JP4544606B2 - Laser system - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザーシステムに関し、さらに詳細には、励起光により励起されてレーザー発振するレーザー媒質を備えたレーザーシステムに関する。
【0002】
【発明の背景】
従来のレーザーシステムとして、ランプの発光を励起光として用いて、共振器内に配設されたレーザー媒質を励起するようにしたものが知られている。
【0003】
しかしながら、こうしたレーザーシステムは、ランプの発光を励起光として用いてレーザー媒質を励起するものであるので、レーザー発振の効率がよくないという問題点があった。
【0004】
こうした問題点を解決するために、レーザーダイオードなどの半導体レーザーから出射される所定の波長のレーザー光を励起光として用いて、共振器内に配設されたレーザー媒質を励起するレーザーシステムが開発されている。
【0005】
この半導体レーザーから出射される所定の波長のレーザー光を励起光として用いてレーザー媒質を励起するレーザーシステムは、レーザー媒質の吸収帯の波長のレーザー光を出射する半導体レーザーを選択して、当該半導体レーザーのレーザー光を励起光として用いてレーザー媒質を励起することができるので、レーザー発振の効率が極めてよいものである。
【0006】
ところで、従来の半導体レーザーを用いてレーザー媒質を励起するレーザーシステムにおいては、例えば、励起光によりレーザー媒質としてのロッド状レーザー結晶の側面から励起する場合には、励起光としてのレーザー光を出射するレーザーダイオードなどの半導体レーザーを、ロッド状レーザー結晶に近接させて配置する必要があった。このため、従来の半導体レーザーを用いてレーザー媒質を励起するレーザーシステムにおいては、一般に、内部にレーザー媒質を配置した共振器と一体的に半導体レーザーが配置されていた。
【0007】
しかしながら、こうした従来の半導体レーザーを用いてレーザー媒質を励起するレーザーシステムによれば、内部にレーザー媒質を配置した共振器と一体的に近接して半導体レーザーが配置されることになるため、共振器周りの装置構成が大型化してスペース的に不利になるという問題点があった。
【0008】
また、上記した従来の半導体レーザーを用いてレーザー媒質を励起するレーザーシステムによれば、内部にレーザー媒質を配置した共振器と一体的に近接して半導体レーザーが配置されることになるため、半導体レーザーから発生する熱によりレーザー媒質の安定性の低下を招くという問題点があり、さらに、半導体レーザーから発生する熱を冷却するための冷却機構が必要になるので、共振器周りの装置構成が大型化してスペース的に不利になるという問題点があった。
【0009】
さらに、上記した従来の半導体レーザーを用いてレーザー媒質を励起するレーザーシステムによれば、半導体レーザーの故障や寿命による交換などの際に、共振器の再調整が必要となるため、メンテナンスが煩雑になるという問題点があった。
【0010】
また、従来の波長808nmでの励起では、波長1063nmのレーザー光を発生させる場合に、エネルギー変換効率は「808/1063」により制限され、残りのエネルギーが熱としてレーザー媒質に残されるという問題があった。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記したような従来の技術が有する問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、共振器周りの装置構成を小型化することのできるレーザーシステムを提供しようとするものである。
【0012】
また、本発明の目的とするところは、レーザー媒質が熱による影響を受けることがないようにして、ビームの高品質化を図ったレーザーシステムを提供しようとするものである。
【0013】
また、本発明の目的とするところは、励起波長をレーザーの発振波長に近づけることにより、エネルギーの変換効率を向上させて高効率化を図り、レーザー媒質に残る熱を低減することができるようにしたレーザーシステムを提供しようとするものである。
【0014】
また、本発明の目的とするところは、メンテナンスを容易にしたレーザーシステムを提供しようとするものである。
【0015】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明のうち請求項1に記載の発明は、電源と、上記電源により駆動されて発振波長880±5nmのレーザー光を出射する半導体レーザーと、上記半導体レーザーを冷却する冷却装置とを有し、上記半導体レーザーから出射されたレーザー光を外部へ出射する電源部と、上記電源部と電気配線により電気的に接続されて上記電源部を制御するコントローラーと、共振器と、レーザー媒質として上記共振器内に配置されたレーザー活性イオンとしてネオジウムが添加されたガドリニウムバナデイト結晶たるネオジウム添加ガドリニウムバナデイト(Nd:GdVO 4 )結晶とを有して、上記電源部とは別体に構成され、上記ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶が励起光により励起されてレーザー発振することにより、外部へレーザー光を出射するレーザーヘッド部と、上記電源部と上記レーザーヘッド部とを光学的に接続し、上記電源部から外部へ出射されたレーザー光を上記レーザーヘッド部の上記共振器内へ導光するファイバーとを有し、上記ファイバーにより上記共振器内に導光された発振波長880±5nmの上記半導体レーザーから出射されたレーザー光を励起光として、上記ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶を端面励起してレーザー発振させるレーザーシステムであって、上記ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶は、フローティングゾーン法により生成され、レーザー活性イオンとしてネオジウムが原子数の比率で2%乃至15%の濃度となるように添加されたガドリニウムバナデイト結晶であり、上記電源部は波長880±5nmのレーザー光を外部へ出射し、上記ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶は主吸収帯である波長808nm帯とは異なる波長880nm帯の励起光により励起されるようにしたものである。
【0016】
従って、本発明のうち請求項1に記載の発明によれば、互いに分離された電源部とレーザーヘッド部とをファイバーにより光学的に接続し、電源部から外部へ出射されたレーザー光をレーザーヘッド部の共振器内へ導光するようにしたため、共振器周りの装置構成を小型化することができるようになるとともに、レーザー媒質が熱による影響を受けることがなくなり、さらには、半導体レーザーの交換などの際におけるメンテナンスが容易になる。
【0024】
また、本発明のうち請求項2に記載の発明は、本発明のうち請求項1に記載の発明において、上記半導体レーザーはパルス動作し、上記電源部は発振波長880±5nmのパルスレーザー光を外部へ出射するようにしたものである。
【0025】
また、本発明のうち請求項3に記載の発明は、本発明のうち請求項1または請求項2のいずれか1項に記載の発明において、さらに、上記レーザーヘッド部は、上記共振器内に配置されたQスイッチを有するようにしたものである。
【0026】
