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JP4572561B2 - Self-luminous display device - Google Patents

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JP4572561B2
JP4572561B2 JP2004107919A JP2004107919A JP4572561B2 JP 4572561 B2 JP4572561 B2 JP 4572561B2 JP 2004107919 A JP2004107919 A JP 2004107919A JP 2004107919 A JP2004107919 A JP 2004107919A JP 4572561 B2 JP4572561 B2 JP 4572561B2
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black matrix
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  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Description

本発明は、有機ELディスプレイなどの自発光型表示装置に関する。   The present invention relates to a self-luminous display device such as an organic EL display.

従来、有機エレクトロルミネセンス(以下、有機ELという。)ディスプレイは、透明基板を使用し、一対の電極間に配置された発光機能を有する有機層が、電極間に電流を流すことで、発光が実現される。この際、透明基板側の電極を可視光に対して透過性を持たせることで、発光が基板側から放射され、パネルの機能を満たす。また、発光素子が、白色光の場合には、カラーフィルタを用いることで、カラー発光パネルが実現できる。一方で、青色発光の場合は、蛍光変換層を介して発光を取り出すことで、カラー発光パネルが実現できる。   Conventionally, an organic electroluminescence (hereinafter, referred to as organic EL) display uses a transparent substrate, and an organic layer having a light emitting function disposed between a pair of electrodes emits current by passing a current between the electrodes. Realized. At this time, by making the electrode on the transparent substrate side transparent to visible light, light emission is emitted from the substrate side, thereby satisfying the function of the panel. Further, when the light emitting element is white light, a color light emitting panel can be realized by using a color filter. On the other hand, in the case of blue light emission, a color light emission panel can be realized by extracting light emission through the fluorescence conversion layer.

この有機ELディスプレイに使用される有機層は、水分に弱く、有機層を外気から遮断する構造が必要である。また、遮断された構造において、遮断空間内で発生したガスを吸着し、外部からの水分を除去する目的で、乾燥剤を遮断された空間に配置する技術が知られている(たとえば、特許文献1参照)。   The organic layer used in this organic EL display is weak against moisture and needs a structure that blocks the organic layer from the outside air. In addition, in a blocked structure, a technique is known in which a desiccant is disposed in a blocked space for the purpose of adsorbing gas generated in the blocked space and removing moisture from the outside (for example, Patent Documents). 1).

この有機ELディスプレイに使用される有機EL素子構造体は、カラーフィルタや蛍光変換層が形成された基板上に形成される。そのため、製造工程に時間を要するという問題点があった。また、カラーフィルタや蛍光変換層が形成された基板上は、表面あれが大きく、電極間でショートやリークが発生するという問題点もあった。さらに、カラーフィルタや蛍光変換層から発生するアウトガスが、直接有機EL素子を通過するため、ダークスポットと呼ばれる黒点不良が発生することもある。   The organic EL element structure used for this organic EL display is formed on a substrate on which a color filter and a fluorescence conversion layer are formed. Therefore, there is a problem that the manufacturing process takes time. Further, the substrate on which the color filter and the fluorescence conversion layer are formed has a large surface roughness, and there is a problem that a short circuit or a leak occurs between the electrodes. Furthermore, since the outgas generated from the color filter and the fluorescence conversion layer directly passes through the organic EL element, a black spot defect called a dark spot may occur.

そのため、有機EL素子が形成された基板と、それと対向する基板に、カラーフィルタや蛍光変換層を形成して、カラー発光パネルを実現するものがある(たとえば、特許文献2乃至3参照)。   For this reason, there are some which realize a color light-emitting panel by forming a color filter or a fluorescence conversion layer on a substrate on which an organic EL element is formed and a substrate facing the substrate (see, for example, Patent Documents 2 to 3).

一方で、有機EL素子が形成された基板と、カラーフィルタや蛍光変換層を形成する基板を、対向配置させることにより生じるギャップ管理のために、ビーズを分散配置させるものもある(たとえば、特許文献4参照)。   On the other hand, there are also those in which beads are dispersedly arranged for gap management caused by arranging a substrate on which an organic EL element is formed and a substrate on which a color filter or a fluorescence conversion layer is formed to face each other (for example, Patent Documents). 4).

さらに、有機EL素子が形成された基板と、カラーフィルタや蛍光変換層を形成する基板間は、両者を同一の基板上に形成するのに比較して、かなり広い間隔が発生してしまう。これにより、隣接する画素からの光の回り込みが生じてしまい、有機ELディスプレイの色度の変化が生じてしまう。これを防止するために、有機EL素子が形成された基板と、カラーフィルタや蛍光変換層を形成された基板との間に、隣接する他の発光画素から遮光する遮光部材を設けるものもある(たとえば、特許文献5参照)。
特開2003−203761号公報 特開平11−185955号公報 特開2001−126862号公報 特開2003−517182号公報 特開2002−299044号公報
Furthermore, a considerably wide gap is generated between the substrate on which the organic EL element is formed and the substrate on which the color filter or the fluorescence conversion layer is formed as compared with the case where both are formed on the same substrate. As a result, wraparound of light from adjacent pixels occurs, and the chromaticity of the organic EL display changes. In order to prevent this, a light shielding member for shielding light from other adjacent light emitting pixels may be provided between the substrate on which the organic EL element is formed and the substrate on which the color filter or the fluorescence conversion layer is formed ( For example, see Patent Document 5).
JP 2003-203761 A Japanese Patent Laid-Open No. 11-185955 JP 2001-126862 A JP 2003-517182 A JP 2002-299044 A

しかしながら、上述のように、有機EL素子が形成された基板と、対向する基板にカラーフィルタや蛍光変換層を対向配置した場合に、前記遮光部材やビーズなどを配置すると、却って製造工程が複雑化してしまう。従って、工程の簡素化が必要である。   However, as described above, when the color filter or the fluorescence conversion layer is disposed opposite to the substrate on which the organic EL element is formed and the opposite substrate, if the light shielding member or the beads are disposed, the manufacturing process is complicated. End up. Therefore, it is necessary to simplify the process.

