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JP4304666B2 - Proton conductive material, proton conductive structure, fuel cell, and method for producing proton conductive structure - Google Patents

Proton conductive material, proton conductive structure, fuel cell, and method for producing proton conductive structure Download PDF

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JP4304666B2
JP4304666B2 JP2004001459A JP2004001459A JP4304666B2 JP 4304666 B2 JP4304666 B2 JP 4304666B2 JP 2004001459 A JP2004001459 A JP 2004001459A JP 2004001459 A JP2004001459 A JP 2004001459A JP 4304666 B2 JP4304666 B2 JP 4304666B2
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Description

本発明は、水素電池やガルバニー電池式湿度センサーや、燃料電池に用いることができる高性能なプロトン(水素イオン)導電性材料、プロトン導電性構造体、燃料電池およびプロトン導電性構造体の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a hydrogen battery, a galvanic cell humidity sensor, a high-performance proton (hydrogen ion) conductive material that can be used for a fuel cell, a proton conductive structure, a fuel cell, and a method for producing a proton conductive structure. It is about.

プロトン導電性膜は、電子ではなく陽子が固体電解質膜中を伝播するので、水素の分離膜などに用いることができる。特許文献1に記載されている固体電解質膜は、水素含有ガスから水素を分離する方法に使用されている。これらの固体電解質は、ストロンチウム、セリウム、スカンジウムなどの酸化物を主原料とし、ペロブスカイト型の結晶構造を持っている。   The proton conductive membrane can be used as a hydrogen separation membrane because protons, not electrons, propagate through the solid electrolyte membrane. The solid electrolyte membrane described in Patent Document 1 is used in a method for separating hydrogen from a hydrogen-containing gas. These solid electrolytes are mainly composed of oxides such as strontium, cerium, and scandium, and have a perovskite crystal structure.

ペロブスカイト型結晶構造を持つ材料は、一般的にはABO3の化学組成を持っているセラミックの一種である。但し、A、Bは金属元素、Oは酸素原子である。これら固体電解質は、酸化物系のセラミックであるが故に、酸化雰囲気でかつ高い焼成温度下で製造される。特許文献1の実施例は、1430℃の高温で焼成されていて、雰囲気は酸化雰囲気と思われる。 A material having a perovskite crystal structure is generally a kind of ceramic having a chemical composition of ABO 3 . However, A and B are metal elements, and O is an oxygen atom. Since these solid electrolytes are oxide-based ceramics, they are produced in an oxidizing atmosphere and at a high firing temperature. The example of Patent Document 1 is fired at a high temperature of 1430 ° C., and the atmosphere seems to be an oxidizing atmosphere.

特許文献2は、固体電解質の結晶構造については明記していない。しかしながら、特許文献1と同様な組成の酸化物を500〜1500℃、好ましくは600〜1450℃で焼成したものであることから、ペロブスカイト型の結晶構造と思われる。このようなプロトン導電性固体電解質は、ガルバニー電池式湿度センサーとして使用されている。   Patent Document 2 does not specify the crystal structure of the solid electrolyte. However, since the oxide having the same composition as Patent Document 1 is fired at 500 to 1500 ° C., preferably 600 to 1450 ° C., it seems to be a perovskite crystal structure. Such a proton conductive solid electrolyte is used as a galvanic cell type humidity sensor.

特公昭62−47054号公報Japanese Patent Publication No.62-47054 特開昭58−50458号公報JP-A-58-50458

特許文献1および特許文献2では、ペロブスカイト型の結晶構造を持つ固体電解質を作製した後、水素ガスの透過性膜である基材や電極などを取り付けることが記載されている。ところが取り付けの具体的な方法については記載がない。   Patent Documents 1 and 2 describe that a solid electrolyte having a perovskite-type crystal structure is prepared, and then a base material or an electrode that is a hydrogen gas permeable film is attached. However, there is no description about the specific method of attachment.

また、特許文献1および特許文献2では、ペロブスカイト型の結晶構造を持つプロトン導電性材料を、高温の酸素雰囲気中で作製することが記載されている。しかしながら、本発明で使用される水素透過性の基材は、高温で酸化されて使用できなくなるので、ペロブスカイト型結晶構造を持つプロトン導電性材料にその焼成過程で基材を直接接合することはできない。   Patent Documents 1 and 2 describe that a proton conductive material having a perovskite crystal structure is produced in a high-temperature oxygen atmosphere. However, since the hydrogen-permeable base material used in the present invention is oxidized at a high temperature and cannot be used, the base material cannot be directly bonded to a proton conductive material having a perovskite crystal structure during the firing process. .

以上のような状況下において本発明は、電極などの金属基材の上にプロトン導電性材料を直接作製しようとするものである。従来のプロトン導電性を有するペロブスカイト構造の固体電解質は、500℃以上の高温と酸化性雰囲気で焼成される。本発明ではその温度を下げてアモルファス構造の固体電解質を用いるものである。こうすることにより、基材の水素透過性を損なうことなく、プロトン導電性材料と基材とを直接接合したものを作製しようとするものである。   Under the circumstances as described above, the present invention intends to directly produce a proton conductive material on a metal substrate such as an electrode. A conventional perovskite structure solid electrolyte having proton conductivity is fired at a high temperature of 500 ° C. or higher and in an oxidizing atmosphere. In the present invention, the temperature is lowered and an amorphous solid electrolyte is used. By doing so, an attempt is made to produce a material in which the proton conductive material and the substrate are directly joined without impairing the hydrogen permeability of the substrate.

本発明の第一は、Mg、Ca、SrおよびBaからなる群から選ばれる少なくとも一種の第一元素と、Ce、Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも一種の第二元素と、酸素から成る組成のアモルファス構造の材料であり、アモルファス構造とはCuKα線を用いたX線回折測定において材料の回折図形の第一ピークの位置が25°と35°の間にあり、かつ前記のピークの半値幅が2°以上であるプロトン導電性材料に関するものである。   The first of the present invention, at least one first element selected from the group consisting of Mg, Ca, Sr and Ba, at least one second element selected from the group consisting of Ce, Zr, Ti and Hf, oxygen A material having an amorphous structure having a composition comprising: the first peak position of the diffraction pattern of the material is between 25 ° and 35 ° in the X-ray diffraction measurement using CuKα rays, and the above-mentioned peak This relates to a proton conductive material having a half width of 2 ° or more.

本発明の大きな特徴は、ペロブスカイト構造ではなくアモルファス状態のプロトン導電性の固体電解質を見出したことにある。従来のプロトン導電性材料は、ペロブスカイト構造の結晶格子の間をプロトンが通り抜けていくと考えられていた。一方、アモルファスの材料は、ペロブスカイトのように、規則的な結晶格子を有しておらずプロトン導電性を持つことは確認されていなかった。   A major feature of the present invention is that a proton conductive solid electrolyte having an amorphous state, not a perovskite structure, has been found. In conventional proton conductive materials, it has been considered that protons pass between crystal lattices of a perovskite structure. On the other hand, the amorphous material does not have a regular crystal lattice like perovskite and has not been confirmed to have proton conductivity.