また、本発明のうち請求項4に記載の発明は、本発明のうち請求項3に記載の発明において、上記Qスイッチは、受動Qスイッチとしたものである。
【0027】
また、本発明のうち請求項5に記載の発明は、本発明のうち請求項4に記載の発明において、上記受動Qスイッチは、Cr:YAG結晶としたものである。
【0028】
また、本発明のうち請求項6に記載の発明は、本発明のうち請求項3に記載の発明において、上記Qスイッチは、EO−Qスイッチとしたものである。
【0029】
また、本発明のうち請求項7に記載の発明は、本発明のうち請求項3に記載の発明において、上記Qスイッチは、AO−Qスイッチとしたものである。
【0030】
また、本発明のうち請求項8に記載の発明は、本発明のうち請求項1に記載の発明において、上記半導体レーザーは連続発振動作し、上記電源部は発振波長880±5nmの連続レーザー光を外部へ出射するようにしたものである。
【0032】
また、本発明のうち請求項9に記載の発明は、本発明のうち請求項1に記載の発明において、上記冷却装置は、電子冷却により上記半導体レーザーを冷却するようにしたものである。
【0033】
また、本発明のうち請求項10に記載の発明は、パルス電源と、上記パルス電源により駆動されて発振波長880±5nmのパルスレーザー光を出射する半導体レーザーと、上記半導体レーザーを冷却する冷却装置とを有し、上記半導体レーザーから出射されたパルスレーザー光を外部へ出射する電源部と、上記電源部と電気配線により電気的に接続されて上記電源部を制御するコントローラーと、共振器と、レーザー媒質として上記共振器内に配置されたレーザー活性イオンとしてネオジウムが添加されたガドリニウムバナデイト結晶たるネオジウム添加ガドリニウムバナデイト(Nd:GdVO 4 )結晶と、上記共振器内に配置された受動Qスイッチとを有して、上記電源部とは別体に構成され、上記ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶が励起光により励起されてレーザー発振することにより、外部へレーザー光を出射するレーザーヘッド部と、上記電源部と上記レーザーヘッド部とを光学的に接続し、上記電源部から外部へ出射されたレーザー光を上記レーザーヘッド部の上記共振器内へ導光するファイバーとを有し、上記ファイバーにより上記共振器内に導光された発振波長880±5nmの上記半導体レーザーから出射されたレーザー光を励起光として、上記ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶を端面励起してレーザー発振させるレーザーシステムであって、上記ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶は、フローティングゾーン法により生成され、レーザー活性イオンとしてネオジウムが原子数の比率で2%乃至15%の濃度となるように添加されたガドリニウムバナデイト結晶であり、上記電源部は波長880±5nmのパルスレーザー光を外部へ出射し、上記ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶は主吸収帯である波長808nm帯とは異なる波長880nm帯の励起光により励起されるようにしたものである。
【0035】
また、本発明のうち請求項11に記載の発明は、本発明のうち請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6、請求項7、請求項8、請求項9または請求項10のいずれか1項に記載の発明において、上記レーザーヘッド部は、上記共振器内に高調波発生用の結晶を配置するようにしたものである。
【0036】
【発明の実施の形態】
以下、添付の図面を参照しながら、本発明によるレーザーシステムの実施の形態の一例を詳細に説明する。
【0037】
図1には、本発明の実施の形態の一例によるレーザーシステムの概略構成説明図が示されている。
【0038】
このレーザーシステム10は、電源部12と、レーザーヘッド部14と、電源部12とレーザーヘッド部14とを光学的に接続するファイバー16と、電源部12の動作を制御するためのコントローラー18とにより構成されている。なお、電源部12とコントローラー18とは別体に構成され、電源部12とコントローラー18とは電気配線20により電気的に接続されている。
【0039】
電源部12は、ケーシング12a内に、半導体レーザー12c(後述する。)を駆動する電源12bと、電源12bにより駆動されてレーザー媒質14e(後述する。)を励起する励起光としてのレーザー光を出射する半導体レーザー12cと、電源12bならびに半導体レーザー12cを電子冷却などにより冷却する冷却装置12dとを配設して構成されている。即ち、半導体レーザー12cは、電源部12内においてその発振動作を制御される。
【0040】
なお、電源12bのオン/オフ制御、冷却装置12dの温度制御ならびに半導体レーザー12cがレーザー光としてパルスレーザー光を出射するパルス動作をさせる際のパルスの繰り返し制御などは、コントローラー18によって制御される。
【0041】
ここで、電源12bをオンすると、このレーザーシステム10全体が駆動状態におかれ、電源12bをオフすると、このレーザーシステム10全体が停止状態となる。
【0042】
電源12bとしては、例えば、パルス電源や連続動作安定化電源を用いることができる。
【0043】
即ち、このレーザーシステム10において、半導体レーザー12cがレーザー光としてパルスレーザー光を出射するパルス動作をさせる場合には、電源12bとしてパルス電源を用いればよい。一方、半導体レーザー12cがレーザー光としてパルスレーザー光を出射するパルス動作をさせる必要がなく、半導体レーザー12cがレーザー光として連続レーザー光を出射する連続発振動作をさせる場合には、電源12bとして連続動作安定化電源を用いればよい。
【0044】
ここで、電源12bとしてのパルス電源とは、半導体レーザー12cをパルス動作させるために、電源12bから半導体レーザー12cに電流が流れる回路の途中にスイッチ機構が設けられているものである。このスイッチ機構を開けたり閉じたりすることにより、当該回路を流れている電流を遮ったり通したりすることができ、その結果、半導体レーザー12cはパルス動作して出力されるレーザー光はパルス、即ち、パルスレーザー光となるものである。そして、コントローラー18は、このスイッチ機構のスイッチングの間隔を任意に設定することができ、それにより半導体レーザー12cをパルス動作させる際のパルスの繰り返し制御が実現される。
【0045】
また、後述するように、電源部12内において半導体レーザー12cをパルス動作するように制御すると、この半導体レーザー12cのパルス動作により、受動Qスイッチ14fの繰り返しが制御される。
【0046】
ここで、ケーシング12aは、例えば、アルミニウムや鉄などの材料に構成することができる。
【0047】
また、半導体レーザー12cとしては、例えば、GaAsを用いたレーザーバーを用いることができる。
上記したように、冷却装置12dは半導体レーザー12cを冷却して、半導体レーザー12cの温度制御が行っている。こうした冷却装置12dによる半導体レーザー12cの温度制御によって、半導体レーザー12cの発振波長を微調整することが可能である。
【0048】
冷却装置12dとしては、例えば、電子冷却方式の冷却装置を用いることができる。なお、冷却装置12dは電子冷却方式の冷却装置に限られるものではなく、水冷式の冷却装置や、空冷式の冷却装置などを用いるようにしてもよい。
