JP4457430B2 - High frequency heating device - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、食品等の被加熱物を加熱する高周波加熱装置に関し、特に加熱室内の定在波分布を変化させ加熱むらをなくすものに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来の高周波加熱装置を図を用いて説明する。図8は高周波加熱装置の概略構成図である。1は高周波加熱装置本体、2はマイクロ波を発生する高周波発生手段であるマグネトロン、3はマグネトロンから発生したマイクロ波を導く導波管、4は食品等被加熱物を収容する加熱室、5は被加熱物を載置する載置台、6はターンテーブル5を支えるターンテーブル支持体である。7はターンテーブル支持体6を回転させるモータ、8はマグネトロン2とモータ7を制御する制御手段である。
【0003】
加熱する場合は、ターンテーブルに食品等の被加熱物を載置し、被加熱物に含まれる水分がマイクロ波を吸収して自己発熱する現象を利用する。
【0004】
従来の高周波加熱装置の加熱室内では、高周波発生手段から加熱室内へ放射されたマイクロ波は加熱室を形成する金属壁面で反射を繰り返しながら伝搬して加熱室内に定在波分布を形成する。発生した加熱室内の定在波分布はほとんど変化しないため、マイクロ波強度の強い領域にある被加熱物は加熱されやすく、マイクロ波強度の弱い領域にある被加熱物は加熱されにくい。よって被加熱物には加熱むらが発生する。
【0005】
従来の技術では、被加熱物の加熱むらを解消するために、被加熱物を回転させる方法が採用されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の技術において、被加熱物を回転させる方法は、加熱室内の定在波分布をほとんど変化させることができず、被加熱物は一定の定在波分布の中を繰り返し通過しながら加熱されるので、被加熱物の加熱領域が同心円状に発生するという問題点がある。
【0007】
本発明はこのような課題を解決するものであり、加熱室内を伝搬するマイクロ波の流れを変えることで加熱室内に生じる定在波分布を変化させて被加熱物の加熱むらをなくす高周波加熱装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために本発明の高周波加熱装置は、被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に設け前記被加熱物を載置する載置台と、前記載置台を回転駆動する第一駆動手段と、前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開口部と、前記開口部を一端とする溝部と、前記溝部内に設け前記開口部のインピーダンスを可変するために回転駆動される非金属材料からなるインピーダンス可変手段と、前記インピーダンス可変手段を回転駆動する第二駆動手段と、前記第一駆動手段と第二駆動手段の動作を制御する制御手段とを備えるものである。
【0009】
そして、インピーダンス可変手段により加熱室壁面の高周波電流の流れを変化させることによって加熱室内を伝搬するマイクロ波の流れを変化させることができる。これにより、定在波分布を様々に変化させながら被加熱物を回転させることで被加熱物の加熱むらをなくすことができる。
【0010】
【発明の実施の形態】
本発明の高周波加熱装置は、被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に設け前記被加熱物を載置する載置台と、前記載置台を回転駆動する第一駆動手段と、前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開口部と、前記開口部を一端とする溝部と、前記溝部内に設け前記開口部のインピーダンスを可変するために回転駆動される非金属材料からなるインピーダンス可変手段と、前記インピーダンス可変手段を回転駆動する第二駆動手段と、前記第一駆動手段と第二駆動手段の動作を制御する制御手段とを備えている。
【0011】
そして、インピーダンス可変手段により加熱室壁面の高周波電流の流れを変化させることによって加熱室内を伝搬するマイクロ波の流れを変化させることができる。これにより、定在波分布を様々に変化させながら被加熱物を回転させることで被加熱物の加熱むらをなくすことができる。
【0012】
また、前記被加熱物の重量を検出する検出手段をさらに設け、制御手段が前記検出手段の検出信号に基づき、被加熱物量が少ない場合や被加熱物が小さい場合は、載置台の回転速度とインピーダンス可変手段の回転速度とを同期させ、被加熱物が多数個の場合や被加熱物が大きい場合は、前記載置台の回転速度と前記インピーダンス可変手段の回転速度とを非同期にする。