本発明のアモルファスのプロトン導電性材料(アモルファス固体電解質)は、室温から500℃程度以下の低温下、酸素雰囲気中で成膜されるので、水素透過性基材であるPdやPd合金あるいはVやV合金などの上に直接積層することができる。成膜温度が低いので、基材が酸化することなくアモルファス固体電解質を積層できる。その上、アモルファスなので膜表面の表面粗さが小さく且つピンホールのない緻密な膜質を得ることができる。   Since the amorphous proton conductive material (amorphous solid electrolyte) of the present invention is formed in an oxygen atmosphere at a low temperature of room temperature to about 500 ° C. or lower, Pd, Pd alloy, V, It can be directly laminated on V alloy. Since the film forming temperature is low, the amorphous solid electrolyte can be laminated without oxidizing the base material. In addition, since it is amorphous, the surface roughness of the film surface is small, and a dense film quality without pinholes can be obtained.

アモルファスであることの別の特徴は、第一元素と第二元素を含むだけで高いプロトン導電性を示すことにある。従来のペロブスカイト型の結晶構造を有するプロトン導電性材料は、上記の第一元素と第二元素にスカンジウム、イットリウム、イットリビウム、ネオジウムなどのIIIa族元素を含んでいた。使用元素の数が少ない場合、製造が単純化されて好ましい。   Another feature of being amorphous is that it contains a first element and a second element and exhibits high proton conductivity. A conventional proton conductive material having a perovskite crystal structure includes a Group IIIa element such as scandium, yttrium, yttrium, or neodymium in the first element and the second element. When the number of elements used is small, the production is simplified, which is preferable.

本発明におけるアモルファスの意味は、X線回折における回折図形の第一のピークがブロードであること、すなわち広がりを持っていることおよび、回折図形の最も高いピークの位置が2θで25°と35°の間にあることである。後述するが、ピークのベースラインを結ぶ線とピークの最も高い高さとの差の半分の高さにおけるピークの幅を半値幅と言い、これが2°以上であることが本発明でいうアモルファス構造を持つことである。言い換えると、ピークの広がりを半値幅で定めているのである。   The meaning of amorphous in the present invention is that the first peak of the diffraction pattern in X-ray diffraction is broad, that is, broad, and the highest peak position of the diffraction pattern is 2θ at 25 ° and 35 °. It is in between. As will be described later, the width of the peak at half the height between the line connecting the baseline of the peak and the highest height of the peak is referred to as the half-value width, and the amorphous structure referred to in the present invention is 2 ° or more. Is to have. In other words, the peak spread is determined by the half width.

本発明の第二は、第一の発明の第二元素の一部をSc、Yおよびランタノイドからなる群から選ばれた少なくとも一種で置き換えた発明である。構成元素としては、従来の結晶構造を持つペロブスカイト型のものと同じである。しかしながら、アモルファス構造とすることでPdなどの水素透過性電極の上に直接積層できるので、薄いプロトン導電性膜質でも実用化できる。   The second of the present invention is an invention in which a part of the second element of the first invention is replaced with at least one selected from the group consisting of Sc, Y and lanthanoids. The constituent elements are the same as those of the perovskite type having a conventional crystal structure. However, since an amorphous structure can be directly laminated on a hydrogen permeable electrode such as Pd, even a thin proton conductive film quality can be put into practical use.

本発明のプロトン導電性材料は、X線回折測定における前述のブロードな第一ピークに加えて、ピーク位置が28°と32°の間にあるペロブスカイト構造から生じる鋭い第二ピークを有してもよい。アモルファス構造を持つものとペロブスカイト型の結晶構造を持つものが共存することができる。   The proton conductive material of the present invention may have a sharp second peak generated from a perovskite structure having a peak position between 28 ° and 32 ° in addition to the aforementioned broad first peak in X-ray diffraction measurement. Good. Those having an amorphous structure and those having a perovskite crystal structure can coexist.

第一の発明において、プロトン導電性材料の組成が第一元素を8〜30原子%と、第二元素を8〜30原子%、残部が酸素から成ることが好ましい。アモルファスであることの特徴は、第一元素と第二元素が原子比で1対1でなくても実用的な性能を出せることにある。   In the first invention, it is preferable that the composition of the proton conductive material is 8-30 atomic% for the first element, 8-30 atomic% for the second element, and the balance is oxygen. The characteristic of being amorphous is that practical performance can be obtained even if the first element and the second element are not in an atomic ratio of 1: 1.

第二の発明において、プロトン導電性材料の組成が第一元素を8〜30原子%であり第二元素を8〜30原子%、ただし、第二元素の一部を第三元素で全体に対して0.1〜5原子%置き換えて、残部が酸素から成ることが好ましい。アモルファスであることにより、第一元素と第二元素が1対1でなくても実用的な性能を出せることを見出したのである。   In the second invention, the composition of the proton conductive material is 8-30 atomic% for the first element and 8-30 atomic% for the second element, provided that a part of the second element is composed of the third element with respect to the whole. It is preferable that 0.1 to 5 atomic% is substituted, and the balance is oxygen. It has been found that by being amorphous, practical performance can be obtained even if the first element and the second element are not 1: 1.

プロトン導電性材料の厚さは0.05μm以上、5μm以下であることが望ましい。厚さが0.05μm未満であれば水素ガスがイオンになることなくそのままで透過する可能性がある。また、5μmを超えるとプロトンの透過性能が悪くなり、燃料電池に用いた場合大きな出力を取ることができない。本発明のプロトン導電性材料は、焼結体に比較すると厚さが薄いので、狭い体積の中に多くのプロトン導電性膜を収納できコンパクトでかつ大出力の燃料電池を提供できる。   The thickness of the proton conductive material is desirably 0.05 μm or more and 5 μm or less. If the thickness is less than 0.05 μm, hydrogen gas may pass through as it is without becoming ions. On the other hand, if it exceeds 5 μm, the proton permeation performance deteriorates, and a large output cannot be obtained when used in a fuel cell. Since the proton conductive material of the present invention is thinner than the sintered body, a large number of proton conductive membranes can be accommodated in a narrow volume and a compact and high output fuel cell can be provided.

本発明のプロトン導電性構造体は、上記で説明したプロトン導電性材料が基材上に形成されたものである。この発明でプロトン導電性構造体とは図1を参照して、プロトン導電性材料3の片側に水素電極となる水素透過性金属からなる基材1を備えたものである。   The proton conductive structure of the present invention is obtained by forming the proton conductive material described above on a substrate. With reference to FIG. 1, the proton conductive structure according to the present invention includes a substrate 1 made of a hydrogen permeable metal serving as a hydrogen electrode on one side of a proton conductive material 3.

