粒子を製造する工程と、  A step of producing metal oxide surface-treated particles by the production method according to any one of claims 2 to 7,
前記金属酸化物表面処理粒子を熱可塑性あるいは熱硬化性の樹脂内に分散させる工程とを有することを特徴とする樹脂組成物の製造方法。  And a step of dispersing the metal oxide surface-treated particles in a thermoplastic or thermosetting resin.
前記樹脂は、エポキシ樹脂を含む請求項8に記載の樹脂組成物の製造方法。  The method for producing a resin composition according to claim 8, wherein the resin includes an epoxy resin. さらに、硬化剤、硬化触媒を含む請求項8又は9に記載の樹脂組成物の製造方法。  Furthermore, the manufacturing method of the resin composition of Claim 8 or 9 containing a hardening | curing agent and a hardening catalyst. 前記金属酸化物表面処理粒子は、当該樹脂組成物の全体を100重量%とした場合の70重量%以上配合される請求項8〜10の何れか1項に記載の樹脂組成物の製造方法。  The method for producing a resin composition according to any one of claims 8 to 10, wherein the metal oxide surface-treated particles are blended in an amount of 70% by weight or more based on 100% by weight of the entire resin composition. 請求項2〜7の何れか1項に記載の製造方法にて金属酸化物表面処理粒子を製造する工程と、  A step of producing metal oxide surface-treated particles by the production method according to any one of claims 2 to 7,
前記金属酸化物表面処理粒子を織物クロス含浸用ワニスあるいはフィルム形成用ワニス内に分散させる工程とを有することを特徴とするワニス組成物の製造方法。  And a step of dispersing the metal oxide surface-treated particles in a woven cloth impregnating varnish or a film forming varnish.
JP2004119398A 2004-04-14 2004-04-14 Metal oxide surface-treated particles, method for producing the same, and method for producing a resin composition Expired - Lifetime JP4516779B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004119398A JP4516779B2 (en) 2004-04-14 2004-04-14 Metal oxide surface-treated particles, method for producing the same, and method for producing a resin composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004119398A JP4516779B2 (en) 2004-04-14 2004-04-14 Metal oxide surface-treated particles, method for producing the same, and method for producing a resin composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005298740A JP2005298740A (en) 2005-10-27
JP4516779B2 true JP4516779B2 (en) 2010-08-04

Family

ID=35330671

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004119398A Expired - Lifetime JP4516779B2 (en) 2004-04-14 2004-04-14 Metal oxide surface-treated particles, method for producing the same, and method for producing a resin composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4516779B2 (en)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5335184B2 (en) * 2006-09-21 2013-11-06 株式会社アドマテックス Active silica fine particles, method for producing the same, and resin composition
JP5297013B2 (en) * 2007-08-09 2013-09-25 三井金属鉱業株式会社 Black oxide particle powder and method for producing the same
WO2009101973A1 (en) * 2008-02-12 2009-08-20 Hosokawa Powder Technology Research Institute Flame retardant for resin material and method for producing the same
CN103232682B (en) * 2008-07-31 2016-03-02 积水化学工业株式会社 Composition epoxy resin, prepreg, cured article, sheet-like formed body, laminated plate and multi-laminate laminate
US20110244183A1 (en) * 2008-09-24 2011-10-06 Sekisui Chemical Co., Ltd. Resin composition, cured body and multilayer body
WO2015104917A1 (en) * 2014-01-08 2015-07-16 信越化学工業株式会社 Liquid epoxy resin composition for semiconductor sealing and resin-sealed semiconductor device
JP6347644B2 (en) * 2014-03-28 2018-06-27 デンカ株式会社 Surface-modified silica powder and slurry composition
JP6409362B2 (en) * 2014-06-25 2018-10-24 味の素株式会社 Resin composition
JP6623632B2 (en) * 2015-09-11 2019-12-25 日立化成株式会社 Insulating resin film and multilayer printed wiring board
CN109844020A (en) 2016-10-14 2019-06-04 日立化成株式会社 The manufacturing method of resin composition for encapsulating, electronic part apparatus and electronic part apparatus
KR20240050451A (en) * 2018-04-13 2024-04-18 가부시끼가이샤 레조낙 Resin composition for sealing, electronic component device, and method for producing electronic component device
JP6564517B1 (en) 2018-12-17 2019-08-21 株式会社アドマテックス Filler for electronic material and method for producing the same, method for producing resin composition for electronic material, high-frequency substrate, and slurry for electronic material

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0688039A (en) * 1992-09-08 1994-03-29 Terumo Corp Surface-treated filler
JPH1192685A (en) * 1997-09-24 1999-04-06 Toshiba Ceramics Co Ltd Production of silica filler
JP2003137530A (en) * 2001-11-02 2003-05-14 Ge Toshiba Silicones Co Ltd Method for surface treatment of minute powder silica and polyorganosiloxane composition
JP2003176122A (en) * 2001-09-13 2003-06-24 Wacker Chemie Gmbh Silica with low silanol group content
JP2004107458A (en) * 2002-09-18 2004-04-08 Denki Kagaku Kogyo Kk Method for producing superfine powder silica-dispersed slurry
JP2004359963A (en) * 2004-07-29 2004-12-24 Dow Corning Toray Silicone Co Ltd Heat conductive silicone rubber and composition thereof

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0688039A (en) * 1992-09-08 1994-03-29 Terumo Corp Surface-treated filler
JPH1192685A (en) * 1997-09-24 1999-04-06 Toshiba Ceramics Co Ltd Production of silica filler
JP2003176122A (en) * 2001-09-13 2003-06-24 Wacker Chemie Gmbh Silica with low silanol group content
JP2003137530A (en) * 2001-11-02 2003-05-14 Ge Toshiba Silicones Co Ltd Method for surface treatment of minute powder silica and polyorganosiloxane composition
JP2004107458A (en) * 2002-09-18 2004-04-08 Denki Kagaku Kogyo Kk Method for producing superfine powder silica-dispersed slurry
JP2004359963A (en) * 2004-07-29 2004-12-24 Dow Corning Toray Silicone Co Ltd Heat conductive silicone rubber and composition thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005298740A (en) 2005-10-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0685508B1 (en) Curable resin compositions containing silica-coated microparticles of a cured organosiloxane composition
JP4306951B2 (en) Surface-treated fine spherical silica powder and resin composition
JP4516779B2 (en) Metal oxide surface-treated particles, method for producing the same, and method for producing a resin composition
JP2009013227A (en) Resin composition for electrical insulating material and its manufacturing method
TWI538943B (en) Coated magnesium oxide particles, a method for producing the same, a heat-dissipating filler, and a resin composition
JP4279521B2 (en) Metal oxide powder for epoxy resin composition for semiconductor encapsulation, its production method, and epoxy resin composition for semiconductor encapsulation
JPS63183958A (en) Thermosetting resin composition
WO2013046784A1 (en) Inorganic nitride particles, epoxy resin composition, semi-cured resin composition, cured resin composition, resin sheet, heat-generating electronic component, and method for producing inorganic nitride particles
JP4460968B2 (en) Method for producing resin composition
TW201910264A (en) Granulated silica and method for manufacturing the same
JP4905668B2 (en) Liquid epoxy resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device
CN105924952A (en) Heat conductive and insulating composite material for LED and preparation method thereof
JP2005171208A (en) Filler and resin composition
JP4276423B2 (en) Basic silica powder, method for producing the same, and resin composition
Gültekin et al. Structural, thermal, and mechanical properties of silanized boron carbide doped epoxy nanocomposites
JP6605864B2 (en) Barium titanate powder and its production method and application
JP6347644B2 (en) Surface-modified silica powder and slurry composition
JP3694474B2 (en) Method for producing spherical silica powder
JP2005171206A (en) Powdery mixture for blending with resin, and resin composition
JP2005171209A (en) Filler-containing resin composition and its production method
TWI793287B (en) Powder composed of organic-inorganic composite particles
JP2022546342A (en) Thermally conductive filler and its preparation method
Bandyopadhyay et al. Effect of reaction parameters on the structure and properties of acrylic rubber/silica hybrid nanocomposites prepared by sol‐gel technique
TWI457281B (en) Silica powder, process for its production and its use
JP2000264619A (en) Siliceous powder and its production

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070227

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090924

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090929

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091130

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100511

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100517

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4516779

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130521

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130521

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140521

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term