JP4404185B2 - Displacement detector - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光の干渉を利用してスケールの変位(移動)量を検出するようにした変位検出装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に変位検出装置においてバーニア式のスケールを用いて、それぞれの位相を比較して原点を得ようとする場合、2つの格子の波長がそれぞれλと(λ+λ/m)とすると、位相が一致する間隔は、λ(1+m)(ただし、mは0以外の実数。)となり、測定方向に対し、周期的に複数の原点が存在する(例えば、特許文献1参照。)。λが、十分に大きい場合、それぞれの原点を容易に判別することができ、外部の定点検出手段によって複数の原点の中から任意の点を選択することが可能である。しかし、λが非常に小さい場合、複数の原点の間隔が細かくなり選択が難しくなる。例えば、λ=0.137μmでm=50である場合、間隔は、6.987μmとなり、外部の定点検出手段によって任意の点を選択することが困難となる。なお、mは、0以外の実数である。
【0003】
【特許文献1】
特公昭50−23618号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
このような変位検出装置は、集積回路を製造するためのX線露光描画装置や、精密機械工作に利用される。このとき、正確な位置又は距離を測定するために、移動量を示すインクリメンタル信号とは別に、基準点又は原点が設定される必要がある。変位検出装置では、2つの格子の波長がそれぞれλと(λ+λ/m)とすると、位相が一致する間隔は、λ(1+m)となり、測定方向に対し周期的に複数の原点が存在するため、その中から任意の点を選択しなければならない。一方、最近のX線露光描画装置等の記録密度の高集積化に伴い、インクリメンタル信号の波長も細かくなり、上記位相が一致する間隔も細かくなる傾向にある。
【0005】
そこで、本発明では、主として、ナノメートル(nm)オーダーで検出される複数の原点信号の中から、任意の点を選択することが可能な変位検出装置を提供することを目的とする。なお、本発明に係る変位検出装置では、サブミクロンオーダーの場合にも有効である。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る変位検出装置は、上述の課題を解決するために、所定の間隔で回折格子が記録されている第1の領域と、上記第1の領域とは異なる間隔で回折格子が記録されており、当該回折格子により発生されるn次の回折光を遮光する遮光板又は反射する反射板が形成されている第2の領域とからなる移動可能なスケールと、上記第1の領域に記録されている回折格子により発生される回折光を読み取る第1の読取手段と、上記第1の読取手段により読み出した位置情報に基づき変位量を示すインクリメンタル信号を出力するインクリメンタル信号発生手段と、上記第1の読取手段により読み出した上記回折光に基づき第1の位相を検出する第1の位相検出手段と、上記第2の領域に記録されている回折格子により発生されるn次以外の回折光を読み取る第2の読取手段と、上記第2の読取手段により読み出した上記n次以外の回折光に基づき第2の位相を検出する第2の位相検出手段と、上記第1の位相と上記第2の位相とを比較する位相比較手段と、上記位相比較手段の比較結果に応じて、原点信号を発生する原点信号発生手段と、上記第2の領域に記録されている回折格子により発生されたn次の回折光の光量を検出する光量検出手段と、上記光量検出手段の検出結果に応じて上記原点信号発生手段から発生される原点信号の中から任意の原点信号を選択する選択手段とを備え、上記第1の領域と上記第2の領域は、同一の測定方向に等量分変位するように上記スケール上に形成されている。
【0007】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
【0008】
本発明は、例えば図1に示すような変位検出装置1に適用される。変位検出装置1は、第1の光学系10と、第2の光学系11と、スケール12と、インクリメンタル信号発生器13と、第1の位相検出器14と、第2の位相検出器15と、位相比較器16と、パルス信号発生器17と、原点信号選択部18と信号比較器19とを備える。
【0009】
第1の光学系10は、図1に示すように、可干渉光源部20と、第1のレンズ21と、第1の偏光ビームスプリッタ(PBS,polarization beam splitter)22と、第1の1/4波長板23と、反射プリズム24と、第2の1/4波長板25と、第2のレンズ26と、ビームスプリッタ(BS,beam splitter)27と、第2のPBS28と、第1の光電変換器29と、第2の光電変換器30と、第3の1/4波長板31と、第3のPBS32と、第3の光電変換器33と、第4の光電変換器34と、第1の差動増幅器35と、第2の差動増幅器36とを備え、スケール12上に記録された回折格子を読み取り、読み取った結果を、インクリメンタル信号発生器13及び第1の位相検出器14に出力する。
【0010】
ここで、スケール12について説明する。スケール12は、測定方向に対して一方の側に、ピッチ間隔がΛで回折格子が記録されている第1の領域12aが形成されており、他方の側に、ピッチ間隔がΛ+Λ/m(mは0以外の実数)で回折格子が記録されている第2の領域12bが形成されている。なお、第2の領域12bに形成されている回折格子のピッチ間隔は上記以外でも良い。
【0011】
例えば、Λは、0.55μmである。また、スケール12では、第1の領域12aへの光の入射点(P点、Q点)と、第2の領域12bへの光の入射点(R点、S点)は、測定方向にインラインに並んでいる。なお、第1の領域12aと第2の領域12bは、同一のスケール上に形成されていても良いし、別々のスケール上に形成されていても良い。別々のスケール上に形成される場合には、各スケールは、同じ基台の上に固定され、同一の変位方向に等量分変位するように形成する。
【0012】
また、スケール12の第2の領域12bの下部には、当該第2の領域2bに記録されている回折格子により発生された複数次数の回折光の中から所定次数の回折光の光量に変化を与える第1の遮光板62と第2の遮光板63が配設されている。なお、第1の遮光板62と第2の遮光板63は、所定間隔をおいて第2の領域12bの下部に配設されるが、その間隔は、後述する第1の光量検出器60及び第2の光量検出器61が回折格子により発生された複数次数の回折光の中から、どの回折光の光量を検出するかにより決定される。また、第1の遮光板62及び第2の遮光板63は、第2の領域12bの下部に固定されているため、スケール12の移動に伴って同方向に移動する。なお、第1の遮光板62及び第2の遮光板63は、第1の領域12aの一部に配設されていても良い。
【0013】
また、スケール12にホログラムスケールが使用されている場合には、その製造過程に現像処理を行なう工程があるため、酸化しやすい遮光板を直接ホログラムスケール上に配設することできないので、図2に示すように、回折格子が記録されているホログラム基板上に、当該回折格子を保護するために形成されるカバーガラスの面上に第1の遮光板62及び第2の遮光板63を配設することとする。
【0014】
また、スケール12は、図3に示すように、基板の一方の面に回折格子が記録され、他方の面に第1の遮光板62及び第2の遮光板63が配設される形態でも良い。
【0015】
