JP4551670B2 - Mold manufacturing method - Google Patents
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Description
本発明は、被成形物を成形する成形型の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a mold for molding a workpiece.
従来、この種の成形型としては、ガラス状カーボンで形成された構成が知られている(例えば、特許文献1参照。)。
ところが、この成形型は、ガラス状カーボンにて形成されているため、プレス成形時の耐衝撃性が優れていない。 However, since this mold is formed of glassy carbon, the impact resistance during press molding is not excellent.
また、この種の成形型の型面は、研磨によって形成している。ところが、研磨加工の精度には限界があり、微細な形状への研磨ができないから、カメラレンズなどの比較的大きな成形品が対象となる。このため、例えば、液晶パネルに使用されるマイクロレンズなどに対応した微細な型面を研磨によって成形することは容易ではないという問題を有している。 Further, the mold surface of this type of mold is formed by polishing. However, there is a limit to the accuracy of the polishing process, and polishing to a fine shape is not possible. Therefore, relatively large molded products such as camera lenses are targeted. For this reason, for example, there is a problem that it is not easy to form a fine mold surface corresponding to a microlens used for a liquid crystal panel by polishing.
本発明は、このような点に鑑みなされたもので、微細な加工を容易にできる成形型の製造方法を提供することを目的とする。 This invention is made | formed in view of such a point, and it aims at providing the manufacturing method of the shaping | molding die which can make a fine process easy.
請求項1記載の成形型の製造方法は、被成形物を成形する成形型の製造方法であって、少なくともガラス状カーボンおよびカーボンナノファイバを有する型材料の表面を、型材料の最も深く加工する部分からこの型材料の表面側へと、所定の深さ毎に段階的に集束イオンビームを加工領域を広げつつ照射することにより加工して前記成形型を製造するものである。 The method for manufacturing a mold according to claim 1 is a method for manufacturing a mold for molding a molding object, and the surface of the mold material having at least glassy carbon and carbon nanofibers is processed deepest in the mold material. The mold is manufactured by irradiating a focused ion beam from a portion to the surface side of the mold material stepwise at a predetermined depth while expanding a processing region .
そして、少なくともガラス状カーボンおよびカーボンナノファイバを有する型材料の表面を、この型材料の最も深く加工する部分から型材料の表面側へと、所定の深さ毎に段階的に集束イオンビームを加工領域を広げつつ照射することにより加工して成形型を製造することにより、この型材料を加工する際の深さが異なる形状であっても、この型材料から製造される成形型の表面を滑らかに成形できるので、この成形型の微細な加工が容易になる。 Then, the surface of the mold material having at least glassy carbon and carbon nanofibers is processed in steps from the deepest portion of the mold material to the surface side of the mold material in steps at predetermined depths. By processing by irradiating while expanding the area and manufacturing the mold, the surface of the mold manufactured from this mold material can be smoothed even if the mold material has a different depth Therefore, fine processing of this mold becomes easy.
請求項2記載の成形型の製造方法は、請求項1記載の成形型の製造方法において、型材料の表面に対して略垂直に集束イオンビームを照射するものである。 According to a second aspect of the present invention, there is provided a mold manufacturing method according to the first aspect, wherein the focused ion beam is irradiated substantially perpendicularly to the surface of the mold material.
そして、型材料の少なくとも表面を加工する際に、この型材料の表面に対して略垂直に集束イオンビームを照射して成形型を製造することにより、この型材料から製造される成形型の表面をより滑らかに成形できるから、この成形型の微細な加工がより容易になる。 Then, when processing at least the surface of the mold material, the surface of the mold manufactured from the mold material is manufactured by irradiating the focused ion beam substantially perpendicularly to the surface of the mold material to manufacture the mold. Can be molded more smoothly, so that fine processing of the mold becomes easier .
請求項3記載の成形型の製造方法は、請求項1または2記載の成形型の製造方法において、集束イオンビームの照射位置からこの集束イオンビームが照射される型材料の表面までの距離の相違に対応させて、この集束イオンビームの照射強度を変化させるものである。 The method for manufacturing a mold according to claim 3 is the method for manufacturing a mold according to claim 1 or 2, wherein the distance from the irradiation position of the focused ion beam to the surface of the mold material irradiated with the focused ion beam is different. The irradiation intensity of the focused ion beam is changed corresponding to the above.
そして、型材料の少なくとも表面を加工する際に、集束イオンビームの照射位置からこの集束イオンビームが照射される型材料の表面までの距離の相違に対応させて、この集束イオンビームの照射強度を変化させることにより、この集束イオンビームの照射位置から、この集束イオンビームが照射される型材料の表面までの距離が相違する場合であっても、この型材料の表面を均一に加工できるので、この型材料から製造される成形型の表面を滑らかに成形できるため、この成形型の微細な加工がより容易になる。 Then, when processing at least the surface of the mold material, the irradiation intensity of the focused ion beam is set corresponding to the difference in distance from the irradiation position of the focused ion beam to the surface of the mold material irradiated with the focused ion beam. By changing, even if the distance from the irradiation position of the focused ion beam to the surface of the mold material irradiated with the focused ion beam is different, the surface of the mold material can be processed uniformly. Since the surface of a mold manufactured from this mold material can be molded smoothly, fine processing of the mold becomes easier.
請求項4記載の成形型の製造方法は、請求項3記載の成形型の製造方法において、予め作成した型材料の加工データに基づいて、集束イオンビームの照射強度を変化させるものである。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a mold according to the third aspect of the present invention, wherein the irradiation intensity of the focused ion beam is changed based on processing data of the mold material prepared in advance.
そして、予め作成した型材料の加工データに基づいて、集束イオンビームの照射強度を変化させることにより、この集束イオンビームの照射位置から、この集束イオンビームが照射される型材料の表面までの距離が相違することによる、この型材料の加工程度の相違を防止できる。したがって、この型材料から製造される成形型の表面をより容易に滑らかに成形できるため、この成形型の微細な加工がより容易になる。 Then, by changing the irradiation intensity of the focused ion beam based on the processing data of the mold material prepared in advance, the distance from the irradiation position of the focused ion beam to the surface of the mold material irradiated with the focused ion beam It is possible to prevent the difference in the processing level of the mold material due to the difference between the two. Therefore, since the surface of the mold manufactured from the mold material can be more easily and smoothly molded, fine processing of the mold becomes easier.
請求項5記載の成形型の製造方法は、請求項3記載の成形型の製造方法において、集束イオンビームにて型材料を加工した結果に基づいて、この型材料を加工する際の前記集束イオンビームの照射強度を変化させるものである。 The method for manufacturing a mold according to claim 5 is the method for manufacturing a mold according to claim 3 , wherein the focused ions when the mold material is processed based on a result of processing the mold material with a focused ion beam. It changes the irradiation intensity of the beam.