本発明において、有機EL素子が形成された基板と、対向する基板にカラーフィルタや蛍光変換層を対向配置した場合のギャップ管理は、何ら製造工程を増やすことなくスペーサを形成することで容易に行うことが出来る。   In the present invention, the gap management in the case where the color filter and the fluorescence conversion layer are arranged to face each other on the substrate on which the organic EL element is formed is easily performed by forming the spacer without increasing the number of manufacturing steps. I can do it.

本発明において、パネル全体として製造工程を減少させ、有機EL素子が形成された画素位置間に、何ら製造工程を増やさずにスペーサを形成することで、隣接画素からの発光が、隣の画素に対応したカラーフィルタや蛍光変換層に漏れることも、効果的に防止できる。   In the present invention, the number of manufacturing processes is reduced as a whole panel, and a spacer is formed between pixel positions where organic EL elements are formed without increasing the number of manufacturing processes. Leakage to the corresponding color filter or fluorescence conversion layer can be effectively prevented.

このように、本発明においては、製造工程を短縮しつつ、ダークスポットと呼ばれる黒点不良の発生を、効果的に抑えることができる。カラーフィルタや蛍光変換層が形成された基板から発生するアウトガスは、遮断された空間に拡散されるので、黒点不良の発生率を抑えることができる。そして、基板上に直接、有機EL素子を形成するので、リークやショートの発生率を抑えることができる。又、少なくとも無機物からなるパッシベーション膜を形成することでカラーフィルタ、オーバーコートなどからのアウトガスが抑制され有機EL素子の発光寿命を延ばすことができる。   Thus, in the present invention, it is possible to effectively suppress the occurrence of black spot defects called dark spots while shortening the manufacturing process. Since the outgas generated from the substrate on which the color filter and the fluorescence conversion layer are formed is diffused into the blocked space, the occurrence rate of black spot defects can be suppressed. And since an organic EL element is formed directly on a board | substrate, the incidence rate of a leak or a short circuit can be suppressed. Further, by forming a passivation film made of at least an inorganic substance, outgas from a color filter, an overcoat, etc. can be suppressed, and the light emission life of the organic EL element can be extended.

本発明は、以上の問題を鑑み、製造工程の簡素化を実現しつつ、十分な発光機能を実現する有機EL表示装置の構造を提案するものである。   In view of the above problems, the present invention proposes a structure of an organic EL display device that realizes a sufficient light emitting function while simplifying the manufacturing process.

上記目的を達成するため、本願の自発光型表示装置は、
少なくとも一つの基板と、
前記基板上に形成された有機エレクトロルミネセンスからなる構造体と、
前記有機エレクトロルミネセンスからなる構造体を封止する封止板と、を有し、
前記封止板は、少なくとも透光性を有する基板よりなり、かつ、前記有機エレクトロルミネセンスからなる構造体が形成される基板面と対向する前記封止板の基板面側には、少なくともカラーフィルタおよび第1のブラックマトリクスが形成され、該第1のブラックマトリクスは、その厚みが、前記カラーフィルタの厚みよりも厚く、さらに、前記構造体と、前記カラーフィルタとのギャップの最小値のおよそ10%乃至90%の厚みを少なくとも有し、前記基板との間に空隙を設けることにより、前記基板と接触しないように配置され、
表示領域外で前記カラーフィルタに積層され、前記基板に接触する第2のブラックマトリクスをさらに有し、
前記第2のブラックマトリクスを、前記構造体と前記カラーフィルタとのギャップを制御する、スペーサとして設けたことを特徴とする。
In order to achieve the above object, the self-luminous display device of the present application is
At least one substrate;
A structure made of organic electroluminescence formed on the substrate;
A sealing plate for sealing the structure made of the organic electroluminescence,
The sealing plate is made of at least a light-transmitting substrate, and at least a color filter is provided on a substrate surface side of the sealing plate facing a substrate surface on which a structure made of the organic electroluminescence is formed. and the first black matrix is formed, the first black matrix, the thickness of that is greater than the thickness of the color filter, further, said structure, the approximate minimum of the gap between the color filter It has a thickness of 10% to 90%, and is arranged so as not to contact the substrate by providing a gap between the substrate and
Laminated on the color filter outside the display area, further have a second black matrix in contact with the substrate,
The second black matrix is provided as a spacer for controlling a gap between the structure and the color filter .

前記第1のブラックマトリクスの厚みが、0.2μm乃至100μmであることを特徴としてもよい。 The thickness of the first black matrix may be 0.2 μm to 100 μm.

前記第2のブラックマトリクスは、前記基板と前記封止板との貼り合せの際に用いる接着剤が、前記構造体への浸入を防止する防護壁であることを特徴としてもよい。 The second black matrix, the adhesive to be used in the bonding of the sealing plate and the substrate may be characterized in that a protective wall for preventing the entry of the said structure.

EL素子の発光機能を高めることが可能となる。   The light emitting function of the EL element can be enhanced.

図1は、実施例1に使用される有機ELパネルの断面図を示す。有機ELパネル1は、基板2、有機EL素子3、封止基板4、カラーフィルタ5、ブラックマトリクス6、スペーサ7、オーバーコート8およびパッシベーション層9(図示しない。)から構成されている。   FIG. 1 is a cross-sectional view of an organic EL panel used in Example 1. The organic EL panel 1 includes a substrate 2, an organic EL element 3, a sealing substrate 4, a color filter 5, a black matrix 6, a spacer 7, an overcoat 8, and a passivation layer 9 (not shown).

基板2は、たとえばガラス、石英などの非晶質基板で、有機EL素子3が形成される。あるいは、基板2にSi、GaAsなどの不透明な結晶性基板を使用しても良い。封止基板4側から光を取り出すからである。又、基板2にスイッチング素子が形成された基板を使用しても良い。なお、本実施例では、コーニング製1737のガラス基板を採用している。   The substrate 2 is an amorphous substrate such as glass or quartz, and the organic EL element 3 is formed thereon. Alternatively, an opaque crystalline substrate such as Si or GaAs may be used for the substrate 2. This is because light is extracted from the sealing substrate 4 side. Further, a substrate in which a switching element is formed on the substrate 2 may be used. In this example, Corning 1737 glass substrate is used.

