JP4425755B2 - Differential amplifier circuit - Google Patents
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Description
この発明は、衛星通信、地上波マイクロ波通信、移動体通信等に使用する高周波半導体集積回路に係り、特に高周波半導体集積回路に用いられる差動増幅回路に関するものである。 The present invention relates to a high-frequency semiconductor integrated circuit used for satellite communication, terrestrial microwave communication, mobile communication, and the like, and more particularly to a differential amplifier circuit used for a high-frequency semiconductor integrated circuit.
一般に、高周波で動作する半導体集積回路においては、回路を構成する増幅素子の接地電極と接地面を接続する例えばワイヤ等の素子がもつインダクタ成分により、増幅素子の利得が低下することを抑制するために差動増幅回路構成が用いられることがある(例えば、非特許文献1参照)。
In general, in a semiconductor integrated circuit operating at a high frequency, in order to suppress a decrease in gain of an amplifying element due to an inductor component of an element such as a wire that connects a ground electrode and a ground plane of the amplifying element constituting the circuit. In some cases, a differential amplifier circuit configuration is used (see Non-Patent
上記従来例の差動増幅回路によれば、差動増幅回路を構成する1対のトランジスタがそれぞれ接続される点までのレイアウトを対称に作成することによって、バランスが崩れることなく差動動作することが可能となる。その結果、エミッタ電極に付随するワイヤ等のインダクタ成分による利得低下の影響を抑制することが可能となり、高利得化を実現することができる。 According to the above-described conventional differential amplifier circuit, a differential operation can be performed without losing balance by creating a symmetrical layout up to a point where a pair of transistors constituting the differential amplifier circuit are connected to each other. Is possible. As a result, it is possible to suppress the effect of a gain decrease due to an inductor component such as a wire attached to the emitter electrode, and a high gain can be realized.
しかしながら、上述した従来例は、エミッタ電極からインダクタを介して互いに接続する点までの線路幅と接続点から電源までの引き回し線路の線路幅とが等しく、従って、接続前の線路と接続後の引き回し線路が結合を起こしやすく、且つ一方の接続前の線路と接続後の線路が結合した場合には、線路の電気長が異なることになる。その結果、差動のバランスがくずれ、利得が低下してしまうという問題点が生じた。 However, in the above-described conventional example, the line width from the emitter electrode to the point where they are connected to each other via the inductor is equal to the line width of the routing line from the connection point to the power source, and therefore, the line before connection and the connection after connection are routed. When the lines are likely to be coupled and the line before one connection and the line after the connection are coupled, the electrical lengths of the lines are different. As a result, there arises a problem that the differential balance is lost and the gain is lowered.
この発明は上記のような問題点を解決するためになされたもので、線路間の結合を抑制しバランスのとれた差動動作を実現させることができる差動増幅回路を得ることを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object thereof is to obtain a differential amplifier circuit capable of realizing balanced differential operation by suppressing coupling between lines. .
この発明に係る差動増幅回路は、入力電圧の差を増幅して出力する1対のトランジスタを備え、各トランジスタのコレクタまたはベース端子が少なくとも線路を用いて接続され、接続された後の電源端子までが少なくとも他の線路を用いて接続されている差動増幅回路において、各トランジスタのコレクタまたはベース端子が接続されるまでの線路の線路幅を、接続された後の電源端子までの他の線路の線路幅よりも太くすると共に、前記各トランジスタのコレクタまたはベース端子が接続されるまでの線路を少なくとも多層基板の最上層に形成し、接続された後の電源端子までの他の線路を多層基板の下層に形成したことを特徴とする。
A differential amplifier circuit according to the present invention includes a pair of transistors that amplify and output a difference between input voltages, and a collector or base terminal of each transistor is connected using at least a line, and a power supply terminal after being connected In a differential amplifier circuit that is connected up to at least using another line, the line width of the line until the collector or base terminal of each transistor is connected, the other line to the power supply terminal after being connected The line until the collector or base terminal of each transistor is connected is formed on at least the uppermost layer of the multilayer substrate, and the other lines up to the power supply terminal after being connected are formed on the multilayer substrate. It was formed in the lower layer of .
この発明によれば、各トランジスタのコレクタまたはベース端子が接続されるまでの線路の線路幅を、接続された後の電源端子までの他の線路の線路幅よりも太くすることで、線路間の結合を抑制しバランスのとれた差動動作を実現させることができる。 According to this invention, the line width of the line until the collector or base terminal of each transistor is connected is made thicker than the line width of the other line up to the power supply terminal after being connected, Coupling is suppressed and a balanced differential operation can be realized.
実施の形態1.
図1は、この発明の実施の形態1に係る差動増幅回路の構成を示す回路図である。図1に示す差動増幅回路は、高周波差動入力端子51,52から入力される入力電圧の差を増幅して高周波差動出力端子55,56から出力する1対のnpnトランジスタ53,54を備え、この1対のnpnトランジスタ53,54のベース電極には、ベースバイアス印加抵抗57,58を介して電源60が接続され、ベースバイアス印加抵抗57,58が接続される仮想接地点59がコンデンサ66を介して接地されて、ベースバイアス回路を構成している。
1 is a circuit diagram showing a configuration of a differential amplifier circuit according to
また、1対のnpnトランジスタ53,54のエミッタ電極は、接地ワイヤ65を介して接地される。
さらに、1対のnpnトランジスタ53,54のコレクタ電極には、コレクタバイアス印加インダクタ61,62を介して高周波差動出力端子55,56が接続され、コレクタバイアス印加インダクタ61,62の仮想接地点63が電源64に接続されると共に、コンデンサ67を介して接地されて、コレクタバイアス回路を構成している。
The emitter electrodes of the pair of
Further, high frequency
次に動作について説明する。図1において、高周波差動信号は、高周波差動入力端子51及び52に入力され、npnトランジスタ53及び54にて増幅された後、高周波出力端子55及び56から出力される。ベースバイアス回路は、印加抵抗57及び58、コンデンサ66及び電源60から構成される。1対のトランジスタはそれぞれ逆相で動作するため、仮想接地点59ではそれぞれの信号が打ち消しあい高周波的に接地される。コレクタバイアス回路は、印加インダクタ61及び62、コンデンサ67及び電源64から構成される。同様に、1対のトランジスタは逆相で動作するため、仮想接地点63ではそれぞれの信号が打ち消しあい高周波的に接地される。
Next, the operation will be described. In FIG. 1, a high frequency differential signal is input to high frequency
図2は、図1に示すコレクタバイアス回路部のレイアウトを模式的に示した図であり、線幅は線路の幅を表している。図2に示すように、1対のnpnトランジスタ53,54のコレクタ電極71,72からコレクタバイアス印加インダクタ61,62を介して互いに接続される仮想接地点63までの線路の幅は、接続後の仮想接地点63から電源64までの電源引き回し線路68の線路幅より太く、線路の幅が2倍以上になっている。そのため、互いに接続する前の線路と接続後の線路の結合量は小さくなり、結合することによる線路の電気長の変化量は小さい。
FIG. 2 is a diagram schematically showing the layout of the collector bias circuit section shown in FIG. 1, and the line width represents the line width. As shown in FIG. 2, the width of the line from the
また、線路幅を狭くすることによって、線路のインピーダンスは高くなる。従って、例えばバイアス印加インダクタ61,62を出力整合回路素子として用いている場合には、バイアス回路のインピーダンスを考慮する必要がなくなる。
Further, by reducing the line width, the impedance of the line increases. Therefore, for example, when the
同様に、図3は、図1に示すコレクタバイアス回路部のレイアウトを模式的に示した図であり、線幅は線路の幅を表している。図3に示すように、1対のnpnトランジスタ53,54のベース電極81,82からベースバイアス印加抵抗57,58を介して互いに接続される仮想接地点59までの線路の幅は、接続後の仮想接地点59から電源60までの電源引き回し線路69の線路幅より太く、線路の幅が2倍以上になっている。そのため、互いに接続する前の線路と接続後の線路の結合量は小さくなり、結合することによる線路の電気長の変化量は小さい。
Similarly, FIG. 3 is a diagram schematically showing the layout of the collector bias circuit section shown in FIG. 1, and the line width represents the line width. As shown in FIG. 3, the width of the line from the
また、線路幅を狭くすることによって、線路のインピーダンスは高くなる。従って、例えばバイアス印加抵抗57,58を入力整合回路素子として用いている場合には、バイアス回路のインピーダンスを考慮する必要がなくなる。
Further, by reducing the line width, the impedance of the line increases. Therefore, for example, when the
図4は、図2におけるA部の伝送線路の結合に関する回路模式図である。ここでは、接続後の線路、つまり仮想接地点63から電源64までの電源引き回し線路68をポート1、接続前の線路、つまりコレクタ電極71,72からバイアス印加用インダクタ61,62を介して互いに接続される仮想接地点63までの線路をポート2及びポート3とし、接続前の線路の線路幅を10um、接続後の線路幅を10um、ポート1とポート3間の線路間隔を10umとして想定している。
FIG. 4 is a circuit schematic diagram relating to the coupling of the transmission lines in section A in FIG. Here, the connected line, that is, the
図5及び図6は図4に示す構成の電磁界計算結果を示し、図5は通過損失計算結果、図6は通過位相計算結果をそれぞれ示している。図5に示すように、例えば6GHzでのポート1とポート3間の通過損失dBS(31)を示す値m1は、ポート1とポート2間の通過損失dBS(21)を示す値m2よりも小さく、線路が結合しており、電気長が短く見えている。また、図6に示すように、例えば6GHzでのポート1とポート3間の通過位相phase(31)を示す値m3は、ポート1とポート2間の通過位相phase(21)を示す値m4よりも位相差が小さく、線路が結合しており、電気長が短く見えている。このように、計算結果からポート1とポート3間では線路が結合し、線路の電気長が短く見えていることが分かる。
5 and 6 show the electromagnetic field calculation results of the configuration shown in FIG. 4, FIG. 5 shows the pass loss calculation results, and FIG. 6 shows the pass phase calculation results. As shown in FIG. 5, for example, the value m1 indicating the passing loss dBS (31) between the
ポート1とポート3間の線路間隔は広く取りたいが、限られたスペースの中では制限される。図5及び図6に示す結果から、接続前の線路と接続後の線路の結合量を小さくするためには、接続後の線路、つまり仮想接地点63から電源64までの電源引き回し線路68を、接続前の線路、つまりコレクタ電極71,72からバイアス印加用インダクタ61,62を介して互いに接続される仮想接地点63までの線路よりも狭くすればよく、換言すれば、接続前の線路の線路幅を接続後の線路よりも太くすればよく、限られたスペースの中でポート1とポート3間の線路間隔を広く取り、接続前の線路と接続後の線路の結合量は小さくなり、結合することによる線路の電気長の変化量を小さくでき、接続前の線路の線路幅を接続後の線路の2倍以上とすることによりその効果は顕著なものとなる。なお、図5及び図6は、コレクタバイアス回路部について説明したものであるが、ベースバイアス回路部について同様である。
The line spacing between
以上より、実施の形態1によれば、コレクタバイアス線路もしくはベースバイアス線路に生じる仮想接地点までの線路幅を接地後の線路幅より太くすることによって、線路間の結合が抑制され、結合による線路の電気長の変化が抑えられるために、バランスのとれた差動動作をすることが可能となる。 As described above, according to the first embodiment, by making the line width to the virtual ground point generated in the collector bias line or the base bias line thicker than the line width after grounding, the coupling between the lines is suppressed, and the line due to the coupling Therefore, a balanced differential operation can be performed.
さらに、接続後の線路の幅を狭くすることによって、ハイインピーダンス線路となり、バイアス印加素子を含めて整合回路を構成している場合には、バイアス回路のインピーダンスを考慮する必要がなくなるために、設計精度を高めることができる。 Furthermore, by narrowing the width of the line after connection, it becomes a high impedance line, and when the matching circuit is configured including the bias application element, it is not necessary to consider the impedance of the bias circuit. Accuracy can be increased.
なお、差動増幅回路を構成する増幅素子はnpnトランジスタに限らなく、また、バイアス印加素子は、抵抗、インダクタに限らない。 The amplifying elements constituting the differential amplifier circuit are not limited to npn transistors, and the bias applying elements are not limited to resistors and inductors.
実施の形態2.
実施の形態2では、図1に示す差動増幅回路と同一な回路構成を有し、高周波半導体集積回路に用いられる差動増幅回路の多層基板の積層構造を説明する。図7は、図1に示すコレクタバイアス回路部のレイアウトを模式的に示した図であり、また、図8は、図7のA−B線の断面構造を模式的に示した図である。なお、図7において、実線は最上層を含む線路、斜線は下層線路を表している。
Embodiment 2. FIG.
In the second embodiment, a laminated structure of a multilayer substrate of a differential amplifier circuit having the same circuit configuration as that of the differential amplifier circuit shown in FIG. 1 and used in a high-frequency semiconductor integrated circuit will be described. 7 is a diagram schematically showing the layout of the collector bias circuit section shown in FIG. 1, and FIG. 8 is a diagram schematically showing the cross-sectional structure taken along the line AB of FIG. In FIG. 7, a solid line represents a line including the uppermost layer, and a hatched line represents a lower layer line.
この発明の実施の形態2に係る差動増幅回路は、図1に示す差動増幅回路と同一な回路構成を有し、図7と図8に示すように、1対のnpnトランジスタ53,54のコレクタ電極71,72からコレクタバイアス印加インダクタ61,62を介して互いに接続される仮想接地点63までの線路を多層基板の最上層配線125として形成し、接続後の仮想接地点63から電源64までの電源引き回し線路68を下層配線124として形成している。なお、図8において、121は基板、122は誘電体層、123はパッシベーション層を示している。
The differential amplifier circuit according to the second embodiment of the present invention has the same circuit configuration as the differential amplifier circuit shown in FIG. 1, and a pair of
そのため、互いに接続する前の線路と接続後の線路の間隔は同じ層上の線路を用いるよりも小さくなるため、結合量は小さくなる。 For this reason, the distance between the line before connection and the line after connection is smaller than when using the lines on the same layer, so the amount of coupling is small.
また、通常、下層の線路は上層の線路に比べて線路幅を小さくすることが可能である。従って、下層の線路を用いることによって線路幅をさらに細くすることが可能となる。 In general, the line width of the lower layer can be made smaller than that of the upper layer. Therefore, the line width can be further reduced by using the lower line.
また、図9は、図1に示すベースバイアス回路部のレイアウトを模式的に示した図であり、図10は、図9のA’−B’線の断面構造を模式的に示した図である。なお、図9において、実線は最上層を含む線路、斜線は下層線路を表している。 9 is a diagram schematically showing the layout of the base bias circuit section shown in FIG. 1, and FIG. 10 is a diagram schematically showing the cross-sectional structure taken along the line A′-B ′ of FIG. is there. In FIG. 9, the solid line represents the line including the uppermost layer, and the oblique line represents the lower layer line.
図9と図10に示すように、1対のnpnトランジスタ53,54のベース電極81,82からベースバイアス印加抵抗57,58を介して互いに接続される仮想接地点59までの線路を多層基板の最上層配線135として形成し、接続後の仮想接地点59から電源60までの電源引き回し線路69の線路を下層配線134として形成している。なお、図10において、121は基板、122は誘電体層、123はパッシベーション層を示している。
As shown in FIGS. 9 and 10, a line from the
そのため、互いに接続する前の線路と接続後の線路の間隔は同じ層上の線路を用いるよりも小さくなるため、結合量は小さくなる。 For this reason, the distance between the line before connection and the line after connection is smaller than when using the lines on the same layer, so the amount of coupling is small.
また、通常、下層の線路は上層の線路に比べて線路幅を小さくすることが可能である。従って、下層の線路を用いることによって線路幅をさらに細くすることが可能となる。 In general, the line width of the lower layer can be made smaller than that of the upper layer. Therefore, the line width can be further reduced by using the lower line.
従って、実施の形態2によれば、コレクタバイアス線路もしくはベースバイアス線路に生じる仮想接地点までの線路は最上層を含む線路を用い、接地後の線路幅を下層線路で構成することによって、互いに接続する前の線路と接続後の線路の間隔は小さくなるため結合量は小さくでき、安定な差動動作を実現することが可能となる。 Therefore, according to the second embodiment, the line up to the virtual ground point generated in the collector bias line or the base bias line is a line including the uppermost layer, and the line width after grounding is configured by the lower layer line so that they are connected to each other. Since the distance between the line before the connection and the line after the connection is reduced, the amount of coupling can be reduced, and a stable differential operation can be realized.
また、仮想接地点後の線路を下層で構成することによって、最上層線路で許容されるよりも幅狭の線路を実現することが可能となるため、線路間の結合をより抑制することが可能となる。 In addition, by configuring the line after the virtual ground point in the lower layer, it becomes possible to realize a narrower line than allowed by the uppermost line, so that the coupling between the lines can be further suppressed. It becomes.
さらに,仮想接地点後の線路を下層で構成することによって、最上層線路で許容されるよりも幅狭の線路を実現することが可能となるため、小形化を実現することが可能となる。 Furthermore, by configuring the line after the virtual ground point as a lower layer, it becomes possible to realize a line having a narrower width than allowed by the uppermost layer line, and thus it is possible to realize downsizing.
51,52 高周波差動入力端子、53,54 1対のnpnトランジスタ、55,56 高周波差動出力端子、57,58 ベースバイアス印加抵抗、59 仮想接地点、60 電源、61,62 コレクタバイアス印加インダクタ、63 仮想接地点、64 電源、65 接地ワイヤ、66,67 コンデンサ、68 コレクタバイアス回路部の電源引き回し線路、69 ベースバイアス回路部の電源引き回し線路、71,72 コレクタ電極、81,82 ベース電極、124,134 下層配線、125,135 最上層配線。 51, 52 High frequency differential input terminal, 53, 54 A pair of npn transistors, 55, 56 High frequency differential output terminal, 57, 58 Base bias application resistance, 59 Virtual ground point, 60 Power supply, 61, 62 Collector bias application inductor , 63 Virtual ground point, 64 power source, 65 ground wire, 66, 67 capacitor, 68 power supply line for collector bias circuit section, 69 power supply line for base bias circuit section, 71, 72 collector electrode, 81, 82 base electrode, 124,134 Lower layer wiring, 125,135 Top layer wiring.
Claims (1)
各トランジスタのコレクタまたはベース端子が接続されるまでの線路の線路幅を、接続された後の電源端子までの他の線路の線路幅よりも太くすると共に、
前記各トランジスタのコレクタまたはベース端子が接続されるまでの線路を少なくとも多層基板の最上層に形成し、接続された後の電源端子までの他の線路を多層基板の下層に形成した
ことを特徴とする差動増幅回路。 It has a pair of transistors that amplify and output the difference in input voltage, and the collector or base terminal of each transistor is connected using at least a line, and the connected power supply terminal is connected using at least another line. In the differential amplifier circuit,
While making the line width of the line until the collector or base terminal of each transistor is connected larger than the line width of the other lines to the power supply terminal after being connected ,
A line until the collector or base terminal of each transistor is connected is formed in at least the uppermost layer of the multilayer substrate, and another line to the power supply terminal after being connected is formed in the lower layer of the multilayer substrate. Differential amplifier circuit.
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