そして、集束イオンビームにて型材料を加工した結果に基づいて、この型材料を加工する際の集束イオンビームの照射強度を変化させることにより、この集束イオンビームの照射位置から、この集束イオンビームが照射される型材料の表面までの距離が相違することによる、この型材料の加工程度の相違を防止できる。したがって、この型材料から製造される成形型の表面をより容易に滑らかに成形できるため、この成形型の微細な加工がより容易になる。 Then, based on the result of processing the mold material with the focused ion beam, by changing the irradiation intensity of the focused ion beam when processing the mold material, the focused ion beam is changed from the irradiation position of the focused ion beam. It is possible to prevent a difference in the processing level of the mold material due to a difference in the distance to the surface of the mold material irradiated. Therefore, since the surface of the mold manufactured from the mold material can be more easily and smoothly molded, fine processing of the mold becomes easier.
請求項6記載の成形型の製造方法は、請求項3記載の成形型の製造方法において、集束イオンビームの照射強度を測定しながら、この集束イオンビームの照射強度を変化させるものである。 According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a method for producing a mold according to the third aspect, wherein the irradiation intensity of the focused ion beam is changed while the irradiation intensity of the focused ion beam is measured.
そして、集束イオンビームの照射強度を測定しながら、この集束イオンビームの照射強度を変化させることにより、この集束イオンビームの照射位置から、この集束イオンビームが照射される型材料の表面までの距離が相違することによる、この型材料の加工程度の相違を防止できる。したがって、この型材料から製造される成形型の表面をより容易に滑らかに成形できるため、この成形型の微細な加工がより容易になる。 Then, by measuring the irradiation intensity of the focused ion beam and changing the irradiation intensity of the focused ion beam, the distance from the irradiation position of the focused ion beam to the surface of the mold material irradiated with the focused ion beam It is possible to prevent the difference in the processing level of the mold material due to the difference between the two. Therefore, since the surface of the mold manufactured from the mold material can be more easily and smoothly molded, fine processing of the mold becomes easier.
請求項7記載の成形型の製造方法は、請求項1ないし6いずれか記載の成形型の製造方法において、カーボンナノファイバは、気相成長炭素繊維であるものである。 The method for producing a mold according to claim 7 is the method for producing a mold according to any one of claims 1 to 6, wherein the carbon nanofibers are vapor-grown carbon fibers.
そして、少なくともガラス状カーボンおよび気相成長炭素繊維を有する型材料の表面とすることにより、この型材料の表面がより硬質になる。 And the surface of this type | mold material becomes harder by setting it as the surface of the type | mold material which has at least glassy carbon and a vapor growth carbon fiber.
請求項8記載の成形型の製造方法は、請求項1ないし6いずれか記載の成形型の製造方法において、カーボンナノファイバは、カップスタック型炭素繊維であるものである。 The method for producing a mold according to claim 8 is the method for producing a mold according to any one of claims 1 to 6, wherein the carbon nanofiber is a cup-stacked carbon fiber.
そして、少なくともガラス状カーボンおよびカップスタック型炭素繊維を有する型材料の表面とすることにより、この型材料の表面がより硬質になる。 And the surface of this type | mold material becomes harder by setting it as the surface of the type | mold material which has at least glassy carbon and a cup stack type | mold carbon fiber.
請求項1記載の成形型の製造方法によれば、少なくともガラス状カーボンおよびカーボンナノファイバを有する型材料の表面を、型材料の最も深く加工する部分からこの型材料の表面側へと、所定の深さ毎に段階的に集束イオンビームを加工領域を広げつつ照射することにより加工して成形型を製造することにより、この成形型の表面を滑らかに成形できるので、この成形型の微細な加工を容易にできる。 According to the method for manufacturing a mold according to claim 1, the surface of the mold material having at least glassy carbon and carbon nanofibers is transferred from the deepest portion of the mold material to the surface side of the mold material. The surface of the mold can be molded smoothly by processing by irradiating the focused ion beam stepwise for each depth while expanding the processing area, so that the surface of the mold can be molded smoothly. Can be easily done.
請求項2記載の成形型の製造方法によれば、請求項1記載の成形型の製造方法の効果に加え、型材料を加工する際に、この型材料の表面に対して略垂直に集束イオンビームを照射することにより、この型材料から製造される成形型の表面をより滑らかに成形できるから、この成形型の微細な加工をより容易にできる。 According to the method for manufacturing a mold according to claim 2, in addition to the effect of the method for manufacturing the mold according to claim 1, when processing the mold material, the focused ions are substantially perpendicular to the surface of the mold material. By irradiating the beam, the surface of the mold manufactured from the mold material can be more smoothly molded, so that fine processing of the mold can be facilitated .
請求項3記載の成形型の製造方法によれば、請求項1または2記載の成形型の製造方法の効果に加え、型材料を加工する際に、集束イオンビームの照射位置からこの集束イオンビームが照射される型材料の表面までの距離の相違に対応させて、この集束イオンビームの照射強度を変化させることにより、この型材料の表面を均一に加工できるので、この型材料から製造される成形型の表面を滑らかに成形でき、この成形型の微細な加工をより容易にできる。 According to the method of manufacturing the mold according to claim 3, in addition to the effect of the method of manufacturing the mold according to claim 1 or 2 wherein, when processing the mold material, the focused ion beam from the irradiation position of the focused ion beam The surface of the mold material can be uniformly processed by changing the irradiation intensity of the focused ion beam in accordance with the difference in the distance to the surface of the mold material irradiated with the The surface of the mold can be formed smoothly, and fine processing of the mold can be facilitated.
請求項4記載の成形型の製造方法によれば、請求項3記載の成形型の製造方法の効果に加え、予め作成した型材料の加工データに基づいて、集束イオンビームの照射強度を変化させることにより、この集束イオンビームの照射位置から、この集束イオンビームが照射される型材料の表面までの距離が相違することによる、この型材料の加工程度の相違を防止できるので、この型材料から製造される成形型の表面をより容易に滑らかに成形でき、この成形型の微細な加工をより容易にできる。 According to the method for manufacturing a mold according to claim 4 , in addition to the effect of the method for manufacturing a mold according to claim 3 , the irradiation intensity of the focused ion beam is changed based on the processing data of the mold material prepared in advance. Therefore, the difference in the processing level of the mold material due to the difference in the distance from the irradiation position of the focused ion beam to the surface of the mold material irradiated with the focused ion beam can be prevented. The surface of the mold to be manufactured can be more easily and smoothly molded, and fine processing of the mold can be facilitated.
