JP4505113B2 - Strip metal electrolytic treatment equipment - Google Patents
Strip metal electrolytic treatment equipment Download PDFInfo
- Publication number
- JP4505113B2 JP4505113B2 JP2000247452A JP2000247452A JP4505113B2 JP 4505113 B2 JP4505113 B2 JP 4505113B2 JP 2000247452 A JP2000247452 A JP 2000247452A JP 2000247452 A JP2000247452 A JP 2000247452A JP 4505113 B2 JP4505113 B2 JP 4505113B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- strip metal
- sink roll
- plate
- electrode plates
- electrolytic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、帯状金属の洗浄や電気めっき等を行う際の電解処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、熱延及び冷間圧延を行った帯状金属は、建材、自動車等の用途に応じて、その表面に亜鉛、錫、ニッケル等のめっきが施される。
帯状金属へのめっき処理には、水平型電解装置や竪型電解装置が用いられているが、設備の小型化及び通板の高速化の観点から竪型電解装置が多く採用されている。
この竪型電解装置には、図4に示すように、電解液20を入れた電解処理槽21の上方の両側に帯状金属(薄鋼板)29を案内するコンダクターロール22、23が配置され、電解処理槽21の内部にシンクロール24が配置されており、帯状金属29は、入り側のコンダクターロール22からシンクロール24に案内され、コンダクターロール23を通って系外に出て、次工程に搬送される。
電解液20を入れた電解処理槽21内には、通常入り側のコンダクターロール22とシンクロール24間に帯状金属29を挟んで一対の電極板25、26を配置し、シンクロール24と出側のコンダクターロール23間にも帯状金属29を挟んだ一対の電極板27、28を配置し、電極間と帯状金属29の間隔や電流値等の調整を行うことにより、帯状金属29の表面に均一にめっきを施されるよう電解処理を行っている。
しかし、帯状金属29に幅方向の反りや振れ、電解液20の不均一な流れ等の発生によって、帯状金属29が電極間で片寄りを生じるため、帯状金属29の幅方向のめっき量が変動し、製品価値の低下やめっき量(目付量)の増加に伴う合金コストの上昇を招く等の問題がある。
この対策として、特開昭58−123898号公報に記載されているように、ポンプで昇圧しためっき液を電極板と帯状金属の間に噴出し、噴出しためっき液の圧力により、帯状金属と電極板の接触を防止し、金属イオンのめっき面への拡散を促進することが行われている。
更に、実開平5−69167号公報、実開平5−96068号公報に記載されているように、電極板の上部に電極板の厚み方向に導通する溝を設け、高速通板時に、電極板の間に供給されるめっき液を安定させることにより、めっき量(目付け量)を帯状金属に幅方向に均一にすることが行われている。
また、実開平5−62575号公報に記載されているように、竪型電解装置の電解処理槽を走行する帯状金属に対向してめっき液面上から懸垂した電極板の上部に、帯状金属の幅方向の範囲でめっき液を流通させるための切り欠き溝を設けることにより、帯状金属の高速引き上げに伴うめっき液の上昇(液のヘッドアップ)を抑制し、電極板間の帯状金属位置の片寄りを防止して帯状金属の幅方向のめっき量を均一にすることが行われている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特開昭58−123898号公報に記載された方法では、めっき液を昇圧するポンプの設置と特殊な電極板を要し、装置の大幅な改造が必要になり、設備費用が増大する。しかも、シンクロールの回転に伴なって形成されるめっき液流れに帯状金属が引き寄せられて発生する帯状金属の電極板間の片寄りを確実に防止することができない。
更に、実開平5−69167号公報、実開平5−96068号公報、実開平5−62575号公報に記載された竪型電解装置を用いた場合、電極板の間を通過する帯状金属の引き上げに伴って、めっき液面が上昇するのを抑制することはできるが、シンクロールの回転方向に形成されるめっき液の流れに帯状金属が引き寄せられ、帯状金属と電極板の間隔が変動する。特に、板反りがある場合に、加電圧の調整を行っても帯状金属の表面のめっき付着量にバラツキが発生する。
しかも、電極板を切り欠いているので、通電断面積が減少し、ジュール熱による通電時の発熱が増大し、電極板及びめっき液の温度が上昇し、めっき液の温度を一定に保つための冷却装置の負荷が増加したり、めっき付着量の変動を招く等の問題がある。
【0004】