【0049】
コントローラー18は、マイクロコンピューターにより構成されており、以下のような制御を行う。
【0050】
即ち、コントローラー18は、上記したように、例えば、電源12bのオン/オフ制御や冷却装置12dの温度制御や半導体レーザー12cのパルス動作の制御などを行う。
【0051】
なお、後述するように、半導体レーザー12cのパルス動作に応じて、受動Qスイッチ14fの制御が行われる。
【0052】
レーザーヘッド部14は、図2にその詳細な構成を示すように、ケーシング14a内に、ファイバー16を接続するためのファイバーコネクタ14bと、ファイバー16およびファイバーコネクタ14bを介して半導体レーザー12cから出射されたレーザー光(以下、「半導体レーザー12cから出射されたレーザー光」を「励起光」と称する。)を集光する集光レンズ14cと、集光レンズ14cから出射された励起光を透過するとともにレーザー媒質14e(後述する。)から出射されたレーザー光を高効率で反射する反射鏡14dと、半導体レーザー12cから出射された所定の波長のレーザー光の当該所定の波長に吸収帯があって当該所定の波長のレーザー光を励起光としてレーザー発振するレーザー結晶などのレーザー媒質14eと、パルス動作のためのQスイッチとしての受動Qスイッチ(Passive Q−switch)14fと、反射鏡14dとレーザー共振器を構成する出力カップラー14gと、出力カップラー14gから出射されたレーザー光を外部へ透過させるウインドウ14hとを配設して構成されている。
【0053】
即ち、このレーザーシステム10においては、レーザーヘッド部14の反射鏡14dと出力カップラー14gとにより共振器が構成されている。
【0054】
ここで、ケーシング14aは、例えば、アルミニウムやインバー(ニッケル合金の一種)などの材料に構成することができる。
【0055】
なお、ファイバーコネクタ14bとしては、例えば、SMAコネクタやFCコネクタなどの各種の市販のコネクタを用いることができる。
【0056】
また、集光レンズ14cは、例えば、合成石英の平凸レンズよりなり、その焦点距離は、例えば、50mmである。
【0057】
また、反射鏡14dは、例えば、合成石英よりなり、その反射率は、例えば、波長1063mmに対して99%以上である。
【0058】
また、レーザー媒質14eとしては、例えば、レーザー活性イオンとしてネオジウム(Nd)が添加(以下、「ドープ」と適宜に称する。)されたガドリニウムバナデイト(GdVO4)結晶であるネオジウム添加ガドリニウムバナデイト(以下、「Nd:GdVO4」と適宜称する。)結晶や、レーザー活性イオンとしてネオジウムがドープされたイットリウムバナデイト結晶であるネオジウム添加イットリウムバナデイト(以下、「Nd:YVO4」と適宜称する。)結晶などを用いることができる。
【0059】
これらNd:GdVO4結晶やNd:YVO4結晶は、例えば、フローティングゾーン法を用いて作成されたものが好ましい。また、Nd添加濃度としては、レーザー活性イオンとしてNdが原子数の比率で15%以下の濃度となるものであることが好ましく、その中でも2%以上の濃度であることが好ましく、例えば、2%乃至15%の濃度であることが好ましい。
【0060】
また、このレーザーシステム10において、レーザー媒質14eとしてNd:GdVO4結晶やNd:YVO4結晶を用いる場合には、例えば、「縦3mm×横3mm×厚さ1mm」ほどのサイズの長方体形状のものを用いることができる。
【0061】
また、受動Qスイッチ14fは、内部に蓄えられた光エネルギーがある一定値を越えたとき、透過率が80%〜90%になるという性質をもった結晶である。
この受動Qスイッチ14fとしては、例えば、クロームYAG(Cr:YAG)結晶やCr:MgSiO4結晶などを用いることができる。
【0062】
また、出力カップラー14gは、例えば、部分反射鏡により構成することができる。より詳細には、出力カップラー14gは、例えば、表面に誘電多層膜をコーディングした凹面鏡により構成することができる。こうした出力カップラー14gの波長1063nmでの反射率は、例えば、80%〜95%である。
【0063】
また、ウインドウ14hとしては、例えば、合成石英やBK7ガラスを用いることができる。
【0064】
さらに、ファイバー16としては、例えば、石英のバンドル型などのファイバーを用いることができる。
【0065】
ここで、ファイバー16とレーザーヘッド部14とは、ファイバーコネクタ14bを介して接続されることになるが、ファイバー16と半導体レーザー12cとは、例えば、図5(a)(b)に示すようにして接続される。
【0066】
ここで、図5(a)にはバンドル方式が示されており、半導体レーザー12cに近接して配置したファイバー16に光を入射させ、バンドル状に束ねて光を伝送するようになされている。
【0067】
また、図5(b)にはレンズ集光方式が示されており、半導体レーザー12cから出射された光を合成石英などの集光レンズで集光して、ファイバー16に入射して伝送するようになされている。
【0068】
以上の構成において、このレーザーシステム10においては、電源部12とレーザーヘッド部14とがファイバー16によって接続され、電源部12から出射された励起光はファイバー16を介してファイバー伝送され、レーザーヘッド部14へ入射される。
【0069】
従って、電源部12とレーザーヘッド部14とは、ファイバー16を取り付けたり取り外したりすることにより、容易に接続や切り離しを行うことができる。
【0070】
そして、レーザーヘッド部14へ入射した励起光は、レーザー媒質14e内で焦点を結ぶように、集光レンズ14cにより集光される。
【0071】
上記したように、このレーザーシステム10の共振器は、反射鏡14dと出力カップラー14gとにより構成され、反射鏡14dと出力カップラー14gとの間にレーザー媒質14eが配置される。
【0072】
レーザーヘッド部14における共振器により発振されたレーザー光は、ウインドウ14hを透過して外部へと出射される。
【0073】
上記したように、このレーザーシステム10においては、電源部12の半導体レーザー12cとレーザーヘッド部14とをファイバー16によってファイバー結合し、励起光をファイバー16によってレーザーヘッド部14の共振器へ伝送するようにしている。これにより、レーザーヘッド部14と励起源ならびに電気系たる電源部12とを空間的に分離して配置することが可能となされている。
【0074】
即ち、このレーザーシステム10は、半導体レーザー12cを電源部12内に組み込み、半導体レーザー12cからの励起光をファイバー16によって伝送させてレーザーヘッド部14内に入射させるようにして、レーザーヘッド部14内から熱源となる電機部品を排除することを可能にし、レーザーヘッド部14の小型化や安定化を実現している。
【0075】
また、電源部12とレーザーヘッド部14とを光学的に接続する接続手段として、脱着可能なファイバー16を用いるようにしたので、電源部12とレーザーヘッド部14とを容易に分離することができる。このため、電源部12内の電源12bや半導体レーザーcのメンテナンスの際に、レーザーヘッド部14内の共振器の環境を変える必要がなく、容易にメンテナンスを行うことができる。
【0076】