可干渉光源部20は、第1のレンズ21に光を出射する。第1のレンズ21は、入射した光を適度に絞り、第1のPBS22に出射する。第1のPBS22は、入射された光をS偏光成分を有する光とP偏光成分を有する光の2つに分割する。第1のPBS22は、スケール12の第1の領域12aのP点までの光路とQ点までの光路が中心対称となるように、S偏光成分を有する光をP点に入射し、P偏光成分を有する光をQ点に入射する。なお、可干渉光源部20からの光が直線偏光の光であれば、偏光方向を45度傾けて第1のPBS22に入射させる。こうすることにより、S偏光成分の光とP偏光成分の光の強度を等しくすることができる。
【0016】
また、P点及びQ点に入射した光は、回折格子により以下の式で示される方向にそれぞれ回折される。
sinθ1+sinθ2=n・λ/Λ
なお、図1に示すように、θ1は、スケール12への入射角を示し、θ2は、スケール12からの回折角を示し、Λは、格子のピッチ(幅)を示し、λは、光の波長を示し、nは、回折次数を示している。
【0017】
変位検出装置1では、P点への入射角をθ1pとし、その回折角をθ2pとし、Q点への入射角をθ1qとし、その回折角をθ2qとすると、θ1p=θ1q、θ2p=θ2qになるように調整している。また、回折次数は、P点及びQ点で同次数とし、変位検出装置1では、回折次数は1次とする。
【0018】
P点で回折された光は、第1の1/4波長板23を通過し、反射プリズム24で垂直に反射され、再びP点に戻り回折格子により回折される。このとき、第1の1/4波長板23の光学軸は、入射された光の偏光方向に対して45度傾けてあるので、P点に戻った光はP偏光成分の光となっている。
【0019】
また、Q点で回折された光も同様に、第2の1/4波長板25を通過し、反射プリズム24で垂直に反射され、再びQ点に戻り回折格子により回折される。このとき、第2の1/4波長板25の光学軸は、入射された光の偏光方向に対して45度傾けてあるので、Q点に戻った光はS偏光成分の光となっている。
【0020】
このようにP点及びQ点で再び回折された光は、第1のPBS22に戻る。
【0021】
P点から戻ってきた光は、P偏光成分を有しているので、第1のPBS22を通過し、また、Q点から戻ってきた光は、S偏光成分を有しているので、第1のPBS22で反射される。したがって、P点及びQ点から戻ってきた光は、第1のPBS22で重ね合わされて、第2のレンズ26に入射する。
【0022】
ここで、第1のPBS22からP点を経て第1の1/4波長板23までの光路長と、第1のPBS22からQ点を経て第2の1/4波長板25までの光路長の関係について述べる。なお、変位検出装置1では、第1のPBS22からP点を経て第1の1/4波長板23までの光路と、第1のPBS22からQ点を経て第2の1/4波長板25までの光路とは、中心対称となっている。
【0023】
また、本実施例では、光源の波長の変動による誤差を生じさせないために、第1のPBS22で分割されたS偏光成分を有する光がP点を経て第1の1/4波長板23に達するまでの光路長と、第1のPBS22で分割されたP偏光成分を有する光がQ点を経て第2の1/4波長板25に達するまでの光路長とを等しく調整している。この調整の精度は、必要な測長精度と当該検出装置1が用いられる環境の温度条件に依存する。必要な測長精度をΔEとし、スケールのピッチをΛとし、光源の波長をλとし、温度変化による波長の変化量をΔλとすると光路長差ΔLは以下の式を満足している必要がある。
ΔE>Δλ/λ2×2×ΔL×Λ/4
例えば、使用される環境の温度変化量を10℃とすると、一般的に使用されている波長780nmの半導体レーザの波長変動は、約3nmなので、Λ=0.55μmとし、ΔE=0.1μmとするとΔL<74μmにする必要がある。このΔLを調整するためには適当な可干渉距離を有する光源を使用すればよい。
【0024】
一般に、干渉計における干渉縞の変調度を表すビジビリティは、光源の干渉性と、干渉する2つの光の光路長の差とによって決定される。シングルモード発振を行なっているレーザ等の干渉性の良い光源においては、光路長の差が大きくてもビジビリティが失われることはない。これに対して、干渉性の悪い光源においては、光路長の差の変化によって干渉縞のビジビリティが変化することが知られている。
【0025】
このような光源を用いれば、光路長の差が生じたときに干渉信号の変調度(ビジビリティ)の低下としてこれを検出することができるので、干渉信号の変調度が最大になるように調整することにより光路長を等しくすることができる。例えば、可干渉距離が200μm程度の発振波長がマルチモードの半導体レーザを用いれば光路長差をΔL<74μmに容易にあわせることができる。
【0026】
また、可干渉光源20としては、調整を行なうときのみ上記のように可干渉距離の制限された光源を用いるようにし、調整後に別のより安価な可干渉距離の長い光源(例えば、発振波長がシングルモードの一般的な半導体レーザ)に置き換えても良い。
【0027】
第2のレンズ26は、入力された光を適度に絞り、BS27に入射する。BS27は、入射された光を2つに分割し、一方の光を第2のPBS28に入射し、他方の光を第3の1/4波長板31に入射する。なお、第2のPBS28及び第3の1/4波長板31は、入射される光の偏光方向に対して45度にそれぞれ傾いている。
【0028】
第2のPBS28に入射された光は、S偏光成分を有する光とP偏光成分を有する光に分割され、S偏光成分を有する光を第1の光電変換器29に入射し、P偏光成分を有する光を第2の光電変換器30に入射する。また、第1の光電変換器29及び第2の光電変換器30では、Acos(4Kx+δ)の干渉信号が得られる。なお、Kは、2π/Λを示し、xは、移動量を示し、δは、初期位相を示している。また、第1の光電変換器29では、第2の光電変換器30と180度位相の異なる信号が得られる。
【0029】
また、第3の1/4波長板31に入射された光は、P偏光成分を有する光とS偏光成分を有する光とが互いに逆回りの円偏光となり、重ね合わされて直線偏光となり、第3のPBS32に入射する。第3のPBS32に入射された光は、S偏光成分を有する光とP偏光成分を有する光に分割され、S偏光成分を有する光を第3の光電変換器33に入射し、P偏光成分を有する光を第4の光電変換器34に入射する。なお、第3のPBS32に入射される直線偏光の偏光方向は、回折格子がx方向にΛ/2だけ移動すると1回転する。したがって、第3の光電変換器33及び第4の光電変換器34は、第1の光電変換器29及び第2の光電変換器30と同様にAcos(4Kx+δ')の干渉信号を得ることができる。
【0030】
また、第3の光電変換器33では、第4の光電変換器34と180度位相が異なる信号が得られる。なお、第3のPBS32は、第2のPBS28に対して45度傾けてある。したがって、第3の光電変換器33及び第4の光電変換器34で得られる信号は、第1の光電変換器29及び第2の光電変換器30で得られる信号に対して90度位相が異なっている。
【0031】
第1の差動増幅器35は、第1の光電変換器29及び第2の光電変換器30から入力される電気信号を差動増幅し、干渉信号のDC(直流)成分をキャンセルした信号をインクリメタル信号発生器13及び第1の位相検出器14に出力する。また、第2の差動増幅器36も同様に、第3の光電変換器33及び第4の光電変換器34から入力される電気信号を差動増幅し、干渉信号のDC(直流)成分をキャンセルした信号をインクリメンタル信号発生器13及び第1の位相検出器14に出力する。
【0032】
インクリメンタル信号発生器13は、第1の差動増幅器35及び第2の差動増幅器36から供給された信号に基づき、スケールの変位方向及び変位量を求め、インクリメンタル信号を発生し、当該インクリメンタル信号を図示しない制御回路に出力する。