【0013】
そして、夫々の回転速度を同期させると、被加熱物の周回毎に被加熱物は特定領域が強く加熱され、非同期にすると加熱領域が分散する。これにより、被加熱物の種類や量や形状に応じて被加熱物を最適に均一加熱することができる。
【0014】
また、制御手段は、載置台の回転速度に対してインピーダンス可変手段の回転速度を速くしたことを特徴としている。
【0015】
これにより、定在波分布をすばやく変えることにより、加熱領域を分散できるので、高さのある被加熱物や底面積の大きな被加熱物の加熱の均一化が容易に促進できる。
【0016】
また、制御手段は、第一駆動手段のみを動作させる制御モードを有している。
【0017】
これにより、特定の定在波分布の中で被加熱物を加熱させることができる。たとえば、加熱室の中央部に強い電界分布を生じる定在波分布の場合、小さな被加熱物に対してこの制御モードを使用して短時間に加熱を促進させることができる。
【0018】
さらに、制御手段は、第二駆動手段のみを動作させる制御モードを有している。
【0019】
これにより、被加熱物の形状が大きくて被加熱物を回転させることが困難な場合でも、第二駆動手段を動作させて定在波分布を変化させることで被加熱物を均一に加熱させることができる。
【0020】
さらに、第一駆動手段の回転動作および停止動作と、第二駆動手段の回転動作および所望回転角度での停止動作とを装置使用者が指定できる構成とした。
【0021】
これにより、使用者が好みの加熱モードを選択できるので、弁当などのような混載食材の加熱に対して、たとえばご飯だけを温めることを使用者が選択することができる。
【0022】
【実施例】
以下、本発明の一実施例について図面を用いて説明する。
【0023】
(実施例1)
図1は、本発明の第1の実施例を示す高周波加熱装置の概略構成図、図2は図1の高周波加熱装置の外観図である。
【0024】
図1および図2において10は高周波加熱装置本体、11はマイクロ波を発生する高周波発生手段であるマグネトロン、12はマグネトロン11からのマイクロ波を導く導波管、13は被加熱物を収納する加熱室で、壁面は金属で構成されている。14は被加熱物を載置する載置台、15は載置台14を支える載置台支持体、16は載置台支持体15を回転駆動する第一駆動手段である第一のモータである。17はマグネトロン11から発生したマイクロ波を加熱室13内に放射する給電口である。18は加熱室13内の壁面19に設けた開口部で、20は開口部18を一端とする溝部である。21は開口部20のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段であり、非金属材料である誘電体板21にて構成されている。誘電体板21は好ましくは比誘電率が10前後の例えばガラス系、セラミックス系あるいは樹脂系の材料からなる低誘電損失材料で構成され、両端に突起を設け、溝部20に設けた孔に突起をはめ込んで回転支持されている。22は誘電体板21を駆動させる駆動手段としての第二のモータである。誘電体板21を駆動させる方法は、第二のモータとしてステッピングモータを使用して一定の角度分づつステップ状に回転するようにしてもよいし、汎用モータを使用して連続的に回転するようにしても構わない。23はマグネトロン11、第一のモータ16および第二のモータ22を制御する制御手段である。
【0025】
次に、上記構成において動作を説明する。加熱する場合は、ターンテーブル14上に食品等の被加熱物を置く。加熱するときは加熱スイッチ(図示していない)等の信号から、制御手段23に加熱情報が送られる。この加熱情報に基いて制御手段23はマグネトロン11と第一のモータ16および第二のモータ22にそれぞれ信号を送る。制御手段23の信号によりマグネトロン11が発生したマイクロ波は導波管12を伝搬し、給電口17から加熱室13内に放射される。また、加熱情報に基いて第一のモータ16および第二のモータ22の動作が制御され、加熱室内に最適な定在波分布を発生させて被加熱物を加熱する。
【0026】