請求項5記載の成形型の製造方法によれば、請求項3記載の成形型の製造方法の効果に加え、集束イオンビームにて型材料を加工した結果に基づいて、この型材料を加工する際の集束イオンビームの照射強度を変化させることにより、この集束イオンビームの照射位置から、この集束イオンビームが照射される型材料の表面までの距離が相違することによる、この型材料の加工程度の相違を防止できるので、この型材料から製造される成形型の表面をより容易に滑らかに成形でき、この成形型の微細な加工をより容易にできる。 According to the method for manufacturing a mold according to claim 5 , in addition to the effect of the method for manufacturing a mold according to claim 3 , the mold material is processed based on the result of processing the mold material with a focused ion beam. By changing the irradiation intensity of the focused ion beam, the distance from the irradiation position of the focused ion beam to the surface of the mold material irradiated with the focused ion beam is different. Therefore, the surface of the mold manufactured from this mold material can be more easily and smoothly molded, and the fine processing of the mold can be facilitated.
請求項6記載の成形型の製造方法によれば、請求項3記載の成形型の製造方法の効果に加え、集束イオンビームの照射強度を測定しながら、この集束イオンビームの照射強度を変化させることにより、この集束イオンビームの照射位置から、この集束イオンビームが照射される型材料の表面までの距離が相違することによる、この型材料の加工程度の相違を防止できるので、この型材料から製造される成形型の表面をより容易に滑らかに成形でき、この成形型の微細な加工をより容易にできる。 According to the method for manufacturing a mold according to claim 6 , in addition to the effect of the method for manufacturing the mold according to claim 3 , the irradiation intensity of the focused ion beam is changed while measuring the irradiation intensity of the focused ion beam. Therefore, the difference in the processing level of the mold material due to the difference in the distance from the irradiation position of the focused ion beam to the surface of the mold material irradiated with the focused ion beam can be prevented. The surface of the mold to be manufactured can be more easily and smoothly molded, and fine processing of the mold can be facilitated.
請求項7記載の成形型の製造方法によれば、請求項1ないし6いずれか記載の成形型の製造方法の効果に加え、少なくともガラス状カーボンおよび気相成長炭素繊維を有する型材料の表面とすることにより、この型材料の表面をより硬質にできる。 According to the method of manufacturing the mold according to claim 7, in addition to the effects of claims 1 to 6 a method of manufacturing the mold according to any one, the surface of the mold material having at least glassy carbon and the vapor-grown carbon fibers By doing so, the surface of this mold material can be made harder.
請求項8記載の成形型の製造方法によれば、請求項1ないし6いずれか記載の成形型の製造方法の効果に加え、少なくともガラス状カーボンおよびカップスタック型炭素繊維を有する型材料の表面とすることにより、この型材料の表面をより硬質にできる。 According to the method for producing a mold according to claim 8 , in addition to the effect of the method for producing a mold according to any one of claims 1 to 6 , the surface of the mold material having at least glassy carbon and cup-stacked carbon fibers, By doing so, the surface of this mold material can be made harder.
以下、本発明の成形型の一実施の形態を図1ないし図7を参照して説明する。 Hereinafter, an embodiment of a mold according to the present invention will be described with reference to FIGS.
図1ないし図7において、1は成形型としての光学デバイス製造用のプレス型1であり、このプレス型1は、ガラスを含む材料、具体的にはガラス材料を融解して、被成形物としての光学素子である、例えばマイクロレンズやマイクロチャネルなどの光学デバイスを高温プレス成形にて製造する成形型である。このとき、このプレス型1は、一辺が約7μm程度のマイクロレンズを製造する。 1 to 7, reference numeral 1 denotes a press die 1 for manufacturing an optical device as a molding die. The press die 1 melts a material containing glass, specifically, a glass material, and forms a molding object. This is a molding die for manufacturing an optical device such as a microlens or a microchannel by high-temperature press molding. At this time, the press die 1 manufactures a microlens having a side of about 7 μm.
なお、このプレス型1では、軟化状態にしたガラス材料による高温プレス成形で光学デバイスをも製造できる。さらに、このプレス型1は、ガラス状カーボン(Glassy Carbon:GC)と、少なくともカーボンナノファイバ(Carbon Nano Fibers:CNF)である気相成長炭素繊維(Vapor Grown Carbon Fibers:VGCF)を含有した複合材である型材料としての型材2にて成形されている。すなわち、このプレス型1には、気相成長炭素繊維がコンポジット材として含有されている。 In this press die 1, an optical device can also be manufactured by high-temperature press molding with a softened glass material. Furthermore, this press die 1 is a composite material containing glassy carbon (GC) and at least vapor grown carbon fibers (VGCF) which are carbon nanofibers (CNF). It is molded by a mold material 2 as a mold material. That is, this press die 1 contains vapor grown carbon fiber as a composite material.
ここで、このガラス状カーボンは、結晶学的にはアモルファス、すなわち非晶質な構造を示す炭素の1つである。すなわち、このガラス状カーボンは、熱硬化性樹脂の焼成炭化によって得られる無定形で均質緻密な組織を有する高強度の炭素質材料である。一方、気相成長炭素繊維は、気相法によって成長させて合成された高結晶性のカーボンナノファイバである。すなわち、この気相成長炭素繊維は、鉄(Fe)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)などの金属の微粒子を触媒として、炭化水素ガスを熱分解して得られるもので、例えば10nm前後の鉄微粒子を触媒として、ベンゼン蒸気や、メタンガスを1100℃付近の温度で熱分解して得られ、網面が繊維軸に対して平行に配向して年輪状を呈し、極めて高い引張り強さおよび引張り弾性率を有している。 Here, the glassy carbon is one of carbons that are amorphous in crystallography, that is, show an amorphous structure. That is, this glassy carbon is a high-strength carbonaceous material having an amorphous, homogeneous and dense structure obtained by firing carbonization of a thermosetting resin. On the other hand, the vapor grown carbon fiber is a highly crystalline carbon nanofiber synthesized by growing by a vapor phase method. That is, this vapor grown carbon fiber is obtained by thermally decomposing hydrocarbon gas using fine particles of metal such as iron (Fe), cobalt (Co), nickel (Ni) as a catalyst. It is obtained by pyrolyzing benzene vapor or methane gas at a temperature of around 1100 ° C using iron fine particles as a catalyst. The net surface is oriented parallel to the fiber axis and has an annual ring shape. Extremely high tensile strength and tensile strength. Has elastic modulus.
