JP4575003B2 - Method and apparatus for filling contents into glass container - Google Patents
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Description
本発明は、ガラス容器内に液体等の内容物を充填して封鎖するための充填方法および充填装置に関し、特に、薬液をガラス製のアンプル内に充填して封鎖する充填方法および充填装置に関する。 The present invention relates to a filling method and a filling device for filling a glass container with contents such as a liquid and sealing it, and more particularly to a filling method and a filling device for filling a chemical solution in a glass ampoule and sealing it.
薬液中の有効成分は酸素により酸化され、経時的に力価が変化することが多い。例えば、還元剤である塩化第一スズは有効成分として薬液中に通常Sn2+として存在するが、酸素の存在下では酸化されてSn4+として存在し、これによって還元剤としての還元能力(力価)が低下する。このように力価が低下した薬液を用いて医薬品を調製すると、目的とする効力を有する医薬品が得られずに化学的純度の低い医薬品となる等の問題が生じるため、経時的に力価が変化しない薬液を提供する必要がある。 The active ingredient in the chemical solution is oxidized by oxygen, and the titer often changes over time. For example, stannous chloride, which is a reducing agent, is usually present as Sn 2+ in a chemical solution as an active ingredient, but is oxidized and present as Sn 4+ in the presence of oxygen, thereby reducing ability (potency) as a reducing agent. ) Decreases. When a drug is prepared using a drug solution having a reduced titer in this way, a drug having a target efficacy cannot be obtained, resulting in a drug having a low chemical purity. There is a need to provide a solution that does not change.
従来、上記のように酸素による酸化を好まない薬液の充填容器としては、ガス(酸素)透過性のある材料(例えばゴム栓等)を用いた充填容器は使用されず、ガス透過性のない材料を用いた充填容器、例えばガラス製のアンプル等が使用されている。しかし、このようなガラス製のアンプル内に充填された薬液は、アンプル内の薬液層以外の空間層に存在する酸素によって酸化されてしまうという問題があるため、空間層に存在する酸素量をできる限り低減する必要がある。 Conventionally, as a filling container for a chemical solution that does not like oxidation with oxygen as described above, a filling container using a gas (oxygen) permeable material (such as a rubber stopper) is not used, and the material does not have gas permeability. For example, glass ampules or the like are used. However, there is a problem that the chemical solution filled in such a glass ampule is oxidized by oxygen existing in a space layer other than the chemical solution layer in the ampule, so that the amount of oxygen existing in the space layer can be increased. It is necessary to reduce as much as possible.
これまでに、酸素による悪影響を受けやすい内容物が充填されている容器内において、ヘッドスペース内に存在する酸素による弊害をなくすために、容器を封鎖する前に容器内に窒素等の不活性ガスを供給してヘッドスペース内のガスを不活性ガスに置換することが行われており、例えば、輸液バッグやプラスチックボトル等の変形しやすい容器に液体を充填する技術(特許文献1:特開平5−170228号公報等)、紙パック等の非耐圧性容器に液体を充填する技術(特許文献2:特開平10−218288号公報、特許文献3:特開平10−218289号公報等)、瓶等の容器に果汁や炭酸飲料等の液体を充填してキャップにより封鎖する技術(特許文献4:特開昭64−9196号公報、特許文献5:特開平1−279018号公報、特許文献6:特開平6−345192号公報等)などが知られている。 Until now, in order to eliminate the harmful effects of oxygen present in the headspace in containers filled with contents that are easily affected by oxygen, an inert gas such as nitrogen is sealed in the container before sealing the container. To replace the gas in the head space with an inert gas, for example, a technique of filling a liquid in an easily deformable container such as an infusion bag or a plastic bottle (Patent Document 1: Japanese Patent Laid-Open No. Hei 5). -170228, etc.), technology for filling a non-pressure-resistant container such as a paper pack (Patent Document 2: JP-A-10-218288, Patent Document 3: JP-A-10-218289, etc.), bottles, etc. In which a container such as fruit juice or carbonated beverage is filled and sealed with a cap (Patent Document 4: Japanese Patent Laid-Open No. 64-9196, Patent Document 5: Japanese Patent Laid-Open No. 1-279018) Patent Document 6: JP-A-6-345192 Publication), and the like are known.
しかしながら、ガラス製アンプルのようなガラス容器内に液体等を充填して封鎖する場合、すなわち、キャップを使わずにガラス容器自体を封鎖する場合においては、空間層に存在する酸素量を低減することについて、これまで満足すべき技術は提案されていない。ガラス製アンプルのようなガラス容器内に液体等を充填して封鎖する場合は、前述のプラスチックボトル、紙パック、あるいはキャップにより封鎖する瓶等の場合と異なり、ガラス容器の開口部を高温に加熱して熔融させた後熔着させることによって封鎖する必要があるので、容器内の空気を置換するための不活性ガスが供給されると、加熱されたガラス容器の開口部が不活性ガスにより冷却され、加熱が妨げられるという問題点があった。 However, when filling a glass container such as a glass ampoule with liquid or the like, that is, when sealing the glass container itself without using a cap, the amount of oxygen present in the space layer should be reduced. So far, no satisfactory technology has been proposed. When filling a glass container such as a glass ampoule with a liquid or the like and sealing it, the opening of the glass container is heated to a high temperature, unlike the case of a bottle sealed with a plastic bottle, paper pack, or cap. Therefore, when the inert gas for replacing the air in the container is supplied, the opening of the heated glass container is cooled by the inert gas. There was a problem that heating was hindered.
本発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであり、ガラス製アンプルのようなガラス容器内に液体等の内容物を充填した後に、開口部を加熱し熔融して熔着させることによってガラス容器を封鎖する際に、ガラス容器内の液体層以外の空間層に存在する酸素量を極力低減させることのできる充填方法および充填装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and after filling a glass container such as a glass ampoule with contents such as a liquid, the opening is heated and melted to be fused. An object of the present invention is to provide a filling method and a filling device that can reduce the amount of oxygen present in a space layer other than a liquid layer in a glass container as much as possible when the container is sealed.
本発明者らは、前述の問題を解決するために鋭意検討を行った結果、ガラス容器内に液体等の内容物を充填した後、ガラス容器の開口部を加熱し熔融して熔着させることによって封鎖する際に、不活性ガスが排出されるガスノズルをガラス容器内に挿入し、ガラス容器内の空気を不活性ガスに置換しながらガラス容器の開口部の封鎖を開始するとともに、ガラス容器の開口部の封鎖が終了するまでの間、不活性ガスを常時ガスノズルからガラス容器内に排出させた場合、加熱されたガラス容器の開口部が不活性ガスにより冷却されて加熱が妨げられることがない上、封鎖されたガラス容器内の液体層以外の空間層に存在する酸素量を極力低減させることができることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the inventors have filled the glass container with contents such as a liquid, and then heated and melted and fused the opening of the glass container. Inserting a gas nozzle for discharging an inert gas into the glass container and sealing the opening of the glass container while replacing the air in the glass container with an inert gas, When the inert gas is continuously discharged from the gas nozzle into the glass container until the opening is closed, the heated glass container is not cooled by the inert gas and the heating is not hindered. Furthermore, the present inventors have found that the amount of oxygen present in the space layer other than the liquid layer in the sealed glass container can be reduced as much as possible, and have completed the present invention.