加熱中の誘電体板21の動作は常時回転、ある特定の回転角度で一定時間停止、あるいは回転・停止を所定の組合せで繰り返すなどの制御が制御手段23の信号によって行われる。溝部20の溝深さは誘電体板21が加熱室13底面に対して垂直(この時の回転角度を0゜とする)のときに、開口部18に生じるインピーダンスが極めて小さい値(理想的にはゼロ)になるように決めている。従って、誘電体板21の回転角度が0゜のときは壁面19に高周波電流が流れ、壁面19に開口部18を設けていない場合に生じる定在波分布と同じ分布が生じる。一方、誘電体板21の向きが加熱室13底面に対して水平(この時の回転角度を90゜とする)のときは、開口部18のインピーダンスが大きな値となり壁面19に流れる高周波電流が乱れる。よって壁面19に開口部18を設けていない場合に生じる定在波分布とは異なった定在波分布を発生する。つまり、回転角度を変化させると開口部18のインピーダンスが変化し、加熱室13内の定在波分布が変化する。
【0027】
本実施例において、誘電体板21の回転角度の表現方法は、前述の誘電体板21が垂直の場合を基準として、誘電体板21の上半分が加熱室側に傾斜していく方向の角度とした。
【0028】
この実施例の図1および図2では誘電体板21の回転角度は0゜を示している。また、開口部18は長軸方向が奥行き方向と平行になるように配設されているが、開口部18は長軸方向が高さ方向と平行になるように配設しても構わない。また開口部18は、加熱室13の壁面であればどこに配設してもよいし、複数個配設しても構わない。
【0029】
食品等の被加熱物は、マイクロ波が集中する領域に位置するほど加熱されやすいため、被加熱物の加熱むらをなくすには、従来用いられている載置台を回転させることに加え、定在波分布を均一にする、あるいはマイクロ波の強弱を同じ位置で交互に発生させる等の制御を行う必要がある。
【0030】
本実施例において、積水樹脂(株)製のアドヘア合成のり(登録商標)200gを底面が100mm×100mmの容器に入れて被加熱物とした場合に、載置台14の回転を停止させた状態で誘電体板21の回転角度を0゜、45゜、90゜固定として、本発明の高周波加熱装置で加熱したときの温度分布の結果を(図3)に示す。
【0031】
図3の温度分布は、斜線を施した領域が高温部分であることを示している。
【0032】
なお、アドヘア合成糊(登録商標)はポリビニールアルコール水溶液で通常の温度では透明であるが45℃以上になると白濁する性質を有する。
【0033】
以上のように、誘電体板21の回転角度を変化させることにより、被加熱物の温度分布は変化した。
【0034】
これにより、誘電体板21を回転制御することで加熱室内に様々な定在波を発生させて、さらには載置台14の回転制御を付加させることで被加熱物の加熱むらをなくすことができる。
【0035】
(実施例2)
次に、本発明の第2の実施例について説明する。
図1および図2において24は被加熱物の重量を検出する第一の検出手段である。なお実施例1と同一符号のものは同一機能を有し、説明は省略する。
【0036】
次に動作について説明する。制御手段23は第一の検出手段24の信号により、マグネトロン11、第一のモータ16、第二のモータ22を制御する。このとき、制御手段23は、載置台24の回転速度とインピーダンス可変手段21の回転速度とを同期させたり非同期にさせたりしている。 被加熱物を加熱する際、載置台24の回転速度とインピーダンス可変手段21の回転速度とを同期させると被加熱物の周回毎に被加熱物は特定領域が強く加熱される。したがって被加熱物量が少ない場合や被加熱物が小さい場合には集中的に加熱でき迅速な加熱ができる。逆に、載置台24の回転速度とインピーダンス可変手段21の回転速度とを非同期にさせると加熱領域が分散する。したがって被加熱物が多数個の場合や被加熱物が大きい場合には全体が均一に加熱できる。
【0037】
本実施例において、前述のアドヘア合成のり(登録商標)200gを底面が100mm×100mmの容器に入れて被加熱物とした場合に、載置台24の回転速度とインピーダンス可変手段21の回転速度とを同期させた場合と非同期にした場合とにおいて本発明の高周波加熱装置で加熱したときの加熱分布の結果を図4に示す。
【0038】
図4のように、載置台24の回転速度とインピーダンス可変手段21の回転速度とを同期させた時には被加熱物の特定領域が強く加熱され周囲の一部に加熱されにくい部分が生ずるのに対し非同期させた場合には加熱領域が分散し周囲がほぼ一様に加熱されている。なお、図4において1:1/2同期とはインピーダンス可変手段1回転に対し載置台2回転で同期していることを意味している。以上のように、被加熱物の種類や量や形状に応じて載置台14の回転速度とインピーダンス可変手段21の回転速度とを同期させたり非同期にさせたりして被加熱物を最適に均一加熱することができる。
【0039】
(実施例3)
次に、本発明の第3の実施例について説明する。構成は実施例2と同様である。
【0040】
次に動作について説明する。図1および図2において制御手段23は第一のモータ22を制御する。このとき、制御手段23は載置台14の回転速度に対してインピーダンス可変手段21の回転速度が速くなるように制御する。