【0033】
第1の位相検出器14は、第1の差動増幅器35及び第2の差動増幅器36から供給される信号に基づき、図4に示すようなリサージュ信号の角度θaを求める。第1の位相検出器14は、求めた角度θaを位相比較器16に供給する。
【0034】
また、第2の光学系11は、図1に示すように、可干渉光源部40と、第1のレンズ41と、第1の偏光ビームスプリッタ(PBS,polarization beam splitter)42と、第1の1/4波長板43と、反射プリズム44と、第2の1/4波長板45と、第2のレンズ46と、ビームスプリッタ(BS,beam splitter)47と、第2のPBS48と、第1の光電変換器49と、第2の光電変換器50と、第3の1/4波長板51と、第3のPBS52と、第3の光電変換器53と、第4の光電変換器54と、第1の差動増幅器55と、第2の差動増幅器56と、第1の光量検出器60と、第2の光量検出器61とを備え、スケール12上に記録された回折格子の位置を読み取り、読み取った結果を第2の位相検出器15に出力し、また、第1の光量検出器60と第2の光量検出器61の出力信号を信号比較器19に供給する。なお、第2の光学系11において、第1の光量検出器60と第2の光量検出器61の動作以外は、上述した第1の光学系10と同様であるので、詳細な説明は省略する。
【0035】
第1の光量検出器60は、第2の領域12bを透過してきた回折光の光量を検出し、その光量に基づき電気信号に変換し、当該電気信号を信号比較器19に出力する。第2の光量検出器61は、第2の領域12bを透過してきた回折光の光量を検出し、その光量に基づき電気信号に変換し、当該電気信号を信号比較器19に出力する。なお、第1の光量検出器60及び第2の光量検出器61は、同次数の回折光の光量を検出する。
【0036】
ここで、第1の光量検出器60と第2の光量検出器61の動作について説明する。第1のPBS42は、第1のレンズ41を介して可干渉光源部40から入力された光をP偏光成分を有する光とS偏光成分を有する光に分割する。P偏光成分を有する光及びS偏光成分を有する光は、第2の領域12bに入射され、回折格子により回折され、それぞれ当該回折格子により複数次数の回折光を発生する。また、第2の領域12bの下部には、上述したように回折光の光量に変化を与える第1の遮光板62と第2の遮光板63が配設されている。
【0037】
P偏光成分を有する光は、例えば、図1に示すように、第2の領域12bのS点に入射し、S点の回折格子により回折される。そして、回折により得られた0次回折光(以下、第1の0次回折光という。)が、第1の遮光板62のT点(エッジ部分)を通過して、第1の光量検出器60に入射する。第1の光量検出器60は、入射された第1の0次回折光を光量に基づき所定の大きさの電気信号に変換し、変換後の電気信号を信号比較器19に出力する。
【0038】
また、S偏光成分を有する光は、例えば、図1に示すように、第2の領域12bのR点に入射し、R点の回折格子により回折される。そして、回折により得られた0次回折光(以下、第2の0次回折光という。)が、第2の遮光板63のU点(エッジ部分)を通過して、第2の光量検出器61に入射する。第2の光量検出器61は、入射された第2の0次回折光を光量に基づき所定の大きさの電気信号に変換し、変換後の電気信号を信号比較器19に出力する。なお、第1の光量検出器60及び第2の光量検出器61は、入射される0次回折光が遮光板に遮られることなく入射された場合、つまり最大光量で入射された場合には、当該光量に応じた電気信号(最大値)に変換し、信号比較器19に出力し、一方、入射される0次回折光が遮光板に遮られた場合、つまり0次回折光が入射されない場合には、最小値の電気信号を生成し、信号比較器19に出力する。
【0039】
信号比較器19は、第1の光量検出器60及び第2の光量検出器61から供給された信号の差分が所定の値(例えば、0)になったときに、所定の信号を生成し、後述する原点信号選択部18に出力する。
【0040】
ここで、例えば、図5に示すように、スケール12が所定の測定方向(a方向)に移動(図5(A)→図5(C))する場合における、第1の光量検出器60及び第2の光量検出器61に入力される0次回折光の光量変化について図6を用いて説明する。なお、図5(A)〜(C)は、スケール12の第2の領域12b付近のみを示し、他の部分は図1と同様であるため省略する。
【0041】
図5(A)に示すように、第1の0次回折光が第1の遮光板62に遮られず、また、第2の0次回折光が第2の遮光板63に遮られる位置にスケール12が移動した場合には、第1の光量検出器60には、第1の0次回折光が最大光量で入射され、一方、第2の光量検出器61には、第2の0次回折光が入射されない。第1の光量検出器60は、変換後の電気信号(最大値)を信号比較器19に出力する(図6中a点)。また、信号比較器19では、第2の光量検出器61から電気信号が供給されないため、第2の光量検出器61の出力信号を便宜的に最小値とする(図6中b点)。
【0042】
また、図5(B)に示すように、第1の0次回折光が第1の遮光板62のエッジを通過し、また、第2の0次回折光が同様に第2の遮光板63エッジを通過する位置にスケール12が移動した場合には、第1の光量検出器60には、第1の0次回折光が中程度の光量で入射され、一方、第2の光量検出器61には、第2の0次回折光が中程度の光量で入射される。第1の光量検出器60は、変換後の電気信号を信号比較器19に出力する(図6中c点)。また、第2の光量検出器61は、変換後の電気信号を信号比較器19に出力する(図6中c点)。したがって、0次回折光がともに遮光板のエッジを通過する場合には、第1の光量検出器60と第2の光量検出器61に同程度の光量の回折光が入射されるので、信号比較器19には、第1の光量検出器60と第2の光量検出器61から同程度の出力信号が供給される。
【0043】
また、図5(C)に示すように、第1の0次回折光が第1の遮光板62に遮られ、また、第2の0次回折光が第2の遮光板63に遮られない位置にスケール12が移動した場合には、第1の光量検出器60には、第1の0次回折光が入射されず、一方、第2の光量検出器61には、第2の0次回折光が最大光量で入射される。また、第2の光量検出器61は、変換後の電気信号(最大値)を信号比較器19に出力する(図6中d点)。また、信号比較器19は、第1の光量検出器60から電気信号が供給されないため、第1の光量検出器60の出力信号を便宜的に最小値とする(図6中e)。
【0044】
信号比較器19では、上述のように第1の光量検出器60から供給される電気信号と第2の光量検出器61から供給される電気信号の差分を求めることにより、図7に示すように、第1の光量検出器60と第2の光量検出器61から供給される電気信号の強度(出力)が等しい一点を検出することができる。なお、第1の光量検出器60と第2の光量検出器61の電気信号の出力が等しい一点は、図5(B)に示すように第1の0次回折光と第2の0次回折光がともに遮光板のエッジを通過するような場合である。また、第1の光量検出器60と第2の光量検出器61の電気信号の出力を等しくするためには、第1の遮光板62及び第2の遮光板63が所定間隔に配設されていることや、第1の光量検出器60及び第2の光量検出器61が検出する所定次数の回折光が遮光板のエッジに入射する点がほぼ一致すること等が条件となる。なお、第1の遮光板62と第2の遮光板63の所定間隔は、第1の光量検出器60及び第2の光量検出器61が検出する回折光の次数に応じて変化する。