本発明で用いる基材としては水素透過性のある金属膜が望ましい。具体的には、Pd、Pd-Ag、Pd-CuなどのPd合金基材や、Pdを両面被覆したV板、V-NiなどのV合金あるいは積層板、Ta合金板、Nb合金板などの合金の板であることが望ましい。ここにおいて、上記のような金属板にPdを被覆する場合、その厚みは0.05μm〜0.3μmが望ましく、0.1μm〜0.2μmの範囲がさらに好ましい。そしてプロトン導電性材料と基材の厚さをあわせた全体の厚さとしては、10μm〜0.5mmが良く、25μm〜200μmの範囲が特に好ましい。このとき、基材はプロトン導電性材料を補強することができる。   As the substrate used in the present invention, a metal film having hydrogen permeability is desirable. Specifically, Pd alloy base materials such as Pd, Pd-Ag, and Pd-Cu, V plates coated on both sides of Pd, V alloys such as V-Ni or laminated plates, Ta alloy plates, Nb alloy plates, etc. An alloy plate is desirable. Here, when Pd is coated on the metal plate as described above, the thickness is desirably 0.05 μm to 0.3 μm, and more preferably 0.1 μm to 0.2 μm. The total thickness of the proton conductive material and the base material is preferably 10 μm to 0.5 mm, particularly preferably 25 μm to 200 μm. At this time, the base material can reinforce the proton conductive material.

本発明の燃料電池は、上記で説明したプロトン導電性材料を用いたものである。その概念断面図を図1に示す。基材1と酸素電極2の間にプロトン導電性材料3が配置され、隔壁となる。隔壁の基材1側に水素を含有するガスを、その反対側の酸素電極2側に酸素を含有するガスを流して燃料電池4を形成する。   The fuel cell of the present invention uses the proton conductive material described above. A conceptual cross-sectional view is shown in FIG. A proton conductive material 3 is disposed between the substrate 1 and the oxygen electrode 2 to form a partition wall. A fuel cell 4 is formed by flowing a gas containing hydrogen on the base material 1 side of the partition wall and a gas containing oxygen on the oxygen electrode 2 side on the opposite side.

水素が基材1を透過してプロトン導電性材料3に達すると、水素原子の電子が取られてプロトンとなる。プロトンはプロトン導電性材料3を通過して、酸素電極2に到達する。基材側で放出された電子は、負荷5と電流計6が直列に接続され、電圧計7が並列に接続された回路を通り酸素電極2に到達し、電気としては酸素電極側から基材側に流れる。そして、酸素電極側ではプロトン、電子、酸素が結合して水となって電池4の外に放出される。   When hydrogen permeates the base material 1 and reaches the proton conductive material 3, electrons of hydrogen atoms are taken to become protons. Protons pass through the proton conductive material 3 and reach the oxygen electrode 2. Electrons emitted on the substrate side reach the oxygen electrode 2 through a circuit in which the load 5 and ammeter 6 are connected in series and the voltmeter 7 is connected in parallel. Flows to the side. On the oxygen electrode side, protons, electrons, and oxygen are combined and discharged as water outside the battery 4.

酸素電極としては、Pd、Pt、Ni、およびRuそれらを含有する合金であり、0.01〜10μmの厚さを持つ薄膜電極或いは貴金属、酸化物からなる多孔質電極が用いられる。製造方法としては、気相法による薄膜、湿式法による成膜、焼付け法が好ましい。   As the oxygen electrode, Pd, Pt, Ni, and Ru are alloys containing them, and a thin film electrode having a thickness of 0.01 to 10 μm or a porous electrode made of a noble metal or an oxide is used. As a production method, a thin film by a vapor phase method, a film formation by a wet method, and a baking method are preferable.

本発明は、基材上に成膜温度が室温以上500℃以下で、雰囲気が0.13kPa(1Torr)以下の減圧酸素雰囲気下で上述したプロトン導電性材料を気相成膜するプロトン導電性構造体の製造方法を提供する。そのなかでプロトン導電性膜の気相成膜は、レーザアブレーション法または、スパッタ法、イオンプレーティング法などが好ましい。スパッタ法の場合、RFマグネトロンスッパッタ法が好ましい。成膜温度の範囲は、500℃以下室温以上が好ましいが、200℃以上400℃以下がさらに好ましい。   The present invention provides a proton conductive structure in which the above proton conductive material is vapor-phase-deposited on a substrate in a reduced pressure oxygen atmosphere having a film formation temperature of room temperature to 500 ° C. and an atmosphere of 0.13 kPa (1 Torr) or less. A manufacturing method is provided. Among them, the vapor deposition of the proton conductive film is preferably a laser ablation method, a sputtering method, an ion plating method or the like. In the case of sputtering, the RF magnetron sputtering method is preferable. The film forming temperature is preferably 500 ° C. or lower and room temperature or higher, but more preferably 200 ° C. or higher and 400 ° C. or lower.

スパッタ法やイオンプレーティング法の場合、導入ガスとしては、アルゴンと酸素の混合ガスが好ましい。アルゴン/酸素の体積比は20〜1の範囲が好ましく、特に4〜10の範囲が好ましい。また、レーザアブレーション法では、酸素のみの雰囲気でも成膜できる。   In the case of a sputtering method or an ion plating method, the introduced gas is preferably a mixed gas of argon and oxygen. The volume ratio of argon / oxygen is preferably in the range of 20 to 1, particularly in the range of 4 to 10. In the laser ablation method, a film can be formed even in an atmosphere containing only oxygen.

いずれの場合も、ターゲットにレーザや電子線を照射し、ターゲットを気化し、それを基材の上に成膜する。   In either case, the target is irradiated with a laser or an electron beam to vaporize the target and form a film on the substrate.

本発明のプロトン導電性材料は、成膜温度が低いので、成膜温度と酸素雰囲気による基材の劣化が少ない。基材を高温にさらすと、表面が酸化した場合はプロトン移動の抵抗層となり、例えば燃料電池を作製した場合、出力が低下する。また、基材が軟化してしまった場合、変形し易くハンドリングも難しくなる。また成膜温度が低いので、設備費や製造コストが安く済むという効果がある。膜(プロトン導電性材料)がアモルファスなので、粒界への不純物の析出や応力集中が減少し、部分的な膜剥離が減少する。同様に、ペロブスカイト型のような結晶性の膜に比較すると、基材面上の成長速度は均一なので表面平滑性に優れている。また、ピンホールが殆ど発生しないので、水素ガスがそのまま酸素電極側に移動することがなく、プロトンになって移動するので高性能な電解質膜を提供できるという効果がある。   Since the proton conductive material of the present invention has a low film formation temperature, there is little deterioration of the substrate due to the film formation temperature and the oxygen atmosphere. When the substrate is exposed to a high temperature, when the surface is oxidized, it becomes a proton transfer resistance layer. For example, when a fuel cell is manufactured, the output decreases. Further, when the base material is softened, it is easily deformed and handling becomes difficult. Further, since the film forming temperature is low, there is an effect that the equipment cost and the manufacturing cost can be reduced. Since the membrane (proton conductive material) is amorphous, the precipitation of impurities and stress concentration at the grain boundary is reduced, and partial membrane peeling is reduced. Similarly, as compared with a crystalline film such as a perovskite type, the growth rate on the substrate surface is uniform and the surface smoothness is excellent. In addition, since almost no pinholes are generated, hydrogen gas does not move to the oxygen electrode side as it is, and moves as protons, so that there is an effect that a high-performance electrolyte membrane can be provided.

以下、本発明の実施の形態を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below.