本発明は、上記知見に基づいてなされたもので、内容物が充填されたガラス容器の開口部を加熱し熔融して熔着させることによって封鎖する封鎖工程を含むガラス容器への内容物の充填方法であって、前記封鎖工程において、不活性ガスを排出するガスノズルのガス排出口をガラス容器内に挿入し、前記ガス排出口からガラス容器内に不活性ガスを排出してガラス容器内の空気を不活性ガスに置換しながらガラス容器の開口部の封鎖を開始するとともに、ガラス容器の開口部の封鎖が終了するまで前記ガス排出口からガラス容器内に不活性ガスを排出し、かつ、前記ガスノズルのガス排出口は、ガラス容器の開口部の封鎖位置より下方に挿入された後、不活性ガスを排出しながら上昇し、ガラス容器の開口部の封鎖が終了する際にはガラス容器の開口部の封鎖位置より上方に配置されることを特徴とするガラス容器への内容物の充填方法を提供する。 The present invention has been made on the basis of the above knowledge, and the contents are filled into the glass container including a sealing step of sealing by heating, melting and welding the opening of the glass container filled with the contents. In the sealing step, a gas discharge port of a gas nozzle that discharges an inert gas is inserted into a glass container, and the inert gas is discharged from the gas discharge port into the glass container. Is started to seal the opening of the glass container while replacing the inert gas , and the inert gas is discharged into the glass container from the gas outlet until the sealing of the opening of the glass container is completed , and The gas discharge port of the gas nozzle is inserted below the sealing position of the opening of the glass container and then rises while discharging the inert gas. When the sealing of the opening of the glass container is finished, the glass container Provides a method of filling contents into the glass container, characterized in that disposed above the blocked position of the opening of the.
また、本発明は、内容物が充填されたガラス容器の開口部を加熱し熔融して熔着させることによって封鎖する充填装置であって、不活性ガスを排出しガラス容器内に挿入可能なガスノズル、ガラス容器の開口部を加熱する加熱手段およびガラス容器の開口部を挟んで支持する挟持手段を有する封鎖工程部を備え、該封鎖工程部において、前記ガスノズルのガス排出口をガラス容器内に挿入し、前記ガス排出口からガラス容器内に不活性ガスを排出してガラス容器内の空気を不活性ガスに置換しながらガラス容器の開口部の封鎖を開始するとともに、ガラス容器の開口部の封鎖が終了するまで前記ガス排出口からガラス容器内に不活性ガスを排出し、かつ、前記ガスノズルのガス排出口は、ガラス容器の開口部の封鎖位置より下方に挿入された後、不活性ガスを排出しながら上昇し、ガラス容器の開口部の封鎖が終了する際にはガラス容器の開口部の封鎖位置より上方に配置されることを特徴とするガラス容器への内容物の充填装置を提供する。 The present invention also relates to a filling device that seals by heating, melting and welding the opening of a glass container filled with the contents, and is a gas nozzle capable of discharging an inert gas and inserting it into the glass container A sealing step having a heating means for heating the opening of the glass container and a holding means for supporting the opening of the glass container, and the gas discharge port of the gas nozzle is inserted into the glass container in the sealing step And starting the sealing of the opening of the glass container while discharging the inert gas from the gas outlet into the glass container and replacing the air in the glass container with the inert gas, and sealing the opening of the glass container There discharging the inert gas into the glass container from the gas outlet to the end, and the gas outlet of the gas nozzle was inserted below the sealed position of the opening of the glass container , It increased while discharging the inert gas, when the blockage of the opening of the glass container is completed the contents into a glass container, characterized in that disposed above the blocked position of the opening of the glass container A filling device is provided.
本発明の充填方法および充填装置によれば、ガラス容器内に液体等の内容物を充填した後に、ガラス容器の開口部を加熱し熔融して熔着させることによってガラス容器を封鎖する際に、ガラス容器内の液体層以外の空間層に存在する酸素量を極力低減させることができる。 According to the filling method and the filling apparatus of the present invention, after filling the glass container with contents such as liquid, when sealing the glass container by heating and melting and welding the opening of the glass container, The amount of oxygen present in the space layer other than the liquid layer in the glass container can be reduced as much as possible.
以下、本発明について詳しく説明する。本発明の充填方法は、薬液等の内容物が一定量充填されたガラス製アンプル等のガラス容器の開口部を、ガスバーナーの炎等によって加熱して熔融させた後熔着することによって封鎖する(以下、熔閉ともいう)封鎖工程を含む。また、本発明の充填装置は、不活性ガスを排出しガラス容器内に挿入可能なガスノズルと、ガラス容器の開口部を加熱する加熱手段と、ガラス容器の開口部を挟んで支持する挟持手段とを有する封鎖工程部を備え、この封鎖工程部において上記封鎖工程を実施することができる。 The present invention will be described in detail below. In the filling method of the present invention, the opening of a glass container such as a glass ampoule filled with a certain amount of contents such as a chemical solution is heated and melted by a flame of a gas burner and then sealed. A sealing step (hereinafter also referred to as fusing) is included. Further, the filling device of the present invention includes a gas nozzle capable of discharging an inert gas and inserting it into the glass container, a heating means for heating the opening of the glass container, and a clamping means for supporting the glass container with the opening. The sealing step can be carried out in the blocking step.
封鎖工程では、前工程において薬液等の内容物が充填されたガラス容器内に、アルゴン、窒素、ヘリウム等の不活性ガスを排出するガスノズルを挿入する。そして、ガスノズルからガラス容器内に不活性ガスを排出することによりガラス容器内の空気を不活性ガスに置換しながら、ガラス容器の開口部の封鎖、すなわち、熔融されたガラス容器の開口部の熔着を開始する。この場合、ガラス容器内に不活性ガスが排出され始めてからガラス容器の開口部の封鎖が終了するまでの間、ガスノズルからガラス容器内に不活性ガスが常時排出される。 In the sealing step, a gas nozzle that discharges an inert gas such as argon, nitrogen, or helium is inserted into the glass container filled with contents such as a chemical solution in the previous step. Then, by discharging the inert gas from the gas nozzle into the glass container, while replacing the air in the glass container with the inert gas, the opening of the glass container is sealed, that is, the molten glass container is melted. Start wearing. In this case, the inert gas is constantly discharged from the gas nozzle into the glass container after the inert gas starts to be discharged into the glass container until the opening of the glass container is closed.
上記のように、不活性ガスを排出するガスノズルをガラス容器内に挿入すると、ガラス容器の開口部に不活性ガスが直接接触しないので、ガラス容器の開口部は不活性ガスによって冷却されることなく熔融し、充分な温度まで加熱される。 As described above, when the gas nozzle for discharging the inert gas is inserted into the glass container, the inert gas does not directly contact the opening of the glass container, so that the opening of the glass container is not cooled by the inert gas. It is melted and heated to a sufficient temperature.