したがって、これらガラス状カーボンおよび気相成長炭素繊維の複合材である型材2から製造されたプレス型1は、強度、硬度などの材質特性に優れており、ガラス状カーボン特有の緻密で表面が平滑な性質を有している。すなわち、このプレス型1は、高強度および高硬度の材質特性によって、プレスの衝撃によるチッピングや割れの発生を抑制し、また型表面への傷も付きにくくなる一方、緻密で表面平滑な材質性状から、溶融ガラスとの濡れ性が低く、反応性もほとんどなく、冷却固化したガラスとの離型性に優れた性能を発揮する。 Therefore, the press die 1 manufactured from the mold material 2 which is a composite material of these glassy carbon and vapor grown carbon fiber is excellent in material properties such as strength and hardness, and has a fine and smooth surface peculiar to glassy carbon. It has unique properties. In other words, the press die 1 has high strength and high hardness material properties to suppress the occurrence of chipping and cracking due to the impact of the press, and it is difficult for the surface of the die to be damaged. It has low wettability with molten glass, almost no reactivity, and exhibits excellent performance in releasability from cooled and solidified glass.
次に、上記一実施の形態の成形型の製造方法を説明する。 Next, the manufacturing method of the shaping | molding die of one said embodiment is demonstrated.
まず、図1および図2に示すように、予め作成したCAD(Computer Aided Design)データ11に基づいて、このCADデータ11を水平に均等な間隔で40分割にスライスしたBMP(bit map)データ12を作成する。このとき、このCADデータ11には、上面視矩形状であり断面凹弧状の複数、例えば12個の凹部3が設けられている。これら凹部3は、縦方向および横方向それぞれに沿ってマトリクス状に形成されており、マイクロレンズに対応した形状に設けられている。 First, as shown in FIGS. 1 and 2, based on CAD (Computer Aided Design) data 11 prepared in advance, BMP (bit map) data 12 obtained by slicing the CAD data 11 horizontally into 40 divisions at equal intervals. Create At this time, the CAD data 11 is provided with a plurality of, for example, twelve recesses 3 having a rectangular shape in a top view and a cross-sectional concave arc shape. These recesses 3 are formed in a matrix along the vertical direction and the horizontal direction, respectively, and are provided in a shape corresponding to the microlens.
次いで、40分割した1番先端側のBMPデータ12に基づいて、型材2の表面に集束イオンビーム(Focused Ion Beam:FIB)Bを照射する。ここで、この集束イオンビームBは、型材2の表面に対して直角に近い照射角度、例えばこの型材2の表面に対して垂直な位置から±5゜の範囲で照射される。このとき、図3および図4に示すように、この型材2の表面に形成される凹部3のうちマイクロレンズの頂点部分、すなわち、型材2の最も深く加工しなければならない部分である略点状の領域4に対して略垂直に集束イオンビームBを略点状に照射して、この型材2を加工する(ステップ1)。 Next, a focused ion beam (FIB) B is applied to the surface of the mold material 2 based on the 40-divided BMP data 12 on the front end side. Here, the focused ion beam B is irradiated at an irradiation angle close to a right angle to the surface of the mold material 2, for example, within a range of ± 5 ° from a position perpendicular to the surface of the mold material 2. At this time, as shown in FIGS. 3 and 4, the concave portion 3 formed on the surface of the mold member 2 has a substantially dot-like shape that is the apex portion of the microlens, that is, the deepest portion of the mold member 2 that must be processed. The mold material 2 is processed by irradiating the focused ion beam B in a substantially point shape substantially perpendicular to the region 4 (step 1).
言い換えると、この集束イオンビームBは、型材2の最も深く加工すべき領域4に対して均一に照射されて、この最も深く加工すべき領域4を所定の深さにスパッタ加工する。このとき、この集束イオンビームBの照射位置が固定されているとともに、この集束イオンビームBの照射強度、すなわちパワーも固定されている。 In other words, the focused ion beam B is uniformly irradiated to the deepest region 4 to be processed of the mold material 2, and the deepest region 4 to be processed is sputter processed to a predetermined depth. At this time, the irradiation position of the focused ion beam B is fixed, and the irradiation intensity, that is, the power of the focused ion beam B is also fixed.
この後、図5ないし図12に示すように、40分割したBMPデータ12のうち、先端側の2枚目から40枚目のBMPデータ12に基づいて、ステップ1で加工した部分を中心として、集束イオンビームBの照射によって加工すべき範囲である領域4を円形状に徐々に広げながら、型材2の表面に対して集束イオンビームBを操作して略垂直に照射して、この型材2を加工する(ステップ2からステップ40)。 Thereafter, as shown in FIGS. 5 to 12, based on the second to 40th BMP data 12 on the front end side among the 40 divided BMP data 12, the portion processed in Step 1 is the center, While the region 4 to be processed by the irradiation of the focused ion beam B is gradually expanded into a circular shape, the focused ion beam B is applied to the surface of the mold material 2 to irradiate the mold material 2 substantially vertically. Processing (step 2 to step 40).
すなわち、型材2の加工すべき領域4の面積が小さい方から大きい方へと段階的に集束イオンビームBを照射させる。このとき、各ステップでの集束イオンビームBによる加工に際しては、これら各ステップ以前の全ステップにて加工した領域4に対しても集束イオンビームBを照射させるため、数回に亘って集束イオンビームBが照射された領域4が徐々に深くスパッタ加工される。 That is, the focused ion beam B is irradiated stepwise from the smaller area 4 to the larger area 4 of the mold 2 to be processed. At this time, when processing with the focused ion beam B in each step, the focused ion beam B is also irradiated to the region 4 processed in all the steps before each step. The region 4 irradiated with B is gradually deeply sputtered.
言い換えると、型材2の加工すべき領域4を所定量の深さ、例えば0.2μm毎に分けて、これら領域4の最も深く加工すべき領域4から順番に段階的に集束イオンビームBを複数回に亘って照射してスキャンする。このとき、この集束イオンビームBの一回の照射によって型材2の表面が所定の深さにスパッタ加工される。したがって、型材2の最も深く加工される領域4の深さが5μmの場合には、この最も深く加工される領域4には、集束イオンビームBが計25回照射されてスキャンされる。 In other words, the region 4 to be processed of the mold member 2 is divided into a predetermined amount of depth, for example, every 0.2 μm, and a plurality of focused ion beams B are sequentially stepped from the deepest region 4 to be processed. Irradiate and scan multiple times. At this time, the surface of the mold 2 is sputtered to a predetermined depth by one irradiation of the focused ion beam B. Therefore, when the depth of the deepest processed region 4 of the mold 2 is 5 μm, the deepest processed region 4 is irradiated with the focused ion beam B a total of 25 times and scanned.