縦と横の長さがそれぞれ15mm、厚さ1mmの板状のパラジウム(Pd)の基材3個を、レーザー透過用の合成石英ガラス窓を備えた真空チェンバー内部のホルダーにセットした。次に、真空チェンバー内を真空にして、ホルダーの温度を200℃に加熱することによりパラジウムの基材を加熱した。マスフローメータで酸素の流量を制御することにより、チャンバー内の酸素分圧を0.91Pa(7×10-3Torr)に調整した。その状態で原料であるSrCeO3焼結体(直径20mm、厚さ5mm)にレーザー照射用窓を通してKrFエキシマレーザ(エネルギー500mJ、周波数5Hz)を30分照射して厚さ1μmのプロトン導電性薄膜を基材上に成膜した。 Three plate-like palladium (Pd) substrates each having a vertical and horizontal length of 15 mm and a thickness of 1 mm were set in a holder inside a vacuum chamber equipped with a synthetic quartz glass window for laser transmission. Next, the inside of the vacuum chamber was evacuated, and the temperature of the holder was heated to 200 ° C. to heat the palladium substrate. The oxygen partial pressure in the chamber was adjusted to 0.91 Pa (7 × 10 −3 Torr) by controlling the flow rate of oxygen with a mass flow meter. In this state, a raw material SrCeO 3 sintered body (diameter 20 mm, thickness 5 mm) is irradiated with a KrF excimer laser (energy 500 mJ, frequency 5 Hz) through a laser irradiation window for 30 minutes to form a proton conductive thin film with a thickness of 1 μm. A film was formed on the substrate.

1つの試料は、CuターゲットのKα線を用いて、薄膜XRD(X-Ray Diffraction)を入射角0.5°で測定した。結果を図2に示す。ピークの位置が約29°にありピークの最高点9とベースライン8の中間の位置で回折図形の幅いわゆる半値幅10が約5°であった。   For one sample, thin film XRD (X-Ray Diffraction) was measured at an incident angle of 0.5 ° using Kα rays of a Cu target. The result is shown in figure 2. The peak position was about 29 °, and the width of the diffraction pattern, the so-called half-value width 10 was about 5 ° at the midpoint between the peak maximum point 9 and the baseline 8.

別の1つの試料を溶解してイオン結合プラズマ分光分析(ICP分析)と酸素量分析を実施したところSrが20.0原子%、Ceが20.4原子%で残部は酸素であった。原子の比率Sr:Ce:Oは、1:1:3から少しずれていた。   Another sample was dissolved and subjected to ion-coupled plasma spectroscopy (ICP analysis) and oxygen content analysis. As a result, Sr was 20.0 atomic%, Ce was 20.4 atomic%, and the balance was oxygen. The atomic ratio Sr: Ce: O slightly deviated from 1: 1: 3.

残り1つの試料のプロトン導電性膜上にステンレスマスクを通して、2mm角サイズのパラジウム薄膜を0.1μmの厚みに電子ビーム蒸着で設け、サンドイッチ構造とした。パラジウム薄膜は酸素電極となる。酸素電極と基材にリード線をつけて試料を作製した。   A 2 mm square palladium thin film was formed by electron beam evaporation to a thickness of 0.1 μm on the proton conductive film of the remaining one sample through a stainless steel mask to form a sandwich structure. The palladium thin film becomes an oxygen electrode. A sample was prepared by attaching lead wires to the oxygen electrode and the substrate.

この試料を用いてプロトン導電性構造体を評価した。温度が400℃、水素圧0.1MPa(1気圧)の密閉容器の中に上記構造体を設置し、Pd基材とPd薄膜との間に1ボルト(V)の電位を加えたところ、130mAの電流が流れた。一方、温度が400℃で窒素中0.1MPa(1気圧)の密閉容器の中で1ボルト(V)の電位を加えたところ0.1mAの電流しか観測できなかった。このことから上記薄膜はプロトン(水素イオン)を通すプロトン導電性を有していることが明らかとなった。   The proton conductive structure was evaluated using this sample. The above structure was placed in a closed container with a temperature of 400 ° C and a hydrogen pressure of 0.1 MPa (1 atm), and a potential of 1 volt (V) was applied between the Pd substrate and the Pd thin film. Current flowed. On the other hand, when a potential of 1 volt (V) was applied in a closed vessel at 400 ° C. and 0.1 MPa (1 atm) in nitrogen, only a current of 0.1 mA could be observed. This revealed that the thin film has proton conductivity that allows protons (hydrogen ions) to pass through.

引き続き同じ試料で燃料電池としての性能を評価した。上記構造体を、温度400℃でPd基材側に2体積%濃度の水素を0.4L/minで流し、Pd薄膜側に乾燥空気を0.4L/minで流して、0.3Vでの電池出力を測定したところ、表1の通り10mW/cm2となり、燃料電池として良好に機能することが確認された。 Subsequently, the performance as a fuel cell was evaluated with the same sample. With the above structure, at a temperature of 400 ° C, hydrogen at a concentration of 2% by volume is supplied to the Pd substrate side at 0.4 L / min, and dry air is supplied to the Pd thin film side at 0.4 L / min to obtain a battery output at 0.3 V. When measured, it was 10 mW / cm 2 as shown in Table 1, and it was confirmed that the fuel cell functions well.

Figure 0004304666
Figure 0004304666

縦と横の長さがそれぞれ15mm、厚さ1mmの板状のパラジウム(Pd)の基材3個を、レーザー透過用の合成石英ガラス窓を備えた真空チェンバー内部のホルダーにセットした。次に、真空チェンバー内を真空にして、ホルダーの温度を200℃に加熱することによりパラジウムの基材を加熱した。マスフローメータで酸素の流量を制御することにより、チャンバー内の酸素分圧を0.91Pa(7×10-3Torr)に調整した。その状態で原料であるSrCe0.9Yb0.1O3焼結体(直径20mm、厚さ5mm)にレーザー照射用窓を通してKrFエキシマレーザ(エネルギー500mJ、周波数5Hz)を30分照射して厚さ1μmのプロトン導電体薄膜を基材上に成膜した。 Three plate-like palladium (Pd) substrates each having a vertical and horizontal length of 15 mm and a thickness of 1 mm were set in a holder inside a vacuum chamber equipped with a synthetic quartz glass window for laser transmission. Next, the inside of the vacuum chamber was evacuated, and the temperature of the holder was heated to 200 ° C. to heat the palladium substrate. The oxygen partial pressure in the chamber was adjusted to 0.91 Pa (7 × 10 −3 Torr) by controlling the flow rate of oxygen with a mass flow meter. In this state, the raw material SrCe 0.9 Yb 0.1 O 3 sintered body (diameter 20 mm, thickness 5 mm) is irradiated with a KrF excimer laser (energy 500 mJ, frequency 5 Hz) for 30 minutes through a laser irradiation window, and a proton with a thickness of 1 μm. A conductor thin film was formed on the substrate.

1つの試料は、CuターゲットのKα線を用いて、薄膜XRDを入射角0.5°で測定した。図3に示すように大部分がアモルファスと思われる図形が得られた。ピークの最も高い位置は約29°であり、半値幅も約5°であり実施例1とよく似た結果であった。   For one sample, thin film XRD was measured at an incident angle of 0.5 ° using Kα rays of a Cu target. As shown in Fig. 3, a figure that seems to be mostly amorphous was obtained. The highest peak position was about 29 °, and the half width was about 5 °, which was similar to Example 1.