また、不活性ガスを排出するガスノズルをガラス容器内に挿入することによって、ガラス容器内に確実に不活性ガスを排出して高い割合でガラス容器内の空気を不活性ガスに置換することができる。さらに、ガラス容器の開口部の封鎖が終了するまで不活性ガスを常時排出することによって、ガラス容器の開口部が封鎖される瞬間までガラス容器内の空気を不活性ガスに置換することができる。そのため、本発明によれば、ガラス容器内の液体層以外の空間層に存在する酸素量を極力低減させることが可能となる。 Further, by inserting a gas nozzle for discharging the inert gas into the glass container, it is possible to reliably discharge the inert gas into the glass container and replace the air in the glass container with the inert gas at a high rate. . Furthermore, by always discharging the inert gas until the opening of the glass container is closed, the air in the glass container can be replaced with the inert gas until the opening of the glass container is closed. Therefore, according to the present invention, the amount of oxygen existing in the space layer other than the liquid layer in the glass container can be reduced as much as possible.
本発明において、ガラス容器内に挿入されるガスノズルの先端のガス排出口は、ガラス容器内に充填された薬液等の液面に接触しない位置で、ガラス容器の開口部の封鎖位置、すなわち加熱される位置よりも下方に挿入されることが好ましく、かつできる限り液面に近いことがより好ましい。このようにガスノズル先端のガス排出口がガラス容器の開口部の封鎖位置よりも下方に挿入され、かつ薬液等の液面に近いほど、ガラス容器内の空気をより完全に不活性ガスに置換することができ、ガラス容器内の空間層の残酸素率をより低減することができる。 In the present invention, the gas discharge port at the tip of the gas nozzle inserted into the glass container is not in contact with the liquid surface of the chemical liquid or the like filled in the glass container, and is sealed at the opening of the glass container, that is, heated. It is preferable to be inserted below the position where the liquid is positioned, and it is more preferable that the liquid level be as close as possible. In this way, the closer the gas discharge port at the tip of the gas nozzle is below the sealing position of the opening of the glass container and the closer to the liquid level of the chemical solution, the more completely the air in the glass container is replaced with an inert gas. This can further reduce the residual oxygen ratio of the space layer in the glass container.
また、ガスノズルのガス排出口が、できる限り液面に近い位置に挿入されると、ガラス容器の開口部の封鎖位置と不活性ガスの排出口がより遠くなるので、ガラス容器の開口部が不活性ガスによって受ける影響、すなわち、ガラス容器の開口部が熔融するために充分な温度に加熱されるまでに不活性ガスによって冷却される現象をより少なくすることができる。このように、ガラス容器の開口部が冷却されずに加熱が妨げられない状態であれば、開口部の封鎖時間が必要以上に長くなることはなく、充填装置の充填スピードを低下させることがないので、充填済み容器の生産能力を高く維持することができる。 Also, if the gas discharge port of the gas nozzle is inserted as close to the liquid surface as possible, the sealing position of the opening of the glass container and the discharge port of the inert gas are further away, so that the opening of the glass container is not suitable. It is possible to reduce the influence of the active gas, that is, the phenomenon of being cooled by the inert gas until the glass container opening is heated to a temperature sufficient for melting. Thus, if the opening of the glass container is not cooled and heating is not hindered, the sealing time of the opening will not be longer than necessary, and the filling speed of the filling device will not be reduced. Therefore, the production capacity of the filled container can be maintained high.
上述のようにガスノズルのガス排出口がガラス容器の開口部の封鎖位置よりも下方に挿入された場合、ガスノズルのガス排出口は不活性ガスを排出しながら上昇し、ガラス容器の開口部の封鎖が終了する際には、ガラス容器の開口部の封鎖位置よりも上方に配置されることが好ましい。この場合、ガスノズルのガス排出口は、ガラス容器の開口部の封鎖が終了する直前に開口部の封鎖位置の間近を通るため、不活性ガスが封鎖位置に一時的に接触するが、このとき開口部は既に熔融するために充分に加熱されているので、不活性ガスによる冷却の影響をほとんど受けることなく熔着することができる。 As described above, when the gas discharge port of the gas nozzle is inserted below the sealing position of the opening of the glass container, the gas discharge port of the gas nozzle rises while discharging the inert gas, and seals the opening of the glass container. When is finished, it is preferably arranged above the blocking position of the opening of the glass container. In this case, since the gas discharge port of the gas nozzle passes close to the sealing position of the opening immediately before the sealing of the opening of the glass container is completed, the inert gas temporarily contacts the sealing position. Since the part has already been heated sufficiently for melting, it can be welded with almost no influence of cooling by the inert gas.
また、封鎖工程において、不活性ガスは、ガスノズルがガラス容器内に挿入される前から、ガスノズルより排出されていることが好ましく、これによってガラス容器内の空間層の残酸素率をより低減させることができる。 Further, in the sealing step, the inert gas is preferably discharged from the gas nozzle before the gas nozzle is inserted into the glass container, thereby further reducing the residual oxygen ratio of the space layer in the glass container. Can do.
さらに、封鎖工程において、ガスノズルからの不活性ガスの排出を止めるタイミングとしては、ガラス容器の開口部の封鎖が終了した後即座に止めることが好ましい。これにより、加熱されて完全に冷えていないガラス容器の封鎖部に不活性ガスが接触して封鎖部の形状が変形するのを防止することができる。 Furthermore, in the sealing step, it is preferable that the timing of stopping the discharge of the inert gas from the gas nozzle is stopped immediately after the sealing of the opening of the glass container is completed. Thereby, it can prevent that an inert gas contacts the sealing part of the glass container which has not cooled completely by heating, and the shape of a sealing part deform | transforms.
封鎖工程におけるガスノズルから排出される不活性ガスの流量は、ガラス容器の容量、充填液量およびガラス容器内の液体層以外の空間層の容積に応じて適宜設定されるが、例えば、通常50mLアンプルと称されている最大容量70mLのガラス容器で、充填液量が40〜50mL、空間層容積が20〜30mLの場合は、1〜3L/minの範囲で排出されるのが好ましく、より好ましくは2.0〜2.5L/minである。不活性ガスの流量が1L/minより少ないとガラス容器内の空間層の残酸素率が高くなるため好ましくなく、3L/minを超えるとガラス容器の開口部の封鎖終了後における封鎖部分の厚みが薄くなるためガラス容器が壊れやすくなり、またガラス容器の形状が良好でなくなることがある。 The flow rate of the inert gas discharged from the gas nozzle in the sealing step is appropriately set according to the capacity of the glass container, the amount of filling liquid, and the volume of the space layer other than the liquid layer in the glass container. In the case of a glass container with a maximum capacity of 70 mL, the filling liquid amount is 40 to 50 mL, and the space layer volume is 20 to 30 mL, it is preferably discharged in the range of 1 to 3 L / min, more preferably 2.0 to 2.5 L / min. If the flow rate of the inert gas is less than 1 L / min, the residual oxygen rate in the space layer in the glass container is increased, which is not preferable. If it exceeds 3 L / min, the thickness of the sealed portion after the end of the opening of the glass container is closed. Since the glass container becomes thin, the glass container may be easily broken, and the shape of the glass container may not be good.
本発明の充填方法は、前記封鎖工程の前工程として、例えば次のような工程を含むことができる。
(1)充填前置換工程:ガラス容器内に内容物を充填する前に、ガラス容器内を陰圧状態にし、その後ガラス容器内に不活性ガスを排出する工程。
(2)充填工程:ガラス容器内に内容物を充填すると同時に不活性ガスを排出して、ガラス容器内の空気を不活性ガスに置換する工程。
(3)充填後置換工程:内容物が充填されたガラス容器内に不活性ガスを排出して、ガラス容器内の空気を不活性ガスに置換する工程。
The filling method of the present invention can include, for example, the following steps as a pre-step of the blocking step.
(1) Replacement step before filling: A step in which the inside of the glass container is brought into a negative pressure state before the contents are filled in the glass container, and then the inert gas is discharged into the glass container.
(2) Filling step: A step of filling the contents in the glass container and simultaneously discharging the inert gas to replace the air in the glass container with the inert gas.
(3) Post-filling replacement step: a step of discharging the inert gas into the glass container filled with the contents and replacing the air in the glass container with the inert gas.
また、本発明の充填装置は、上記封鎖工程の前工程に対応して、例えば次のような工程部を備えることができる。
(1)充填前置換工程部:ガラス容器内に内容物を充填する前に、ガラス容器内を陰圧状態にし、その後ガラス容器内に不活性ガスを排出する工程部。
(2)充填工程部:ガラス容器内に内容物を充填すると同時に不活性ガスを排出して、ガラス容器内の空気を不活性ガスに置換する工程部。
(3)充填後置換工程部:内容物が充填されたガラス容器内に不活性ガスを排出して、ガラス容器内の空気を不活性ガスに置換する工程部。
Moreover, the filling apparatus of this invention can be equipped with the following process parts, for example corresponding to the pre-process of the said blockade process.
(1) Pre-filling replacement process part: a process part in which the inside of the glass container is brought into a negative pressure state before the contents are filled into the glass container, and then the inert gas is discharged into the glass container.
(2) Filling process part: The process part which discharges an inert gas at the same time as filling the contents in a glass container, and replaces the air in a glass container with an inert gas.
(3) Post-fill replacement step: A step for discharging the inert gas into the glass container filled with the contents and replacing the air in the glass container with the inert gas.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいてさらに詳しく説明するが、本発明は下記例に限定されるものではない。図1〜図5は、本発明に係る充填装置の一例を示すもので、薬液が充填された50mLアンプル(最大容量:70mL)の開口部を熔閉により封鎖する充填装置を示している。 Hereinafter, although an embodiment of the present invention is described in more detail based on a drawing, the present invention is not limited to the following example. 1 to 5 show an example of a filling device according to the present invention, and show a filling device that seals an opening of a 50 mL ampoule (maximum capacity: 70 mL) filled with a chemical solution by fusing.
図1は、本発明に係る充填装置の一例の構成を示す模式的平面図であり、本例の充填装置1の概略を説明すると、充填前置換工程部10、充填工程部20、充填後置換工程部30、封鎖工程部40を備えており、回転式の円盤台2上の周縁部にアンプルが配置されるアンプル配置部4が複数存在し、円盤台2が回転することによってアンプルが各工程部を順次移動するように構成されている。また、アンプルがアンプル配置部4に供給されるアンプル供給部60、およびアンプルがアンプル配置部4から排出されるアンプル排出部70を備えており、これらアンプル配置部およびアンプル排出部は回転式の円盤台6、8から構成されている。以下、各工程部について説明する。 FIG. 1 is a schematic plan view showing the configuration of an example of a filling apparatus according to the present invention. The outline of the filling apparatus 1 of this example will be described. The pre-filling replacement process unit 10, the filling process unit 20, and the post-filling replacement There are a plurality of ampule placement portions 4 that are provided with a process portion 30 and a blockade step portion 40, and the ampules are placed on the periphery of the rotary disc base 2, and each step of the ampule is performed by rotating the disc base 2. The units are configured to move sequentially. The ampoule supply unit 60 for supplying the ampoule to the ampoule arrangement unit 4 and the ampoule discharge unit 70 for discharging the ampoule from the ampoule arrangement unit 4 are provided. The ampoule arrangement unit and the ampoule discharge unit are a rotary disk. It is comprised from the stand 6 and 8. Hereinafter, each process part will be described.
(充填前置換工程部)
図2は、充填前置換工程部10においてアンプル11が配置された際のアンプル11の中心線上での縦断面図である。図2では、アンプル11内の空気を吸引するために真空ポンプ接続部12にて真空ポンプ(図示せず)に接続された筒状のパッド13、およびパッド13の上部からパッド13内に挿通されパッド13内にアルゴンガスを排出するガスノズル14を備えている。パッド13は上下に移動可能な構造であり、円盤台2上のアンプル配置部4に配置されたアンプル11の上方から下降してアンプル11の肩口の部分に密着するようにこの部分を覆い、アンプル11を密封するように配置される。パッド13はアンプル11に密着する部分にシリコーンパッキン15が設けられ、アンプル11を確実に密封できるようになっており、密封した後に真空ポンプによりアンプル11内部の空気を吸引してアンプル11内を陰圧状態とすることができる。
(Replacement process part before filling)
FIG. 2 is a longitudinal sectional view on the center line of the ampoule 11 when the ampoule 11 is arranged in the pre-filling replacement process unit 10. In FIG. 2, a cylindrical pad 13 connected to a vacuum pump (not shown) at the vacuum pump connection portion 12 to suck air in the ampoule 11 and the pad 13 is inserted into the pad 13 from above. A gas nozzle 14 for discharging argon gas is provided in the pad 13. The pad 13 has a structure that can move up and down. The pad 13 is lowered from above the ampoule 11 arranged in the ampoule arrangement part 4 on the disk base 2 and covers this part so as to be in close contact with the shoulder part of the ampoule 11. 11 is arranged to seal. The pad 13 is provided with a silicone packing 15 at a portion that is in close contact with the ampoule 11 so that the ampoule 11 can be securely sealed. After sealing, the air inside the ampoule 11 is sucked by a vacuum pump and the inside of the ampoule 11 is hidden. Pressure state.
ガスノズル14は上下に移動可能な構造であり、真空ポンプによって陰圧状態となったアンプル11の上方から下降してアンプル11内に挿入され、先端のガス排出口16からアルゴンガスを排出しながら上昇する。また、パッド13は、ガスノズル14からアルゴンガスが排出されパッド13内が微陽圧となった後ガスノズル14に追従しながら上昇し、ガスノズル14からのアルゴンガス排出後にはガスノズル14およびパッド13は共にアンプル11の上方に配置される構成となっている。 The gas nozzle 14 has a structure that can move up and down. The gas nozzle 14 descends from above the ampoule 11 that has been in a negative pressure state by a vacuum pump, is inserted into the ampoule 11, and rises while discharging argon gas from the gas outlet 16 at the tip. To do. Further, after the argon gas is discharged from the gas nozzle 14 and the inside of the pad 13 becomes slightly positive pressure, the pad 13 rises following the gas nozzle 14. After the argon gas is discharged from the gas nozzle 14, both the gas nozzle 14 and the pad 13 are raised. The ampule 11 is arranged above the ampule 11.
図2において、(a)図は、真空ポンプによりアンプル11内部の空気を吸引してアンプル11内を陰圧状態としている状態を示す図であり、このときガスノズル14はアンプル11の上方に配置されている。(b)図は、陰圧状態となったアンプル11の上方からガスノズル14が下降してアンプル11内に挿入された状態を示す図である。 2A is a view showing a state in which the air inside the ampoule 11 is sucked by the vacuum pump so that the inside of the ampoule 11 is in a negative pressure state. At this time, the gas nozzle 14 is disposed above the ampoule 11. ing. FIG. 4B is a diagram showing a state where the gas nozzle 14 is lowered from above the ampoule 11 in a negative pressure state and inserted into the ampoule 11.
(充填工程部)
図3は充填工程部20に備えられたノズル21の全体縦断面図、図4はノズル21先端の排出口を拡大した縦断面図、図5は図4のA−A線における断面図である。充填工程部20におけるノズル21は、薬液が供給される薬液供給部22とアルゴンガスが供給されるガス供給部23とを備え、薬液を充填するための薬液充填ノズル24とアルゴンガスを排出するためのガスノズル25とを有し、薬液充填ノズル24の排出口とガスノズル25の排出口とが一体となった二重ノズル排出口26を備えている。この二重ノズル排出口26は、薬液充填ノズル24の排出口の外周りにガスノズル25の排出口が配設されており、薬液とアルゴンガスを同時に排出できる構造となっている。二重ノズル排出口26を有するノズル21は上下に移動可能であり、二重ノズル排出口26が充填前置換工程部10から移動してきたアンプル11内に挿入され、二重ノズル排出口26から薬液とアルゴンガスを同時に排出しながらノズル21が上昇し、薬液充填後にはノズル21はアンプル11の上方に配置される構成となっている。
(Filling process part)
3 is an overall longitudinal sectional view of the nozzle 21 provided in the filling process section 20, FIG. 4 is an enlarged longitudinal sectional view of the discharge port at the tip of the nozzle 21, and FIG. 5 is a sectional view taken along line AA in FIG. . The nozzle 21 in the filling process unit 20 includes a chemical solution supply unit 22 to which a chemical solution is supplied and a gas supply unit 23 to which an argon gas is supplied, and discharges the chemical solution filling nozzle 24 for filling the chemical solution and the argon gas. The gas nozzle 25 is provided with a double nozzle discharge port 26 in which the discharge port of the chemical solution filling nozzle 24 and the discharge port of the gas nozzle 25 are integrated. The double nozzle discharge port 26 is provided with a discharge port of the gas nozzle 25 around the discharge port of the chemical solution filling nozzle 24 so that the chemical solution and the argon gas can be discharged simultaneously. The nozzle 21 having the double nozzle discharge port 26 is movable up and down, and the double nozzle discharge port 26 is inserted into the ampoule 11 moved from the pre-filling replacement process unit 10, and the chemical solution is discharged from the double nozzle discharge port 26. And the argon gas are discharged simultaneously, the nozzle 21 rises, and the nozzle 21 is arranged above the ampoule 11 after filling with the chemical solution.
(充填後置換工程部)
図6は、充填後置換工程部30においてアンプル11が配置された際のアンプル11の中心線上での縦断面図である。充填後置換工程部30は、アルゴンガスが排出されるガスノズル31を有する。このガスノズル31は、上下に移動可能な構造であり、充填工程部20から移動してきた薬液32の充填されたアンプル11内に挿入され、先端のガス排出口33よりアルゴンガスを排出しながら上昇してアンプル11の上方に配置される構成となっている。
(Post-fill replacement process part)
FIG. 6 is a longitudinal sectional view on the center line of the ampoule 11 when the ampoule 11 is arranged in the post-filling replacement process unit 30. The post-filling replacement process unit 30 includes a gas nozzle 31 through which argon gas is discharged. The gas nozzle 31 has a structure that can move up and down, is inserted into the ampoule 11 filled with the chemical solution 32 that has moved from the filling process unit 20, and rises while discharging argon gas from the gas discharge port 33 at the tip. The ampule 11 is arranged above the ampule 11.
(封鎖工程部)
図7は、封鎖工程部40においてアンプル11が配置された際のアンプル11の中心線上での縦断面図および平面図である。封鎖工程部40は、アルゴンガスが排出されるガスノズル41、アンプル11の開口部を加熱する加熱手段であるバーナー42、およびアンプル11の開口部を両側から挟んで支持する挟持手段であるピンチャー43を備えている。また、アンプル11が配置されるアンプル配置部4は回転する構造となっており、封鎖工程部40においてアンプル11は常時回転している。
(Blockade Process Department)
FIG. 7 is a longitudinal sectional view and a plan view on the center line of the ampoule 11 when the ampoule 11 is disposed in the sealing step section 40. The sealing process unit 40 includes a gas nozzle 41 for discharging argon gas, a burner 42 that is a heating unit that heats the opening of the ampoule 11, and a pincher 43 that is a clamping unit that supports the opening of the ampoule 11 from both sides. I have. Further, the ampoule placement part 4 where the ampoule 11 is placed has a rotating structure, and the ampoule 11 is always rotating in the sealing process part 40.
ガスノズル41は上下に移動可能な構造であり、充填後置換工程部30から移動してきた薬液45の充填されたアンプル11内に挿入され、先端のガス排出口46よりアルゴンガスを排出しながら上昇する構成となっている。また、このガスノズル41は、アンプル11内に挿入される前からアルゴンガスの排出を開始している。 The gas nozzle 41 has a structure that can move up and down, is inserted into the ampoule 11 filled with the chemical liquid 45 that has moved from the post-filling replacement process unit 30, and rises while discharging argon gas from the gas discharge port 46 at the tip. It has a configuration. Further, the gas nozzle 41 starts discharging the argon gas before being inserted into the ampoule 11.
加熱手段であるバーナー42は、回転するアンプル11の開口部の一定位置(加熱部44)を加熱し熔融させるものである。また、挟持手段であるピンチャー43は、アンプル11の開口部を両側から挟んで支持できる構造となっており、アンプル11の加熱部44より上部を両側から挟んで上昇する。 The burner 42 serving as a heating means heats and melts a fixed position (heating unit 44) of the opening of the rotating ampoule 11. Further, the pincher 43 serving as the clamping means has a structure that can support the opening of the ampoule 11 from both sides, and ascends from the both sides of the upper part of the heating part 44 of the ampoule 11.
また、封鎖工程部40では、ガスノズル41からアルゴンガスが排出され始めてからアンプル11の開口部の封鎖が終了するまでの間、ガスノズル41からアンプル11内にアルゴンガスが常時排出される構成となっている。 Further, in the sealing step section 40, the argon gas is constantly discharged from the gas nozzle 41 into the ampoule 11 after the argon gas starts to be discharged from the gas nozzle 41 until the opening of the ampoule 11 is closed. Yes.
図7において、(a)図は、回転するアンプル11の開口部の一定位置をバーナー42によって加熱している状態を示す縦断面図および平面図である。(b)図は、ガスノズル41がアンプル11内に挿入されているとともに、ピンチャー43がアンプル11の加熱部44より上部を両側から挟んだ状態を示す縦断面図および平面図である。(c)図は、ガスノズル41がアンプル11の上方に配置され、かつピンチャー43がアンプル11の加熱部44より上部を両側から挟んで上昇した状態を示す縦断面図および平面図である。 7A is a longitudinal sectional view and a plan view showing a state where a certain position of the opening of the rotating ampule 11 is heated by the burner 42. FIG. (B) is a longitudinal sectional view and a plan view showing a state where the gas nozzle 41 is inserted into the ampoule 11 and the pincher 43 sandwiches the upper part from the heating part 44 of the ampoule 11 from both sides. (C) is a longitudinal sectional view and a plan view showing a state in which the gas nozzle 41 is disposed above the ampoule 11 and the pincher 43 is lifted from both sides above the heating part 44 of the ampoule 11.