【0045】
また、信号比較器19は、第1の光量検出器60及び第2の光量検出器61から供給された電気信号の振幅がほぼ等しい場合には、図7に示すように、可干渉光源部40の光量が低下しても、正確に第1の光量検出器60と第2の光量検出器61から供給される信号の強度が等しい位置を特定することができる。なお、第1の光量検出器60及び第2の光量検出器61から供給される電気信号の振幅が等しくない場合には、信号比較器19に入力する前に増幅回路でゲインを調整し、互いの信号振幅が等しくなるようにする。
【0046】
また、信号比較器19は、第1の0次回折光と第2の0次回折光の信号強度が等しいとき(差分が0のとき)に所定の信号を生成し、当該信号を後述する原点信号選択部18に出力する。
【0047】
なお、第1の光量検出器60及び第2の光量検出器61は、0次回折光以外の回折光の光量を検出しても良い。また、第1の遮光板62及び第2の遮光板63は、スケール12の第1の領域12aの下部に配設されても良い。この場合には、第1の光量検出器60及び第2の光量検出器61は、第1の光学系10に備えられる。
【0048】
また、変位検出装置1は、図8に示すようにスケール12の第2の領域12bの下部に配設されている第1の遮光板62及び第2の遮光板63に替えて、反射板64を使用し、また、第1の光量検出器60及び第2の光量検出器61に替えて、透過光検出器65及び反射光検出器66を使用するような構成でも良い。ここで、透過光検出器65及び反射光検出器66の動作について説明する。なお、図8は、スケール12の第2の領域12b付近のみを示し、それ以外の部分は、図1と同様であるため省略する。
【0049】
第1のPBS42は、第1のレンズ41を介して可干渉光源部40から入力された光をP偏光成分を有する光とS偏光成分を有する光に分割する。S偏光成分を有する光は、例えば、図8に示すように、第2の領域12bのR点に入射し、R点の回折格子により回折される。そして、回折により得られた0次回折光が例えば、反射板64のV点(エッジ部分)に入射されると、反射光と透過光とに分かれ、透過光は、透過光検出器65に入射され、一方、反射光は、反射光検出器66に入射される。
【0050】
透過光検出器65は、入射された透過光を光量に基づき所定の大きさの電気信号に変換し、変換後の電気信号を信号比較器19に出力する。また、反射光検出器66は、入射された反射光を光量に基づき所定の大きさの電気信号に変換し、変換後の電気信号を信号比較器19に出力する。
【0051】
透過光検出器65に入射される透過光の光量と反射光検出器66に入射される反射光の光量とは、反射板64(スケール12)と透過光検出器65及び反射光検出器66が備えられている第2の光学系11との相対的な位置関係により増減する。例えば、0次回折光の進行方向に反射板64が無ければ、0次回折光はすべて透過光となり透過光検出器65に入射される。したがって、透過光検出器65は、最大光量で入射された透過光を電気信号(最大値)に変換して信号比較器19に出力する。なお、この場合、信号比較器19では、反射光検出器66から電気信号が供給されないため、反射光検出器66の出力信号を便宜的に最小値とする。
【0052】
また、0次回折光の進行方向に反射板64のエッジ以外の部分がある場合には、0次回折光はすべて反射光となり反射光検出器66に入射する。したがって、反射光検出器66は、最大光量で入射された反射光を電気信号(最大値)に変換して信号比較器19に出力する。この場合、信号比較器19では、透過光検出器65から電気信号が供給されないため、透過光検出器65の出力信号を便宜的に最小値とする。
【0053】
信号比較器19では、上述のように反射光検出器66から供給される電気信号と透過光検出器65から供給される電気信号の差分を求めることにより、反射光検出器66と透過光検出器65から供給される電気信号の強度(出力)が等しい一点を検出することができる。なお、反射光検出器66と透過光検出器65の電気信号の出力が等しい一点は、0次回折光が反射板64のエッジ部分に入射するような場合である。
【0054】
また、信号比較器19では、透過光検出器65及び反射光検出器66から供給された電気信号の振幅がほぼ等しい場合には、可干渉光源部40の光量が低下しても、正確に互いの信号強度の等しい位置を特定することができる。なお、透過光検出器65及び反射光検出器66から供給される電気信号の振幅が等しくない場合には、信号比較器19に入力する前に増幅回路でゲインを調整し、互いの信号振幅が等しくなるようにする。
【0055】
また、信号比較器19は、0次回折光の信号強度が等しいとき(差分が0のとき)に所定の信号を生成し、当該信号を後述する原点信号選択部18に出力する。
【0056】
なお、透過光検出器65及び反射光検出器66は、0次回折光以外の回折光の光量を検出しても良い。また、反射板64は、スケール12の第1の領域12aの下部に配設されていても良い。この場合には、透過光検出器65及び反射光検出器66は、第1の光学系10に備えられる。
【0057】
第2の位相検出器15は、第1の位相検出器14と同様に、第1の差動増幅器55及び第2の差動増幅器56から供給される信号に基づき、リサージュ信号の角度θbを求める。第2の位相検出器15は、求めた角度θbを位相比較器16に出力する。
【0058】
ここで、位相比較器16の動作について説明する。第1の位相検出器14では、スケール12が所定の測定方向にΛ/4だけ変位すると、リサージュ信号の角度θaが一回転する。また、第2の位相検出器15では、スケール12が所定の測定方向に(Λ+Λ/m)/4だけ変位すると、リサージュ信号の角度θbが一回転する。
【0059】
位相比較器16は、第1の位相検出器14から入力したリサージュ信号の角度θaと、第2の位相検出器15から入力したリサージュ信号の角度θbとの差分Δθ(Δθ=θa−θb)を求める。この差分Δθは、スケール12の変位に応じて変化し、スケール12が所定の測定方向にΛ(1+m)/4だけ変位するともとの値と同じになる。
【0060】
位相比較器16は、差分Δθをパルス信号発生器17に出力する。パルス信号発生器17は、位相比較器16から入力した差分Δθが所定の値Δθcとなったときにパルス信号を生成し、生成したパルス信号を原点信号選択部18に出力する。例えば、差分Δθが、スケール12の所定の測定方向にΛ(1+m)/4ごとにもとの値と同じになるのであれば、パルス信号発生器17は、Λ(1+m)/4ごとにパルス信号を発生する。
【0061】
また、パルス信号発生器17は、上記の値Δθc(以下、設定値という。)を任意に設定することができる。パルス信号発生器17は、例えば、設定値を検出が容易な0度に設定すると、位相比較器16から入力された差分Δθが0度のときにパルス信号を発生する。
【0062】
また、パルス信号発生器17は、第1の光学系10及び第2の光学系11の間隔と、スケール12の第1の領域12a及び第2の領域12bの間隔が変化しなければ、所定間隔ごとにパルス信号を発生するので、このパルス信号を原点信号として利用することが可能である。また、この原点信号の発生間隔は、第1の領域12aに記録されている回折格子の格子ピッチと、第2の領域12bに記録されている格子ピッチとの差分Λ/mに応じて任意に設定することが可能である。
【0063】
ここで、パルス信号発生器17が発生するパルス信号の分解能について述べる。パルス信号を原点信号に利用する場合には、周期が長いほど良いので、mが大きいほど良い。
【0064】