本発明はかかる事情に鑑みてなされたもので、帯状金属の電極板間の片寄りを無くしてめっき付着量の変動を抑制し、製品の品質向上及びめっき合金コストの低減を図ることができる帯状金属の電解処理装置を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
前記目的に沿う第1の発明の帯状金属の電解処理装置においては、電解液を入れた電解槽内に帯状金属を案内するシンクロールを設け、該シンクロールの入り側と出側のそれぞれに、前記帯状金属を挟んで一対の電極板を配置した電解処理装置において、前記シンクロールの出側に配置された前記一対の電極板のうちシンクロール側の電極板は他の電極板より長く、前記電解液の流れを遮断する延長部を有している。
これにより、電解槽内のシンクロールの回転に随伴する電解液(めっき液)の内側に向う流れをシンクロール側(内側)の電極板によって遮断することができ、帯状金属が内側の電極板側に引き寄せられるのを防止することができる。
【0006】
更に、前記目的に沿う第2の発明の帯状金属の電解処理装置においては、電解液を入れた電解槽内に帯状金属を案内するシンクロールを設け、該シンクロールの入り側と出側のそれぞれに、前記帯状金属を挟んで一対の電極板を配置した電解処理装置において、前記出側に配置した一対の電極板は、その長さを同じにし、該電極板のうちシンクロール側の電極板に前記電解液の流れを抑制する遮断板を設けている。
電極板の下端に、遮断板を連結しているので、シンクロールの回転に随伴した電解液の内側に向う流れによる帯状金属の片寄りを抑制できる。しかも、帯状金属の電解処理に作用する電極板を同一の長さにしているので、帯状金属へのめっき量を均一にすることができる。
【0007】
更に、前記遮断板は絶縁素材から形成することが好ましい。
これにより、電解液の流れを抑制し、同時に帯状金属へのめっき量を安定して均一にすることができる。
【0008】
【発明の実施の形態】
続いて、添付した図面を参照しつつ、本発明を具体化した実施の形態につき説明し、本発明の理解に供する。
図1は本発明の一実施の形態に係る帯状金属の電解処理装置の全体図、図2は同電解処理装置の変形例に係る遮断板を取付けた電極板の断面図、図3は同電解処理装置の電解液の流れを表す模式図である。
図1に示すように、本発明の一実施の形態に係る帯状金属の電解処理装置10は、電解液の一例であるSn溶解液11を入れた鋼鉄製の電解槽12を有し、帯状金属の一例である薄鋼板13を電解槽12内に案内するために、それぞれが図示しない駆動源に連結したコンダクターロール14、16及びシンクロール15を備えている。
更に、電解槽12の上方で、薄鋼板13の入り側に配置したコンダクターロール14と電解槽12の内部に配置したシンクロール15の間には、薄鋼板13を挟んで図示しない電源装置に連接した一対の電極板17a、17bを配置し、電解槽12の上方で薄鋼板13の出側に配置したコンダクターロール16とシンクロール15の間には、薄鋼板13を挟んで電源装置に連接した一対の電極板18a、18bを備えている。
電極板17a、17bは、長さが1500〜1800mm、幅が1200〜1500mmの範囲で、それぞれ同じ寸法のものを用いている。電極板18a、18bについては、幅は1200〜1500mmの範囲で同じ寸法であるが長さはシンクロール15側(内側)に設けた電極板18aが、電極板18b(1500〜1800mmの長さ)に対して100〜270mm長くなっている。
【0009】
次に、本発明の一実施の形態に係る帯状金属の電解処理装置の動作について説明する。
入り側のコンダクターロール14、シンクロール15及び出側のコンダクターロール16を回転させ、薄鋼板13をSn溶解液11を入れた電解槽12内に、略400〜600m/分の速度で搬送する。
電解槽12内に搬送された薄鋼板13は、シンクロール15の入り側に設けた一対の電極板17a、17b間を通過する際に、電極板17a、17bに流れる電流によって、Sn溶解液11中のSnが薄鋼板13の表面に析出してめっきされる。
更に、シンクロール15によって方向転換した薄鋼板13は、シンクロール15の出側に設けられた100〜270mmの延長部19を有する内側の電極板18aと通常の長さの電極板18bの間を通過し、前述した電極板17a、17bと同様の働きにより、薄鋼板13の表面にめっきが施される。
この薄鋼板13には、板幅方向に反りが生じる場合があり、電極板17a、17b、電極板18a、18bを通過する際に、この反りを考慮して電流値の調整を行い、薄鋼板13の幅方向のめっき量のバラツキを小さくしている。
【0010】
しかし、図3に示すように、シンクロール15が矢印(図中点線)の方向に回転しているため、この回転方向に随伴したSn溶解液11の流れ(図中一点鎖線矢印)が発生する。
従って、電極板18aの延長部19によって、この流れを遮断することにより、シンクロール15の回転に伴って発生する内側への流れを極力小さくでき、薄鋼板13が電極板18a側に引き寄せられるのを防止することができる。
その結果、電極板18aと電極板18bの間に向かう流れが均等化され、しかも、薄鋼板13の反りやSn溶解液11の流れ等の影響を受けて薄鋼板13が、電極板18aに近接したり、接触するのを防止することができる。