別の1つの試料を溶解してイオン結合プラズマ分光分析(ICP分析)と酸素量分析を実施したところSrが20.0原子%、Ceが18.1原子%、Ybが1.9原子%で残部は酸素であった。   Another sample was dissolved and ion-coupled plasma spectroscopy (ICP analysis) and oxygen content analysis were performed. Sr was 20.0 atomic%, Ce was 18.1 atomic%, Yb was 1.9 atomic%, and the balance was oxygen. .

残り1つの試料のプロトン導電性膜上にステンレスマスクを通して、2mm角サイズのパラジウム薄膜を0.1μmの厚みに電子ビーム蒸着で設け、サンドイッチ構造とした。パラジウム薄膜は酸素電極を構成し、酸素電極と基材にリード線をつけた。   A 2 mm square palladium thin film was formed by electron beam evaporation to a thickness of 0.1 μm on the proton conductive film of the remaining one sample through a stainless steel mask to form a sandwich structure. The palladium thin film constituted an oxygen electrode, and lead wires were attached to the oxygen electrode and the substrate.

この試料を用いて、プロトン導電性構造体を評価した。温度が400℃、水素圧0.1MPa(1気圧)の密閉容器の中に上記構造体を設置し、Pd基材とPd薄膜との間に1ボルト(V)の電位を加えたところ、130mAの電流が流れた。一方、温度が400℃で窒素中0.1MPa(1気圧)の密閉容器の中で1ボルト(V)の電位を加えたところ0.1mAの電流しか観測できなかった。このことから上記薄膜はプロトン(水素イオン)を通すプロトン導電性を有していることが明らかとなった。   The proton conductive structure was evaluated using this sample. The above structure was placed in a closed container with a temperature of 400 ° C and a hydrogen pressure of 0.1 MPa (1 atm), and a potential of 1 volt (V) was applied between the Pd substrate and the Pd thin film. Current flowed. On the other hand, when a potential of 1 volt (V) was applied in a closed vessel at 400 ° C. and 0.1 MPa (1 atm) in nitrogen, only a current of 0.1 mA could be observed. This revealed that the thin film has proton conductivity that allows protons (hydrogen ions) to pass through.

引き続き燃料電池としての性能を評価した。上記構造体を、温度400℃でPd基材側に2体積%濃度水素を0.4L/minで流し、Pd薄膜側に乾燥空気を0.4L/minで流して、0.3Vでの電池出力を測定したところ、表1に示すとおり10mW/cm2であり、燃料電池として良好に機能することが確認された。 Subsequently, the performance as a fuel cell was evaluated. Measure the battery output at 0.3V by flowing 2% hydrogen concentration by 0.4L / min to the Pd substrate side at a temperature of 400 ° C and flowing dry air at 0.4L / min to the Pd thin film side. As a result, as shown in Table 1, it was 10 mW / cm 2 , and it was confirmed that the fuel cell functions well.

縦と横の長さがそれぞれ15mm、厚さ1mmの板状のパラジウム(Pd)の基材3個を、レーザー透過用の合成石英ガラス窓を備えた真空チェンバー内部のホルダーにセットした。次に、真空チェンバー内を真空にして、ホルダーの温度を350℃に加熱することによりパラジウムの基材を加熱した。マスフローメータで酸素の流量を制御することにより、チャンバー内の酸素分圧を0.91Pa(7×10-3Torr)に調整した。その状態で原料であるSrCe0.9Yb0.1O3焼結体(直径20mm、厚さ5mm)にレーザー照射用窓を通してKrFエキシマレーザ(エネルギー500mJ、周波数5Hz)を30分照射して厚さ1μmのプロトン導電体薄膜を基材上に成膜した。 Three plate-like palladium (Pd) substrates each having a vertical and horizontal length of 15 mm and a thickness of 1 mm were set in a holder inside a vacuum chamber equipped with a synthetic quartz glass window for laser transmission. Next, the inside of the vacuum chamber was evacuated, and the temperature of the holder was heated to 350 ° C., thereby heating the palladium substrate. The oxygen partial pressure in the chamber was adjusted to 0.91 Pa (7 × 10 −3 Torr) by controlling the flow rate of oxygen with a mass flow meter. In this state, the raw material SrCe 0.9 Yb 0.1 O 3 sintered body (diameter 20 mm, thickness 5 mm) is irradiated with a KrF excimer laser (energy 500 mJ, frequency 5 Hz) for 30 minutes through a laser irradiation window, and a proton with a thickness of 1 μm. A conductor thin film was formed on the substrate.

1つの試料は、CuターゲットのKα線を用いて、薄膜XRDを入射角0.5°で測定した。図4に示すように、アモルファス相特有のブロードなピークが約28°にあり、半値幅は約6°であった。シャープなピークは約29°にあることがわかり、このピークはペロブスカイト相に基づくものであることがわかった。この実施例は、プロトン導電性材料の成膜時に基板温度を高くしているので、アモルファス相に加えてペロブスカイト相が生じ、二つの相が共存している例である。   For one sample, thin film XRD was measured at an incident angle of 0.5 ° using Kα rays of a Cu target. As shown in FIG. 4, a broad peak peculiar to the amorphous phase was at about 28 °, and the half width was about 6 °. A sharp peak was found at about 29 °, and this peak was found to be based on the perovskite phase. In this embodiment, since the substrate temperature is increased during the film formation of the proton conductive material, a perovskite phase is generated in addition to the amorphous phase, and the two phases coexist.

別の1つの試料を溶解してイオン結合プラズマ分光分析(ICP分析)と酸素量分析を実施したところSrが19.8原子%、Ceが18.1原子%、Ybが2.0原子%で残部は酸素であった。   When another sample was dissolved and ion-coupled plasma spectroscopy (ICP analysis) and oxygen content analysis were performed, Sr was 19.8 atomic%, Ce was 18.1 atomic%, Yb was 2.0 atomic%, and the balance was oxygen .

残り1つの試料のプロトン導電性膜上にステンレスマスクを通して、2mm角サイズのパラジウム薄膜を0.1μmの厚みに電子ビーム蒸着で設け、サンドイッチ構造とした。パラジウム薄膜は酸素電極を構成し、酸素電極と基材にリード線をつけた試料を作製した。   A 2 mm square palladium thin film was formed by electron beam evaporation to a thickness of 0.1 μm on the proton conductive film of the remaining one sample through a stainless steel mask to form a sandwich structure. The palladium thin film constituted an oxygen electrode, and a sample was prepared by attaching lead wires to the oxygen electrode and the base material.

この試料を用いて、プロトン導電性構造体を評価した。温度が400℃、水素圧0.1MPa(1気圧)の密閉容器の中に上記構造体を設置し、Pd基材とPd薄膜との間に1ボルト(V)の電位を加えたところ、120mAの電流が流れた。一方、温度が400℃で窒素中0.1MPa(1気圧)の密閉容器の中で1ボルト(V)の電位を加えたところ0.1mAの電流しか観測できなかった。このことから上記薄膜はプロトン(水素イオン)を通すプロトン導電性を有していることが明らかとなった。   The proton conductive structure was evaluated using this sample. The above structure was placed in a closed container with a temperature of 400 ° C and a hydrogen pressure of 0.1 MPa (1 atm), and a potential of 1 volt (V) was applied between the Pd substrate and the Pd thin film. Current flowed. On the other hand, when a potential of 1 volt (V) was applied in a closed vessel at 400 ° C. and 0.1 MPa (1 atm) in nitrogen, only a current of 0.1 mA could be observed. This revealed that the thin film has proton conductivity that allows protons (hydrogen ions) to pass through.