次に、上記のように構成された本例の充填装置によってアンプルに薬液を充填する充填方法の一例を説明する。 Next, an example of a filling method for filling an ampoule with a chemical solution using the filling device of this example configured as described above will be described.
(1)充填前置換工程
図1および図2で示された充填前置換工程部10において充填前置換工程が行われる。空の50mLアンプル11(充填部底面内径φ34.2mm、充填部高さ135.0mm、開口部径φ10.0mm)がアンプル供給部60から供給されてアンプル配置部4に配置され、真空ポンプ接続部12にて真空ポンプに接続された筒状のパッド13の下方に移動される。パッド13がアンプルの上方から下降してアンプル11の肩口の部分に密着し、アンプル11を覆って密封するように配置される。そして、真空ポンプによって450mmHgにてアンプル11内部の空気を吸引して、アンプル11内を陰圧状態とする。
(1) Pre-fill replacement step The pre-fill replacement step is performed in the pre-fill replacement step unit 10 shown in FIGS. An empty 50 mL ampoule 11 (filling portion bottom surface inner diameter φ34.2 mm, filling portion height 135.0 mm, opening diameter φ10.0 mm) is supplied from the ampoule supply unit 60 and arranged in the ampoule arrangement unit 4, and the vacuum pump connection unit 12 is moved below the cylindrical pad 13 connected to the vacuum pump. The pad 13 is arranged so as to descend from above the ampoule and adhere to the shoulder portion of the ampoule 11 so as to cover and seal the ampoule 11. Then, the air inside the ampoule 11 is sucked at 450 mmHg by a vacuum pump, and the inside of the ampoule 11 is brought into a negative pressure state.
次に、パッド13内に挿通されているガスノズル14がアンプル11内に挿入され、ガスノズル14のガス排出口16がアンプル11の底面から30mm上方の位置に配置される。真空ポンプによる吸引が止められ、その後ガスノズル14から5L/minの流量でアルゴンガスが排出される。アルゴンガスが排出されると同時にガスノズル14が上昇し始め、ガスノズル14のガス排出口16がアンプル11の底面から65mm上方の位置に到達したらアルゴンガスの排出が止められる。また、アルゴンガスが排出されパッド13内が微陽圧とされた後は、パッド13はガスノズル14に追従しながら上昇する。ガスノズル14およびパッド13がアンプル11の上方に移動した後、円盤台2が回転してアンプル配置部4に配置されたアンプル11は次工程に送られる。 Next, the gas nozzle 14 inserted into the pad 13 is inserted into the ampoule 11, and the gas discharge port 16 of the gas nozzle 14 is disposed at a position 30 mm above the bottom surface of the ampoule 11. Suction by the vacuum pump is stopped, and then argon gas is discharged from the gas nozzle 14 at a flow rate of 5 L / min. At the same time as the argon gas is discharged, the gas nozzle 14 starts to rise, and when the gas discharge port 16 of the gas nozzle 14 reaches a position 65 mm above the bottom surface of the ampoule 11, the discharge of the argon gas is stopped. Further, after the argon gas is discharged and the inside of the pad 13 is set to a slight positive pressure, the pad 13 rises while following the gas nozzle 14. After the gas nozzle 14 and the pad 13 move above the ampoule 11, the disk base 2 rotates and the ampoule 11 placed in the ampoule placement part 4 is sent to the next step.
(2)充填工程
図1および図3〜図5で示された充填工程部20において充填工程が行われる。上記(1)の充填前置換工程部10から送られてきたアンプル11は、薬液が供給される薬液供給部22とアルゴンガスが供給されるガス供給部23とを備え、薬液を充填する薬液充填ノズル24の排出口とアルゴンガスを排出するガスノズル25の排出口とが一体となった二重ノズル排出口26の下方に配置される。この二重ノズル排出口26がアンプル11の上方から下降してアンプル11内に挿入され、二重ノズル排出口26の先端がアンプル11の底面から30mm上方の位置に配置される。
(2) Filling Step The filling step is performed in the filling step section 20 shown in FIGS. 1 and 3 to 5. The ampoule 11 sent from the pre-filling replacement process unit 10 in the above (1) includes a chemical solution supply unit 22 to which a chemical solution is supplied and a gas supply unit 23 to which an argon gas is supplied, and is filled with a chemical solution. The discharge port of the nozzle 24 and the discharge port of the gas nozzle 25 that discharges argon gas are disposed below the double nozzle discharge port 26. The double nozzle outlet 26 descends from above the ampoule 11 and is inserted into the ampoule 11, and the tip of the double nozzle outlet 26 is disposed at a position 30 mm above the bottom of the ampoule 11.
その後、二重ノズル排出口26から薬液とアルゴンガスが同時に排出され、また薬液とアルゴンガスが排出されると同時にノズル21が上昇する。このとき、アルゴンガスは5L/minの流量で排出される。また、薬液を充填する際、二重ノズル排出口26が充填された薬液の液面に接触しないように、常時薬液の液面より上方に位置するように上昇しながら薬液を充填する、いわゆる液面追従充填が行われる。液面追従充填を行うことによって、充填液の泡立ち、および充填液への気体混入を低減することができる。 Thereafter, the chemical solution and the argon gas are simultaneously discharged from the double nozzle discharge port 26, and the nozzle 21 is raised simultaneously with the discharge of the chemical solution and the argon gas. At this time, the argon gas is discharged at a flow rate of 5 L / min. Further, when filling the chemical liquid, the so-called liquid is always filled with the chemical liquid while ascending so as not to come into contact with the liquid level of the chemical liquid filled with the double nozzle discharge port 26. Surface following filling is performed. By performing the liquid surface following filling, foaming of the filling liquid and gas mixing into the filling liquid can be reduced.
二重ノズル排出口26の先端がアンプル11の底面から65mm上方の位置に到達したら薬液およびアルゴンガスの排出が止められ、これにより薬液はアンプル11の底面から50mm上方の位置まで充填される。なお、アルゴンガスの排出は、アンプル11内の開口部付近(アンプルの枝管部)で行うとアンプル11外部から空気を引き込むおそれがあるため、アンプル11の枝管部より下方の位置でアルゴンガスの排出を止めることが好ましい。二重ノズル排出口26がアンプル11の上方に移動した後、円盤台2が回転してアンプル配置部4に配置されたアンプル11は次工程に送られる。 When the tip of the double nozzle discharge port 26 reaches a position 65 mm above the bottom surface of the ampoule 11, the discharge of the chemical solution and the argon gas is stopped, whereby the chemical solution is filled up to a position 50 mm above the bottom surface of the ampoule 11. If argon gas is discharged near the opening in the ampule 11 (the ampule branch), air may be drawn from the outside of the ampule 11, and therefore, the argon gas is discharged at a position below the branch of the ampule 11. It is preferable to stop the discharge. After the double nozzle discharge port 26 moves above the ampoule 11, the disk base 2 rotates and the ampoule 11 arranged in the ampoule arrangement part 4 is sent to the next process.
(3)充填後置換工程
図1および図6で示された充填後置換工程部30において充填後置換工程が行われる。上記(2)の充填工程部20から送られてきたアンプル11は、アルゴンガスが排出されるガスノズル31の下方に配置される。ガスノズル31がアンプル11の上方から下降してアンプル11内に挿入され、ガスノズル31先端のガス排出口33が充填された薬液の液面から10mm上方の位置に配置される。その後、ガスノズル31から5L/minの流量でアルゴンガスが排出される。また、アルゴンガスが排出されると同時にガスノズル31が上昇し始め、ガスノズル31先端のガス排出口33が薬液の液面から15mm上方の位置に到達したらアルゴンガスの排出が止められる。ガスノズル31がアンプル11の上方に移動した後、円盤台2が回転してアンプル配置部4に配置されたアンプル11は次工程に送られる。
(3) Post-filling replacement process The post-filling replacement process is performed in the post-filling replacement process unit 30 shown in FIGS. The ampoule 11 sent from the filling process unit 20 in (2) is arranged below the gas nozzle 31 from which argon gas is discharged. The gas nozzle 31 descends from above the ampoule 11 and is inserted into the ampoule 11, and is arranged at a position 10 mm above the liquid level of the chemical solution filled with the gas discharge port 33 at the tip of the gas nozzle 31. Thereafter, argon gas is discharged from the gas nozzle 31 at a flow rate of 5 L / min. At the same time as the argon gas is discharged, the gas nozzle 31 starts to rise, and when the gas discharge port 33 at the tip of the gas nozzle 31 reaches a position 15 mm above the liquid surface of the chemical solution, the discharge of the argon gas is stopped. After the gas nozzle 31 moves above the ampoule 11, the disk base 2 rotates and the ampoule 11 placed in the ampoule placement part 4 is sent to the next step.
(4)封鎖工程
図1および図7で示された封鎖工程部40において封鎖工程が行われる。上記(3)の充填後置換工程部30から送られてきたアンプル11は、アルゴンガスが排出されるガスノズル41の下方に配置される。アンプル配置部4の回転によってアンプル11は常時回転している。封鎖は下記ア〜カのように行われる。
(4) Blocking process The blocking process is performed in the blocking process unit 40 shown in FIGS. 1 and 7. The ampule 11 sent from the post-filling replacement process section 30 in (3) above is disposed below the gas nozzle 41 from which argon gas is discharged. The ampoule 11 is always rotated by the rotation of the ampoule arrangement portion 4. The blockade is performed as follows.
(ア)アンプル11が封鎖工程部40に移動された直後に、アンプル11の開口部の一定位置(加熱部44)がバーナー42によって加熱され始める(図5a)。
(イ)アルゴンガスを排出しているガスノズル41が、アンプル11の上方からアンプル11内に挿入され、ガスノズル41先端のガス排出口46が加熱部44(封鎖位置)の下方18mmの位置(液面の上方87.0mmの位置)に配置される。なお、アルゴンガスは、ガスノズル41がアンプル11内に挿入される前から2.5L/minの流量で排出されている。
(ウ)アンプル11の加熱部44が熔融したところで、アンプル11の加熱部44より上部がピンチャー43によって両側から挟まれる(図5b)。
(エ)ガスノズル41が上昇し、ガス排出口46がアンプル11の加熱部44より上方に配置された後、ピンチャー43がアンプル11の加熱部44より上部を挟んだまま上昇し、同時にガスノズル41も上昇する。
(オ)ピンチャー43がアンプル11の加熱部44より上部を挟んで上昇することにより、アンプル11の熔融された加熱部44が上に引かれて細く伸びる。細く伸びた加熱部44の一部がさらにバーナー42によって加熱されることによって切断され、アンプル11の開口部が封鎖される(図5c)。
(カ)アルゴンガスは、アンプル11の開口部の封鎖が終了するまで常時排出され、封鎖が終了した後即座に止められる。
(A) Immediately after the ampoule 11 is moved to the blockade process part 40, the fixed position (heating part 44) of the opening part of the ampoule 11 begins to be heated by the burner 42 (FIG. 5a).
(A) The gas nozzle 41 that discharges argon gas is inserted into the ampoule 11 from above the ampoule 11, and the gas discharge port 46 at the tip of the gas nozzle 41 is at a position (liquid level) 18 mm below the heating unit 44 (blocking position). 87.0 mm above). Argon gas is discharged at a flow rate of 2.5 L / min before the gas nozzle 41 is inserted into the ampoule 11.
(C) When the heating part 44 of the ampoule 11 is melted, the upper part of the heating part 44 of the ampoule 11 is sandwiched from both sides by the pincher 43 (FIG. 5b).
(D) After the gas nozzle 41 rises and the gas discharge port 46 is arranged above the heating part 44 of the ampoule 11, the pincher 43 rises while sandwiching the upper part from the heating part 44 of the ampoule 11, and at the same time the gas nozzle 41 also To rise.
(E) When the pincher 43 rises across the upper part of the heating part 44 of the ampoule 11, the heated heating part 44 of the ampoule 11 is pulled upward and extends thinly. A part of the heating part 44 that extends thinly is further cut by being heated by the burner 42, and the opening of the ampoule 11 is blocked (FIG. 5c).
(F) Argon gas is always discharged until the opening of the ampoule 11 is closed, and is stopped immediately after the closing.
以上のようにして封鎖が終了して薬液の充填が完了したアンプル11は、円盤台2が回転してアンプル排出部70へ送られ、排出される。なお、本例においては、一工程につき同時に2本のアンプルを処理することができ、封鎖工程は約3秒で行われ、充填前置換工程開始から封鎖工程終了までの工程は15.2秒で行うことができた。また、封鎖されたアンプル内における薬液の充填量は40mLであり、液体層以外の空間層容積は28mLであった。 The ampoule 11 whose sealing has been completed and the filling of the chemical solution has been completed as described above is sent to the ampoule discharge unit 70 as the disk base 2 rotates, and is discharged. In this example, two ampoules can be processed simultaneously per process, the blocking process is performed in about 3 seconds, and the process from the start of the pre-filling replacement process to the end of the blocking process is 15.2 seconds. Could be done. The filling amount of the chemical solution in the sealed ampule was 40 mL, and the space layer volume other than the liquid layer was 28 mL.
(実施例1、参考例)
図1〜図7に示した前記充填装置および充填方法によって、50mLアンプルに薬液を充填し、アンプル内の空間層に存在する酸素量を測定した。封鎖工程における、ガスノズルのガス排出口のアンプル内への挿入位置について、ガスノズルのガス排出口をアンプル内の加熱部(封鎖位置)の下方18mmの位置に挿入した場合を実施例1とし、アンプル内の加熱部の位置に挿入した場合を参考例とした。この場合、上記封鎖工程において、ガスノズルから排出されるアルゴンガスの流量は2.5L/minとし、アルゴンガスの排出はガスノズルがアンプル内に挿入される前から開始し、アンプルの封鎖が終了した後即座に終了させた。アンプル内の空間層に存在する酸素量の測定は、水中でアンプルを破壊して空間層の気体のみを捕集し、校正された酸素濃度計で酸素量を測定した。空間層に存在する酸素量を酸素存在率(%)として表した。結果を表1に示す。
(Example 1, reference example )
A chemical solution was filled in a 50 mL ampoule by the filling apparatus and the filling method shown in FIGS. 1 to 7, and the amount of oxygen present in the space layer in the ampoule was measured. In the sealing step, the insertion position of the gas discharge port of the gas nozzle into the ampule is the case where the gas discharge port of the gas nozzle is inserted at a position 18 mm below the heating portion (blocking position) in the ampule, as Example 1. The case where it inserted in the position of the heating part of this was made into the reference example . In this case, in the sealing step, the flow rate of the argon gas discharged from the gas nozzle is 2.5 L / min, and the discharge of the argon gas starts before the gas nozzle is inserted into the ampoule, and after the ampoule has been sealed. It was terminated immediately. The amount of oxygen present in the space layer in the ampoule was measured by destroying the ampule in water and collecting only the gas in the space layer, and measuring the amount of oxygen with a calibrated oxygen concentration meter. The amount of oxygen present in the space layer was expressed as the oxygen abundance (%). The results are shown in Table 1.
(比較例1)
封鎖工程において、ガスノズルからのアルゴンガスの排出を行わなかった他は、実施例1と同様にしてアンプルに薬液を充填し、アンプル内の空間層に存在する酸素量を測定した。結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
In the sealing step, the ampule was filled with a chemical solution in the same manner as in Example 1 except that argon gas was not discharged from the gas nozzle, and the amount of oxygen present in the space layer in the ampule was measured. The results are shown in Table 1.
(比較例2)
封鎖工程において、アンプルの封鎖が終了する前にガスノズルからのアルゴンガスの排出を終了させた他は、参考例と同様にしてアンプルに薬液を充填し、アンプル内の空間層に存在する酸素量を測定した。結果を表1に示す。
(Comparative Example 2)
In the sealing process, the ampoule was filled with a chemical solution in the same manner as in the reference example , except that the discharge of argon gas from the gas nozzle was terminated before the ampoule was sealed, and the amount of oxygen present in the space layer in the ampoule was determined. It was measured. The results are shown in Table 1.
これらの結果より、本発明(実施例1)によれば、アルゴンガスの排出を行わなかった場合(比較例1)、およびアンプルの封鎖が終了する前にアルゴンガスの排出を終了させた場合(比較例2)に比較して、アンプル内の空間層における酸素存在率が低くなることが確認された。 From these results, according to the present invention (Example 1) , when the argon gas was not discharged (Comparative Example 1), and when the discharge of the argon gas was terminated before the ampoule was closed ( Compared to Comparative Example 2), it was confirmed that the oxygen abundance in the space layer in the ampoule was lower.
(試験例1)
封鎖工程において、ガスノズル先端のガス排出口のアンプル内への挿入位置を、以下のようにアンプル内の加熱部(封鎖位置)の上方10mm、上方7mm、上方5mm、加熱部(0mm)、加熱部の下方2mm、下方4mm、下方6mmとして、実施例1と同様にアンプルに薬液を充填し、アンプル内の空間層に存在する酸素量を測定した。結果を表2に示す。
(Test Example 1)
In the sealing step, the insertion position of the gas discharge port at the tip of the gas nozzle into the ampule is 10 mm above the heating section (blocking position) in the ampule, 7 mm above, 5 mm above, the heating section (0 mm), and the heating section as follows. The ampule was filled with a chemical solution in the same manner as in Example 1, and the amount of oxygen present in the space layer in the ampule was measured. The results are shown in Table 2.
試験例1の結果より、ガスノズルのガス排出口がアンプル内の加熱部の位置より4mm以上下方に挿入されると、アンプル内の空間層における酸素存在率が0.1%以下と非常に低くなることが確認された。また、ガスノズルのガス排出口がアンプル内の加熱部の位置より2mm下方の位置と加熱部の位置より5mm上方の位置との間では、アンプル内の空間層に存在する酸素率が0.1〜0.2%となることが確認され、一般的に薬液の保存期限内に薬液の力価が変化しない範囲であることがわかった。 From the result of Test Example 1, when the gas discharge port of the gas nozzle is inserted 4 mm or more below the position of the heating part in the ampoule, the oxygen abundance in the space layer in the ampoule becomes as low as 0.1% or less. It was confirmed. In addition, when the gas discharge port of the gas nozzle is between a position 2 mm below the position of the heating part in the ampoule and a position 5 mm above the position of the heating part, the oxygen ratio existing in the space layer in the ampoule is 0.1 to 0.1%. It was confirmed to be 0.2%, and it was generally found that the drug solution titer did not change within the storage period of the drug solution.
(試験例2)
封鎖工程において、アルゴンガスの流量を以下のように変えて、実施例1と同様にしてアンプルに薬液を充填し、アンプルの熔閉部の形状を確認した。結果を表3に示す。
(Test Example 2)
In the sealing step, the flow rate of argon gas was changed as follows, and the ampule was filled with a chemical solution in the same manner as in Example 1, and the shape of the ampule sealed portion was confirmed. The results are shown in Table 3.
試験例2の結果より、不活性ガスの流量が3L/min未満であるときは、アンプルの熔閉部が肉厚な球面となって破損しにくい良好な形状となることがわかった。これに対し、不活性ガスの流量が5L/minを超えると、熔閉部に凹みが生じて陥没するため、アンプル先端のガラスの厚みが薄くなって破損しやすい形状となることがわかった。 From the results of Test Example 2, it was found that when the flow rate of the inert gas was less than 3 L / min, the ampule sealed portion became a thick spherical surface and had a good shape that was not easily damaged. On the other hand, when the flow rate of the inert gas exceeds 5 L / min, it was found that the glass at the tip of the ampoule becomes thin and easily breaks because a recess is formed in the melted portion.
1・・・充填装置、2、6、8・・・円盤台、4・・・アンプル配置部、10・・・充填前置換工程部、11・・・アンプル、12・・・真空ポンプ接続部、13・・・パッド、14・・・ガスノズル、15・・・シリコーンパッキン、16・・・ガス排出口、20・・・充填工程部、21・・・ノズル、22・・・薬液供給部、23・・・ガス供給部、24・・・薬液充填ノズル、25・・・ガスノズル、26・・・二重ノズル排出口、30・・・充填後置換工程部、31・・・ガスノズル、32・・・薬液、33・・・ガス排出口、40・・・封鎖工程部、41・・・ガスノズル、42・・・バーナー、43・・・ピンチャー、44・・・加熱部、45・・・薬液、46・・・ガス排出口、60・・・アンプル供給部、70・・・アンプル排出部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Filling device, 2, 6, 8 ... Disk base, 4 ... Ampoule arrangement | positioning part, 10 ... Pre-filling substitution process part, 11 ... Ampoule, 12 ... Vacuum pump connection part , 13 ... Pad, 14 ... Gas nozzle, 15 ... Silicone packing, 16 ... Gas discharge port, 20 ... Filling process part, 21 ... Nozzle, 22 ... Chemical solution supply part, 23 ... Gas supply unit, 24 ... Chemical solution filling nozzle, 25 ... Gas nozzle, 26 ... Double nozzle outlet, 30 ... Post-filling replacement process unit, 31 ... Gas nozzle, 32 ..Chemical solution 33 ... Gas discharge port 40 ... Sealing process part 41 ... Gas nozzle 42 ... Burner 43 ... Pincher 44 ... Heating part 45 ... Chemical liquid 46 ... Gas discharge port, 60 ... Ampoule supply unit, 70 ... Amp Discharge unit
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