【0041】
本実施例において内径72mmの容器に水200gを入れて被加熱物とした場合に、インピーダンス可変手段21の回転速度に対する水の上下温度変化を図5に示す。なお、載置台の回転速度は毎分6回転とした。図5において、白丸は底から5mmの温度であり、黒丸は上部表面から5mmの温度を示す。図5からインピーダンス可変手段21の回転速度を速くすることで上下の温度差を小さくすることができる。すなわち、毎秒3回転では上下の温度差が約20℃であったが、毎秒1000回転では温度差は約10℃と半減する。したがって、載置台14の回転速度に対してインピーダンス可変手段21の回転速度を速くすることで牛乳、酒あるいはコーヒー等の温めにおいてそれら被加熱物の上下方向に均一な加熱を促進させることができる。
【0042】
また、このようなインピーダンス可変手段21の制御は加熱室内の定在波分布をすばやく変えることで加熱領域を分散できるので、底面積の大きな被加熱物の加熱の均一化も容易に促進できる。
【0043】
(実施例4)
次に本発明の第4の実施例について説明する。
【0044】
図1および図2において、25は誘電体板21の回転角度を判定する第二の検出手段、26は被加熱物の種類を選択する操作部である。なお、実施例1ないし3と同一符号のものは同一機能を有し説明は省略する。
【0045】
次に動作について説明する。第二のモータ22は誘電体板21を一定角度ずつステップ状に回転移動させる。第二の検出手段25は誘電体板21が回転角度0°の状態を検出する。そして、この回転角度0°を基準とし、制御手段23からの信号によって回転したステップ数に基いて誘電体板21の回転角度を規定の角度に制御する。制御手段23は第一の検出手段24および操作部26で入力された信号により、マグネトロン11、第一のモータ16、第二のモータ22を制御する。第二のモータ22はインピーダンス可変手段21の誘電体板21を即座に所望の回転角度まで回転させた後は停止して載置台14のみが回転して被加熱物が加熱される。本実施例において誘電体板21の回転角度がそれぞれ0°、45°、90°の時、被加熱物が200g、400gの水へのマイクロ波の入力電力の実験結果を図6に示す。図6に示したように誘電体板21の角度によって水へのマイクロ波の入力電力が異なる。従って、少量の液状被加熱物、例えばカップ1〜2杯分の飲み物をすばやく加熱したい場合には誘電体板21の角度を45°に固定すればよい。なお、この場合前述の実施例3との関係より、誘電体板21を高速回転させた場合と比べて、上下方向の温度むらを多少生じる。従って、加熱時間を優先させたい場合にこの実施例の方法が特に効用を発揮する。
【0046】
また本実施例において前述のアドヘア合成のり(登録商標)200gを底面が100mm×100mmの容器に入れて被加熱物とし、誘電体板21の回転角度を0°、45°、90°の状態に固定して載置台を回転させた場合の加熱分布の結果を図7に示す。図7において白色領域が加熱された領域を示している。図7より、誘電体板21の回転角度を固定した状態で載置台を回転させた場合、誘電体板21の回転角度によって加熱分布を変化させることができる。従って、内部が先に熱くなる被加熱物、例えばあん入り中華まんじゅう、を温める場合は中央の加熱が弱くなるように誘電体板21の回転角度を0°あるいは90°に固定することで内部と外側との温度差を改善できる。
【0047】
(実施例5)
次に本発明の第5の実施例について説明する。
【0048】
図1および図2において、26は被加熱物の種類を選択する操作部、27は加熱室13の上下に設けたヒーターである。なお、実施例1ないし4と同一符号のものは同一構造を有し説明は省略する。
【0049】
次に動作について説明する。制御手段23は第一の検出手段24および操作部26で入力された信号により、マグネトロン11、第二のモータ22、ヒーター27を制御する。被加熱物や被加熱物を入れる容器が加熱室13には入るが載置台14より大きくて回転困難な場合には載置台14の動作は停止させてインピーダンス可変手段21のみを動作して定在波分布を変化させることで均一な温度分布の加熱を行なう。この時インピーダンス可変手段21の制御は連続回転でも断続回転でも構わない。例えば、魚を一尾丸ごと加熱するような時の尾の一部が載置台からはみ出して回転させることが困難な場合、載置台の回転を停止し、インピーダンス可変手段のみを駆動させて均一加熱ができる。さらにまた、操作部26でオーブン、グリルメニューを選択して被加熱物を角型のオーブン皿に載置しヒーター加熱中にマイクロ波を均一に照射することもできる。
【0050】
(実施例6)