引き続き燃料電池としての性能を評価した。上記構造体を、温度400℃でPd基材側に2体積%濃度水素を0.4L/minで流し、Pd薄膜側に乾燥空気を0.4L/minで流して、0.3Vでの電池出力を測定したところ、表1の通り10mW/cm2となり、燃料電池として良好に機能することが確認された。 Subsequently, the performance as a fuel cell was evaluated. Measure the battery output at 0.3V by flowing 2% hydrogen concentration by 0.4L / min to the Pd substrate side at a temperature of 400 ° C and flowing dry air at 0.4L / min to the Pd thin film side. As a result, it was 10 mW / cm 2 as shown in Table 1, and it was confirmed that it functions well as a fuel cell.

縦と横の長さがそれぞれ15mm、厚さ1mmの板状のパラジウム(Pd)の基材3個を、レーザー透過用の合成石英ガラス窓を備えた真空チェンバー内部のホルダーにセットした。次に、真空チェンバー内を真空にして、ホルダーの温度を200℃に加熱することによりパラジウムの基材を加熱した。マスフローメータで酸素の流量を制御することにより、チャンバー内の酸素分圧を0.91Pa(7×10-3Torr)に調整した。その状態で原料であるSrZr0.9Yb0.1O3焼結体(直径20mm、厚さ5mm)にレーザー照射用窓を通してKrFエキシマレーザ(エネルギー500mJ、周波数5Hz)を30分照射して1μmのプロトン導電体薄膜を基材上に成膜した。 Three plate-like palladium (Pd) substrates each having a vertical and horizontal length of 15 mm and a thickness of 1 mm were set in a holder inside a vacuum chamber equipped with a synthetic quartz glass window for laser transmission. Next, the inside of the vacuum chamber was evacuated, and the temperature of the holder was heated to 200 ° C. to heat the palladium substrate. The oxygen partial pressure in the chamber was adjusted to 0.91 Pa (7 × 10 −3 Torr) by controlling the flow rate of oxygen with a mass flow meter. In this state, the raw material SrZr 0.9 Yb 0.1 O 3 sintered body (diameter 20 mm, thickness 5 mm) is irradiated with a KrF excimer laser (energy 500 mJ, frequency 5 Hz) for 30 minutes through a laser irradiation window, and a proton conductor of 1 μm. A thin film was deposited on the substrate.

1つの試料は、CuターゲットのKα線を用いて、薄膜XRDを入射角0.5°で測定した。結果を図5に示す。ピークの最も高い部分は、約30°の近辺にあり、半値幅は約5°であった。このピークは、左右対称の回折図形となっている。最も高い位置が他の実施例からずれている理由は、おそらくZrの影響と思われる。   For one sample, thin film XRD was measured at an incident angle of 0.5 ° using Kα rays of a Cu target. The results are shown in FIG. The highest part of the peak was in the vicinity of about 30 °, and the full width at half maximum was about 5 °. This peak is a symmetrical diffraction pattern. The reason why the highest position deviates from other examples is probably due to the influence of Zr.

別の1つの試料を溶解してイオン結合プラズマ分光分析(ICP分析)と酸素量分析を実施したところSrが20.0原子%、Zrが18.1原子%、Ybが1.9原子%で残部は酸素であった。   Another sample was dissolved and ion-coupled plasma spectroscopy (ICP analysis) and oxygen content analysis were performed. As a result, Sr was 20.0 atomic%, Zr was 18.1 atomic%, Yb was 1.9 atomic%, and the balance was oxygen. .

残り1つの試料のプロトン導電性膜上にステンレスマスクを通して、2mm角サイズのパラジウム薄膜を0.1μmの厚みに電子ビーム蒸着で設け、サンドイッチ構造とした。パラジウム薄膜は酸素電極を構成し、酸素電極と基材にリード線をつけた。   A 2 mm square palladium thin film with a thickness of 0.1 μm was formed by electron beam evaporation on the remaining proton conductive film of the sample through a stainless steel mask to form a sandwich structure. The palladium thin film constituted an oxygen electrode, and lead wires were attached to the oxygen electrode and the substrate.

この試料を用いて、プロトン導電性構造体を評価した。温度が400℃、水素圧0.1MPa(1気圧)の密閉容器の中に上記構造体を設置し、Pd基材とPd薄膜との間に1ボルト(V)の電位を加えたところ、0.3mAの電流が流れた。一方、温度が400℃で窒素中0.1MPa(1気圧)の密閉容器の中で1ボルト(V)の電位を加えたところ0.01mAの電流しか観測できなかった。このことから上記薄膜はプロトン(水素イオン)を通すプロトン導電性を有していることが明らかとなった。   The proton conductive structure was evaluated using this sample. When the above structure is placed in a sealed container with a temperature of 400 ° C and a hydrogen pressure of 0.1 MPa (1 atm), a potential of 1 volt (V) is applied between the Pd substrate and the Pd thin film, resulting in 0.3 mA. Current flowed. On the other hand, when a potential of 1 volt (V) was applied in a closed vessel of 400 MPa at 0.1 MPa (1 atm) in nitrogen, only a current of 0.01 mA could be observed. This revealed that the thin film has proton conductivity that allows protons (hydrogen ions) to pass through.

引き続き同じ試料で燃料電池としての性能を評価した。上記構造体を、温度400℃でPd基材側に2体積%濃度水素を0.4L/minで流し、Pd薄膜側に乾燥空気を0.4L/minで流して、0.3Vでの電池出力を測定したところ、表1の通り1mW/cm2となり、燃料電池として良好に機能することが確認された。 Subsequently, the performance as a fuel cell was evaluated with the same sample. Measure the battery output at 0.3V by flowing 2% hydrogen concentration by 0.4L / min to the Pd substrate side at a temperature of 400 ° C and flowing dry air at 0.4L / min to the Pd thin film side. As a result, it was 1 mW / cm 2 as shown in Table 1, and it was confirmed that it functions well as a fuel cell.

縦と横の長さがそれぞれ15mm、厚さ1mmの板状のパラジウム(Pd)の基材3個を、高周波スパッタ蒸着源を備えた真空チェンバー内部のホルダーにセットした。次に、真空チェンバー内を真空にして、ホルダーの温度を200℃に加熱することによりパラジウムの基材を加熱した。マスフローメータで酸素の流量を制御することにより、チャンバー内の酸素分圧を6.5Pa(5×10-2Torr)に調整した。その状態で原料であるSrCe0.95Yb0.05O3焼結体(直径100mm、厚さ5mm)を高周波スパッタ(パワー600mW)を2時間実施して1μmのプロトン導電体薄膜を基材上に成膜した。 Three plate-like palladium (Pd) substrates each having a vertical and horizontal length of 15 mm and a thickness of 1 mm were set in a holder inside a vacuum chamber equipped with a high-frequency sputter deposition source. Next, the inside of the vacuum chamber was evacuated, and the temperature of the holder was heated to 200 ° C. to heat the palladium substrate. The oxygen partial pressure in the chamber was adjusted to 6.5 Pa (5 × 10 −2 Torr) by controlling the flow rate of oxygen with a mass flow meter. In that state, a raw material SrCe 0.95 Yb 0.05 O 3 sintered body (diameter 100 mm, thickness 5 mm) was subjected to high-frequency sputtering (power 600 mW) for 2 hours to form a 1 μm proton conductor thin film on the substrate. .