そして、電極板18a、18bとの間隔の変動を小さくして通板した薄鋼板13の表面には、均一なSnめっきが施され、単位面積当たりのSnめっき量のバラツキが小さくなり、製品品質の向上やめっき合金コストを低減することができ、操業も安定化できる。
更に、電極板18a、18bに特定の加工(溝等)を施さないのでSn溶解液11、電極板18a、18bの温度の上昇が抑制され、Sn溶解液11の冷却装置の負荷を軽減することができる。
【0011】
次に、本実施の形態に係る帯状金属の電解処理装置の電極板18aの変形例である電極板18cについて説明する。
図2に示すように、電極板18cは延長部19を有する電極板18aのかわりに、電極板18bと対となるように電解槽12内に配置されている。電極板18cは電極板18bと同一の幅、長さを有し、下端には遮断板19aを設けている。遮蔽板19aは、100〜270mmの長さを有し、電極板18cの下端に取付けた図示しない支持部材にボルト、ナット等の一般に用いる締結手段によって固定されている。
その結果、電極板18cと電極板18bの間に向かう流れが均等化され、しかも、薄鋼板13の反りやSn溶解液11の流れ等の影響を受けて薄鋼板13が、電極板18cに近接したり、接触するのを防止することができる。
そして、通板した薄鋼板13の表面に施されるSnめっきを均一にでき、Snめっき量のバラツキを抑制して操業の安定化を図ることができる。
特に、薄鋼板13に作用する両側の電極面積を等しくできるので、電極板の長さの差に起因するめっき量の変動を無くすことができ、より好ましい結果が得られる。
遮蔽板19aに用いる素材は、絶縁素材である例えばアクリル、セラミック、塩化ビニル、FRP等を用いることができる。
なお、本発明の帯状金属の電解処理装置は、電解液としてSnめっき液を用いたが、その他、Znめっき、Niめっき、Zn系の合金めっき等の電解処理、あるいは電解脱脂や電解洗浄等に適用することができる。
【0012】
以上、本発明の実施の形態を説明したが、本発明は、上記した形態に限定されるものでなく、要旨を逸脱しない条件の変更等は全て本発明の適用範囲である。
例えば、帯状金属として、薄鋼板の他に、アルミニウム鋼板、銅板等を電解処理に用いることができる。
更に、遮蔽板の取付けは、予め電極に支持部材を取付けておき、この支持部材に遮蔽板を組みこむことにより、電極に一体に取付けることもできる。
【0013】
【発明の効果】
請求項1記載の帯状金属の電解処理装置は、電解液を入れた電解槽内に帯状金属を案内するシンクロールを設け、シンクロールの入り側と出側のそれぞれに、帯状金属を挟んで一対の電極板を配置した電解処理装置において、シンクロールの出側に配置された一対の電極板のうちシンクロール側の電極板を他の電極板より長くしているので、シンクロールの回転に随伴する電解液の流れによる帯状金属の片寄りを無くしてめっき量のバラツキを抑制し、めっき合金の節減や製品品質の向上と、安定した操業を行うことができる。
【0014】
請求項2、3記載の帯状金属の電解処理装置は、電解液を入れた電解槽内に帯状金属を案内するシンクロールを設け、シンクロールの入り側と出側のそれぞれに、帯状金属を挟んで一対の電極板を配置した電解処理装置において、出側に配置した一対の電極板は、その長さを同じにし、電極板のうちシンクロール側の電極板に電解液の流れを抑制する遮断板を設けているので、簡単な構造で電解液の内側に向う流れを抑制し、しかも、帯状金属へのめっき量を均一にすることができる。
【0015】
特に、請求項3記載の帯状金属の電解処理装置は、遮断板が絶縁素材からなるので、電解液の流れを抑制し、同時に帯状金属へのめっき量をより均一にし、製品品質や操業の安定性等をより高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態に係る帯状金属の電解処理装置の全体図である。
【図2】同電解処理装置の変形例に係る遮断板を取付けた電極板の断面図である。
【図3】同電解処理装置の電解液の流れを表す模式図である。
【図4】従来例に係る竪型電解装置の全体図である。
【符号の説明】
10:電解処理装置、11:Sn溶解液、12:電解槽、13:薄鋼板、14:コンダクターロール、15:シンクロール、16:コンダクターロール、17a:電極板、17b:電極板、18a:電極板、18b:電極板、18c:電極板、19:延長部、19a:遮断板[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an electrolytic treatment apparatus for performing strip metal cleaning, electroplating, or the like.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, a strip metal subjected to hot rolling and cold rolling is plated with zinc, tin, nickel, or the like on the surface according to the use such as building materials and automobiles.