次に本発明の第6の実施例について説明する。
【0051】
図1および図2において、28は載置台14およびインピーダンス可変手段21の動作モードを選択する操作部である。なお、実施例1ないし5と同一符号のものは同一構造を有し、説明は省略する。
【0052】
次に動作について説明する。制御手段23は操作部28で入力された信号により、マグネトロン11、第一のモータ16、第二のモータ22を制御する。これにより、装置使用者は好みの加熱モードを操作部28で選択できるので、弁当のような混載食材の加熱に対しては、載置台14の回転を停止し、インピーダンス可変手段21を意図的に動作させて意図的な定在波分布のもとで、例えばご飯だけを温めることができる。
【0053】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば以下の効果を奏する。
【0054】
本発明の高周波加熱装置によれば、インピーダンス可変手段を回転駆動することにより開口部のインピーダンスを可変して、開口部を有する壁面の高周波電流の流れを変化させることによって、加熱室内の定在波分布を変化させることができる。これにより、被加熱物の加熱むらをなくすことができる。
【0055】
また、載置台の回転速度とインピーダンス可変手段の回転速度とを同期させたり非同期にしたりすることにより被加熱物の特定領域を集中的に加熱したり逆に加熱領域を分散することができる。これにより、被加熱物の量や形状に応じてむらなく加熱をすることができる。
【0056】
また、インピーダンス可変手段の回転速度を載置台の回転速度よりも速くなるように制御することによって被加熱物の加熱領域を分散させることができる。これにより、底面積の大きな被加熱物をむらなく加熱することができる。また、高さのある被加熱物に対しては上下方向の温度むらを抑制させることができる。
【0057】
また、使用者が選択手段により被加熱物の種類を選択することによりインピーダンス可変手段を一定の角度に保って特定の定在波分布を形成させた状態の下で被加熱物を加熱することができる。これにより、被加熱物の種類に応じて選択的にマイクロ波を集中あるいは分散させることができる。
【0058】
また、使用者が選択手段により被加熱物の種類を選択することにより載置台の回転を停止し、インピーダンス可変手段を駆動して加熱室内の定在波分布を変化させながら加熱することができる。これにより、回転させることが困難な被加熱物の加熱分布を変化させ、加熱むらをなくすことができる。また角皿を使用してヒーター調理中にマイクロ波加熱を同時に行なう場合、マイクロ波による加熱むらをなくすことができる。
【0059】
また、使用者が選択手段により載置台とインピーダンス可変手段とのそれぞれの動作を選択することができる。これにより、使用者は好みの加熱モードを選択できるので例えば弁当のような混載食材のご飯のみを部分加熱することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例の高周波加熱装置の概略断面図
【図2】本発明の第1の実施例の高周波加熱装置の外観斜視図
【図3】本発明の第1の実施例の載置台停止状態でのインピーダンス可変手段の各回転角度に対する被加熱物の温度分布特性図
【図4】本発明の第2の実施例の載置台とインピーダンス可変手段との回転速度比に対する加熱分布特性図
【図5】本発明の第3の実施例のインピーダンス可変手段の回転速度に対する水負荷の上下方向の温度特性図
【図6】本発明の第4の実施例のインピーダンス可変手段の各回転角度に対して載置台を回転させた時の水負荷への入力電力を示す図
【図7】本発明の第4の実施例のインピーダンス可変手段の各回転角度に対して載置台を回転させた時の加熱分布特性図
【図8】従来の高周波加熱装置の概略断面図
【符号の説明】
11 マグネトロン(高周波発生手段)
13 加熱室
14 載置台
16 第一のモータ(第一駆動手段)
17 給電口
18 開口部
20 溝部
21 インピーダンス可変手段
21 誘電体板
22 第二のモータ(第二駆動手段)
23 制御手段
26、28 操作部[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a high-frequency heating apparatus that heats an object to be heated such as food, and more particularly to a device that changes a standing wave distribution in a heating chamber to eliminate uneven heating.
[0002]
[Prior art]
A conventional high-frequency heating apparatus will be described with reference to the drawings. FIG. 8 is a schematic configuration diagram of a high-frequency heating device. 1 is a main body of a high-frequency heating apparatus, 2 is a magnetron which is a high-frequency generating means for generating microwaves, 3 is a waveguide for guiding microwaves generated from the magnetron, 4 is a heating chamber for storing a heated object such as food, 5 A mounting table 6 on which the object to be heated is mounted is a turntable support that supports the
[0003]
In the case of heating, an object to be heated such as food is placed on the turntable, and the phenomenon that moisture contained in the object to be heated absorbs microwaves and self-heats is used.
[0004]
In the heating chamber of the conventional high-frequency heating apparatus, the microwave radiated from the high-frequency generating means propagates while repeating reflection on the metal wall surface forming the heating chamber to form a standing wave distribution in the heating chamber. Since the generated standing wave distribution in the heating chamber hardly changes, the object to be heated in the region where the microwave intensity is strong is easily heated, and the object to be heated in the region where the microwave intensity is weak is hardly heated. Therefore, uneven heating occurs in the object to be heated.
[0005]
In the conventional technique, a method of rotating the object to be heated is employed in order to eliminate uneven heating of the object to be heated.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional technique, the method of rotating the object to be heated hardly changes the standing wave distribution in the heating chamber, and the object to be heated is heated while repeatedly passing through the constant standing wave distribution. Therefore, there is a problem that the heating area of the object to be heated is generated concentrically.
[0007]
The present invention solves such a problem, and a high-frequency heating device that eliminates uneven heating of an object to be heated by changing the standing wave distribution generated in the heating chamber by changing the flow of the microwave propagating in the heating chamber. The purpose is to provide.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-described problems, a high-frequency heating device according to the present invention includes a heating chamber that houses an object to be heated, a mounting table that is provided in the heating chamber and mounts the object to be heated, and rotationally drives the mounting table. Provided on a first drive means, a high frequency generating means for generating a high frequency radiated into the heating chamber, a power supply port for radiating a high frequency generated by the high frequency generating means to the heating chamber, and a wall surface forming the heating chamber An opening, a groove having one end as the opening, an impedance variable means made of a non-metallic material provided in the groove and rotated to vary the impedance of the opening, and the impedance variable means is rotationally driven. Second driving means, and control means for controlling the operation of the first driving means and the second driving means.
[0009]
And the flow of the microwave which propagates in a heating chamber can be changed by changing the flow of the high frequency current of a heating chamber wall surface by an impedance variable means. Thereby, the uneven heating of the object to be heated can be eliminated by rotating the object to be heated while changing the standing wave distribution in various ways.
[0010]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The high-frequency heating device of the present invention includes a heating chamber for storing an object to be heated, a mounting table provided in the heating chamber for mounting the object to be heated, first driving means for rotationally driving the mounting table, and the heating A high frequency generating means for generating a high frequency radiated into the room, a power supply port for radiating a high frequency generated by the high frequency generating means to the heating chamber, an opening provided on a wall surface forming the heating chamber, and the opening A groove portion as one end; an impedance variable means made of a non-metallic material provided in the groove portion and driven to rotate to vary the impedance of the opening; a second drive means for rotating the impedance variable means; Control means for controlling the operation of the first drive means and the second drive means is provided.
[0011]
And the flow of the microwave which propagates in a heating chamber can be changed by changing the flow of the high frequency current of a heating chamber wall surface by an impedance variable means. Thereby, the uneven heating of the object to be heated can be eliminated by rotating the object to be heated while changing the standing wave distribution in various ways.
[0012]
Moreover, the further provided detection means for detecting the weight of the object to be heated, based-out to the control means a detection signal of said detecting means, if or when the object to be heated to be heated amount is small is small, the rotation of the table It is synchronized with the rotational speed of the speed and the variable impedance unit, if the target object is a large plurality or when the object to be heated is you rotational speed of the mounting table and the rotational speed of said impedance varying means asynchronously .
[0013]
And if each rotational speed is synchronized, a specific area | region will be heated strongly to the to-be-heated object for every circumference | surroundings of to-be-heated object, and a heating area | region will be disperse | distributed if it makes it asynchronous. Thus, the object to be heated can be optimally uniformly heated according to the type, amount, and shape of the object to be heated.
[0014]
The control means is characterized in that the rotation speed of the impedance variable means is increased with respect to the rotation speed of the mounting table.
[0015]
Thereby, since the heating region can be dispersed by quickly changing the standing wave distribution, it is possible to easily promote uniform heating of a heated object having a high height or a heated object having a large bottom area.
[0016]
Further, the control means has a control mode in which only the first driving means is operated.
[0017]
Thereby, a to-be-heated material can be heated in specific standing wave distribution. For example, in the case of a standing wave distribution that generates a strong electric field distribution in the center of the heating chamber, heating can be accelerated in a short time using this control mode for a small object to be heated.
[0018]
Further, the control means has a control mode in which only the second drive means is operated.
[0019]
Thereby, even when it is difficult to rotate the object to be heated due to the shape of the object to be heated, the object to be heated is uniformly heated by changing the standing wave distribution by operating the second driving means. Can do.
[0020]
Further, the apparatus user can designate the rotation operation and stop operation of the first drive means, and the rotation operation and stop operation at the desired rotation angle of the second drive means.
[0021]
Thereby, since a user can select a favorite heating mode, a user can select heating only rice, for example with respect to heating of mixed foodstuffs, such as a lunch box.
[0022]
【Example】
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0023]
Example 1
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a high-frequency heating device showing a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an external view of the high-frequency heating device of FIG.
[0024]
1 and 2,
[0025]
Next, the operation in the above configuration will be described. In the case of heating, a heated object such as food is placed on the
[0026]
The operation of the
[0027]
In the present embodiment, the method for expressing the rotation angle of the
[0028]
1 and 2 of this embodiment, the rotation angle of the
[0029]
Since heated objects such as foods are more likely to be heated as they are located in a region where microwaves are concentrated, in order to eliminate uneven heating of the heated object, in addition to rotating a conventional mounting table, a stationary It is necessary to perform control such as making the wave distribution uniform or alternately generating the intensity of the microwave at the same position.
[0030]
In this example, when 200 g of Adhair Synthetic Glue (registered trademark) manufactured by Sekisui Resin Co., Ltd. is placed in a container having a bottom of 100 mm × 100 mm to be heated, the rotation of the mounting table 14 is stopped. FIG. 3 shows the result of temperature distribution when the
[0031]
The temperature distribution in FIG. 3 indicates that the shaded area is a high temperature portion.
[0032]
In addition, Adhair synthetic glue (registered trademark) is a polyvinyl alcohol aqueous solution, which is transparent at normal temperature, but has a property of becoming cloudy when the temperature is 45 ° C. or higher.
[0033]
As described above, the temperature distribution of the object to be heated was changed by changing the rotation angle of the
[0034]
Thereby, various standing waves are generated in the heating chamber by controlling the rotation of the
[0035]
(Example 2)
Next, a second embodiment of the present invention will be described.
1 and 2,
[0036]
Next, the operation will be described. The
[0037]
In this example, when 200 g of the above-mentioned Adhair Synthetic Glue (registered trademark) is put into a container having a bottom of 100 mm × 100 mm to be heated, the rotational speed of the mounting table 24 and the rotational speed of the impedance variable means 21 are calculated. FIG. 4 shows the result of the heating distribution when heated by the high-frequency heating device of the present invention in the case of being synchronized and in the case of being asynchronous.
[0038]
As shown in FIG. 4, when the rotation speed of the mounting table 24 and the rotation speed of the impedance variable means 21 are synchronized, a specific region of the object to be heated is strongly heated, and a part that is not easily heated is generated in the surrounding part. When asynchronous, the heating area is dispersed and the surroundings are heated almost uniformly. In FIG. 4, 1: 1/2 synchronization means that the mounting table is rotated twice with respect to one rotation of the impedance variable means. As described above, the object to be heated is optimally uniformly heated by synchronizing the rotation speed of the mounting table 14 and the rotation speed of the impedance variable means 21 according to the type, amount and shape of the object to be heated. can do.
[0039]
(Example 3)
Next, a third embodiment of the present invention will be described. The configuration is the same as in the second embodiment.
[0040]
Next, the operation will be described. 1 and 2, the control means 23 controls the
[0041]
In this embodiment, when 200 g of water is put into a container with an inner diameter of 72 mm to be heated, the change in temperature of water with respect to the rotation speed of the impedance variable means 21 is shown in FIG. The rotation speed of the mounting table was 6 rotations per minute. In FIG. 5, the white circle is 5 mm from the bottom, and the black circle is 5 mm from the top surface. From FIG. 5, it is possible to reduce the temperature difference between the upper and lower sides by increasing the rotational speed of the
[0042]
In addition, since the control of the impedance varying means 21 can disperse the heating region by quickly changing the standing wave distribution in the heating chamber, it is possible to easily promote uniform heating of the heated object having a large bottom area.
[0043]
Example 4
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described.
[0044]
In FIGS. 1 and 2,
[0045]
Next, the operation will be described. The
[0046]
In this embodiment, 200 g of the above-mentioned Adhair Synthetic Glue (registered trademark) is put into a container having a bottom surface of 100 mm × 100 mm to be heated, and the rotation angle of the
[0047]
(Example 5)
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described.
[0048]
In FIGS. 1 and 2,
[0049]
Next, the operation will be described. The
[0050]
(Example 6)
Next, a sixth embodiment of the present invention will be described.
[0051]
In FIGS. 1 and 2,
[0052]
Next, the operation will be described. The
[0053]
【The invention's effect】
As described above, the present invention has the following effects.
[0054]
According to the high frequency heating device of the present invention, the impedance of the opening is varied by rotationally driving the impedance variable means, and the flow of the high frequency current on the wall surface having the opening is changed, thereby standing waves in the heating chamber. The distribution can be changed. Thereby, the heating unevenness of a to-be-heated material can be eliminated.
[0055]
In addition, by synchronizing or rotating the rotation speed of the mounting table and the rotation speed of the impedance variable means, a specific area of the object to be heated can be heated intensively, or conversely, the heating area can be dispersed. Thereby, it can heat uniformly according to the quantity and shape of a to-be-heated material.
[0056]
Moreover, the heating area | region of a to-be-heated material can be disperse | distributed by controlling so that the rotational speed of an impedance variable means may become faster than the rotational speed of a mounting base. Thereby, the to-be-heated object with a large bottom area can be heated uniformly. Further, the temperature unevenness in the vertical direction can be suppressed for a heated object having a height.
[0057]
In addition, the user can heat the object to be heated under a state in which a specific standing wave distribution is formed by maintaining the impedance variable means at a certain angle by selecting the type of the object to be heated by the selecting means. it can. Thereby, a microwave can be selectively concentrated or disperse | distributed according to the kind of to-be-heated material.
[0058]
In addition, the user can stop the rotation of the mounting table by selecting the type of the object to be heated by the selection means, and drive the impedance variable means to change the standing wave distribution in the heating chamber. Thereby, the heating distribution of the object to be heated which is difficult to rotate can be changed, and uneven heating can be eliminated. Moreover, when microwave heating is simultaneously performed during cooking using a square plate, heating unevenness due to microwaves can be eliminated.
[0059]
Further, the user can select each operation of the mounting table and the impedance variable means by the selection means. Thereby, since the user can select a favorite heating mode, for example, only the rice of the mixed food such as a lunch box can be partially heated.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic sectional view of a high-frequency heating device according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is an external perspective view of the high-frequency heating device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 4 is a temperature distribution characteristic diagram of an object to be heated with respect to each rotation angle of the impedance variable means when the mounting table is stopped according to the embodiment. FIG. 5 is a temperature characteristic diagram of water load in the vertical direction with respect to the rotation speed of the impedance varying means of the third embodiment of the present invention. FIG. 6 is a diagram of the temperature varying characteristic of the impedance varying means of the fourth embodiment. The figure which shows the input electric power to the water load when a mounting base is rotated with respect to each rotation angle. [FIG. 7] Rotate a mounting base with respect to each rotation angle of the impedance variable means of the 4th Example of this invention. Fig. 8 Conventional distribution of heat distribution Schematic cross-sectional view of the heating apparatus [Description of symbols]
11 Magnetron (high frequency generation means)
13
17
23 Control means 26, 28 Operation unit
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