1つの試料は、CuターゲットのKα線を用いて、薄膜XRDを入射角0.5°で測定した。結果を図6に示す。ピークの位置が約28°であり、半値幅は約4°であった。   For one sample, thin film XRD was measured at an incident angle of 0.5 ° using Kα rays of a Cu target. The results are shown in FIG. The peak position was about 28 °, and the full width at half maximum was about 4 °.

別の1つの試料を溶解してイオン結合プラズマ分光分析(ICP分析)と酸素量分析を実施したところSrが10原子%、Ceが25原子%、Ybが3原子%で残部は酸素であった。   Another sample was dissolved and ion-coupled plasma spectroscopy (ICP analysis) and oxygen content analysis were performed. Sr was 10 atomic%, Ce was 25 atomic%, Yb was 3 atomic%, and the balance was oxygen. .

残り1つの試料のプロトン導電性膜上にステンレスマスクを通して、2mm角サイズのパラジウム薄膜を0.1μmの厚みに電子ビーム蒸着で設け、サンドイッチ構造とした。パラジウム薄膜は酸素電極を構成し、酸素電極と基材にリード線をつけた。   A 2 mm square palladium thin film was formed by electron beam evaporation to a thickness of 0.1 μm on the proton conductive film of the remaining one sample through a stainless steel mask to form a sandwich structure. The palladium thin film constituted an oxygen electrode, and lead wires were attached to the oxygen electrode and the substrate.

この試料を用いてプロトン導電性構造体を評価した。温度が400℃、水素圧0.1MPa(1気圧)の密閉容器の中に上記構造体を設置し、Pd基材とPd薄膜との間に1ボルト(V)の電位を加えたところ、60mAの電流が流れた。一方、温度が400℃で窒素中0.1MPa(1気圧)の密閉容器の中で1ボルト(V)の電位を加えたところ0.1mAの電流しか観測できなかった。このことから上記薄膜はプロトン(水素イオン)を通すプロトン導電性を有していることが明らかとなった。   The proton conductive structure was evaluated using this sample. When the above structure was installed in a closed container with a temperature of 400 ° C and a hydrogen pressure of 0.1 MPa (1 atm), a potential of 1 volt (V) was applied between the Pd substrate and the Pd thin film. Current flowed. On the other hand, when a potential of 1 volt (V) was applied in a closed vessel at 400 ° C. and 0.1 MPa (1 atm) in nitrogen, only a current of 0.1 mA could be observed. This revealed that the thin film has proton conductivity that allows protons (hydrogen ions) to pass through.

引き続き燃料電池としての性能を評価した。上記構造体を、温度400℃でPd基材側に2体積%濃度水素を0.4L/minで流し、Pd薄膜側に乾燥空気を0.4L/minで流して、0.3Vでの電池出力を測定したところ、表1の通り8mW/cm2となり、燃料電池として良好に機能することが確認された。 Subsequently, the performance as a fuel cell was evaluated. Measure the battery output at 0.3V by flowing 2% hydrogen concentration by 0.4L / min to the Pd substrate side at a temperature of 400 ° C and flowing dry air at 0.4L / min to the Pd thin film side. As a result, it was 8 mW / cm 2 as shown in Table 1, and it was confirmed that the fuel cell functions well.

(比較例1)
縦と横の長さがそれぞれ15mm、厚さ1mmの板状のパラジウム(Pd)の基材3個を、レーザー透過用の合成石英ガラス窓を備えた真空チェンバー内部のホルダーにセットした。次に、真空チェンバー内を真空にして、ホルダーの温度を750℃に加熱することによりパラジウムの基材を加熱した。マスフローメータで酸素の流量を制御することにより、チャンバー内の酸素分圧を0.91Pa(7×10-3Torr)に調整した。その状態で原料であるSrCe0.9Yb0.1O3焼結体(直径20mm、厚さ5mm)にレーザー照射用窓を通してKrFエキシマレーザ(エネルギー500mJ、周波数5Hz)を30分照射して厚さ1μmのプロトン導電体薄膜を基材上に成膜した。
(Comparative Example 1)
Three plate-like palladium (Pd) substrates each having a vertical and horizontal length of 15 mm and a thickness of 1 mm were set in a holder inside a vacuum chamber equipped with a synthetic quartz glass window for laser transmission. Next, the inside of the vacuum chamber was evacuated, and the temperature of the holder was heated to 750 ° C., thereby heating the palladium substrate. The oxygen partial pressure in the chamber was adjusted to 0.91 Pa (7 × 10 −3 Torr) by controlling the flow rate of oxygen with a mass flow meter. In this state, the raw material SrCe 0.9 Yb 0.1 O 3 sintered body (diameter 20 mm, thickness 5 mm) is irradiated with a KrF excimer laser (energy 500 mJ, frequency 5 Hz) for 30 minutes through a laser irradiation window, and a proton with a thickness of 1 μm. A conductor thin film was formed on the substrate.

1つの試料は、CuターゲットのKα線を用いて、薄膜XRD測定を入射角0.5°で実施した。結果を図7に示す。その結果ペロブスカイト相特有のシャープなピークが観測された。しかしながらアモルファス相は、この方法では検出できなかった。   For one sample, thin film XRD measurement was performed at an incident angle of 0.5 ° using Kα rays of a Cu target. The results are shown in FIG. As a result, a sharp peak peculiar to the perovskite phase was observed. However, the amorphous phase could not be detected by this method.

別の1つの試料を溶解してイオン結合プラズマ分光分析(ICP分析)と酸素量分析を実施したところSrが19.8原子%、Ceが18.1原子%、Ybが2.0原子%で残部は酸素であった。   When another sample was dissolved and ion-coupled plasma spectroscopy (ICP analysis) and oxygen content analysis were performed, Sr was 19.8 atomic%, Ce was 18.1 atomic%, Yb was 2.0 atomic%, and the balance was oxygen .

残り1つの試料のプロトン導電性膜上にステンレスマスクを通して、2mm角サイズのパラジウム薄膜を0.1μmの厚みに電子ビーム蒸着で設け、サンドイッチ構造とした。パラジウム薄膜は酸素電極を構成し、酸素電極と基材にリード線をつけた。   A 2 mm square palladium thin film with a thickness of 0.1 μm was formed by electron beam evaporation on the remaining proton conductive film of the sample through a stainless steel mask to form a sandwich structure. The palladium thin film constituted an oxygen electrode, and lead wires were attached to the oxygen electrode and the substrate.

この試料を用いて、プロトン導電性構造体を評価した。得られた構造体は室温窒素中でPd基材とPd薄膜が短絡していた。再現性チェックのため10個について測定したが全数短絡していた。基材が軟化して変形していること、およびPd基材とプロトン導電性材料の熱膨張率差による応力が、温度変化が大(750℃→室温)により大きかったため膜が損傷したと考えられる。   The proton conductive structure was evaluated using this sample. In the obtained structure, the Pd substrate and the Pd thin film were short-circuited in nitrogen at room temperature. 10 pieces were measured for reproducibility check, but all were short-circuited. It is thought that the membrane was damaged because the substrate was softened and deformed, and the stress due to the difference in thermal expansion coefficient between the Pd substrate and the proton conductive material was larger due to the large temperature change (750 ° C → room temperature). .

本発明で得られたプロトン導電性材料や導電性構造体は、燃料電池のほかに水素分離膜、水素検出器やその他に湿度センサーなどに利用できる。   The proton conductive material and conductive structure obtained in the present invention can be used for a hydrogen separation membrane, a hydrogen detector, a humidity sensor, etc. in addition to a fuel cell.

本発明のプロトン導電性材料を用いた燃料電池の概念断面図である。It is a conceptual sectional view of a fuel cell using the proton conductive material of the present invention. 本発明の実施例1で得られたプロトン導電性材料のX線回折図形である。2 is an X-ray diffraction pattern of the proton conductive material obtained in Example 1 of the present invention. 本発明の実施例2で得られたプロトン導電性材料のX線回折図形である。3 is an X-ray diffraction pattern of the proton conductive material obtained in Example 2 of the present invention. 本発明の実施例3で得られたプロトン導電性材料のX線回折図形である。4 is an X-ray diffraction pattern of the proton conductive material obtained in Example 3 of the present invention. 本発明の実施例4で得られたプロトン導電性材料のX線回折図形である。6 is an X-ray diffraction pattern of the proton conductive material obtained in Example 4 of the present invention. 本発明の実施例5で得られたプロトン導電性材料のX線回折図形である。6 is an X-ray diffraction pattern of the proton conductive material obtained in Example 5 of the present invention. 比較例1で得られたプロトン導電性材料のX線回折図形である。2 is an X-ray diffraction pattern of the proton conductive material obtained in Comparative Example 1. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 基材 2 酸素電極
3 プロトン導電性材料 4 燃料電池
5 負荷 6 電流計
7 電圧計 8 ベースライン
9 ピークの最高点 10 半値幅
1 Base material 2 Oxygen electrode
3 Proton conductive material 4 Fuel cell
5 Load 6 Ammeter
7 Voltmeter 8 Baseline
9 Peak maximum 10 Half width

Claims (9)

Mg、Ca、SrおよびBaからなる群から選ばれる少なくとも一種の第一元素と、
Ce、Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも一種の第二元素と、
酸素から成る組成のアモルファス構造の材料であり、
前記アモルファス構造とは、CuKα線を用いたX線回折測定において材料の回折図形の第一ピークの位置が25°と35°の間にあり、
かつ前記のピークの半値幅が2°以上であることを特徴とするプロトン導電性材料。
At least one first element selected from the group consisting of Mg, Ca, Sr and Ba;
At least one second element selected from the group consisting of Ce, Zr, Ti and Hf;
A material with an amorphous structure composed of oxygen,
The amorphous structure is the position of the first peak of the diffraction pattern of the material between 25 ° and 35 ° in the X-ray diffraction measurement using CuKα rays,
The proton conductive material is characterized in that the half width of the peak is 2 ° or more.
Mg、Ca、SrおよびBaからなる群から選ばれる少なくとも一種の第一元素と、
Ce、Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも一種の第二元素と、
前記第二元素の一部をSc、Yおよびランタノイドからなる群から選ばれた少なくとも一種で置き換えた第三元素と、
酸素から成る組成のアモルファス構造の材料であり、
前記アモルファス構造とは、CuKα線を用いたX線回折測定において材料の回折図形の第一ピークの位置が25°と35°の間にあり、
かつ前記のピークの半値幅が2°以上であることを特徴とするプロトン導電性材料。
At least one first element selected from the group consisting of Mg, Ca, Sr and Ba;
At least one second element selected from the group consisting of Ce, Zr, Ti and Hf;
A third element in which a part of the second element is replaced with at least one selected from the group consisting of Sc, Y and a lanthanoid;
A material with an amorphous structure composed of oxygen,
The amorphous structure is the position of the first peak of the diffraction pattern of the material between 25 ° and 35 ° in the X-ray diffraction measurement using CuKα rays,
The proton conductive material is characterized in that the half width of the peak is 2 ° or more.
前記X線回折測定における第一ピークに加えて、ピーク位置が28°と32°の間にあり、前記第一ピークよりも鋭い第二ピークを有することを特徴とする請求項1または2に記載のプロトン導電性材料。 In addition to the first peak in the X-ray diffraction measurement, Ri near between peak position 28 ° and 32 °, to claim 1 or 2, characterized in that it has a second peak sharper than the first peak The proton conductive material described. 前記プロトン導電性材料の組成が第一元素を8〜30原子%、
第二元素を8〜30原子%、
残部が酸素から成ることを特徴とする請求項1または3に記載のプロトン導電性材料。
The proton conductive material has a composition of 8 to 30 atomic% of the first element,
8-30 atomic percent of the second element,
4. The proton conductive material according to claim 1, wherein the balance is oxygen.
前記プロトン導電性材料の組成が第一元素を8〜30原子%、
第二元素を8〜30原子%、ただし、第二元素の一部を第三元素で全体に対して0.1〜5原子%置き換え、
残部が酸素から成ることを特徴とする請求項2または3に記載のプロトン導電性材料。
The proton conductive material has a composition of 8 to 30 atomic% of the first element,
8-30 atomic percent of the second element, except that a part of the second element is replaced by 0.1-3 atomic percent of the whole with the third element,
4. The proton conductive material according to claim 2, wherein the balance is oxygen.
前記プロトン導電性材料の厚さが0.05μm以上、5μm以下であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のプロトン導電性材料。   6. The proton conductive material according to claim 1, wherein a thickness of the proton conductive material is 0.05 μm or more and 5 μm or less. 請求項1〜6のいずれかに記載されているプロトン導電性材料が水素透過性基材上に形成されていることを特徴とするプロトン導電性構造体。   7. A proton conductive structure, wherein the proton conductive material according to claim 1 is formed on a hydrogen permeable substrate. 請求項1〜6のいずれかに記載されているプロトン導電性材料を用いることを特徴とする燃料電池。   A fuel cell using the proton conductive material according to any one of claims 1 to 6. 水素透過性基材上に成膜温度が500℃以下室温以上で、雰囲気が0.13kPa(1Torr)以下の減圧酸素雰囲気下で請求項1〜6のいずれかに記載のプロトン導電性材料を気相成膜することを特徴とするプロトン導電性構造体の製造方法。   The proton conductive material according to any one of claims 1 to 6 is vapor-phased on a hydrogen permeable substrate in a reduced pressure oxygen atmosphere having a film forming temperature of 500 ° C or lower and a room temperature or higher and an atmosphere of 0.13kPa (1Torr) or lower. A method for producing a proton conductive structure, comprising forming a film.
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