有機EL素子3は、発光機能を有する化合物である蛍光性物質が用いられる。このような蛍光性物質としては、例えば、以下の化合物1乃至4の化合物から構成される。

Figure 0004572561

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Figure 0004572561
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The organic EL element 3 uses a fluorescent material that is a compound having a light emitting function. Such a fluorescent substance is composed of, for example, the following compounds 1 to 4.
Figure 0004572561

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有機EL素子が、陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/無機電子注入層/陰極である場合は、正孔注入層は、N、N´−ジフェニル−N、N´−ビス(N−(4−メチルフェニル)−N−フェニル(4−アミノフェニル))−1、1´−ビスフェニル−4、4´−ジアミンから形成される。正孔輸送層は、N、N´−ジフェニル−N、N´−ビス(1−ナフチル)−1、1´−ジフェニル−4、4´−ジアミンから形成される。発光層は、下部発光層と上部発光層とを有する。下部発光層は、下記化学式5で表される化合物X、下記化学式6で表される化合物Yを100:3の体積比率で含む材質から形成される。上部発光層は、下記化学式7で表される化合物X、下記化学式8で表される化合物Zを100:3の体積比率で含む材質から形成される。電子輸送層は、tris(8−hydroxyquinoline)aluminiumから形成される。無機電子注入層は、LiFから形成される。なお、この場合、それぞれの膜厚は、発光層40nm、正孔注入層40nm、正孔輸送層30nm、電子輸送層30nm、無機電子注入層0.5nmとしている。

Figure 0004572561

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When the organic EL element is anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / inorganic electron injection layer / cathode, the hole injection layer is N, N′-diphenyl-N, It is formed from N'-bis (N- (4-methylphenyl) -N-phenyl (4-aminophenyl))-1, 1'-bisphenyl-4,4'-diamine. The hole transport layer is formed from N, N′-diphenyl-N, N′-bis (1-naphthyl) -1,1′-diphenyl-4,4′-diamine. The light emitting layer has a lower light emitting layer and an upper light emitting layer. The lower light emitting layer is formed of a material containing a compound X represented by the following chemical formula 5 and a compound Y represented by the following chemical formula 6 in a volume ratio of 100: 3. The upper light emitting layer is formed of a material containing a compound X represented by the following chemical formula 7 and a compound Z represented by the following chemical formula 8 in a volume ratio of 100: 3. The electron transport layer is formed from tris (8-hydroxyquinoline) aluminum. The inorganic electron injection layer is formed from LiF. In this case, the thicknesses of the light emitting layer are 40 nm, the hole injection layer is 40 nm, the hole transport layer is 30 nm, the electron transport layer is 30 nm, and the inorganic electron injection layer is 0.5 nm.
Figure 0004572561

Figure 0004572561

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封止基板4は、基板2と対向して配置され、たとえばガラス、石英などの非晶質基板を用い、本発明において封止基板4側は、光取り出し側になるため、光透過性の高い材質が利用される。本実施例では、コーニング製1737のガラス基板を採用している。   The sealing substrate 4 is disposed to face the substrate 2 and uses, for example, an amorphous substrate such as glass or quartz. In the present invention, the sealing substrate 4 side is a light extraction side, and thus has high light transmittance. Material is used. In this embodiment, a Corning 1737 glass substrate is used.

封止基板4としては、発光の透過率が80%以上であれば良く、上述のガラスに限らず樹脂等の透明な材料を用いてもよい。封止基板4は、外部からの湿気の侵入を防ぐために、市販の低吸湿性の光硬化性接着剤、エポキシ系接着剤、シリコーン系接着剤、架橋エチレン−酢酸ビニル共重合体接着剤シート等の接着性樹脂層を用いて、基板2と接着し密封する。   The sealing substrate 4 only needs to have a light emission transmittance of 80% or more, and is not limited to the glass described above, and may be a transparent material such as a resin. In order to prevent moisture from entering from the outside, the sealing substrate 4 is a commercially available low-hygroscopic photocurable adhesive, epoxy adhesive, silicone adhesive, crosslinked ethylene-vinyl acetate copolymer adhesive sheet, etc. The adhesive resin layer is used to adhere and seal the substrate 2.

カラーフィルタ5は、本発明では、封止基板4側の表示領域内の一部又は全てに少なくとも形成されており、各画素に対応して設けられたRGBの各色の組み合わせによって、カラー表示を可能にするものである。   In the present invention, the color filter 5 is formed at least in part or all of the display area on the sealing substrate 4 side, and color display is possible by a combination of RGB colors provided corresponding to each pixel. It is to make.

具体的には、カラーフィルタ5は、封止基板4上に、青色透過層、緑色透過層、赤色透過層として、フジフィルムオーリン社製のカラーフィルタで、カット光が青は490nm以上の波長の光、緑は560nm以上の波長の光および480nm以下の光、赤は580nm以下の波長の光であるものを用いている。そして、本実施例では、このカラーフィルタ5をそれぞれ100μmの幅でストライプ状に形成した。なお、本実施例では、カラーフィルタ5を採用しているが、これにかぎられず、蛍光変換層を利用してもよい。   Specifically, the color filter 5 is a color filter manufactured by Fujifilm Olin as a blue transmissive layer, a green transmissive layer, and a red transmissive layer on the sealing substrate 4, and the cut light is blue with a wavelength of 490 nm or more. Light and green are light having a wavelength of 560 nm or more and light of 480 nm or less, and red is light having a wavelength of 580 nm or less. In this embodiment, the color filters 5 are formed in stripes with a width of 100 μm. In the present embodiment, the color filter 5 is adopted, but the present invention is not limited to this, and a fluorescence conversion layer may be used.

このように、カラーフィルタ5を封止基板4側に形成することによって、基板2と封止基板4を、それぞれ独立に製造工程に投入することが可能となる。そして、基板2と封止基板4を貼りあわせることにより、製造工程の短縮化を実現できる。また、カラーフィルタ5を、基板2上に形成する場合のカラーフィルタ5またはオーバーコート8上の表面あれに起因する問題や、有機EL素子3を形成する電極間ショートの問題や、リークが発生するという問題も防止できる。さらに、カラーフィルタ5またはオーバーコート8から発生するアウトガスが、直接有機EL素子3を通過することを防止し、ダークスポットと呼ばれる黒点不良の発生を抑えることもできる。   In this way, by forming the color filter 5 on the sealing substrate 4 side, the substrate 2 and the sealing substrate 4 can be independently put into the manufacturing process. Then, the manufacturing process can be shortened by bonding the substrate 2 and the sealing substrate 4 together. In addition, when the color filter 5 is formed on the substrate 2, problems due to surface roughness on the color filter 5 or the overcoat 8, problems of short circuit between electrodes forming the organic EL element 3, and leakage occur. This can also prevent the problem. Furthermore, the outgas generated from the color filter 5 or the overcoat 8 can be prevented from passing directly through the organic EL element 3, and the occurrence of black spot defects called dark spots can also be suppressed.

ブラックマトリクス6は、本実施例では、図1に示すように、カラーフィルタ5のそれぞれの間に配置される。ブラックマトリクス6は、黒色顔料が含有されたアクリル型の樹脂膜で構成されている。この樹脂膜は、液晶表示装置用のブラックマスクに通常用いられるものを採用してもよい。本実施例では、感光性の樹脂の中に黒色化するための着色剤を添加して塗布後、ホトリソグラフィープロセスを用いて、所望のブラックマトリクス6のパターンを形成する。なお、ブラックマトリクス6は、本実施例においては、必ずしも必要ではなく、省略してもよい。   In this embodiment, the black matrix 6 is arranged between the color filters 5 as shown in FIG. The black matrix 6 is composed of an acrylic resin film containing a black pigment. As this resin film, a film usually used for a black mask for a liquid crystal display device may be adopted. In the present embodiment, a coloring agent for blackening is added to the photosensitive resin and applied, and then a desired black matrix 6 pattern is formed using a photolithography process. The black matrix 6 is not necessarily required in the present embodiment, and may be omitted.

スペーサ7は、基板2と封止基板4の間のギャップを維持する一方で、隣接する画素からの光の回り込みを防止するために設けられている。本実施例においては、スペーサ7は、カラーフィルタ5によって形成されている。具体的には、本実施例では、青色透過層、緑色透過層および赤色透過層のそれぞれを積層して、スペーサ7が形成されている。   The spacer 7 is provided in order to prevent the wraparound of light from adjacent pixels while maintaining the gap between the substrate 2 and the sealing substrate 4. In this embodiment, the spacer 7 is formed by the color filter 5. Specifically, in this embodiment, the spacer 7 is formed by laminating each of the blue transmission layer, the green transmission layer, and the red transmission layer.

このように、スペーサ7をカラーフィルタ5によって形成することによって、有機EL素子が形成された画素位置間に、製造工程を増やさずにスペーサ7を形成することができる。さらに、スペーサ7によって、隣接画素からの発光が、隣の画素に対応したカラーフィルタ5に漏れることを、効果的に防止でき、表示品質を向上することができる。なお、スペーサ7の厚みは、1μm〜100μmの範囲内であればよい。本実施例において、スペーサ7の厚みは、3μm〜40μmとしている。   Thus, by forming the spacer 7 with the color filter 5, the spacer 7 can be formed between the pixel positions where the organic EL elements are formed without increasing the number of manufacturing steps. Furthermore, the spacer 7 can effectively prevent light emission from the adjacent pixel from leaking to the color filter 5 corresponding to the adjacent pixel, and display quality can be improved. In addition, the thickness of the spacer 7 should just be in the range of 1 micrometer-100 micrometers. In this embodiment, the thickness of the spacer 7 is 3 μm to 40 μm.

オーバーコート8は、カラーフィルタ5およびブラックマトリクス6を覆って形成される保護層であって、本実施例では、紫外線硬化型アクリル樹脂を用いており、1μmの厚さで形成している。   The overcoat 8 is a protective layer formed so as to cover the color filter 5 and the black matrix 6. In this embodiment, the overcoat 8 is made of an ultraviolet curable acrylic resin and has a thickness of 1 μm.

そして、その上に、図示されない無機物からなるパッシベーション層9を、組成SiOxNy(モル比:x=1.77、y=0.26)とし、成膜速度330nm/minで1μmの厚さに、プラズマCVD(化学気相成長)成膜法で形成した。この時のガス圧は90Paで、温度条件は200℃、投入電力は600W(高周波13.56MHz)、GAPは33mmとした。   Then, a passivation layer 9 made of an inorganic material (not shown) is formed thereon with a composition SiOxNy (molar ratio: x = 1.77, y = 0.26), and a film thickness of 330 μm / min is formed to a thickness of 1 μm. It was formed by CVD (chemical vapor deposition) film formation method. At this time, the gas pressure was 90 Pa, the temperature condition was 200 ° C., the input power was 600 W (high frequency 13.56 MHz), and the GAP was 33 mm.

このように、本実施例においては、カラーフィルタ5が形成された封止基板4と、有機EL素子3が形成された基板2をそれぞれ用意しているので、製造工程が大幅に短縮される。また、カラーフィルタ5が形成された封止基板4から発生するアウトガスは、遮断された空間に拡散されるので、黒点不良の発生率を抑えることが可能となる。さらに、基板2上に直接有機EL素子3を形成するので、リークやショートの発生率を抑えることが可能となる。また、本実施例においては、有機EL素子3が形成された画素位置間にスペーサ7を形成することで、隣接画素からの発光が、隣の画素に対応したカラーフィルタ5に漏れることも防止することができる。   Thus, in this embodiment, since the sealing substrate 4 on which the color filter 5 is formed and the substrate 2 on which the organic EL element 3 is formed are prepared, the manufacturing process is greatly shortened. In addition, since the outgas generated from the sealing substrate 4 on which the color filter 5 is formed is diffused into the blocked space, it is possible to suppress the incidence of black spot defects. Furthermore, since the organic EL element 3 is formed directly on the substrate 2, it is possible to suppress the occurrence rate of leaks and shorts. In this embodiment, the spacers 7 are formed between the pixel positions where the organic EL elements 3 are formed, thereby preventing light emitted from the adjacent pixels from leaking to the color filter 5 corresponding to the adjacent pixels. be able to.

図2は、実施例2に使用される有機ELパネルの断面図を示す。本実施例が、実施例1と異なる点は、ブラックマトリクス6がスペーサ7としての機能を有している点である。具体的には、ブラックマトリクス6は、表示領域外(画素形成領域外)において、基板2と封止基板4の間に配置されるブラックマトリクス20と、表示領域内(画素形成領域内)に配置されるブラックマトリクス21がある。   FIG. 2 is a cross-sectional view of an organic EL panel used in Example 2. The present embodiment is different from the first embodiment in that the black matrix 6 has a function as the spacer 7. Specifically, the black matrix 6 is disposed outside the display area (outside the pixel formation area) and between the black matrix 20 disposed between the substrate 2 and the sealing substrate 4 and within the display area (in the pixel formation area). There is a black matrix 21.

そして、ブラックマトリクス20は、本図で示すとおり、表示領域外(画素形成領域外)で、カラーフィルタ5とブラックマトリクス20を積層させ、画素領域内のブラックマトリクス21の厚さより厚くして、スペーサ7として機能している。   Then, as shown in the figure, the black matrix 20 is formed by stacking the color filter 5 and the black matrix 20 outside the display area (outside the pixel formation area) so as to be thicker than the black matrix 21 in the pixel area. 7 is functioning.

一方で、表示領域内(画素形成領域内)においては、カラーフィルタ5およびブラックマトリクス21が、封止基板4に交互に形成され、ブラックマトリクス21の厚みが、カラーフィルタ5の厚みよりも厚く構成されている。具体的には、ブラックマトリクス21の厚みは、0.2μm乃至100μmの範囲内であればよい。本実施例において、ブラックマトリクス21の厚みは、1μm〜40μmとしている。あるいは単層のカラーフィルタ上に、直接ブラックマトリクスを形成することで、画素に対応するカラーフィルタより、ブラックマトリクスを厚くすることができる。このように構成することにより、有機ELパネル1のコントラストの向上が期待できる。   On the other hand, in the display area (in the pixel formation area), the color filters 5 and the black matrix 21 are alternately formed on the sealing substrate 4, and the thickness of the black matrix 21 is thicker than the thickness of the color filter 5. Has been. Specifically, the thickness of the black matrix 21 may be in the range of 0.2 μm to 100 μm. In this embodiment, the thickness of the black matrix 21 is 1 μm to 40 μm. Alternatively, the black matrix can be made thicker than the color filter corresponding to the pixel by directly forming the black matrix on the single-layer color filter. By comprising in this way, the improvement of the contrast of the organic electroluminescent panel 1 can be anticipated.

また、ブラックマトリクス21の厚みは、有機EL素子3と、カラーフィルタ5とのギャップの最小値のおよそ10%乃至90%の厚みを、少なくとも有するように構成されている。この数値範囲内に、ブラックマトリクス21の厚みをコントロールすることによって、隣接画素からの発光が、隣の画素に対応したカラーフィルタ5に漏れることを、効果的に防止することができる。   Further, the thickness of the black matrix 21 is configured to have at least a thickness of about 10% to 90% of the minimum value of the gap between the organic EL element 3 and the color filter 5. By controlling the thickness of the black matrix 21 within this numerical range, it is possible to effectively prevent light emitted from an adjacent pixel from leaking to the color filter 5 corresponding to the adjacent pixel.

本図で示しているように、ブラックマトリクス21は、表示領域内では、基板2とは接触しないように配置されている。すなわち、本実施例においては、表示領域内のブラックマトリクス21は、基板2と封止基板4の間のギャップを維持する目的ではなく、隣接する画素からの光の回り込みを防止するために設けられている。   As shown in the figure, the black matrix 21 is arranged so as not to contact the substrate 2 in the display area. That is, in the present embodiment, the black matrix 21 in the display area is provided not to maintain the gap between the substrate 2 and the sealing substrate 4 but to prevent light from coming from adjacent pixels. ing.

さらに、表示領域外(画素形成領域外)のブラックマトリクス20は、接着性樹脂層51が画素部への浸入を防止する防護壁としても機能する。ブラックマトリクス20は、封止基板4上にスペーサ7として画素部を囲んで形成されている。そのため、ブラックマトリクス21は、基板2と封止基板4との貼り合せの際に用いる接着性樹脂層51が、有機EL素子3への浸入を防止する防護壁となる。   Further, the black matrix 20 outside the display area (outside the pixel formation area) also functions as a protective wall that prevents the adhesive resin layer 51 from entering the pixel portion. The black matrix 20 is formed as a spacer 7 on the sealing substrate 4 so as to surround the pixel portion. Therefore, the black matrix 21 serves as a protective wall that prevents the adhesive resin layer 51 used when the substrate 2 and the sealing substrate 4 are bonded together from entering the organic EL element 3.

なお、表示領域内外のブラックマトリクス20および21の上には、オーバーコート8およびパッシベーション層9をさらに被覆してもよい。   The overcoat 8 and the passivation layer 9 may be further coated on the black matrices 20 and 21 inside and outside the display area.

図3は、実施例3に使用される有機ELパネルの断面図を示す。本実施例が、実施例1と異なる点は、オーバーコート8がスペーサ7としての機能を有している点である。すなわち、スペーサ7を覆ってオーバーコート8が厚く形成されている。これにより、オーバーコート8自身が、スペーサ7の一部になっている。   FIG. 3 is a cross-sectional view of an organic EL panel used in Example 3. The present embodiment is different from the first embodiment in that the overcoat 8 has a function as the spacer 7. That is, the overcoat 8 is formed thick so as to cover the spacer 7. Thereby, the overcoat 8 itself becomes a part of the spacer 7.

このように構成することにより、本実施例では実施例1乃至2に比べ、スペーサ7の平坦性がよくなり、スペーサ7の高さのばらつきを低下することができる。   With this configuration, in this embodiment, the flatness of the spacer 7 is improved and variations in the height of the spacer 7 can be reduced as compared with the first and second embodiments.

スペーサ7は、カラーフィルタ5あるいはブラックマトリクス6で形成されている。カラーフィルタ5で形成された場合は、製造工程の簡素化の効果が生じ、ブラックマトリクス6で形成された場合は、高コントラストを実現することができる。さらに、スペーサ7をオーバーコート8で構成しても、製造工程の簡素化の効果がある。   The spacer 7 is formed of a color filter 5 or a black matrix 6. When formed with the color filter 5, an effect of simplifying the manufacturing process occurs, and when formed with the black matrix 6, high contrast can be realized. Furthermore, even if the spacer 7 is composed of the overcoat 8, there is an effect of simplifying the manufacturing process.

図4は、本実施の形態に使用される有機ELディスプレイの有機EL素子3が形成される基板の鳥瞰図を示す。なお、本実施例の有機ELディスプレイ40は、実施例1乃至3で説明した有機ELパネル1を用いたディスプレイ全体の鳥瞰図である。   FIG. 4 shows a bird's-eye view of the substrate on which the organic EL element 3 of the organic EL display used in the present embodiment is formed. In addition, the organic EL display 40 of a present Example is a bird's-eye view of the whole display using the organic EL panel 1 demonstrated in Example 1 thru | or 3.

具体的には、基板2には、補助配線41、電極42、エッジカバー層43、開口部44、陰極引き出し配線45、陽極引き出し配線46、コンタクトパッド形成領域47およびシール材領域48が形成されている。   Specifically, auxiliary wiring 41, electrode 42, edge cover layer 43, opening 44, cathode lead-out wiring 45, anode lead-out wiring 46, contact pad formation region 47 and sealing material region 48 are formed on the substrate 2. Yes.

補助配線41、電極42は、本図に示すようにそれぞれ基板2に配置され、その上には、開口部44およびシール材を除いてエッジカバー層43が被覆されている。そして、それぞれの画素に、陰極引き出し配線45とコンタクトパッド形成領域47を介して陽極引き出し配線46が引き回されており、表示エリアをシール材領域48が囲んでいる。   The auxiliary wiring 41 and the electrode 42 are respectively disposed on the substrate 2 as shown in the figure, and the edge cover layer 43 is covered thereon except for the opening 44 and the sealing material. An anode lead-out wiring 46 is routed to each pixel via a cathode lead-out wiring 45 and a contact pad forming region 47, and a sealing material region 48 surrounds the display area.

本実施例において、有機EL素子3を形成する電極42は、特に制限されないが、正孔を注入するための電極である。この電極42は、特に制限されないが、ITO(錫ドープ酸化インジウム)、IZO(亜鉛ドープ酸化インジウム)、ZnO、SnO2、In2O3等が利用される。特に好ましくは、ITO(錫ドープ酸化インジウム)、IZO(亜鉛ドープ酸化インジウム)が利用される。また、ITOの下側に反射電極を形成しても良い。本実施例では、256ドット×64ラインの画素(1画素300×300μm)を構成する。   In this embodiment, the electrode 42 forming the organic EL element 3 is not particularly limited, but is an electrode for injecting holes. The electrode 42 is not particularly limited, but ITO (tin-doped indium oxide), IZO (zinc-doped indium oxide), ZnO, SnO2, In2O3, or the like is used. Particularly preferably, ITO (tin-doped indium oxide) or IZO (zinc-doped indium oxide) is used. Further, a reflective electrode may be formed under the ITO. In this embodiment, pixels of 256 dots × 64 lines (one pixel 300 × 300 μm) are configured.

有機EL素子3を形成する電極10(図示されない。)は、特に制限されないが、本実施例では電子を注入するための電極であって、低仕事関数の物質が好ましい。例えば、K、Li、Na、Mg、La、Ce、Ca、Sr、Ba、Al、Ag、In、Sn、Zn、Zr等の金属元素単体がある。また、安定性を向上させるために、それらを含む2成分、3成分の合金系を用いることが好ましい。合金系としては、例えばAg・Mg(Ag:0.1〜50at%)、Al・Li(Li:0.01〜14at%)、In・Mg(Mg:50〜80at%)、Al・Ca(Ca:0.01〜20at%)等が好ましい。また、電極10は透光性を持つことが必要であり、ZnO−Al(アルミドープ酸化亜鉛)と低仕事関数の積層構造を含むことが好ましい。   The electrode 10 (not shown) for forming the organic EL element 3 is not particularly limited, but in the present embodiment, an electrode for injecting electrons, and a low work function material is preferable. For example, there are simple metal elements such as K, Li, Na, Mg, La, Ce, Ca, Sr, Ba, Al, Ag, In, Sn, Zn, and Zr. In order to improve the stability, it is preferable to use a two-component or three-component alloy system containing them. Examples of the alloy system include Ag · Mg (Ag: 0.1 to 50 at%), Al·Li (Li: 0.01 to 14 at%), In · Mg (Mg: 50 to 80 at%), Al · Ca ( Ca: 0.01 to 20 at%) is preferable. Moreover, the electrode 10 needs to have translucency, and preferably includes a laminated structure of ZnO—Al (aluminum-doped zinc oxide) and a low work function.

そして、有機EL素子3は、電極42から注入された正孔と、電極10(図示されない。)から注入された電子との再結合によって、有機EL素子3内で励起子が生じ、この励起子が再結合する過程で光を放ち、この光が、電極10(図示されない。)及び封止基板4を通過して、外部に放出される。   In the organic EL element 3, excitons are generated in the organic EL element 3 due to recombination of holes injected from the electrode 42 and electrons injected from the electrode 10 (not shown). In the process of recombination, light is emitted, and this light passes through the electrode 10 (not shown) and the sealing substrate 4 and is emitted to the outside.

各画素の詳細な説明は、画素拡大図49に示すとおり、補助配線41と電気的に接続された電極42の上にエッジカバー層43が被覆され、開口部44が開口されている。そして、このような画素が複数構成されて、カラー表示の有機ELディスプレイ40を実現している。   The detailed description of each pixel is as follows. As shown in the enlarged pixel view 49, the edge cover layer 43 is covered on the electrode 42 electrically connected to the auxiliary wiring 41, and the opening 44 is opened. A plurality of such pixels are configured to realize an organic EL display 40 for color display.

具体的には、本実施例では、有機ELパネル1を256×64ドット(画素)のパターンで形成し、線順次駆動電圧15Vで駆動している。   Specifically, in this embodiment, the organic EL panel 1 is formed in a pattern of 256 × 64 dots (pixels) and driven with a line sequential drive voltage of 15V.

補助配線41は、特に制限されないが、本実施例では、陽極引き出し配線46と電気的に接続されている。そして、陰極引き出し配線45は、コンタクトパッド形成領域47に合わせてパターン形成されている。コンタクトパッド形成領域47は、本図では、エッジカバー層43で陰極引き出し配線45が被覆され、陰極引き出し配線45の一部で開口されている部分である。   The auxiliary wiring 41 is not particularly limited, but is electrically connected to the anode lead-out wiring 46 in this embodiment. The cathode lead-out wiring 45 is patterned in accordance with the contact pad formation region 47. In this drawing, the contact pad formation region 47 is a portion where the cathode lead wiring 45 is covered with the edge cover layer 43 and is opened by a part of the cathode lead wiring 45.

図5(a)(b)は、本実施の形態に使用される有機ELディスプレイの概念図を示す。図5(a)は、有機ELディスプレイ40の平面図であり、図5(b)は、図5(a)のC−C’断面の断面図である。図5(b)に示すように、有機ELディスプレイ40は、有機ELパネル1に封止基板4を貼り合わせ、両基板の間には封止ガスが充填されている。これは、有機層や電極の劣化を防ぐためで、封止基板4は、湿気の浸入を防ぐために、図5(a)に示すシール材領域48に接着性樹脂層51を用いて、封止基板4を基板2と接着し密封する。   5A and 5B are conceptual diagrams of an organic EL display used in the present embodiment. FIG. 5A is a plan view of the organic EL display 40, and FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line C-C 'of FIG. 5A. As shown in FIG. 5B, in the organic EL display 40, a sealing substrate 4 is bonded to the organic EL panel 1, and a sealing gas is filled between the substrates. This is to prevent deterioration of the organic layer and electrodes, and the sealing substrate 4 is sealed by using the adhesive resin layer 51 in the sealing material region 48 shown in FIG. 5A in order to prevent moisture from entering. The substrate 4 is bonded to the substrate 2 and sealed.

封止ガスは、Ar、He、N2 等の不活性ガス等が好ましい。また、この封止ガスの水分含有量は、100ppm以下、より好ましくは10ppm以下、特には1ppm以下であることが好ましい。この水分含有量に下限値はないが、通常0.1ppm程度である。なお、必要に応じて乾燥剤を、表示領域外に配置してもよい。また、透明あるいは半透明の乾燥剤であれば、表示領域内に配置してもよい。   The sealing gas is preferably an inert gas such as Ar, He, or N2. The moisture content of the sealing gas is preferably 100 ppm or less, more preferably 10 ppm or less, and particularly preferably 1 ppm or less. Although there is no lower limit to this water content, it is usually about 0.1 ppm. In addition, you may arrange | position a desiccant outside a display area as needed. Moreover, if it is a transparent or translucent desiccant, you may arrange | position in a display area.

有機ELディスプレイ40は、図5(a)に示すように、陰極引き出し配線45および陽極引き出し配線46を有しており、陰極引き出し配線45と電極10との接続は、図5(b)に示すように、コンタクトパッド形成領域47でコンタクトパッドによって行われる。そして、カラーフィルタ5やスペーサ7は、図5(b)に示すように、形成されている。   As shown in FIG. 5A, the organic EL display 40 has a cathode lead-out wiring 45 and an anode lead-out wiring 46, and the connection between the cathode lead-out wiring 45 and the electrode 10 is shown in FIG. 5B. In this manner, the contact pad is formed in the contact pad formation region 47. The color filter 5 and the spacer 7 are formed as shown in FIG.

接着性樹脂層51は、基板2と封止基板4との貼り合せの際に用いる接着剤である。本実施例2においては、この接着性樹脂層51が画素部への浸入を防止することができる。具体的には、ブラックマトリクス6は、封止基板4上にマトリクス状に画素部を囲んで形成されている。そして、ブラックマトリクス6は、接着性樹脂層51が画素部への浸入を防止する防護壁として機能する。   The adhesive resin layer 51 is an adhesive used when the substrate 2 and the sealing substrate 4 are bonded to each other. In the second embodiment, the adhesive resin layer 51 can prevent entry into the pixel portion. Specifically, the black matrix 6 is formed on the sealing substrate 4 so as to surround the pixel portion in a matrix. The black matrix 6 functions as a protective wall that prevents the adhesive resin layer 51 from entering the pixel portion.

図6は、本実施の形態に使用される自発光型表示装置の概念図を示す。自発光型表示装置60は、有機ELディスプレイ40に、走査信号ドライバIC61、走査信号ドライバ回路62、映像信号ドライバIC63、映像信号ドライバ回路64、FPC65およびコントローラ66を取り付けて構成されている。   FIG. 6 is a conceptual diagram of a self-luminous display device used in this embodiment. The self-luminous display device 60 is configured by attaching a scanning signal driver IC 61, a scanning signal driver circuit 62, a video signal driver IC 63, a video signal driver circuit 64, an FPC 65, and a controller 66 to the organic EL display 40.

走査信号ドライバIC61は、陰極引き出し配線45に信号を伝達するドライバで、走査信号ドライバ回路62によって構成されている。映像信号ドライバIC63は、陽極引き出し配線46に信号を伝達するドライバで、映像信号ドライバ回路64によって構成されている。そして、それぞれのドライバ回路は、FPC65を介して、コントローラ66に接続されている。コントローラ66は、有機ELディスプレイ40に表示する表示データを制御するコントローラである。   The scanning signal driver IC 61 is a driver that transmits a signal to the cathode lead-out wiring 45, and includes a scanning signal driver circuit 62. The video signal driver IC 63 is a driver that transmits a signal to the anode lead-out wiring 46, and includes a video signal driver circuit 64. Each driver circuit is connected to the controller 66 via the FPC 65. The controller 66 is a controller that controls display data to be displayed on the organic EL display 40.

なお、本発明においては、必要に応じて種々の変更が可能であって、たとえば、実施例1において、ブラックマトリクス5はなくともよい。   In the present invention, various modifications can be made as necessary. For example, in the first embodiment, the black matrix 5 is not necessary.

又、本発明においては、有機エレクトロルミネセンス素子からなる構造体が形成される基板にスイッチング素子を形成した基板を使用することも可能である。   In the present invention, it is also possible to use a substrate in which a switching element is formed on a substrate on which a structure including an organic electroluminescence element is formed.

さらに、実施例3において、スペーサ7を構成する部材は種々選択が可能で、カラーフィルタ5、ブラックマトリクス6、オーバーコート8あるいはパッシベーション層9のいずれから選ぶことができる。   Further, in Example 3, various members can be selected for the spacer 7, and can be selected from the color filter 5, the black matrix 6, the overcoat 8, and the passivation layer 9.

本発明は、有機EL画像表示に代表される画像表示装置に関して、携帯機器、TVなどのカラーディスプレイに使用できる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention relates to an image display device represented by organic EL image display, and can be used for color displays such as portable devices and TVs.

実施例1に使用される有機ELパネルの断面図である。1 is a cross-sectional view of an organic EL panel used in Example 1. FIG. 実施例2に使用される有機ELパネルの断面図である。6 is a cross-sectional view of an organic EL panel used in Example 2. FIG. 実施例3に使用される有機ELパネルの断面図である。6 is a cross-sectional view of an organic EL panel used in Example 3. FIG. 本実施の形態に使用される有機ELディスプレイの発光層が形成される基板の鳥瞰図である。It is a bird's-eye view of the board | substrate with which the light emitting layer of the organic electroluminescent display used for this Embodiment is formed. 本実施の形態に使用される有機ELディスプレイの概念図である。It is a conceptual diagram of the organic electroluminescent display used for this Embodiment. 本実施の形態に使用される自発光型表示装置の概念図である。It is a conceptual diagram of the self-light-emitting display device used in this embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1 有機ELパネル
2 基板
3 有機EL素子
4 封止基板
5 カラーフィルタ
6 ブラックマトリクス
7 スペーサ
8 オーバーコート
9 パッシベーション層
10 電極
20 ブラックマトリクス(表示領域外)
21 ブラックマトリクス(表示領域内)
40 有機ELディスプレイ
41 補助配線
42 電極
43 エッジカバー層
44 開口部
45 陰極引き出し配線
46 陽極引き出し配線
47 コンタクトパッド形成領域
48 シール材領域
49 画素拡大図
51 接着性樹脂層
60 自発光型表示装置
61 走査信号ドライバIC
62 走査信号ドライバ回路
63 映像信号ドライバIC
64 映像信号ドライバ回路
65 FPC
66 コントローラ
1 Organic EL Panel 2 Substrate 3 Organic EL Element 4 Sealing Substrate 5 Color Filter 6 Black Matrix 7 Spacer 8 Overcoat 9 Passivation Layer 10 Electrode 20 Black Matrix (Outside Display Area)
21 Black matrix (in the display area)
40 Organic EL Display 41 Auxiliary Wiring 42 Electrode 43 Edge Cover Layer 44 Opening 45 Cathode Leading Wiring 46 Anode Leading Wiring 47 Contact Pad Forming Area 48 Sealing Material Area 49 Pixel Enlarged View 51 Adhesive Resin Layer 60 Self-Emitting Display Device 61 Scanning Signal driver IC
62 Scanning Signal Driver Circuit 63 Video Signal Driver IC
64 Video signal driver circuit 65 FPC
66 controller

Claims (3)

少なくとも一つの基板と、
前記基板上に形成された有機エレクトロルミネセンスからなる構造体と、
前記有機エレクトロルミネセンスからなる構造体を封止する封止板と、を有し、
前記封止板は、少なくとも透光性を有する基板よりなり、かつ、前記有機エレクトロルミネセンスからなる構造体が形成される基板面と対向する前記封止板の基板面側には、少なくともカラーフィルタおよび第1のブラックマトリクスが形成され、該第1のブラックマトリクスは、その厚みが、前記カラーフィルタの厚みよりも厚く、さらに、前記構造体と、前記カラーフィルタとのギャップの最小値のおよそ10%乃至90%の厚みを少なくとも有し、前記基板との間に空隙を設けることにより、前記基板と接触しないように配置され、
表示領域外で前記カラーフィルタに積層され、前記基板に接触する第2のブラックマトリクスをさらに有し、
前記第2のブラックマトリクスを、前記構造体と前記カラーフィルタとのギャップを制御する、スペーサとして設けたことを特徴とする自発光型表示装置。
At least one substrate;
A structure made of organic electroluminescence formed on the substrate;
A sealing plate for sealing the structure made of the organic electroluminescence,
The sealing plate is made of at least a light-transmitting substrate, and at least a color filter is provided on a substrate surface side of the sealing plate facing a substrate surface on which a structure made of the organic electroluminescence is formed. and the first black matrix is formed, the first black matrix, the thickness of that is greater than the thickness of the color filter, further, said structure, the approximate minimum of the gap between the color filter It has a thickness of 10% to 90%, and is arranged so as not to contact the substrate by providing a gap between the substrate and
Laminated on the color filter outside the display area, further have a second black matrix in contact with the substrate,
A self-luminous display device, wherein the second black matrix is provided as a spacer for controlling a gap between the structure and the color filter .
前記第1のブラックマトリクスの厚みが、0.2μm乃至100μmであることを特徴とする請求項1に記載の自発光型表示装置。   The self-luminous display device according to claim 1, wherein the first black matrix has a thickness of 0.2 μm to 100 μm. 前記第2のブラックマトリクスは、前記基板と前記封止板との貼り合せの際に用いる接着剤が、前記構造体への浸入を防止する防護壁であることを特徴とする請求項1または2に記載の自発光型表示装置。 The second black matrix, the adhesive to be used in the bonding of the substrate and the sealing plate, according to claim 1 or 2, characterized in that a protective wall for preventing the entry of the said structure A self-luminous display device as described in 1.
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