A horizontal electrolysis apparatus or a vertical electrolysis apparatus is used for the plating treatment on the band-shaped metal, but a vertical electrolysis apparatus is often employed from the viewpoint of downsizing the equipment and increasing the speed of the sheet passing plate.
In this vertical electrolysis apparatus, as shown in FIG. 4,
In the
However, since the
As a countermeasure against this, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-123898, a plating solution whose pressure is increased by a pump is ejected between an electrode plate and a strip metal, and the strip metal and the electrode are formed by the pressure of the ejected plating solution. It is practiced to prevent the plate from contacting and promote the diffusion of metal ions to the plated surface.
Furthermore, as described in Japanese Utility Model Laid-Open No. 5-69167 and Japanese Utility Model Laid-Open No. 5-96068, a groove is provided in the upper part of the electrode plate to conduct in the thickness direction of the electrode plate. By stabilizing the supplied plating solution, the plating amount (weight per unit area) is made uniform in the width direction on the band-shaped metal.
Further, as described in Japanese Utility Model Laid-Open No. 5-62575, on the upper part of the electrode plate suspended from the surface of the plating solution so as to face the band metal traveling in the electrolytic treatment tank of the vertical electrolysis apparatus, By providing a notch for circulating the plating solution in the range of the width direction, the rise of the plating solution (liquid head-up) due to the high-speed pulling of the strip metal is suppressed, and the strip metal position between the electrode plates The amount of plating in the width direction of the band-shaped metal is made uniform by preventing the shift.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
However, the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-123898 requires the installation of a pump for boosting the plating solution and a special electrode plate, which requires a significant modification of the apparatus and increases the equipment cost. Moreover, it is not possible to reliably prevent the deviation between the strip-shaped metal electrode plates generated when the strip-shaped metal is attracted to the plating solution flow formed along with the rotation of the sink roll.
Furthermore, when the vertical electrolysis apparatus described in Japanese Utility Model Laid-Open No. 5-69167, Japanese Utility Model Laid-Open No. 5-96068, Japanese Utility Model Laid-Open No. 5-62575 is used, the band metal passing between the electrode plates is pulled up. Although it is possible to suppress the rise of the plating solution surface, the strip metal is attracted to the flow of the plating solution formed in the rotation direction of the sink roll, and the distance between the strip metal and the electrode plate varies. In particular, when there is a plate warp, even if the applied voltage is adjusted, the amount of plating attached to the surface of the strip metal varies.
In addition, since the electrode plate is notched, the current cross-sectional area decreases, the heat generation during energization due to Joule heat increases, the temperature of the electrode plate and the plating solution rises, and the temperature of the plating solution is kept constant. There are problems such as an increase in the load of the cooling device and a change in the amount of plating adhesion.
[0004]
The present invention has been made in view of such circumstances, and eliminates the deviation between the electrode plates of the band-shaped metal, suppresses fluctuations in the amount of plating, and improves the quality of the product and reduces the cost of the plating alloy. An object is to provide a metal electrolytic treatment apparatus.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
In the strip metal electrolysis apparatus according to the first aspect of the present invention, a sink roll for guiding the strip metal is provided in the electrolytic cell containing the electrolytic solution, and on each of the entrance side and the exit side of the sink roll, In the electrolytic processing apparatus in which a pair of electrode plates is arranged with the strip metal interposed therebetween, the electrode plate on the sink roll side of the pair of electrode plates arranged on the outlet side of the sink roll is longer than the other electrode plates , It has an extension that blocks the flow of electrolyte .
As a result, the flow toward the inside of the electrolytic solution (plating solution) accompanying the rotation of the sink roll in the electrolytic bath can be blocked by the electrode plate on the sink roll side (inner side), and the strip metal is on the inner electrode plate side. Can be prevented.
[0006]
Furthermore, in the strip metal electrolysis apparatus according to the second aspect of the present invention, the sink roll for guiding the strip metal is provided in the electrolytic cell containing the electrolytic solution, and each of the entrance side and the exit side of the sink roll is provided. In addition, in the electrolytic processing apparatus in which a pair of electrode plates is arranged with the band metal interposed therebetween, the pair of electrode plates arranged on the outlet side have the same length, and the electrode plate on the sink roll side of the electrode plates Is provided with a blocking plate for suppressing the flow of the electrolyte.
Since the shielding plate is connected to the lower end of the electrode plate, it is possible to suppress the deviation of the band-shaped metal due to the flow toward the inside of the electrolyte accompanying the rotation of the sink roll. And since the electrode plate which acts on the electrolytic treatment of a strip | belt-shaped metal is made into the same length, the plating amount to a strip | belt-shaped metal can be made uniform.
[0007]
Furthermore, the blocking plate is preferably formed from an insulating material.
Thereby, the flow of the electrolyte can be suppressed, and at the same time, the amount of plating on the strip metal can be made stable and uniform.
[0008]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings for understanding of the present invention.
FIG. 1 is an overall view of a strip metal electrolysis apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view of an electrode plate having a shield plate according to a modification of the electrolysis apparatus, and FIG. It is a schematic diagram showing the flow of the electrolyte solution of a processing apparatus.
As shown in FIG. 1, a strip-shaped metal
Further, between the
The
[0009]
Next, the operation of the strip metal electrolysis apparatus according to the embodiment of the present invention will be described.
The entrance-side conductor roll 14, the
When the
Further, the
The
[0010]
However, as shown in FIG. 3, since the
Therefore, by blocking this flow by the
As a result, the flow toward the
Further, the surface of the
Furthermore, since the
[0011]
Next, an
As shown in FIG. 2, the
As a result, the flow toward the
And Sn plating applied to the surface of the passed
In particular, since the electrode areas on both sides acting on the
The material used for the
The strip metal electrolysis apparatus of the present invention uses an Sn plating solution as an electrolytic solution, but for other electrolytic treatments such as Zn plating, Ni plating, and Zn-based alloy plating, or electrolytic degreasing and electrolytic cleaning. Can be applied.
[0012]
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and all changes in conditions and the like that do not depart from the gist are within the scope of the present invention.
For example, in addition to the thin steel plate, an aluminum steel plate, a copper plate, or the like can be used for the electrolytic treatment as the strip metal.
Further, the shield plate can be attached integrally to the electrode by attaching a support member to the electrode in advance and incorporating the shield plate into the support member.
[0013]
【The invention's effect】
Electrolytic treatment apparatus of metal band according to claim 1 Symbol placement is a sink roll to guide the metal band provided in the electrolytic bath containing an electrolytic solution, each of the inlet side and outlet side of the sink roll, across the metal band In the electrolytic processing apparatus in which a pair of electrode plates is arranged, the sink roll side electrode plate of the pair of electrode plates arranged on the outlet side of the sink roll is made longer than the other electrode plates. By eliminating the deviation of the strip metal due to the flow of the accompanying electrolyte, it is possible to suppress variations in the amount of plating, reduce plating alloy, improve product quality, and perform stable operation.
[0014]
The strip metal electrolysis apparatus according to claim 2 or 3 , wherein a sink roll for guiding the strip metal is provided in an electrolytic cell containing an electrolytic solution, and the strip metal is sandwiched between the entrance side and the exit side of the sink roll. In the electrolytic processing apparatus in which a pair of electrode plates are arranged in the electrode plate, the pair of electrode plates arranged on the outlet side have the same length, and the electrode plate on the sink roll side of the electrode plates is blocked to suppress the flow of the electrolyte. Since the plate is provided, the flow toward the inside of the electrolytic solution can be suppressed with a simple structure, and the amount of plating on the strip metal can be made uniform.
[0015]
Particularly, in the strip metal electrolytic treatment apparatus according to claim 3, since the shield plate is made of an insulating material, the flow of the electrolyte is suppressed, and at the same time, the amount of plating on the strip metal is made more uniform, and the product quality and operation are stabilized. Sex etc. can be improved more.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an overall view of a strip metal electrolytic treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of an electrode plate to which a shielding plate according to a modification of the electrolytic treatment apparatus is attached.
FIG. 3 is a schematic diagram showing a flow of an electrolytic solution of the electrolytic treatment apparatus.
FIG. 4 is an overall view of a vertical electrolyzer according to a conventional example.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10: Electrolytic processing apparatus, 11: Sn solution, 12: Electrolysis tank, 13: Thin steel plate, 14: Conductor roll, 15: Sink roll, 16: Conductor roll, 17a: Electrode plate, 17b: Electrode plate, 18a: Electrode Plate, 18b: electrode plate, 18c: electrode plate, 19: extension, 19a: blocking plate
Claims (3)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000247452A JP4505113B2 (en) | 2000-08-17 | 2000-08-17 | Strip metal electrolytic treatment equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000247452A JP4505113B2 (en) | 2000-08-17 | 2000-08-17 | Strip metal electrolytic treatment equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002060994A JP2002060994A (en) | 2002-02-28 |
JP4505113B2 true JP4505113B2 (en) | 2010-07-21 |
Family
ID=18737542
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000247452A Expired - Fee Related JP4505113B2 (en) | 2000-08-17 | 2000-08-17 | Strip metal electrolytic treatment equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4505113B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111511309A (en) * | 2017-12-26 | 2020-08-07 | 可乐丽则武齿科株式会社 | Grinding blank, dental prosthesis, and method for producing same |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9725817B2 (en) | 2011-12-30 | 2017-08-08 | Ashworth Bros., Inc. | System and method for electropolishing or electroplating conveyor belts |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH023470U (en) * | 1988-06-21 | 1990-01-10 | ||
JPH0554554U (en) * | 1991-12-26 | 1993-07-20 | 川崎製鉄株式会社 | Immersion type plating tank |
JPH09241887A (en) * | 1996-03-08 | 1997-09-16 | Nippon Steel Corp | Dipping type treating vessel of belt-like material such as steel sheet |
-
2000
- 2000-08-17 JP JP2000247452A patent/JP4505113B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH023470U (en) * | 1988-06-21 | 1990-01-10 | ||
JPH0554554U (en) * | 1991-12-26 | 1993-07-20 | 川崎製鉄株式会社 | Immersion type plating tank |
JPH09241887A (en) * | 1996-03-08 | 1997-09-16 | Nippon Steel Corp | Dipping type treating vessel of belt-like material such as steel sheet |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111511309A (en) * | 2017-12-26 | 2020-08-07 | 可乐丽则武齿科株式会社 | Grinding blank, dental prosthesis, and method for producing same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002060994A (en) | 2002-02-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4505113B2 (en) | Strip metal electrolytic treatment equipment | |
JPS6056099A (en) | Method and device for electrolytic treatment | |
JPH1060686A (en) | Continuous electroplating method for one surface of metallic strip and apparatus therefor | |
JP2564552B2 (en) | Pickling equipment for strip steel | |
JP3178373B2 (en) | Continuous electroplating method and equipment | |
JP3725852B2 (en) | Electrode for continuous processing of metal strip | |
JP2516927B2 (en) | Stripping device for thin strips | |
JP4797635B2 (en) | Tin-plated steel strip manufacturing method and tin-plating cell | |
JPH07268685A (en) | Continuous electroplating device for metallic strip | |
JP2792420B2 (en) | Top roll for continuous hot-dip plating | |
JPH0670279B2 (en) | Horizontal electric plating device | |
JPH0718491A (en) | Method for electrolyzing steel strip | |
JP2942144B2 (en) | Strip processing equipment | |
JP2528071Y2 (en) | Vertical electrolytic plating equipment | |
JPH08277492A (en) | Horizontal electroplating device | |
JPH06306695A (en) | Equipment for continuously electropoplating metallic strip and method for controlling coating weight in width direction | |
JP3212606B2 (en) | Electrolytic single-side coating device for metal belt | |
JP3411762B2 (en) | Electroplating equipment | |
JPH0730688Y2 (en) | Vertical electroplating equipment | |
JPH11269698A (en) | Apparatus for continuous electrolysis of metal strip | |
JPS63266090A (en) | Equipment for electroplating strip | |
JPH0426796A (en) | Continuous electroplating device provided with cushion nozzle | |
JP2005307250A (en) | Method for producing tinned steel strip and horizontal tinning cell | |
JPS59140395A (en) | Method and device for continuous electroplating | |
JPS60174900A (en) | Electrolytic treating device for steel hoop |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061113 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080901 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090616 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090804 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100413 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100426 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4505113 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130430 Year of fee payment: 3 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130430 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140430 Year of fee payment: 4 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |