JP4583140B2 - ホワイトボード - Google Patents

Description

本発明は、罫線や方眼などのパターンを繰り返し形成可能なホワイトボードに関する。

近年、従来の黒板に代わり、水性又は油性インキのフェルトペンなどで筆記し、拭き取りにより消去できる、ホワイトボードとよばれる筆記板が開発されている。このホワイトボードは、基材の表面にメラミン系樹脂層や含フッ素系樹脂層の如き表面層を設けることにより、この層の表面をフェルトペンなどで筆記消去可能としたものである。

このようなホワイトボードは、方眼や罫線などのパターンが形成されていることが要求される場合がある。このような場合、基材と表面層との間に、あらかじめ方眼や罫線などのパターンが印刷などにより施されている（特許文献１参照）。

特開平１０−８９６号公報（請求項１）

しかし、このように、あらかじめ罫線などのパターンが形成されたホワイトボードは、罫線の種類を変更することができないという問題があった。一方、あらかじめ罫線を形成せず、フェルトペンなどで罫線を書いて形成した場合、罫線に加筆した文字などを消去する際に罫線が一緒に消えてしまうという問題があった。

上記課題を解決する本発明のホワイトボードは、基材を有するホワイトボードであって、少なくとも一方の面の鏡面光沢度が７０％以上の筆記消去可能な面であり、全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７）が６０％以上、ヘーズ（ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００）が７０％以上であることを特徴とするものである。

また、前記基材上に光拡散層を有し、前記ホワイトボードの少なくとも一方の面の鏡面光沢度が７０％以上の筆記消去可能な面であることを特徴とするものである。
または、前記基材が光拡散性基材であり、前記ホワイトボードの少なくとも一方の面の鏡面光沢度が７０％以上の筆記消去可能な面であることを特徴とするものである。

さらに、前記鏡面光沢度が７０％以上の筆記消去可能な面が、硬化型樹脂及びマット剤からなる筆記層からなることを特徴とするものである。

本発明のホワイトボードは、両方の面が筆記消去可能である場合には、加筆しようとする面（以下、「表面」という場合もある）とは反対側の面（以下、「裏面」という場合もある）に、罫線などのパターンを筆記するか、罫線などのパターンを形成した透明フィルムを貼り付けることにより、表面から該パターンを視認することができる。また、一方の面のみが筆記消去可能である場合には、裏面に罫線などのパターンを形成した透明フィルムを貼り付けることにより、表面から該パターンを視認することができる。

そして、該パターンは、表面に加筆した文字などを消去する際に誤って消えてしまうことがなく、用途に応じてその都度パターンを変更することもできる。また、裏面に形成した罫線などのパターンを視認することができつつ、ホワイトボードを通して背景は見えない構成となっていることから、表面に加筆した文字などが背景に紛れて見づらくなることを防止することができる。また、適度な全光線透過率およびヘーズを有することから、窓際に設置した場合には、室内の照明がなくてもホワイトボード板面を明るく見やすくすることができるとともに、逆光により見づらくなることを防止することができる。

以下、本発明のホワイトボードの実施の形態について説明する。

本発明のホワイトボードは、少なくとも一方の面が筆記消去可能であり、全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７）が６０％以上、ヘーズ（ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００）が７０％以上であることを特徴とするものである。このような構成からなる本発明のホワイトボードは、裏面に、罫線などのパターンを筆記するか、罫線などのパターンを形成した透明フィルムを貼り付けることにより、表面から該パターンを視認することができる。そして、該パターンは、表面に加筆した文字などを消去する際に消えてしまうことがなく、用途に応じてその都度パターンを変更することもできる。

本発明のホワイトボードの少なくとも一方の面は、ホワイトボード用マーカーによる筆記性および消去性を備えるものである。かかる筆記消去可能な面は、ホワイトボードの一方の面のみでもよいが、両方の面が筆記消去可能であることが好ましい。両方の面を筆記消去可能とすることにより、裏面に罫線などのパターンを形成した透明フィルムを貼り付けるだけでなく、裏面に罫線などのパターンを筆記により形成することができ、パターン形成をより簡便に行うことができる。

ホワイトボード全体の全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７）は６０％以上、好ましくは８０％以上であり、ヘーズ（ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００）は７０％以上、好ましくは８０％以上である。また、ヘーズの上限は特に制限されることはないが、９９％以下であることが好ましい。

全光線透過率を６０％以上とすることにより、裏面に形成したパターンを表面から視認することができる。さらにヘーズを９９％以下とすることにより、裏面に形成したパターンを表面からより明瞭に視認することができる。また、ヘーズを７０％以上とすることにより、ホワイトボードを通した背景を見えなくすることができ、表面に加筆した文字などが背景に紛れて見づらくなることを防止することができる。また、全光線透過率を６０％以上とし、かつヘーズを７０％以上とすることにより、太陽光を拡散しつつ透過することができ、窓際に設置した場合には、室内の照明がなくてもホワイトボード板面を明るく見やすくすることができるとともに、逆光により見づらくなることを防止することができる。

筆記消去可能な面は、鏡面光沢度（ＪＩＳ Ｋ５６００−４−７：１９９９）が下限で７０％以上であることが好ましく、上限で１３５％以下であることが好ましく、１２０％以下であることがより好ましい。鏡面光沢度を７０％以上とすることにより、ホワイトボード用マーカーで書き込んだ文字などを容易に消去することができる。また、鏡面光沢度を１３５％以下とすることにより、照明などの写り込みを防止することができる。

また、筆記消去可能な面は、表面の硬度が鉛筆硬度（ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４：１９９９）ＨＢ以上であることが好ましく、Ｈ以上であることがより好ましい。鉛筆硬度をＨＢ以上とすることにより、ホワイトボード用マーカーにより筆記消去を繰り返した際に傷が付くことを防止することができる。

次に、本発明のホワイトボード４の構造および各要素について説明する。図１〜図４は、本発明のホワイトボード４の実施の形態を示す断面図である。いずれのホワイトボード４も、少なくとも基材１を有し、少なくとも一方の面が筆記消去可能な面３である構造からなる。

基材１としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンナフタレート、ポリスチレン、(メタ)アクリル酸エステル樹脂、フッ素系樹脂などからなる各種の合成樹脂フィルムや合成樹脂板、ケイ酸塩ガラス、リン酸塩ガラス、ホウ酸塩ガラスなどからなる各種の板ガラスなどの透明基材１１があげられる。また、透明基材を溶融させたものに光拡散剤を含有させ、板状またはフィルム状としたもの、透明基材にサンドブラスト処理、ケミカルエッチング、エンボス加工を施すなどした光拡散性基材１２を使用することもできる。ただし、光拡散性基材は基材としての強度に劣る傾向にあり、また、比較的厚みの厚い基材を光拡散性を有するものとすると、裏面に形成したパターンが見えづらくなることから、透明基材が好適である。また、透明基材の中でも、耐光性を有しつつ高透明性である(メタ)アクリル酸エステル樹脂からなる合成樹脂フィルムや合成樹脂板が好適に使用される。また、基材は２枚以上の基材同士を貼り合わせてなるものであってもよい。

基材の厚みは特に制限されることはないが、平面性、コストなどの観点から１００μｍ〜１０ｍｍ程度であることが好ましい。ただし、基材が光拡散性基材の場合には、裏面に形成したパターンを見やすくするために、１００μｍ〜３ｍｍ程度であることが好ましい。

基材１上には必要に応じて光拡散層２２が形成される。光拡散層２２は、図２、図４のように、基材１上に直接形成してもよいし、図１のように、一旦他の基材２１上に形成し、これを接着層２３などを介して基材１に貼り合わせることにより形成してもよい。また、光拡散層２２は一層だけでなく二層以上形成してもよい。なお、光拡散層２２は、ホワイトボード４の裏面に形成したパターンを見やすくするために、基材１１を基準としてホワイトボード４の裏面側に形成することが好ましい。言い換えると、ホワイトボード４は、光拡散層２２側を裏面として用いることが好ましい。

光拡散層は、主として光拡散剤とバインダー樹脂とから形成される。

光拡散剤としては、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、シリカ、水酸化アルミニウム、カオリン、クレー、タルク等の無機微粒子や、アクリル樹脂粒子、シリコーン樹脂粒子、ポリスチレン樹脂粒子、ポリウレタン樹脂粒子、ポリエチレン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、エポキシ樹脂粒子等の有機微粒子などがあげられる。このような光拡散剤の平均粒子径としては、１〜５０μｍであることが好ましく、３〜２０μｍであることがより好ましい。

バインダー樹脂としては、ポリエステル系樹脂、(メタ)アクリル酸エステル系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、ポリウレタンアクリレート系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、セルロース系樹脂、アセタール系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂などの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂などの光学的透明性を有する樹脂があげられる。これらの中でも、耐光性を有しつつ高透明性であるアクリル系樹脂が好適に使用される。

光拡散剤の含有量は、バインダー樹脂１００重量部に対して、５０〜３００重量部であることが好ましく、８０〜２００重量部であることがより好ましい。光拡散剤の含有量を５０重量部以上にすることにより、ヘーズを７０％以上とすることができ、３００重量部以下とすることにより、全光線透過率を６０％以上とすることができる。

光拡散層の厚みは、光拡散剤の平均粒子径や含有量などによって決定されるものであり、厚みを調整することにより全光線透過率とヘーズを調整することができる。したがって、上述した光拡散剤の平均粒子径や含有量を考慮すると、光拡散層の厚みは、５〜５０μｍであることが好ましく、１０〜３０μｍであることがより好ましい。光拡散層の厚みを５μｍ以上とすることにより、ヘーズを７０％以上とすることができ、５０μｍ以下とすることにより、全光線透過率を６０％以上とすることができるとともに、裏面に形成したパターンを見やすくすることができる。

他の基材２１としては、基材１として例示したものと同様のものを使用することができる。

筆記消去可能な面３は、熱硬化型樹脂あるいは電離放射線硬化型樹脂などの硬化型樹脂及びマット剤などからなる筆記層３２からなることが好ましい。ホワイトボードの少なくとも一方の面が鏡面光沢度が７０％以上であれば、当該面が筆記消去可能となり、筆記消去可能な面を筆記層としなくてもよいが、傷つき防止や写り込み防止の観点から、筆記消去可能な面は筆記層からなることが好ましい。

筆記層３２は、ホワイトボード４の少なくとも一方の面に必要に応じて形成するものであり、図２、図３のように、基材１上に直接形成してもよいし、図１のように、一旦他の基材３１上に形成し、これを接着層３３などを介して基材１に貼り合わせることにより形成してもよい。また、図１、図４のように、ホワイトボード４の両方の面に筆記層３２を形成してもよい。また、ホワイトボード４が光拡散層２２を有するものであり、筆記層３２を一方の面にのみ形成する場合には、図２のように、基材１を基準として表面側（基材１の光拡散層２２とは反対側の面）に筆記層３２を形成することが好ましい。

なお、光拡散性基材や光拡散層上に筆記層を形成する場合、光拡散性基材や光拡散層の表面凹凸が失われ、表面凹凸に起因するヘーズが低下してしまうおそれがある。したがって、光拡散性基材や光拡散層上に筆記層を形成する場合には、表面凹凸を残すため、図４のように、光拡散性基材や光拡散層と筆記層とを、部分的に貼り合わせることが好ましい。部分的に貼り合わせるには、例えば、接着層を格子状、ストライプ状、散点状にするなどして部分的な接着層とする手段があげられる。なお、表面凹凸に起因するヘーズが低下しても、バインダー樹脂と光拡散剤との屈折率差により生じる内部ヘーズは低下しないが、内部ヘーズのみで所定のヘーズを得ようとすると、ホワイトボードの背景が透けやすくなり、表面に加筆した文字が見づらくなる傾向にあることから、上述したように、光拡散性基材や光拡散層と筆記層とを、部分的に貼り合わせる手段は効果的である。

筆記層は、熱硬化型樹脂あるいは電離放射線硬化型樹脂などの硬化型樹脂およびマット剤などから形成されてなることが好ましい。樹脂としては特に電離放射線硬化型樹脂が好ましい。筆記層を硬化型樹脂およびマット剤により構成することにより、筆記消去可能な面の写り込みを防止するとともに、表面硬度を鉛筆硬度ＨＢ以上とすることができる。

電離放射線硬化型樹脂としては、電離放射線（紫外線または電子線）の照射によって架橋硬化することができる光重合性プレポリマーを用いることができ、この光重合性プレポリマーとしては、１分子中に２個以上のアクリロイル基を有し、架橋硬化することにより３次元網目構造となるアクリル系プレポリマーが特に好ましく使用される。このアクリル系プレポリマーとしては、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、メラミンアクリレート等が使用できる。これらは単独でも使用可能であるが、架橋硬化性、架橋硬化塗膜の硬度をより向上させるために、光重合性モノマーを加えることが好ましい。

光重合性モノマーとしては、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート等の単官能アクリルモノマー、１、６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート等の２官能アクリルモノマー、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等の多官能モノマー等の１種若しくは２種以上が使用される。

また、上述した光重合性プレポリマー及び光重合性モノマーの他、紫外線照射によって硬化させる場合には、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を用いることが好ましい。

光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等があげられる。

また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合障害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルなどがあげられる。

また、上記筆記層には、本発明の効果を阻害しない範囲であれば、他の熱可塑性樹脂や熱硬化型樹脂を混合させても構わない。

マット剤としては、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、シリカ、水酸化アルミニウム、カオリン、クレー、タルク等の無機微粒子や、アクリル樹脂粒子、シリコーン樹脂粒子、ポリスチレン樹脂粒子、ポリウレタン樹脂粒子、ポリエチレン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、エポキシ樹脂粒子等の有機微粒子などがあげられる。

このようなマット剤の形状としては、特に限定されず、不定形、真球状、球状、鱗片状、針状等のいずれであっても良い。マット剤の大きさは、筆記層とした時の厚みにより適宜選択すれば良いため、特に限定されないが、１〜２０μｍ、好ましくは５〜１０μｍ程度のものが好適に用いられる。マット剤は筆記層から少なくとも一部が突出するようなものを選択することが好ましい。筆記層からマット剤を一部突出させることによって、鏡面光沢度を７０〜１３５％に調整することが容易となる。

筆記層におけるマット剤の含有量は、マット剤の種類や筆記層の厚みによって異なるので一概にいえないが、バインダー成分１００重量部に対して、下限として２重量部以上、好ましくは５重量部以上、上限として４０重量部以下、好ましくは１５重量部以下とすることが望ましい。マット剤の含有量をこのような範囲とすることにより、全光線透過率を６０％以上とすることができ、また鏡面光沢度を７０〜１３５％に調整しやすくなる。

筆記層の厚みは、マット剤の大きさや含有量等によって決定されるものであり、厚みを調整することにより鏡面光沢度を特定のものとすることができる。したがって、上述したマット剤の大きさや含有量を考慮すると、具体的には、２〜２０μｍであることが好ましく、５〜１０μｍであることがより好ましい。筆記層の厚みを２μｍ以上とすることにより、傷付き防止性能を十分なものとすることができ、また鏡面光沢度を７０％以上とすることができる。筆記層の厚みを２０μｍ以下とすることにより、鏡面光沢度を１３５％以下に調整することができる。

筆記消去可能な面の鏡面光沢度を７０〜１３５％に調整する方法としては、筆記層に含有させるマット剤の含有量や大きさと、筆記層の厚みによって容易に調整することができるが、例えば、筆記層をサンドブラストやケミカルエッチングすることなどによって調整することも可能である。また、プラスチックフィルムからなる基材に、エンボス加工を施すことにより調整することも可能である。また、あらかじめ表面形状の調整されたフィルムなどに筆記層を形成し、これを基材に転写することによって調整することも可能である。なお、このような上記サンドブラスト、ケミカルエッチング、及びエンボス加工を透明基材に直接施すことにより、筆記層を設けなくても鏡面光沢度を７０〜１３５％に調整することができる。

他の基材３１としては、基材１として例示したものと同様のものを使用することができる。

接着層を構成する接着剤としては、アクリル系感圧接着剤、ゴム系感圧接着剤などがあげられる。これらの中でも、紫外線により黄変しづらいアクリル系感圧接着剤が好ましい。

本発明のホワイトボードにおいて、全体の全光線透過率を６０％以上、ヘーズを７０％以上に調整する方法としては、光拡散層に含有させる光拡散剤の種類や含有量、光拡散層の厚みによって容易に調整することができる。また、プラスチックフィルムからなる基材に、サンドブラスト、ケミカルエッチング、エンボス加工を施すことにより調整することも可能である。さらに、筆記層に含有させるマット剤の種類や含有量、筆記層の厚みによっても全光線透過率およびヘーズを微調整することができる。

ホワイトボード全体の厚みは特に制限されることはないが、２００μｍ〜１０ｍｍ程度であることが好ましく、１ｍｍ〜６ｍｍであることがより好ましい。厚みを２００μｍ以上とすることにより、平面性を良好にすることができ、１０ｍｍ以下とすることにより、裏面に形成したパターンを良好に認識することができる。

光拡散層、筆記層および接着層中には、架橋剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、分散剤、レベリング剤などの添加剤を添加してもよい。

光拡散層、筆記層および接着層は、各層の構成成分を適当な溶媒に溶解又は分散させて塗布液を調製し、当該塗布液をロールコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、エアナイフコーティング法などの公知の方法により、透明基材などに塗布・乾燥、必要に応じてキュアリング処理や紫外線照射することにより形成することができる。

以上説明した本発明のホワイトボードは、両方の面が筆記消去可能である場合には、加筆しようとする面（表面）とは反対側の面（裏面）に、罫線などのパターンを筆記するか、罫線などのパターンを形成した透明フィルムを貼り付けて使用し、一方の面のみが筆記消去可能である場合には、裏面に罫線などのパターンを形成した透明フィルムを貼り付けて使用する。このように使用することにより、裏面に形成したパターンを表面から視認することができる。そして、該パターンは、表面に加筆した文字などを消去する際に誤って消えてしまうことがなく、用途に応じてその都度パターンを変更することもできる。

また、以上説明した本発明のホワイトボードはホワイトボード本体として機能するものでありそれだけでも使用可能であるが、フレームなどの支持体で固定して使用することが好適である。

以下、実施例により本発明を更に説明する。なお、「部」、「％」は特に示さない限り、重量基準とする。

１．光拡散フィルムの作製
（ａ）光拡散フィルムａの作製
厚み１００μｍのポリエステルフィルム（ルミラーT60：東レ社）の一方の面に、下記の処方の光拡散層塗布液ａを乾燥後の厚みが１０μｍとなるように塗布乾燥し、光拡散層を形成した。次いで、ポリエステルフィルムの他方の面に、アクリル系感圧接着剤（オリバインBPS5160：東洋インキ製造社）を溶剤で希釈してなる接着層塗布液を乾燥後の厚みが２０μｍとなるように塗布乾燥し、接着層を形成し、接着層上に離型フィルムをラミネートして光拡散フィルムａを得た。

＜光拡散層塗布液ａ＞
・アクリルポリオール １０部
（アクリディックA-807：大日本インキ化学工業社）
（固形分５０％）
・ポリイソシアネート ２部
（タケネートD110N：三井武田ケミカル社）
（固形分６０％）
・アクリル樹脂粒子 ２部
（エポスターMA1010：日本触媒社）
・シリコーン樹脂粒子 ２部
（ＫＭＰ−７０１：信越化学工業社）
・メチルエチルケトン １８部
・酢酸ブチル １８部

（ｂ）光拡散フィルムｂの作製
厚み１００μｍのポリエステルフィルム（ルミラーT60：東レ社）の両方の面に、下記の処方の光拡散層塗布液ｂを乾燥後の厚みがそれぞれ８μｍとなるように塗布乾燥し、光拡散層を形成した。次いで、一方の光拡散層上に、光拡散フィルムａと同様にして接着層を形成し、接着層上に離型フィルムをラミネートして光拡散フィルムｂを得た。

＜光拡散層塗布液ｂ＞
・アクリルポリオール １０部
（アクリディックA-807：大日本インキ化学工業社）
（固形分５０％）
・ポリイソシアネート ２部
（タケネートD110N：三井武田ケミカル社）
（固形分６０％）
・炭酸カルシウム ５部
（ＣＳ−Ｂタイプ：日本石灰工業社）
・メチルエチルケトン １８部
・酢酸ブチル １８部

（ｃ）光拡散フィルムｃの作製
基材として厚み１２５μｍのポリエステルフィルム（ルミラーS10：東レ社）を用い、光拡散層塗布液として光拡散層塗布液ｂに白色染料（ＡＮＰ−Ｃ−１０６ホワイト：東洋インキ製造社）を１部添加した塗布液を用いた以外は、光拡散フィルムａと同様にして光拡散フィルムｃを得た。

（ｄ）光拡散フィルムｄの作製
光拡散層塗布液ａからアクリル樹脂粒子およびシリコーン樹脂粒子を除き、硫酸バリウム（Ｂ２：堺化学工業社）を１０部、二酸化チタン（トロノックスR-KB-D：バイエル社）を２．５部添加した以外は、光拡散フィルムａと同様にして光拡散フィルムｄを得た。

（ｅ）光拡散フィルムｅの作製
基材として厚み１００μｍのサンドブラスト処理されたポリエステルフィルム（ダイヤマット：きもと社）を用い、光拡散層塗布液として、光拡散層塗布液ａからアクリル樹脂粒子およびシリコーン樹脂粒子を除き、シリカ（サイリシア450：富士シリシア化学社）を０．５部添加した塗布液を用い、光拡散層の厚みを８μｍに変更した以外は、光拡散フィルムａと同様にして光拡散フィルムｅを得た。

２．筆記フィルムの作製
（ｆ）筆記フィルムｆの作製
厚み１００μｍのポリエステルフィルム（ルミラーT60：東レ社）の一方の面に、下記処方の筆記層塗布液ｆを塗布、乾燥し、高圧水銀灯で紫外線を照射して厚み６μｍの筆記層を形成した。次いで、ポリエステルフィルムの他方の面に、光拡散フィルムａと同様にして接着層を形成し、接着層上に離型フィルムをラミネートして筆記フィルムｆを得た。なお、筆記層の鏡面光沢度は１０５％であった。

＜筆記層塗布液ｆ＞
・紫外線硬化型樹脂 ６０．０部
（アクリル系樹脂、固形分１００％）
（ダイヤビームUR6530：三菱レイヨン社）
・マット剤（シリカ、平均粒径４．５μｍ） ３．０部
（サイリシア446：富士シリシア化学社）
・顔料（シリカ、平均粒径３０ｎｍ） ３．０部
（アエロジルR-972：日本アエロジル社）
・光重合開始剤 ０．３部
(イルガキュア651:チバスペシャルティケミカルズ社)
・メチルエチルケトン ８０．０部
・トルエン ６０．０部

（ｇ）筆記フィルムｇの作製
坪量１１０ｇ／ｍ²の上質紙にポリエチレンを３０μｍ厚さにラミネートし、四角錐形の凹部を、縦横を１ｍｍ間隔毎に、開口部内径を０．３ｍｍに、かつ深さを２０μｍになるようにエンボスにより形成し、エンボス面にシリコーン樹脂を塗布した。次いで、エンボス面に感圧接着剤（ＢＰＳ−５１６０：東洋インキ製造社）を７０ｇ／ｍ²塗布乾燥して接着層を形成し、接着層が部分的に形成された接着シートを得た。
次いで、厚み１００μｍのポリエステルフィルム（ルミラーT60：東レ社）の一方の面に、筆記フィルムｆと同様にして筆記層を形成し、ポリエステルフィルムの他方の面に、上記接着シートを貼り合わせ、筆記フィルムｇを得た。なお、筆記層の鏡面光沢度は１０５％であった。

［実施例１］
厚み５ｍｍのアクリル樹脂板（透明基材）の一方の面に、光拡散フィルムａを貼り合わせ、他方の面に筆記フィルムｆを貼り合わせた。次いで、光拡散フィルムａ上に、筆記フィルムｇを貼り合わせ、実施例１のホワイトボードを得た。

［実施例２］
光拡散フィルムａを光拡散フィルムｃに変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２のホワイトボードを得た。

［実施例３］
厚み５ｍｍのアクリル樹脂板（透明基材）の一方の面に、光拡散フィルムｂを貼り合わせ、他方の面に筆記フィルムｆを貼り合わせ、実施例３のホワイトボードを得た。

［比較例１］
光拡散フィルムａを光拡散フィルムｄに変更した以外は、実施例１と同様にして、比較例１のホワイトボードを得た。

［比較例２］
光拡散フィルムｂを光拡散フィルムｅに変更した以外は、実施例３と同様にして、比較例２のホワイトボードを得た。

実施例１〜３および比較例１、２で得たホワイトボードについて、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００に基づいてヘーズを、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７に基づいて全光線透過率を、ヘーズメーター（ＮＤＨ２０００：日本電飾社）を用いて測定した。なお、測定は、ホワイトボードの裏面（透明基材を基準として光拡散層を有する側の面）を光の入射面とした。

また、実施例および比較例で得たホワイトボードについて、下記項目の評価を行った。結果を併せて表１に示す。

（１）パターンの視認性
ホワイトボードの裏面（アクリル樹脂板を基準として光拡散層を有する側の面）に、罫線のパターンが形成された透明フィルムを粘着テープで貼り付け、ホワイトボードの表面（筆記フィルムｆ側の面）からの罫線の視認性について目視で評価を行った。実施例１、２および比較例１のホワイトボードについては、ホワイトボードの裏面にホワイトボードペンにより罫線を記載した際の評価も同様に行った。その結果、良好に視認できるものを「○」、ぼやけて視認できないものを「×」とした。

（２）加筆文字の視認性
ホワイトボードの表面（筆記フィルムｆ側の面）に文字を加筆し、当該面側から文字の視認性について目視で評価を行った。その結果、文字が視認しやすいものを「○」、背景に紛れて文字が視認しづらいものを「×」とした。

（３）逆光での視認性
上記の加筆文字の視認性と同様の評価を、日中にホワイトボードを窓際に置き、室内照明を点灯しない状態で評価を行った。その結果、ホワイトボード板面が極めて明るく非常に見やすいものを「○」、ホワイトボード板面が若干明るく普通に見えるものを「△」、ホワイトボード板面が特に明るくならず見づらいものを「×」とした。

表１の結果から明らかなように、実施例１〜３のものは、少なくとも一方の面が筆記消去可能であり、全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７）が６０％以上、ヘーズ（ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００）が７０％以上であることから、パターンの視認性、加筆文字の視認性、逆光での視認性の何れの評価も優れるものであった。

また、実施例１〜３のものは、表面に加筆した文字などを消去する際に裏面に形成したパターンが消えてしまうことがなく、さらに、裏面のパターンを用途に応じて変更できるものであった。特に、実施例１、２のものは、両方の面が筆記消去可能な構成になっていることから、裏面へのパターン形成をより簡便に行うことができるものであった。

一方、比較例１のものは、全光線透過率が６０％未満であることから、パターンの視認性、逆光での視認性に劣るものであった。

比較例２のものは、ヘーズが７０％未満であることから、加筆した文字が背景に紛れて見づらいものとなり、また、太陽光を適度に拡散することができないため、ホワイトボード板面を明るくすることができず、逆光での視認性に劣るものであった。

本発明のホワイトボードの一実施例を示す断面図 本発明のホワイトボードの他の実施例を示す断面図 本発明のホワイトボードの他の実施例を示す断面図 本発明のホワイトボードの他の実施例を示す断面図

符号の説明

１・・・・・・・基材
１１・・・・・・透明基材
１２・・・・・・光拡散性基材
２１、３１・・・他の基材
２２・・・・・・光拡散層
２３、３３・・・接着層
３・・・・・・・筆記消去可能な面
３２・・・・・・筆記層
４・・・・・・・ホワイトボード

Claims (4)

1. 基材を有するホワイトボードであって、少なくとも一方の面の鏡面光沢度が７０％以上の筆記消去可能な面であり、全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７）が６０％以上、ヘーズ（ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００）が７０％以上であることを特徴とするホワイトボード。
2. 前記基材上に拡散層を有し、前記ホワイトボードの少なくとも一方の面の鏡面光沢度が７０％以上の筆記消去可能な面であることを特徴とする請求項１記載のホワイトボード。
3. 前記基材が光拡散性基材であり、前記ホワイトボードの少なくとも一方の面の鏡面光沢度が７０％以上の筆記消去可能な面であることを特徴とする請求項１記載のホワイトボード。
4. 前記鏡面光沢度が７０％以上の筆記消去可能な面が、硬化型樹脂及びマット剤からなる筆記層からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載のホワイトボード。

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