しかし、2つの位相差が一致したところからリサージュが一周回った点では、位相差がΛ/4mしか現れないので、一致したということがこのΛ/4mよりも精度良く検出することができないと、位置をΛ/4だけ間違えてしまうことになる。2つの位相差をどのくらい分解能が良く検出できるかは、2つの位相差を読み出す精度とS/Nによるため、結果として、これがmの大きさを制限してしまう。
【0065】
例えば、変位検出装置1では格子ピッチを0.55μmとし、mを100とすると繰り返し原点は、約13.9μmごとに1回現れる。このとき必要な分解能は、分解能をΛ/4mとしたときに最低でもm=200〜400が必要で、分解能は高ければ高いほど良い。例えば、m=100の場合には、Λ/4位置が変化しても位相差は2π/100にしかならないため、位相差が分解能の幅に入る距離はΛ/4の幅になる。この幅を狭めるためには、分解能を上げることになり、m=1000の場合には、Λ/(4×10)の幅となる。
【0066】
しかしながら、S/Nの問題があるために分解能を上げることは簡単ではない。そのため位相差の一致を検出する信号をゲートとして信号の1波長(Λ/4)を選択し、その中のΛ/4の決められた一方の信号の位相が特定位相になったときに原点信号を発生するようにすることは有効である。これにより原点の精度と分解能が位相差検出分解能まで上げることができる。なお、本発明に係る実施の形態では、原点の精度を0.3nm〜0.7nm程度まで上げることができる。
【0067】
また、パルス信号発生器17は、当該変位検出装置1が測定対象の装置に取り付けられた後に、ユーザーにより設定値を変更できるようにしても良い。なお、この場合には、初期設定では、設定値を適当な値にしておき、ユーザーからの問い合せに応じて上記設定値を変更するプログラムを配布する。
【0068】
また、パルス信号発生器17は、位相比較器16から入力された差分Δθが設定値になった回数を数え、上記回数が所定の値に達したときにパルス信号を発生するようにしても良い。
【0069】
また、パルス信号発生器17は、差分Δθが設定値に達した後に、第1の位相検出器14で生成されるリサージュ信号の角度θa(以下、角度θaという。)又は第2の位相検出器15で生成されるリサージュ信号の角度θb(以下、角度θbという。)が任意の角度θnに達したときに原点信号を発生するようにしても良い。また、パルス信号発生器17は、差分Δθが設定値に達した後に、任意の角度θnに角度θa又は角度θbが達し、そこから所定距離離れた位置に再び現れる任意の角度θnに角度θa又は角度θbが達したときに原点信号を発生するようにしても良い。なお、上記所定距離は、(2m+1)Λ/2であり、mは、0以上の整数であり、Λは、パルス信号発生器17がスケール12の第1の領域12aを原点信号の発生に利用する場合には、第1の領域12aに記録されている回折格子のピッチ間隔であり、パルス信号発生器17がスケール12の第2の領域12bを原点信号の発生に利用する場合には、第2の領域12bに記録されている回折格子のピッチ間隔である。
【0070】
なお、パルス信号発生器17は、当該変位検出装置1が測定対象の装置に取り付けられた後に、ユーザーにより角度θnを変更できるようにしても良い。この場合には、初期設定では、角度θnを適当な値にしておき、ユーザーからの問い合せに応じて上記角度θnを変更するプログラムを配布する。
【0071】
原点信号選択部18は、上述した信号比較器19から供給される信号に基づき、パルス信号発生器17から供給されるΛ(1+m)/4周期のパルス信号の中から任意のパルス信号を唯一の原点信号として出力する。原点信号選択部18は、例えば、信号比較器19から信号が供給されたあとに、パルス信号発生器17から供給される最初のパルス信号を原点信号として出力する。また、原点信号選択部18により選択された原点信号は、インクリメンタル信号発生器13のインクリメンタル信号が供給されている図示しない制御回路に入力される。制御回路では、例えば、所定の周期で入力されてくるインクリメンタル信号のプリセットをとるタイミングに原点信号を利用することができる。
【0072】
このように構成された変位検出装置1は、測定方向に対して一方の側に、ピッチ間隔がΛで回折格子が記録されている第1の領域12aと、他方の側にピッチ間隔がΛ+Λ/m(mは測定方向に所定量変位する。)で回折格子が記録されている第2の領域12bとが形成されているスケール12に、入射光の回折点がインラインに並ぶように、第1の光学系10及び第2の光学系11で光を中心対称に入射し、回折格子により回折された光を干渉し、第1の位相検出器14及び第2の位相検出器15で上記干渉光からそれぞれ位相差を検出し、位相比較器16で上記位相差の差分を検出し、パルス信号発生器17で上記差分が所定の値となったときにパルス信号を発生し、原点信号選択部18で信号比較器19から供給されてくる信号に基づき、パルス信号発生器17から供給されてくる複数のパルス信号の中から任意のパルス信号を原点信号として選択することができる。
【0073】
また、変位検出装置1は、格子干渉計である第1の光学系10及び第2の光学系11を用いているので、スケール12を形成している第1の領域12aと第2領域12bに記録されている回折格子の格子ピッチを小さくすることができ、例えば、格子ピッチを0.55μmとすると、位相を検出するための信号は0.1379・・・μm(≒138nm)の周期の信号となり、高い精度での位相差検出ができ、ナノメーターオーダーで原点信号を得ることができ、さらにナノメーターオーダーで得た複数の原点信号の中から任意の信号を原点信号として選択することができる。
【0074】
また、上述の説明では、変位検出装置1としてリニアな透過型の回折格子が記録されたスケールを用いていたが、ロータリーエンコーダに使用されるような放射状の回折格子を用いても良いし、反射型の回折格子を用いても良い。
【0075】
反射型の回折格子を用いた変位検出装置1では、図9に示すように、第1の光学系10において、第1のPBS22で分割された光がそれぞれ第1の領域12aに入射し、記録されている反射型の回折格子により発生された回折光の反射光がそれぞれ第1の1/4波長板23及び第2の1/4波長板25を通過して反射プリズム24に入射し、反射プリズム24で反射された反射光が再び第1の領域12aを経て第1のPBS22に戻ってくる構成となっており、また、第2の光学系11において、第1のPBS42で分割された光がそれぞれ第2の領域12bに入射し、記録されている反射型の回折格子により発生された所定次数の回折光の反射光がそれぞれ第1の1/4波長板43及び第2の1/4波長板45を通過して反射プリズム44に入射し、反射プリズム44で反射された反射光が再び第2の領域12bを経て第1のPBS42に戻り、かつ、上記所定次数以外の回折光(0次光を含む。)の反射光がそれぞれ第1の光量検出器60及び第2の光量検出器61に入射され、入射された回折光の光量に基づき生成した電気信号を信号比較器19に出力する構成となっている。なお、上記以外の動作については、図1に示した透過型の回折格子を用いた変位検出装置1と同様であるので説明を省略する。
【0076】
また、変位検出装置1は、スケール12が移動するのではなく、光学系が移動するような構成にしても良い。
【0077】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明に係る変位検出装置は、測定方向に対して、所定の間隔で回折格子が記録されている第1の領域と、第1の領域とは異なる間隔で回折格子が記録されており、当該回折格子により発生されるn次の回折光を遮光する遮光板又は反射する反射板が形成されている第2の領域とからなる移動可能なスケールに、第1の光学系及び第2の光学系により光を中心対称に入射し、回折格子により回折された光を合成し、第1の位相検出器及び第2の位相検出器で当該合成光からそれぞれ位相差を検出し、位相比較器で当該位相差の差分を検出し、パルス信号発生器で当該差分が所定の値となったときにナノメートルオーダーでパルス信号を原点信号選択部に出力し、光量検出部で第2の領域に記録されている回折格子により発生されたn次の回折光の光量を検出し、光量検出部の検出結果に基づき、原点信号選択部でパルス信号発生器から供給されてくるナノメートルオーダーのパルス信号の中から任意のパルス信号を原点信号として選択するので、極めて密度の高い回折格子が記録されているスケールを用いて、高精度な絶対位置の検出を行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用した変位検出装置の第1の構成例を示すブロック図である。
【図2】本発明を適用した変位検出装置に備えられているスケールの第1の構成例を示す模式図である。
【図3】本発明を適用した変位検出装置に備えられているスケールの第2の構成例を示す模式図である。
【図4】本発明を適用した変位検出装置により生成されるリサージュ信号の角度を示す図である。
【図5】スケールの移動に伴い光量検出器に入力される光の光量が変化する様子を示す図である。
【図6】図5に示したスケールの変位に応じて変化する各光量検出器の電気信号の出力特性を示す図である。
【図7】本発明を適用した変位検出装置に備えられている信号比較器の差動出力を示す図である。
【図8】本発明を適用した変位検出装置の第2の構成例(要部)を示すブロック図である。
【図9】反射型の回折格子が記録されている場合において、本発明を適用した変位検出装置の構成例を示すブロック図である。
【符号の説明】
1 変位検出装置、10 第1の光学系、11 第2の光学系、12 スケール、13 インクリメンタル信号発生器、14 第1の位相検出器、15 第2の位相検出器、16 位相比較器、17 パルス信号発生器、18 原点信号選択部、19 振幅信号出力部、20,40 可干渉光源部、21、41 第1のレンズ、22,42 第1のPBS、23,43 第1の1/4波長板、24,44 反射プリズム、25,45 第2の1/4波長板、26,46 第2のレンズ、27,47 BS、28,48 第2のPBS、29,49 第1の光電変換器、30,50 第2の光電変換器、31,51 第3の1/4波長板、32,52 第3のPBS、33,53 第3の光電変換器、34,54 第4の光電変換器、35,55 第1の差動増幅器、36,56 第2の差動増幅器、60 第1の光量検出器、61 第2の光量検出器、62 第1の遮光板、63第2の遮光板、64 反射板、65 透過光検出器、66 反射光検出器[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a displacement detection device that detects the amount of displacement (movement) of a scale by using interference of light.
[0002]
[Prior art]
In general, in a displacement detection apparatus, in order to obtain the origin by comparing the respective phases using a vernier scale, if the wavelengths of the two gratings are λ and (λ + λ / m), respectively, the phase matching interval Is λ (1 + m) (where m is a real number other than 0), and a plurality of origins periodically exist in the measurement direction (see, for example, Patent Document 1). When λ is sufficiently large, each origin can be easily determined, and an arbitrary point can be selected from a plurality of origins by an external fixed point detection means. However, when λ is very small, the intervals between the plurality of origins become fine and selection becomes difficult. For example, when λ = 0.137 μm and m = 50, the interval is 6.987 μm, and it is difficult to select an arbitrary point by an external fixed point detection unit. Note that m is a real number other than 0.
[0003]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Publication No. 50-23618
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
Such a displacement detection apparatus is used for an X-ray exposure drawing apparatus for manufacturing an integrated circuit and precision machining. At this time, in order to measure an accurate position or distance, it is necessary to set a reference point or origin in addition to the incremental signal indicating the movement amount. In the displacement detector, if the wavelengths of the two gratings are λ and (λ + λ / m), respectively, the phase matching interval is λ (1 + m), and there are a plurality of origins periodically in the measurement direction. An arbitrary point must be selected from the list. On the other hand, with the recent increase in recording density of X-ray exposure drawing apparatuses and the like, the wavelength of the incremental signal becomes finer and the interval at which the phases coincide with each other tends to become finer.
[0005]
Therefore, an object of the present invention is to provide a displacement detection apparatus that can select an arbitrary point from among a plurality of origin signals detected in the order of nanometers (nm). Note that the displacement detection device according to the present invention is also effective in the submicron order.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-described problem, the displacement detection apparatus according to the present invention records a first region where the diffraction grating is recorded at a predetermined interval, and a diffraction grating is recorded at a different interval from the first region. A movable scale comprising a light shielding plate for shielding n-th order diffracted light generated by the diffraction grating or a second region on which a reflecting plate for reflecting is formed, and recording in the first region. First reading means for reading the diffracted light generated by the diffraction grating being applied; An incremental signal generating means for outputting an incremental signal indicating the amount of displacement based on the position information read by the first reading means; Non-nth order diffraction generated by a first phase detecting means for detecting a first phase based on the diffracted light read by the first reading means and a diffraction grating recorded in the second region. A second reading means for reading light; a second phase detecting means for detecting a second phase based on diffracted light other than the n-th order read by the second reading means; the first phase; Generated by a phase comparison means for comparing the second phase, an origin signal generation means for generating an origin signal in accordance with a comparison result of the phase comparison means, and a diffraction grating recorded in the second area. A light quantity detection means for detecting the light quantity of the nth-order diffracted light, and a selection means for selecting an arbitrary origin signal from the origin signals generated from the origin signal generation means according to the detection result of the light quantity detection means, Comprising the first region The second region is formed on said scaled to equal volume fraction displaced in the same measurement direction.
[0007]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0008]
The present invention is applied to, for example, a
[0009]
As shown in FIG. 1, the first
[0010]
Here, the
[0011]
For example, Λ is 0.55 μm. Further, in the
[0012]
In addition, at the lower part of the
[0013]
In addition, when a hologram scale is used for the
[0014]
Further, as shown in FIG. 3, the
[0015]
The coherent
[0016]
In addition, the light incident on the P point and the Q point is diffracted by the diffraction grating in the directions indicated by the following expressions.
sinθ 1 + Sinθ 2 = N · λ / Λ
In addition, as shown in FIG. 1 Indicates the angle of incidence on the
[0017]
In the
[0018]
The light diffracted at the point P passes through the first quarter-wave plate 23, is reflected vertically by the reflecting
[0019]
Similarly, the light diffracted at the Q point passes through the second quarter-
[0020]
Thus, the light diffracted again at the P point and the Q point returns to the
[0021]
Since the light returning from the P point has a P-polarized component, the light passes through the
[0022]
Here, the optical path length from the
[0023]
Further, in this embodiment, in order not to cause an error due to the fluctuation of the wavelength of the light source, the light having the S-polarized component divided by the
ΔE> Δλ / λ 2 × 2 × ΔL × Λ / 4
For example, when the temperature change amount of the environment used is 10 ° C., the wavelength variation of a commonly used semiconductor laser having a wavelength of 780 nm is about 3 nm, so that Λ = 0.55 μm and ΔE = 0.1 μm. Then, it is necessary to make ΔL <74 μm. In order to adjust this ΔL, a light source having an appropriate coherence distance may be used.
[0024]
In general, the visibility representing the degree of modulation of interference fringes in an interferometer is determined by the coherence of the light source and the difference in the optical path lengths of the two interfering lights. In a light source with good coherence, such as a laser that performs single mode oscillation, visibility is not lost even if the difference in optical path length is large. On the other hand, it is known that the visibility of interference fringes changes due to a change in optical path length difference in a light source with poor coherence.
[0025]
If such a light source is used, this can be detected as a decrease in the degree of modulation (visibility) of the interference signal when a difference in optical path length occurs, so adjustment is made so that the degree of modulation of the interference signal is maximized. Thus, the optical path length can be made equal. For example, if a multimode semiconductor laser having an oscillation wavelength of about 200 μm is used, the optical path length difference can be easily adjusted to ΔL <74 μm.
[0026]
Further, as the coherent
[0027]
The
[0028]
The light incident on the
[0029]
In addition, the light incident on the third
[0030]
In the third
[0031]
The first differential amplifier 35 differentially amplifies the electrical signal input from the first photoelectric converter 29 and the second photoelectric converter 30 and increments the signal obtained by canceling the DC (direct current) component of the interference signal. Output to the
[0032]
The
[0033]
The
[0034]
In addition, as shown in FIG. 1, the second optical system 11 includes a coherent
[0035]
The first
[0036]
Here, the operation of the first
[0037]
For example, as shown in FIG. 1, the light having the P-polarized component is incident on the S point of the
[0038]
For example, as shown in FIG. 1, the light having the S-polarized component is incident on the R point of the
[0039]
The
[0040]
Here, for example, as shown in FIG. 5, when the
[0041]
As shown in FIG. 5A, the
[0042]
Further, as shown in FIG. 5B, the first 0th-order diffracted light passes through the edge of the first light-shielding
[0043]
Further, as shown in FIG. 5C, the first 0th order diffracted light is blocked by the first
[0044]
As shown in FIG. 7, the
[0045]
In addition, when the amplitudes of the electrical signals supplied from the first
[0046]
The
[0047]
The first
[0048]
Further, as shown in FIG. 8, the
[0049]
The
[0050]
The transmitted
[0051]
The amount of transmitted light incident on the transmitted
[0052]
If there is a portion other than the edge of the reflecting plate 64 in the traveling direction of the 0th-order diffracted light, all the 0th-order diffracted light becomes reflected light and enters the reflected
[0053]
In the
[0054]
In the
[0055]
Further, the
[0056]
The transmitted
[0057]
Similar to the
[0058]
Here, the operation of the
[0059]
The
[0060]
The
[0061]
In addition, the
[0062]
Further, the
[0063]
Here, the resolution of the pulse signal generated by the
[0064]
However, since the phase difference appears only at Λ / 4m at the point where the Lissajous makes a round from where the two phase differences coincide, it can be detected that the coincidence is more accurate than this Λ / 4m. The position will be mistaken by Λ / 4. How well the two phase differences can be detected depends on the accuracy of reading the two phase differences and the S / N, and as a result, this limits the size of m.
[0065]
For example, in the
[0066]
However, it is not easy to increase the resolution due to the problem of S / N. Therefore, one wavelength (Λ / 4) of the signal is selected by using the signal for detecting the coincidence of the phase difference as a gate, and the origin signal is obtained when the phase of one of the signals determined as Λ / 4 becomes a specific phase. It is effective to generate As a result, the accuracy and resolution of the origin can be increased to the phase difference detection resolution. In the embodiment according to the present invention, the accuracy of the origin can be increased to about 0.3 nm to 0.7 nm.
[0067]
Further, the
[0068]
Further, the
[0069]
Further, the
[0070]
The
[0071]
Based on the signal supplied from the
[0072]
The
[0073]
Further, since the
[0074]
Further, in the above description, a scale in which a linear transmission type diffraction grating is recorded is used as the
[0075]
In the
[0076]
Further, the
[0077]
【The invention's effect】
As described above in detail, the displacement detection device according to the present invention diffracts the first region where the diffraction grating is recorded at a predetermined interval with respect to the measurement direction, and the first region has a different interval. A first scale is formed on a movable scale including a second region in which a grating is recorded and a light shielding plate for shielding n-th order diffracted light generated by the diffraction grating or a reflecting plate for reflecting is formed. The light is incident on the optical system and the second optical system symmetrically, and the light diffracted by the diffraction grating is synthesized. The phase difference is respectively obtained from the synthesized light by the first phase detector and the second phase detector. The phase difference is detected by the phase comparator, and when the difference reaches a predetermined value by the pulse signal generator, the pulse signal is output to the origin signal selection unit in nanometer order, and the light amount detection unit Diffraction grating recorded in the second area at Detects the light quantity of the nth-order diffracted light generated by the light source, and based on the detection result of the light quantity detector, an arbitrary pulse from the nanometer order pulse signal supplied from the pulse signal generator by the origin signal selector Since the signal is selected as the origin signal, it is possible to detect the absolute position with high accuracy using a scale on which a diffraction grating with extremely high density is recorded.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a block diagram showing a first configuration example of a displacement detection apparatus to which the present invention is applied.
FIG. 2 is a schematic diagram showing a first configuration example of a scale provided in a displacement detection device to which the present invention is applied.
FIG. 3 is a schematic diagram showing a second configuration example of a scale provided in a displacement detection device to which the present invention is applied.
FIG. 4 is a diagram illustrating an angle of a Lissajous signal generated by a displacement detection device to which the present invention is applied.
FIG. 5 is a diagram illustrating a state in which the amount of light input to the light amount detector changes as the scale moves.
6 is a diagram showing output characteristics of electric signals of each light quantity detector that changes in accordance with the displacement of the scale shown in FIG.
FIG. 7 is a diagram illustrating a differential output of a signal comparator provided in a displacement detection device to which the present invention is applied.
FIG. 8 is a block diagram showing a second configuration example (main part) of a displacement detection apparatus to which the present invention is applied.
FIG. 9 is a block diagram showing a configuration example of a displacement detection device to which the present invention is applied when a reflection type diffraction grating is recorded.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (8)
上記第1の領域に記録されている回折格子により発生される回折光を読み取る第1の読取手段と、
上記第1の読取手段により読み出した位置情報に基づき変位量を示すインクリメンタル信号を出力するインクリメンタル信号発生手段と、
上記第1の読取手段により読み出した上記回折光に基づき第1の位相を検出する第1の位相検出手段と、
上記第2の領域に記録されている回折格子により発生されるn次以外の回折光を読み取る第2の読取手段と、
上記第2の読取手段により読み出した上記n次以外の回折光に基づき第2の位相を検出する第2の位相検出手段と、
上記第1の位相と上記第2の位相とを比較する位相比較手段と、
上記位相比較手段の比較結果に応じて、原点信号を発生する原点信号発生手段と、
上記第2の領域に記録されている回折格子により発生されたn次の回折光の光量を検出する光量検出手段と、
上記光量検出手段の検出結果に応じて上記原点信号発生手段から発生される原点信号の中から任意の原点信号を選択する選択手段とを備え、
上記第1の領域と上記第2の領域は、同一の測定方向に等量分変位するように上記スケール上に形成されていることを特徴とする変位検出装置。A diffraction grating is recorded at a different interval from the first area where the diffraction grating is recorded at a predetermined interval and the first area, and the nth-order diffracted light generated by the diffraction grating is shielded. A movable scale composed of a second region where a light-shielding plate or a reflecting plate is formed;
First reading means for reading diffracted light generated by the diffraction grating recorded in the first region;
An incremental signal generating means for outputting an incremental signal indicating the amount of displacement based on the position information read by the first reading means;
First phase detection means for detecting a first phase based on the diffracted light read by the first reading means;
Second reading means for reading diffracted light other than the nth order generated by the diffraction grating recorded in the second region;
Second phase detection means for detecting a second phase based on diffracted light other than the nth order read by the second reading means;
Phase comparison means for comparing the first phase and the second phase;
Origin signal generating means for generating an origin signal according to the comparison result of the phase comparison means,
A light amount detecting means for detecting a light amount of the nth-order diffracted light generated by the diffraction grating recorded in the second region;
Selecting means for selecting an arbitrary origin signal from origin signals generated from the origin signal generation means according to the detection result of the light quantity detection means,
The displacement detection device according to claim 1, wherein the first region and the second region are formed on the scale so as to be displaced by an equal amount in the same measurement direction.
上記第2の領域に形成されているn次の回折光を遮光する遮光板は、当該第2の領域の一部に所定間隔をおいて配設される第1の遮光板及び第2の遮光板からなっており、
上記光量検出手段は、上記第1の光が上記第2の領域に記録されている回折格子により回折され、当該回折格子により発生されたn次の回折光の光量を検出する第1の光量検出器と、上記第2の光が上記第2の領域に記録されている回折格子により回折され、当該回折格子により発生されたn次の回折光の光量を検出する第2の光量検出器とからなっていることを特徴とする請求項1記載の変位検出装置。The second reading means includes a first light source unit, a first dividing unit that divides light emitted from the first light source unit into first light and second light, and the second light source. The first light and the second light incident on the area are each diffracted by the diffraction grating recorded in the second area, and the diffraction light generated by the diffraction grating is other than the nth order. A first optical system that synthesizes diffracted lights of the same order and converts them into electrical signals,
The light shielding plate that shields the n-th order diffracted light formed in the second region has a first light shielding plate and a second light shielding disposed at a predetermined interval in a part of the second region. Made of plates,
The first light amount detection means detects the light amount of the nth-order diffracted light generated by the diffraction grating by the first light being diffracted by the diffraction grating recorded in the second region. And a second light amount detector for detecting the light amount of the nth-order diffracted light generated by the diffraction grating, the second light being diffracted by the diffraction grating recorded in the second region. The displacement detection device according to claim 1, wherein:
上記第2の領域に形成されているn次の回折光を反射する反射板は、上記第2の領域の一部に配設されており、
上記光量検出手段は、上記第1の光又は上記第2の光が上記第2の領域に記録されている回折格子により回折され、当該回折格子により発生されたn次の回折光の光量を検出する第1の光量検出器と、当該n次数の回折光が上記反射板により反射されたときの光量を検出する第2の光量検出器とからなっていることを特徴とする請求項1記載の変位検出装置。The second reading means includes a first light source unit, a first dividing unit that divides light emitted from the first light source unit into first light and second light, and the second light source. The first light and the second light incident on the area are each diffracted by the diffraction grating recorded in the second area, and the diffraction light generated by the diffraction grating is other than the nth order. A first optical system that synthesizes diffracted lights of the same order and converts them into electrical signals,
The reflector that reflects the nth order diffracted light formed in the second region is disposed in a part of the second region,
The light amount detecting means detects the light amount of the nth-order diffracted light generated by the diffraction grating by the first light or the second light being diffracted by the diffraction grating recorded in the second region. 2. The first light quantity detector for detecting the light quantity and a second light quantity detector for detecting the light quantity when the n-th order diffracted light is reflected by the reflecting plate. Displacement detector.
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