このレーザーシステム10のレーザーヘッド部14内に配置されたレーザー媒質14eとしてNd:GdVO4結晶を用いると、レーザー媒質14eたるNd:GdVO4結晶を880±5nm帯の励起光で励起して、レーザー発振させることができる。つまり、このレーザーシステム10においては、880nm帯での励起を行うことが可能となる。
【0077】
即ち、Ndをレーザー活性イオンとするレーザー結晶(レーザー媒質)の励起光をもっとも効率よく吸収する波長は808nmであり、それ以外の波長帯では吸収が非常に小さく、効率が悪いために励起を行うのは難しかった。
【0078】
しかしながら、Nd添加濃度を上げることで、図3に示すように、低濃度のときには励起が行えなかった880nm帯での励起が可能となるものである。なお、880nm帯での励起が可能となるNd添加濃度は、好ましくは15%以下の濃度(ネオジウムの原子数の比率が15%以下)であり、その中でも2%以上の濃度(ネオジウムの原子数の比率が2%以上)であることが好ましく、例えば、2%乃至15%の濃度(ネオジウムの濃度が2%乃至15%)であることが好ましい。
【0079】
そして、この880nm帯での励起を用いると、808nm帯での励起に比べエネルギー変換効率の理論的限界として約10%ほど上昇させることができ、また、レーザー媒質14e内部の熱の影響を約30%ほど低減させることができる。そして、こうした効果により、レーザーシステム10全体の高効率化や、出射されるレーザー光のビームの品質の向上などを図ることができる。
【0080】
そして、レーザー媒質14eとして用いることのできるNd:GdVO4結晶やNd:YVO4結晶は、ファイバー16による励起に適している。即ち、高品質なレーザー光を高効率に得るためには、ファイバーによる結晶の端面励起が適しており、その端面励起には、吸収係数が高いNd:GdVO4結晶やNd:YVO4結晶が大変有効である。
【0081】
さらに、このレーザーシステム10においては、レーザーヘッド部14から出射されるレーザー光をパルス動作させるために、受動Qスイッチ14fを用いている。従って、レーザーヘッド部14からパルス動作させるための電気系を除去することができ、レーザーヘッド部14を小型化することができるとともに、制御性が向上される。
【0082】
即ち、受動Qスイッチ14fは、内部に蓄えられた光エネルギーがある一定値を越えたとき、透過率が80%〜90%になるというシャッター動作を行うものである。従って、反射鏡14dと出力カップラー14gとにより構成される共振器内に配置された受動Qスイッチ14fは、レーザー媒質14eからの自然放出光によりシャッター動作を制御されることになる。
【0083】
ここで、反射鏡14dと出力カップラー14gとにより構成される共振器内を往復するレーザー光の生成の制御は、電源部12によって行われる励起光の生成の制御に基づくものであるので、ひいてはレーザーヘッド部14から出射されるレーザー光のパルス動作の制御は、電源部12によって行われることになる。
【0084】
上記したように、受動Qスイッチ14fを用いることにより、レーザーヘッド部14から出射されるレーザー光のパルス動作の制御を、励起光を生成する半導体レーザー12cの電源部12によって行うことができるので、当該レーザー光のパルス動作の安定化を図ることができるとともに、レーザーヘッド部14の小型化を図ることができる。
【0085】
即ち、従来のレーザーシステムにおいては、AO−QスイッチやEO−Qスイッチなどが使用されていた。これら従来において用いられていたQスイッチは、音響波や電気によってスイッチングを行っていたため、共振器内にQスイッチを挿入した場合には、電気部品の組み込みが不可欠となり、レーザーヘッドの大型化が避けられず、また、熱の発生によるレーザー発振の不安定さの原因にもなっていた。また、電気配線、発振器などの必要性により、装置全体の大型化も免れなかった。
【0086】
しかしながら、このレーザーシステム10においては、パルス動作のために受動Qスイッチを用いることで、Qスイッチから電気部品を一切排除するようにしたものである。そのため、レーザーヘッド部14も極めて簡潔な構造として小型化することが可能となり、また、レーザーヘッド部14から出射されるレーザー光のパルス動作の制御を、半導体レーザー12cのパルス動作の制御によって行うことができるため、Qスイッチ用の電源も不要になった。受動Qスイッチ14fに入射するレーザー光のパルス動作を制御することにより、任意の繰り返しをもつQスイッチの機能を果たすことができる。
【0087】
特に、この受動Qスイッチ14fは、自然放出断面積が大きなレーザー媒質に適しているため、大きな自然放出断面積をもつNd:GdVO4やNd:YVO4との適性が極めて好ましいものである。
【0088】
ここで、受動Qスイッチ14fについてさらに説明すると、受動Qスイッチ14fを使う場合には、パルス動作の半導体レーザー12cと組み合わせて用いることが重要である。即ち、受動Qスイッチは、内部に蓄えられた光エネルギーがある一定値を越えたとき、透過率が80〜90%になるという性質を持った結晶である。そのため、受動Qスイッチそのものはパルスを発生させることはできても、その繰り返しを制御する機能は持っておらず、ある一定の光エネルギーが溜まった時点でレーザー光を放出し、また光エネルギーを溜めて放出するということしかできない。そこで、受動Qスイッチ14fに入射した光エネルギーが溜まっていくまでの間隔は、励起用レーザー、即ち、半導体レーザー12cから発生される光の量を調節することによって制御することが可能となる。このため、励起用レーザー、即ち、半導体レーザー12cをパルス動作させれば、半導体レーザー12cからのパルスレーザー光が入射しているときだけレーザー媒質14eが励起され、光エネルギーが放出されて受動Qスイッチ14fに蓄えられるので、半導体レーザー12cの電流の印加時間によって、受動Qスイッチ14fの繰り返しも制御できることになる。
【0089】
また、このレーザーシステム10がパルス動作を必要としない場合には、受動Qスイッチ14fを設ける必要はなく、半導体レーザー12cの電源12bとしてもスイッチング機構を持たない連続動作する連続安定化電源などを用いればよく、半導体レーザー12cとしても連続発振を行うことができるものを用いればよい。
【0090】
なお、上記した実施の形態は、以下に説明する(1)乃至(8)に示すように変形してもよい。
【0091】
(1)上記した実施の形態においては、レーザーヘッド部14の反射鏡14dと出力カップラー14gとにより共振器を構成するようにしたが、これに限られるものではないことは勿論であり、図4(a)に示すように、レーザー媒質14eの励起光の入射側の面、即ち、ファイバーコネクタ14bが位置する側の面を全反射膜40でコーティングすることにより、反射鏡14dを省略するようにしてもよい。
【0092】
なお、全反射膜40は、例えば、誘電体多層膜よりなるものであり、反射率は、例えば、99%以上である。
【0093】
(2)上記した実施の形態においては、レーザーヘッド部14の反射鏡14dと出力カップラー14gとにより共振器を構成するようにしたが、これに限られるものではないことは勿論であり、図4(b)に示すように、レーザー媒質14eの励起光の入射側の面、即ち、ファイバーコネクタ14bが位置する側の面を全反射膜40でコーティングするとともに、他方の面を受動Qスイッチ14fと接合させることにより、反射鏡14dを省略し、かつ、レーザー媒質14eと受動Qスイッチ14fとを一体化するようにしてもよい。
【0094】
(3)上記した実施の形態においては、レーザーヘッド部14の反射鏡14dと出力カップラー14gとにより共振器を構成するようにしたが、これに限られるものではないことは勿論であり、図4(c)に示すように、レーザー媒質14eの励起光の入射側の面、即ち、ファイバーコネクタ14bが位置する側の面を全反射膜40でコーティングするとともに、他方の面を受動Qスイッチ14fと接合させ、さらに受動Qスイッチ14fに出力カップラー14gを接合することにより、反射鏡14dを省略し、かつ、レーザー媒質14eと受動Qスイッチ14fと出力カップラー14gとを一体化するようにしてもよい。
【0095】
(4)上記した実施の形態においては、レーザーヘッド部14の反射鏡14dと出力カップラー14gとにより共振器を構成するようにしたが、これに限られるものではないことは勿論であり、図4(d)に示すように、レーザー媒質14eの励起光の入射側の面、即ち、ファイバーコネクタ14bが位置する側の面を全反射膜40でコーティングするとともに、他方の面を受動Qスイッチ14fと接合させ、さらに受動Qスイッチ14fのレーザー光の出射側の面に部分反射膜42をコーティングすることにより、反射鏡14dおよび出力カップラー14gを省略し、レーザー媒質14eと受動Qスイッチ14fとを一体化するようにしてもよい。
【0096】
なお、部分反射膜42は、例えば、誘電体多層膜よりなるものであり、反射率葉、例えば、80〜95%である。
【0097】
(5)上記した実施の形態においては、Qスイッチとして受動Qスイッチ14fを用いたが、これに限られるものではないことは勿論である。Qスイッチとして受動QスイッチでないAO−QスイッチやEO−Qスイッチを用いた場合には、これらのQスイッチのドライバーを電源部12に組み込み、コントローラー18で制御するようにしてもよい。
【0098】
なお、レーザーシステム10にパルス動作を行わせる必要がない場合には、共振器内にQスイッチを配置する必要はない。
【0099】
(6)上記した実施の形態においては、レーザーヘッド部14にレーザー光を透過するウインドウhを設けたが、必ずしもウインドウ14hを使用しなくてもよいものであり、その場合にはウインドウ14hを配設しなければよい。
【0100】
(7)上記した実施の形態において、レーザーシステム10の共振器内に高調波発生用の結晶を配置して、この高調波発生用の結晶にレーザーシステム10のレーザー媒質14eによって発振されたレーザー光を入射するようにして、当該入射したレーザー光の波長とは異なった波長のレーザー光をレーザーシステム10から取り出すようにしてもよい。高調波発生用の結晶としては、例えば、LBO結晶やKTP結晶などの非線形光学結晶がある。こうしたLBO結晶やKTP結晶などの非線形光学結晶のサイズは、例えば、「縦4mm×横4mm×厚さ5mm」程度であり、こうした非線形光学結晶にレーザー媒質14eによって発振されたレーザー光を入射させることにより、当該入射されたレーザー光の波長とは異なった波長のレーザー光を取り出すことができる。例えば、入射されたレーザー光の波長が1063nmであるならば、約531.5nmの波長のレーザー光を取り出すことができる。
【0101】
(8)上記した実施の形態ならびに上記した(1)乃至(7)に示す変形例は、適宜に組み合わせて用いるようにしてもよい。
【0102】
【発明の効果】
本発明は、以上説明したように構成されているので、共振器周りの装置構成を小型化することができるという優れた効果を奏する。
【0103】
また、本発明は、以上説明したように構成されているので、レーザー媒質が熱による影響を受けることがなく、ビームの高品質化を図ることができるという優れた効果を奏する。
【0104】
また、本発明は、以上説明したように構成されているので、励起波長をレーザーの発振波長に近づけることにより、エネルギーの変換効率を向上させて高効率化を図ることができ、結晶に残る熱を低減することができるようになるという優れた効果を奏する。
【0105】
また、本発明は、以上説明したように構成されているので、メンテナンスが容易になるという優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の一例によるレーザーシステムの概略構成説明図である。
【図2】レーザーヘッド部の詳細な構成を示す概略構成説明図である。
【図3】本願発明者による実験結果を示すグラフであり、Nd:GdVO4結晶のうちで、ネオジウムの濃度が2%、即ち、ネオジウムの原子数の比率が2%のものについて、その吸収スペクトルの測定結果を示すグラフである。なお、横軸は[nm]単位で波長(Wavelength)を示し、縦軸は[cm−1]単位で吸収係数(Absorption coefficient)を示している。
【図4】(a)、(b)、(c)ならびに(d)は、本発明の実施の形態の一例によるレーザーシステムの変形例の概略構成説明図である。
【図5】ファイバーと半導体レーザーとの接続の手法を示す説明図であり、(a)はバンドル方式を示し、(b)はレンズ集光方式を示している。
【符号の説明】
10 レーザーシステム
12 電源部
12a ケーシング
12b 電源
12c 半導体レーザー
12d 冷却装置
14 レーザーヘッド部
14a ケーシング
14b ファイバーコネクタ
14c 集光レンズ
14d 反射鏡
14e レーザー媒質
14f 受動Qスイッチ(Passive Q−switch)
14g 出力カップラー
14h ウインドウ
16 ファイバー
18 コントローラー
20 電気配線
40 全反射膜
42 部分反射膜[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a laser system, and more particularly, to a laser system including a laser medium that is excited by excitation light and oscillates.
[0002]
BACKGROUND OF THE INVENTION
As a conventional laser system, there is known a laser system that uses a light emitted from a lamp as excitation light to excite a laser medium disposed in a resonator.
[0003]
However, such a laser system has a problem that the laser oscillation efficiency is not good because the laser medium is excited by using the light emitted from the lamp as the excitation light.
[0004]
In order to solve these problems, a laser system has been developed that uses a laser beam of a predetermined wavelength emitted from a semiconductor laser such as a laser diode as excitation light to excite a laser medium disposed in the resonator. ing.
[0005]
A laser system that excites a laser medium using laser light of a predetermined wavelength emitted from the semiconductor laser as excitation light, selects a semiconductor laser that emits laser light having a wavelength in the absorption band of the laser medium, and Since the laser medium can be excited using the laser beam of the laser as the excitation light, the laser oscillation efficiency is extremely good.
[0006]
By the way, in a laser system that excites a laser medium using a conventional semiconductor laser, for example, when exciting from the side of a rod-shaped laser crystal as a laser medium by excitation light, laser light as excitation light is emitted. It was necessary to arrange a semiconductor laser such as a laser diode close to the rod-shaped laser crystal. For this reason, in a laser system that excites a laser medium using a conventional semiconductor laser, the semiconductor laser is generally disposed integrally with a resonator in which the laser medium is disposed.
[0007]
However, according to a laser system that excites a laser medium using such a conventional semiconductor laser, the semiconductor laser is disposed in close proximity to the resonator in which the laser medium is disposed. There is a problem in that the surrounding device configuration becomes large and disadvantageous in terms of space.
[0008]
In addition, according to the laser system that excites the laser medium using the conventional semiconductor laser described above, the semiconductor laser is disposed in close proximity to the resonator in which the laser medium is disposed. There is a problem that the stability of the laser medium is reduced due to the heat generated from the laser, and furthermore, a cooling mechanism for cooling the heat generated from the semiconductor laser is required, so the device configuration around the resonator is large. There was a problem of becoming disadvantageous in terms of space.
[0009]
Furthermore, according to the laser system that excites the laser medium using the above-described conventional semiconductor laser, the resonator needs to be readjusted when the semiconductor laser fails or is replaced due to its life, so that maintenance is complicated. There was a problem of becoming.
[0010]
Further, in the conventional excitation at a wavelength of 808 nm, when laser light having a wavelength of 1063 nm is generated, the energy conversion efficiency is limited by “808/1063”, and the remaining energy is left as heat in the laser medium. It was.
[0011]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been made in view of the problems of the conventional techniques as described above, and an object of the present invention is to provide a laser system capable of downsizing the device configuration around the resonator. To do.
[0012]
It is another object of the present invention to provide a laser system in which the laser medium is not affected by heat and the beam quality is improved.
[0013]
Further, the object of the present invention is to improve the energy conversion efficiency by increasing the excitation wavelength to the oscillation wavelength of the laser so as to increase the efficiency and reduce the heat remaining in the laser medium. Is intended to provide a laser system.
[0014]
Another object of the present invention is to provide a laser system that facilitates maintenance.
[0015]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the invention according to
[0016]
Therefore, according to the first aspect of the present invention, the power supply unit and the laser head unit separated from each other are optically connected by a fiber, and the laser beam emitted from the power supply unit to the outside is connected to the laser head. Since the light is guided into the resonator of the part, the device configuration around the resonator can be reduced in size, the laser medium is not affected by heat, and the semiconductor laser is replaced. Maintenance in the case of, etc. becomes easy.
[0024]
Further, the present invention claims2In the invention described in
[0025]
Further, the present invention claims3The invention described in
[0026]
Further, the present invention claims4The invention described in
[0027]
Further, the present invention claims5The invention described in
[0028]
Further, the present invention claims6The invention described in
[0029]
Further, the present invention claims7The invention described in
[0030]
Further, the present invention claims8According to the invention described in
[0032]
Further, the present invention claims9The invention described in
[0033]
Further, the present invention claims10The invention described in (1) includes a pulse power source, and a semiconductor laser that is driven by the pulse power source and emits a pulse laser beam having an oscillation wavelength of 880 ± 5 nm.A cooling device for cooling the semiconductor laser;A power supply unit that emits pulsed laser light emitted from the semiconductor laser to the outside;A controller that is electrically connected to the power source by electrical wiring and controls the power source;Resonator and neodymium-added gadolinium vanadate as a gadolinium vanadate crystal with neodymium added as laser active ions arranged in the resonator as a laser medium(Nd: GdVO 4 )A crystal and a passive Q switch disposed in the resonator are configured separately from the power supply unit, and the neodymium-added gadolinium vanadate crystal is excited by excitation light and laser-oscillated. A laser head for emitting laser light to the outside, and the power sourcethe aboveA fiber that optically connects the laser head unit and guides laser light emitted from the power supply unit to the inside of the resonator of the laser head unit. A laser system that uses the laser light emitted from the semiconductor laser having a guided oscillation wavelength of 880 ± 5 nm as excitation light to excite the neodymium-doped gadolinium vanadate crystal to cause laser oscillation.The neodymium-added gadolinium vanadate crystal is a gadolinium vanadate crystal produced by a floating zone method and doped with neodymium as a laser active ion at a concentration of 2% to 15% in terms of the number of atoms. Yes, the power supply unit emits a pulsed laser beam having a wavelength of 880 ± 5 nm to the outside, and the neodymium-added gadolinium vanadate crystal is excited by excitation light having a wavelength of 880 nm, which is different from the wavelength 808 nm which is the main absorption band.It is what I did.
[0035]
Further, the present invention claims11The invention according to
[0036]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an example of an embodiment of a laser system according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
[0037]
FIG. 1 is a schematic configuration explanatory diagram of a laser system according to an example of an embodiment of the present invention.
[0038]
The
[0039]
The power source unit 12 emits laser light as excitation light that is driven by the
[0040]
The
[0041]
Here, when the
[0042]
As the
[0043]
That is, in the
[0044]
Here, the pulse power supply as the
[0045]
As will be described later, when the
[0046]
Here, the
[0047]
As the
As described above, the
[0048]
As the
[0049]
The
[0050]
That is, as described above, the
[0051]
As will be described later, the
[0052]
As shown in detail in FIG. 2, the laser head unit 14 is emitted from the
[0053]
That is, in this
[0054]
Here, the
[0055]
As the
[0056]
The
[0057]
The reflecting
[0058]
In addition, as the
[0059]
These Nd: GdVO4Crystal or Nd: YVO4The crystal is preferably prepared using, for example, a floating zone method. The Nd addition concentration is preferably such that Nd as a laser active ion is a concentration of 15% or less in terms of the number of atoms, of which a concentration of 2% or more is preferable, for example, 2% A concentration of 15 to 15% is preferred.
[0060]
Further, in this
[0061]
The
As this
[0062]
Further, the
[0063]
As the
[0064]
Further, as the
[0065]
Here, the
[0066]
Here, FIG. 5A shows a bundle system, and the semiconductor laser 12cThe light is incident on the
[0067]
FIG. 5B shows a lens condensing method, and the semiconductor laser 12cThe light emitted from the light is condensed by a condenser lens such as synthetic quartz, and is incident on the
[0068]
With the above configuration, in the
[0069]
Therefore, the power supply unit 12 and the laser head unit 14 can be easily connected and disconnected by attaching or removing the
[0070]
Then, the excitation light incident on the laser head unit 14 is condensed by the
[0071]
As described above, the resonator of the
[0072]
The laser light oscillated by the resonator in the laser head unit 14 is transmitted to the outside through the
[0073]
As described above, in the
[0074]
That is, the
[0075]
Further, since the
[0076]
When an Nd: GdVO4 crystal is used as the
[0077]
That is, the wavelength at which the excitation light of the laser crystal (laser medium) having Nd as the laser active ion is most efficiently absorbed is 808 nm, and excitation is performed because the absorption is very small and the efficiency is poor in other wavelength bands. It was difficult.
[0078]
However, by increasing the Nd addition concentration, as shown in FIG. 3, excitation in the 880 nm band, which could not be excited at a low concentration, can be performed. The Nd addition concentration that enables excitation in the 880 nm band is preferably a concentration of 15% or less (neodymium atom ratio is 15% or less), and a concentration of 2% or more (the number of neodymium atoms). The ratio is preferably 2% or more. For example, the concentration is preferably 2% to 15% (the concentration of neodymium is 2% to 15%).
[0079]
When the excitation in the 880 nm band is used, the theoretical limit of the energy conversion efficiency can be increased by about 10% compared to the excitation in the 808 nm band, and the influence of heat in the
[0080]
Nd: GdVO that can be used as the
[0081]
Further, in this
[0082]
That is, the
[0083]
Here, the control of the generation of the laser light that reciprocates in the resonator constituted by the reflecting
[0084]
As described above, by using the
[0085]
That is, in the conventional laser system, an AO-Q switch, an EO-Q switch, or the like has been used. Since these Q switches used in the past were switched by acoustic waves or electricity, when the Q switch was inserted into the resonator, it was indispensable to incorporate electrical components, avoiding an increase in the size of the laser head. In addition, the laser oscillation was unstable due to heat generation. In addition, due to the need for electrical wiring, oscillators, etc., the overall size of the apparatus has not been avoided.
[0086]
However, in this
[0087]
In particular, since the
[0088]
Here, the
[0089]
Further, when the
[0090]
The embodiment described above may be modified as shown in (1) to (8) described below.
[0091]
(1) In the above-described embodiment, the resonator is constituted by the reflecting
[0092]
The
[0093]
(2) In the above-described embodiment, the resonator is constituted by the reflecting
[0094]
(3) In the above-described embodiment, the resonator is configured by the reflecting
[0095]
(4) In the above-described embodiment, the resonator is constituted by the reflecting
[0096]
The
[0097]
(5) In the above-described embodiment, the
[0098]
In addition, when it is not necessary to make the
[0099]
(6) In the above-described embodiment, the window h that transmits the laser beam is provided in the laser head unit 14, but the
[0100]
(7) In the embodiment described above, a crystal for generating harmonics is arranged in the resonator of the
[0101]
(8) The above-described embodiment and the modifications shown in (1) to (7) may be used in appropriate combination.
[0102]
【The invention's effect】
Since the present invention is configured as described above, there is an excellent effect that the device configuration around the resonator can be reduced in size.
[0103]
In addition, since the present invention is configured as described above, the laser medium is not affected by heat, and has an excellent effect that the quality of the beam can be improved.
[0104]
In addition, since the present invention is configured as described above, it is possible to improve the energy conversion efficiency by bringing the excitation wavelength close to the oscillation wavelength of the laser, thereby improving the efficiency of the heat remaining in the crystal. There is an excellent effect that can be reduced.
[0105]
Moreover, since the present invention is configured as described above, it has an excellent effect that maintenance is facilitated.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic configuration explanatory diagram of a laser system according to an example of an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic configuration explanatory diagram showing a detailed configuration of a laser head unit.
FIG. 3 is a graph showing a result of an experiment by the inventor of the present application, and shows Nd: GdVO.4It is a graph which shows the measurement result of the absorption spectrum about the density | concentration of 2% of neodymium among crystals, ie, the ratio of the number of atoms of neodymium is 2%. The horizontal axis indicates the wavelength (Wavelength) in [nm] units, and the vertical axis indicates [cm.-1] Absorption coefficient (Absorption coefficient) is shown in units.
4 (a), (b), (c) and (d) are schematic configuration explanatory views of a modified example of a laser system according to an example of an embodiment of the present invention.
FIGS. 5A and 5B are explanatory diagrams showing a method of connecting a fiber and a semiconductor laser, where FIG. 5A shows a bundle method and FIG. 5B shows a lens condensing method.
[Explanation of symbols]
10 Laser system
12 Power supply
12a casing
12b power supply
12c semiconductor laser
12d cooling device
14 Laser head
14a casing
14b Fiber connector
14c condenser lens
14d reflector
14e Laser medium
14f Passive Q switch (Passive Q-switch)
14g output coupler
14h window
16 fiber
18 controller
20 Electrical wiring
40 Total reflection film
42 Partial reflection film
Claims (11)
前記電源部と電気配線により電気的に接続されて前記電源部を制御するコントローラーと、
共振器と、レーザー媒質として前記共振器内に配置されたレーザー活性イオンとしてネオジウムが添加されたガドリニウムバナデイト結晶たるネオジウム添加ガドリニウムバナデイト(Nd:GdVO 4 )結晶とを有して、前記電源部とは別体に構成され、前記ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶が励起光により励起されてレーザー発振することにより、外部へレーザー光を出射するレーザーヘッド部と、
前記電源部と前記レーザーヘッド部とを光学的に接続し、前記電源部から外部へ出射されたレーザー光を前記レーザーヘッド部の前記共振器内へ導光するファイバーと
を有し、
前記ファイバーにより前記共振器内に導光された発振波長880±5nmの前記半導体レーザーから出射されたレーザー光を励起光として、前記ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶を端面励起してレーザー発振させるレーザーシステムであって、
前記ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶は、フローティングゾーン法により生成され、レーザー活性イオンとしてネオジウムが原子数の比率で2%乃至15%の濃度となるように添加されたガドリニウムバナデイト結晶であり、
前記電源部は波長880±5nmのレーザー光を外部へ出射し、前記ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶は主吸収帯である波長808nm帯とは異なる波長880nm帯の励起光により励起される
ことを特徴とするレーザーシステム。A power source; a semiconductor laser that is driven by the power source to emit laser light having an oscillation wavelength of 880 ± 5 nm; and a cooling device that cools the semiconductor laser, and emits the laser light emitted from the semiconductor laser to the outside. A power supply unit to
A controller that is electrically connected to the power supply unit by electrical wiring and controls the power supply unit;
A power source unit including a resonator and a neodymium-added gadolinium vanadate (Nd: GdVO 4 ) crystal, which is a gadolinium vanadate crystal to which neodymium is added as a laser active ion disposed in the resonator as a laser medium. And a laser head part that emits laser light to the outside by exciting the laser with the neodymium-added gadolinium vanadate crystal excited by excitation light, and
Wherein the power supply unit and the laser head unit optically connected, the laser beam emitted to the outside from the power supply unit and a fiber for guiding into the cavity of the laser head,
A laser system that excites the neodymium-doped gadolinium vanadate crystal by using the laser light emitted from the semiconductor laser having an oscillation wavelength of 880 ± 5 nm guided into the resonator by the fiber as excitation light, and oscillates the laser ; There,
The neodymium-added gadolinium vanadate crystal is a gadolinium vanadate crystal that is generated by a floating zone method and added with a concentration of 2% to 15% of neodymium as a laser active ion in a ratio of the number of atoms.
The power supply unit emits laser light having a wavelength of 880 ± 5 nm to the outside, and the neodymium-added gadolinium vanadate crystal is excited by excitation light having a wavelength of 880 nm that is different from a wavelength of 808 nm that is a main absorption band. Laser system to do.
前記半導体レーザーはパルス動作し、前記電源部は発振波長880±5nmのパルスレーザー光を外部へ出射する
ことを特徴とするレーザーシステム。The laser system according to claim 1, wherein
The semiconductor laser performs a pulse operation, and the power supply unit emits a pulse laser beam having an oscillation wavelength of 880 ± 5 nm to the outside.
前記レーザーヘッド部は、前記共振器内に配置されたQスイッチを有する
ことを特徴とするレーザーシステム。In the laser system according to any one of claims 1 or claim 2, further
The laser system, wherein the laser head unit includes a Q switch disposed in the resonator.
前記Qスイッチは、受動Qスイッチである
ことを特徴とするレーザーシステム。The laser system according to claim 3 , wherein
The laser system, wherein the Q switch is a passive Q switch.
前記受動Qスイッチは、Cr:YAG結晶である
ことを特徴とするレーザーシステム。The laser system according to claim 4 , wherein
The passive Q switch is a Cr: YAG crystal.
前記Qスイッチは、EO−Qスイッチである
ことを特徴とするレーザーシステム。The laser system according to claim 3 , wherein
The laser system, wherein the Q switch is an EO-Q switch.
前記Qスイッチは、AO−Qスイッチである
ことを特徴とするレーザーシステム。The laser system according to claim 3 , wherein
The laser system, wherein the Q switch is an AO-Q switch.
前記半導体レーザーは連続発振動作し、前記電源部は発振波長880±5nmの連続レーザー光を外部へ出射する
ことを特徴とするレーザーシステム。The laser system according to claim 1 , wherein
The semiconductor laser operates continuously, and the power source emits continuous laser light having an oscillation wavelength of 880 ± 5 nm to the outside.
前記冷却装置は、電子冷却により前記半導体レーザーを冷却する
ことを特徴とするレーザーシステム。The laser system according to claim 1 , wherein
The laser system characterized in that the cooling device cools the semiconductor laser by electronic cooling.
前記電源部と電気配線により電気的に接続されて前記電源部を制御するコントローラーと、
共振器と、レーザー媒質として前記共振器内に配置されたレーザー活性イオンとしてネオジウムが添加されたガドリニウムバナデイト結晶たるネオジウム添加ガドリニウムバナデイト(Nd:GdVO 4 )結晶と、前記共振器内に配置された受動Qスイッチとを有して、前記電源部とは別体に構成され、前記ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶が励起光により励起されてレーザー発振することにより、外部へレーザー光を出射するレーザーヘッド部と、
前記電源部と前記レーザーヘッド部とを光学的に接続し、前記電源部から外部へ出射されたレーザー光を前記レーザーヘッド部の前記共振器内へ導光するファイバーと
を有し、
前記ファイバーにより前記共振器内に導光された発振波長880±5nmの前記半導体レーザーから出射されたレーザー光を励起光として、前記ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶を端面励起してレーザー発振させるレーザーシステムであって、
前記ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶は、フローティングゾーン法により生成され、レーザー活性イオンとしてネオジウムが原子数の比率で2%乃至15%の濃度となるように添加されたガドリニウムバナデイト結晶であり、
前記電源部は波長880±5nmのパルスレーザー光を外部へ出射し、前記ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶は主吸収帯である波長808nm帯とは異なる波長880nm帯の励起光により励起される
ことを特徴とするレーザーシステム。A pulse laser beam emitted from the semiconductor laser, comprising: a pulse power source; a semiconductor laser driven by the pulse power source to emit a pulse laser beam having an oscillation wavelength of 880 ± 5 nm; and a cooling device for cooling the semiconductor laser. A power supply unit that emits light to the outside,
A controller that is electrically connected to the power supply unit by electrical wiring and controls the power supply unit;
A resonator, a neodymium-added gadolinium vanadate (Nd: GdVO 4 ) crystal, which is a gadolinium vanadate crystal to which neodymium is added as a laser active ion disposed in the resonator as a laser medium, and the resonator is disposed in the resonator. And a passive Q switch that is configured separately from the power supply unit, and the neodymium-doped gadolinium vanadate crystal is excited by excitation light and oscillates to emit laser light to the outside. And
Wherein the power supply unit and the laser head unit optically connected, the laser beam emitted to the outside from the power supply unit and a fiber for guiding into the cavity of the laser head,
A laser system that excites the neodymium-doped gadolinium vanadate crystal by using the laser light emitted from the semiconductor laser having an oscillation wavelength of 880 ± 5 nm guided into the resonator by the fiber as excitation light, and oscillates the laser ; There,
The neodymium-added gadolinium vanadate crystal is a gadolinium vanadate crystal that is generated by a floating zone method and added with a concentration of 2% to 15% of neodymium as a laser active ion in a ratio of the number of atoms.
The power supply unit emits a pulse laser beam having a wavelength of 880 ± 5 nm to the outside, and the neodymium-added gadolinium vanadate crystal is excited by excitation light having a wavelength of 880 nm, which is different from a wavelength of 808 nm which is a main absorption band. And laser system.
前記レーザーヘッド部は、前記共振器内に高調波発生用の結晶を配置した
ことを特徴とするレーザーシステム。The laser system according to any one of claims 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, or 10. ,
In the laser system, a crystal for generating harmonics is disposed in the resonator.
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