このとき、この集束イオンビームBを複数回に亘って照射する際に、この集束イオンビームBにて前回加工した領域4の周縁部5に再度集束イオンビームBが照射されてスパッタされるので、この前回加工した領域4の周縁部5の角が丸められてなだらかになる。したがって、型材2を深く加工する部分から段階的に複数回に亘って集束イオンビームBを照射してスキャンすることにより、この集束イオンビームBのスキャン毎に形成される型材2の加工面の周縁部5が滑らかになり、この型材2の最終的な加工面がより滑らかになる。 At this time, when the focused ion beam B is irradiated a plurality of times, the focused ion beam B is again irradiated and sputtered on the peripheral portion 5 of the region 4 previously processed with the focused ion beam B. The corners of the peripheral edge 5 of the previously processed region 4 are rounded and become gentle. Therefore, by irradiating and scanning the focused ion beam B a plurality of times stepwise from a portion where the mold material 2 is deeply processed, the peripheral edge of the processing surface of the mold material 2 formed for each scan of the focused ion beam B The part 5 becomes smooth, and the final processed surface of the mold 2 becomes smoother.
さらに、図9および図10に示すように、集束イオンビームBを照射すべき領域4を円形状に広げていった結果、この領域4に隣設した領域4から所定距離間隙を介した部分まで加工した場合には、この隣設した領域4に対して加工領域の周縁部5が直線状となるように加工していく。このとき、この領域4の直線状に加工した周縁部5は、集束イオンビームBを照射する領域4を円形状に徐々に拡張した状態に対応する円弧状に加工される。 Further, as shown in FIGS. 9 and 10, as a result of expanding the region 4 to be irradiated with the focused ion beam B into a circular shape, from the region 4 adjacent to the region 4 to a portion through a predetermined distance gap. When the processing is performed, the processing is performed so that the peripheral portion 5 of the processing region is linear with respect to the adjacent region 4. At this time, the peripheral edge portion 5 processed into a linear shape in the region 4 is processed into an arc shape corresponding to a state in which the region 4 irradiated with the focused ion beam B is gradually expanded into a circular shape.
この後、集束イオンビームBを照射すべき領域4をさらに広げていくと、図11および図12に示すように、この領域4に隣設するそれぞれの領域4に対して平行な矩形状に集束イオンビームBを照射してスキャンすることとなる。この結果、ステップ40まで集束イオンビーム加工を施すことにより、CADデータ11に対応したマイクロレンズ用の型面形状である凹部3がマトリクス状に形成されたプレス型1が作製されて製造される。 Thereafter, when the region 4 to be irradiated with the focused ion beam B is further expanded, as shown in FIGS. 11 and 12, the region 4 adjacent to this region 4 is focused in a rectangular shape parallel to each region 4. The ion beam B is irradiated and scanned. As a result, by performing focused ion beam processing up to step 40, the press die 1 in which the concave portions 3 which are the mold surface shapes for the microlens corresponding to the CAD data 11 are formed in a matrix is manufactured and manufactured.
上述したように、上記一実施の形態によれば、ガラス状カーボンおよび気相成長炭素繊維の複合材である型材2からプレス型1を製造することにより、このプレス型1を高強度および高硬度にできるが、このプレス型1を研磨やレーザなどで加工した場合には、このプレス型1の加工面の精度に限界があり、微細な形状への研磨ができず、このプレス型1の表面の微細な加工が容易ではないから、カメラレンズなどの比較的大きな被成形物が対象となる。このため、例えば液晶パネルに使用されるマイクロレンズなどに対応した微細な型面であるプレス面を成形することが容易ではない。 As described above, according to the above-described embodiment, the press die 1 is manufactured from the mold material 2 that is a composite material of glassy carbon and vapor grown carbon fiber, whereby the press die 1 has high strength and high hardness. However, when this press die 1 is processed by polishing or laser, there is a limit to the accuracy of the processed surface of this press die 1 and polishing to a fine shape is impossible. Therefore, a relatively large object such as a camera lens is an object. For this reason, for example, it is not easy to mold a press surface which is a fine mold surface corresponding to a microlens or the like used for a liquid crystal panel.
そこで、マイクロレンズなどの比較的小さな被成形物のプレス型1を製造する場合には、微細なスパッタ加工が可能な集束イオンビームBを型材2の表面に照射して、この型材2を加工する。この結果、このプレス型1の表面の加工面であるプレス面を滑らかに加工成形でき、このプレス面の平滑度を向上できる。したがって、プレス成形時の耐衝撃性に優れたプレス型1の微細な加工が容易にできるから、マイクロレンズなどのミクロンサイズの光学デバイスの型材2に適している。よって、精度の高いプレス型1を製造できるから、精度の高いマイクロレンズなどの光学デバイスを得ることができる。 Therefore, when manufacturing a press mold 1 of a relatively small object such as a microlens, the surface of the mold material 2 is irradiated with a focused ion beam B that can be finely sputtered to process the mold material 2. . As a result, the press surface which is the processing surface of the surface of the press die 1 can be smoothly processed and formed, and the smoothness of the press surface can be improved. Therefore, since the fine processing of the press die 1 having excellent impact resistance during press molding can be easily performed, the press die 1 is suitable for the mold material 2 of a micron-sized optical device such as a microlens. Therefore, since the press mold 1 with high accuracy can be manufactured, an optical device such as a microlens with high accuracy can be obtained.
このとき、型材2の表面に対してある程度の照射角度で集束イオンビームBを照射する場合よりも、この型材2の表面に対して略垂直、具体的には型材2の表面に対して垂直な位置から±5゜の範囲内で集束イオンビームBを照射させることにより、型材2の表面をより滑らかに加工成形でき、この型材2の表面に形成されたプレス面の平滑度をより向上できるから、この型材2から製造されるプレス型1の微細な加工をより容易にできる。 At this time, the surface of the mold material 2 is substantially perpendicular to the surface of the mold material 2, more specifically perpendicular to the surface of the mold material 2 than when the focused ion beam B is irradiated at a certain irradiation angle to the surface of the mold material 2. By irradiating the focused ion beam B within a range of ± 5 ° from the position, the surface of the mold material 2 can be processed and molded more smoothly, and the smoothness of the press surface formed on the surface of the mold material 2 can be further improved. Fine processing of the press die 1 manufactured from the mold material 2 can be facilitated.
さらに、型材2の表面に形成される凹部3のうちマイクロレンズの頂点部分、すなわち型材2の最も深く加工しなければならない領域4から段階的に集束イオンビームBを照射して、この型材2の表面にプレス面となる凹部3を形成する。この結果、この型材2の加工すべき領域4の面積が小さい部分から大きい部分へと段階的に集束イオンビームBを照射してスキャンして加工することにより、各段階での加工面の周縁部5の角がスパッタ加工されて丸められなだらかになるので、型材2の加工面をより滑らかにできる。 Further, the focused ion beam B is irradiated in a stepwise manner from the apex portion of the microlens in the concave portion 3 formed on the surface of the mold material 2, that is, from the region 4 where the mold material 2 must be processed deepest. A recess 3 serving as a press surface is formed on the surface. As a result, the peripheral portion of the processing surface at each stage is obtained by irradiating and scanning the focused ion beam B in a stepwise manner from a small area to a large area of the region 4 to be processed of the mold material 2. Since the 5 corners are sputtered and rounded gently, the processed surface of the mold 2 can be made smoother.
よって、この型材2を加工する深さが場所によって異なる凹弧状の凹部3であっても、この型材2から製造されるプレス型1それぞれの凹部3の内周面を滑らかに成形できるので、このプレス型1の微細な加工をより容易にできる。これに対し、型材2の加工すべき領域4の面積が大きい部分から小さい部分へと段階的に集束イオンビームBを照射して、この型材2の表面を加工した場合には、各段階での加工面の周縁部が段状のまま残ってしまうから、この型材2の表面を滑らかに加工できない。 Therefore, even if it is the concave arc-shaped recessed part 3 from which the depth which processes this mold material 2 changes with places, since the inner peripheral surface of each recessed part 3 of the press die 1 manufactured from this mold material 2 can be shape | molded smoothly, this Fine processing of the press die 1 can be facilitated. On the other hand, when the focused ion beam B is irradiated stepwise from a large area to a small area of the region 4 to be processed of the mold material 2 to process the surface of the mold material 2, Since the peripheral portion of the processed surface remains stepped, the surface of the mold material 2 cannot be processed smoothly.
なお、上記一実施の形態では、照射位置および照射強度のそれぞれが固定された集束イオンビームBで型材2の表面を加工したが、この型材2を加工する際に、集束イオンビームBの照射位置からこの集束イオンビームBが照射される型材2の表面までの距離の相違に対応させて、この集束イオンビームBの照射強度を変化させることもできる。 In the above embodiment, the surface of the mold member 2 is processed with the focused ion beam B in which the irradiation position and the irradiation intensity are fixed. When the mold member 2 is processed, the irradiation position of the focused ion beam B is processed. The irradiation intensity of the focused ion beam B can be changed in accordance with the difference in distance from the surface of the mold material 2 irradiated with the focused ion beam B.
具体的な構成としては、予め作成した型材2の加工データであるCADデータ11に基づいて、このCADデータ11を確認しながら集束イオンビームBの照射強度をその都度変化させたり、集束イオンビームBにて任意の型材2を加工した結果であるアフターデータとしてテーブルデータを作成し、このテーブルデータに基づいて、新たな型材2を加工する際の集束イオンビームBの照射強度を変化させたり、集束イオンビームBの照射強度をモニタリングして測定しながら、この集束イオンビームBの照射強度を適宜変化させたりする。 Specifically, the irradiation intensity of the focused ion beam B is changed each time while checking the CAD data 11 based on the CAD data 11 which is the processing data of the mold 2 prepared in advance, or the focused ion beam B Table data is created as after-data, which is the result of processing an arbitrary mold material 2 at, and based on this table data, the irradiation intensity of the focused ion beam B when processing a new mold material 2 is changed or focused. While monitoring and measuring the irradiation intensity of the ion beam B, the irradiation intensity of the focused ion beam B is appropriately changed.
この結果、集束イオンビームBの照射位置から、この集束イオンビームBが照射される型材2の表面までの距離が相違する場合であっても、この型材2の加工面である凹部3の内周面を均一かつ面一に加工できる。したがって、この型材2から製造されるプレス型1の表面であるプレス面を滑らかに成形でき、このプレス面の平滑度を向上できるため、このプレス型1の微細な加工をより容易にできる。 As a result, even when the distance from the irradiation position of the focused ion beam B to the surface of the mold material 2 irradiated with the focused ion beam B is different, the inner periphery of the recess 3 that is the processing surface of the mold material 2 The surface can be processed uniformly and flush. Therefore, since the press surface which is the surface of the press die 1 manufactured from this mold material 2 can be formed smoothly and the smoothness of the press surface can be improved, fine processing of the press die 1 can be facilitated.
さらに、マイクロレンズなどの光学デバイス以外の被成形物として、例えばマイクロタスや、マイクロチャネル、飲み込んで人体の内部に入れた状態で外部からの電磁波によって操作するカプセル型の内視鏡のレンズなどであっても、対応させて用いることができる。 Furthermore, the molded product other than the optical devices such as microlenses, for example, a micro motor scan, microchannel, swallowed the capsule endoscope to manipulate the electromagnetic waves from the outside in a state placed in the interior of the human body such as lenses However, it can be used in correspondence.
ここで、上述したプレス型1の製造方法は、いわゆるミクロン(μm)サイズのレンズの成形型の加工に適しているが、いわゆるミリ(mm)サイズの比較的大きなレンズの型材2の加工には適していない。ところが、この場合には、型材2の表面をレーザや切削などにてある程度加工してから、この型材2の加工面に集束イオンビームBを照射して、この型材2の加工面を加工することによって、大きなレンズ用の型材2であっても対応させて用いることができる。 Here, the manufacturing method of the press die 1 described above is suitable for processing a so-called micron (μm) size lens mold, but for processing a so-called millimeter (mm) size relatively large lens mold 2. Not suitable. In this case, however, the surface of the mold 2 is processed to some extent by laser or cutting, and then the processed surface of the mold 2 is irradiated with the focused ion beam B to process the processed surface of the mold 2. Thus, even a large lens mold 2 can be used correspondingly.
さらに、全体をガラス状カーボンと気相成長炭素繊維との複合材にて成形したプレス型1について説明したが、少なくともこのプレス型1にてプレス成形する際にガラス材料が接触する表面、すなわち内表面のみが複合材にて成形されていれば、上記一実施の形態と同様の作用効果を奏することができる。例えば、シリコンカーバイトや酸化アルミナなどのセラミック材あるいはタングステンカーバイトなどから構成される基体に対し、ガラス状カーボンと気相成長炭素繊維との複合材を積層し、この積層した部分にプレス面を形成してもよい。なお、融解させたガラス材料あるいは軟化状態にしたガラス材料であってもプレス型1を対応させることにより用いることができる。 Furthermore, the press die 1 formed entirely with a composite material of glassy carbon and vapor grown carbon fiber has been described, but at least the surface with which the glass material comes into contact with the press die 1, that is, the inner If only the surface is formed of the composite material, the same effects as those of the above-described embodiment can be obtained. For example, a composite material of glassy carbon and vapor-grown carbon fiber is laminated on a substrate composed of a ceramic material such as silicon carbide or alumina oxide or tungsten carbide, and a press surface is formed on the laminated portion. It may be formed. Note that even a melted glass material or a softened glass material can be used by making the press die 1 correspond.
次に、上記一実施の形態の成形型の複合材の混合比の相違による特性変化について説明する。 Next, the characteristic change by the difference in the mixing ratio of the composite material of the molding die of the above-described embodiment will be described.
まず、2000℃で焼成したガラス状カーボンであるGC20に対する気相成長炭素繊維のフィラー含有量であるCNF含有量としての混合比を変化させて、この気相成長炭素繊維が0.5体積%(vol%)、1体積%、1.5体積%、12体積%および15体積%混合された複合材の型材2であるVGCF0.5%、VGCF1.0%、VGCF1.5%、VGCF12%、VGCF15%のそれぞれを製造する。 First, by changing the mixing ratio as the CNF content which is the filler content of the vapor-grown carbon fiber with respect to GC20 which is glassy carbon fired at 2000 ° C., this vapor-grown carbon fiber is 0.5 vol% ( vol%) VGCF 0.5%, VGCF 1.0%, VGCF 1.5%, VGCF 12%, VGCF 15 which are composite material 2 mixed by 1% by volume, 1.5% by volume, 12% by volume and 15% by volume % Of each manufactured.
また、GC20に対するCNFであるカップ積層型としてのカーボンナノファイバであるカップスタック型炭素繊維(Cup Stack Carbon Fibers:CSCF)の混合比を変化させて、このカップスタック型炭素繊維が1体積%、2体積%、3体積%および12体積%混合された複合材の型材2であるCSCF1%、CSCF2%、CSCF3%、CSCF12%のそれぞれを製造する。さらに、比較例として、GC20のみの型材2も製造する。 In addition, the cup stack type carbon fiber (CSCF), which is a carbon nanofiber as a cup laminated type of CNF with respect to the GC 20, is changed in mixing ratio so that the cup stack type carbon fiber is 1% by volume, 2%. Each of CSCF 1%, CSCF 2%, CSCF 3%, and CSCF 12%, which are composite mold materials 2 mixed by volume%, 3 volume%, and 12 volume%, is manufactured. Furthermore, as a comparative example, a mold member 2 made only of GC20 is also manufactured.
この状態で、これら型材2の表面に対して集束イオンビームBを照射して、これら型材2の表面をスパッタ加工した。このとき、この集束イオンビームBの照射のためのFIB装置としては、SMI2050(セイコーインスツルメンツ株式会社製)を用いた。またこのとき、このFIB装置のイオン源を液体ガリウムとし、このFIB装置にて照射させる集束イオンビームBのビーム径を110nmとするとともに、この集束イオンビームBの加速電圧を30kVとし、試料電流を1318pAとし、加工時間を15分とし、加工形状を10×10×深さ(μm3)とした。 In this state, the surfaces of these mold materials 2 were irradiated with a focused ion beam B, and the surfaces of these mold materials 2 were sputtered. At this time, as an FIB apparatus for irradiation of the focused ion beam B, SMI2050 (manufactured by Seiko Instruments Inc.) was used. At this time, the ion source of the FIB apparatus is liquid gallium, the beam diameter of the focused ion beam B irradiated by the FIB apparatus is 110 nm, the acceleration voltage of the focused ion beam B is 30 kV, and the sample current is The processing shape was set to 1318 pA, the processing time was set to 15 minutes, and the processing shape was set to 10 × 10 × depth (μm 3 ).
この結果、図13に示すように、型材2の表面に対してチルト角を30゜傾斜させて、これら型材2の加工面の表面を撮影したところ、VGCFおよびCSCFそれぞれの混合比が小さいほど、これら型材2の加工面の平滑度が向上したため、これら型材2の加工面を滑らかにできる。 As a result, as shown in FIG. 13, when the surface of the processed surface of the mold material 2 was photographed with the tilt angle inclined by 30 ° with respect to the surface of the mold material 2, the smaller the mixing ratio of VGCF and CSCF, Since the smoothness of the processed surfaces of these mold materials 2 has been improved, the processed surfaces of these mold materials 2 can be made smooth.
このとき、図14に示すように、各型材2の表面である加工表面(10μm×10μm)中の3μm×3μmの測定範囲の粗さ(Ra)を、測定装置として走査型プローブ顕微鏡(SPM−9500シリーズ:株式会社島津製作所製)を用いて測定した平均値を算出したところ、VGCFおよびCSCFそれぞれの混合比が小さいほど、これら型材2の加工表面のRa値が小さいため、これら型材2の加工表面を滑らかにできる。 At this time, as shown in FIG. 14, the roughness (Ra) of the measurement range of 3 μm × 3 μm in the processed surface (10 μm × 10 μm) which is the surface of each mold member 2 is used as a measuring device as a scanning probe microscope (SPM- 9500 series (manufactured by Shimadzu Corporation) was used to calculate the average value, and the smaller the mixing ratio of VGCF and CSCF, the smaller the Ra value of the processed surface of these mold materials 2; The surface can be smoothed.
さらに、最大荷重を0.25Nとし負荷速度を4.8×10−3N/secとした圧子圧入法にて各型材2のビッカース硬度を測定したところ、図15および図16に示すように、気相成長炭素繊維の混合比が1.5%程度であり、カップスタック型炭素繊維の混合比が2%程度の場合に、ビッカース硬度がそれぞれ最も大きくなった。 Further, when the Vickers hardness of each mold member 2 was measured by an indenter press-fitting method with a maximum load of 0.25 N and a load speed of 4.8 × 10 −3 N / sec, as shown in FIGS. 15 and 16, When the mixing ratio of the vapor-grown carbon fiber was about 1.5% and the mixing ratio of the cup stack type carbon fiber was about 2%, the Vickers hardness was the highest.
また、最大荷重を0.25Nとし繰り返し回数を3回とし負荷速度を4.8×10−3N/secとした繰り返し圧子圧入法にて各型材2のヤング率を測定したところ、図15および図17に示すように、気相成長炭素繊維の混合比が1.5%程度であり、カップスタック型炭素繊維の混合比が2%程度の場合に、ヤング率(GPa)それぞれが最も大きくなった。 Further, when the Young's modulus of each mold member 2 was measured by a repeated indentation method in which the maximum load was 0.25 N, the number of repetitions was 3, and the load speed was 4.8 × 10 −3 N / sec, As shown in FIG. 17, the Young's modulus (GPa) becomes the largest when the mixing ratio of the vapor growth carbon fiber is about 1.5% and the mixing ratio of the cup stack type carbon fiber is about 2%. It was.
同様に、各型材2の熱伝導率をレーザーフラッシュ法にて測定したところ、図15および図18に示すように、気相成長炭素繊維の混合比が15%程度であり、カップスタック型炭素繊維の混合比が12%程度の場合に、熱伝導率(W/m・K)が最も大きくなった。すなわち、各型材2における気相成長炭素繊維あるいはカップスタック型炭素繊維の混合比が大きければ大きいほど熱伝導率が向上すると考えられる。特に、各型材2に対して気相成長炭素繊維を15体積%混合させた場合には、チタン(約20W/m・K)に匹敵する程、熱伝導率が向上した。 Similarly, when the thermal conductivity of each mold member 2 was measured by a laser flash method, as shown in FIGS. 15 and 18, the mixing ratio of the vapor growth carbon fibers was about 15%, and the cup stack type carbon fibers The thermal conductivity (W / m · K) was the highest when the mixing ratio was about 12%. That is, it is considered that the higher the mixing ratio of the vapor grown carbon fiber or the cup stack type carbon fiber in each mold material 2, the higher the thermal conductivity. In particular, when 15% by volume of vapor-grown carbon fiber was mixed with each mold material 2, the thermal conductivity was improved to be comparable to titanium (about 20 W / m · K).
さらに、集束イオンビームBの照射による型材2表面の加工深さを検討したところ、図19および図20に示すように、気相成長炭素繊維の混合比が1.5%程度であり、カップスタック型炭素繊維の混合比が2%程度の場合に、集束イオンビームBの照射による型材2表面の加工深さが最も深くなった。 Further, when the processing depth of the surface of the mold material 2 by the irradiation of the focused ion beam B was examined, as shown in FIGS. 19 and 20, the mixing ratio of the vapor growth carbon fiber was about 1.5%, and the cup stack When the mixing ratio of the mold carbon fibers was about 2%, the processing depth of the mold material 2 surface by irradiation with the focused ion beam B became the deepest.
1 成形型としてのプレス型
2 型材料としての型材
B 集束イオンビーム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Press mold as a mold 2 Mold material as a mold material B Focused ion beam
Claims (8)
少なくともガラス状カーボンおよびカーボンナノファイバを有する型材料の表面を、型材料の最も深く加工する部分からこの型材料の表面側へと、所定の深さ毎に段階的に集束イオンビームを加工領域を広げつつ照射することにより加工して前記成形型を製造する
ことを特徴とした成形型の製造方法。 A method of manufacturing a mold for molding a workpiece,
The surface of the mold material having at least glassy carbon and carbon nanofibers is processed with a focused ion beam step by step from the deepest part of the mold material to the surface side of the mold material at a predetermined depth. A method for producing a mold, characterized in that the mold is produced by processing by irradiation while spreading .
ことを特徴とした請求項1記載の成形型の製造方法。 The method of manufacturing a mold according to claim 1, wherein the focused ion beam is irradiated substantially perpendicularly to the surface of the mold material .
ことを特徴とした請求項1または2記載の成形型の製造方法。 3. The irradiation intensity of the focused ion beam is changed in accordance with the difference in distance from the irradiation position of the focused ion beam to the surface of the mold material irradiated with the focused ion beam. Manufacturing method of the mold.
ことを特徴とした請求項3記載の成形型の製造方法。 The method of manufacturing a mold according to claim 3, wherein the irradiation intensity of the focused ion beam is changed based on processing data of the mold material prepared in advance.
ことを特徴とした請求項3記載の成形型の製造方法。 The method for manufacturing a mold according to claim 3 , wherein the irradiation intensity of the focused ion beam when processing the mold material is changed based on the result of processing the mold material with the focused ion beam.
ことを特徴とした請求項3記載の成形型の製造方法。 The method of manufacturing a mold according to claim 3, wherein the irradiation intensity of the focused ion beam is changed while measuring the irradiation intensity of the focused ion beam.
ことを特徴とした請求項1ないし6いずれか記載の成形型の製造方法。 The method for producing a mold according to any one of claims 1 to 6 , wherein the carbon nanofiber is a vapor-grown carbon fiber.
ことを特徴とした請求項1ないし6いずれか記載の成形型の製造方法。 The method for producing a molding die according to any one of claims 1 to 6 , wherein the carbon nanofiber is a cup-stacked carbon fiber.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004054797A JP4551670B2 (en) | 2004-02-27 | 2004-02-27 | Mold manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004054797A JP4551670B2 (en) | 2004-02-27 | 2004-02-27 | Mold manufacturing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005238770A JP2005238770A (en) | 2005-09-08 |
JP4551670B2 true JP4551670B2 (en) | 2010-09-29 |
Family
ID=35021012
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004054797A Expired - Fee Related JP4551670B2 (en) | 2004-02-27 | 2004-02-27 | Mold manufacturing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4551670B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008114388A (en) * | 2006-10-31 | 2008-05-22 | Chinontec Kk | Method for producing micro-device |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63216343A (en) * | 1987-03-05 | 1988-09-08 | Jeol Ltd | Ion beam shot method |
JPH01315937A (en) * | 1988-03-18 | 1989-12-20 | Hitachi Ltd | Ion beam process method and focus ion beam device |
JPH10134746A (en) * | 1996-10-29 | 1998-05-22 | Seiko Instr Inc | Optical axis adjustment method for focused ion beam and focused ion beam device |
JP2003165729A (en) * | 2001-11-27 | 2003-06-10 | Chinontec Kk | Glass mold |
JP2003298338A (en) * | 2002-04-02 | 2003-10-17 | Fuji Xerox Co Ltd | Antenna and communication device |
JP2004262716A (en) * | 2003-03-03 | 2004-09-24 | Univ Shinshu | Glass lens molding die material |
-
2004
- 2004-02-27 JP JP2004054797A patent/JP4551670B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63216343A (en) * | 1987-03-05 | 1988-09-08 | Jeol Ltd | Ion beam shot method |
JPH01315937A (en) * | 1988-03-18 | 1989-12-20 | Hitachi Ltd | Ion beam process method and focus ion beam device |
JPH10134746A (en) * | 1996-10-29 | 1998-05-22 | Seiko Instr Inc | Optical axis adjustment method for focused ion beam and focused ion beam device |
JP2003165729A (en) * | 2001-11-27 | 2003-06-10 | Chinontec Kk | Glass mold |
JP2003298338A (en) * | 2002-04-02 | 2003-10-17 | Fuji Xerox Co Ltd | Antenna and communication device |
JP2004262716A (en) * | 2003-03-03 | 2004-09-24 | Univ Shinshu | Glass lens molding die material |
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---|---|
JP2005238770A (en) | 2005-09-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070227 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070316 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20070316 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20070316 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090713 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090722 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090917 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20091015 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20091211 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20091211 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100616 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100712 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130716 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |