JP4303206B2 - 光近接効果補正処理検証方法 - Google Patents
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- G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
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Description
Claims (10)
- 設計データから第1の条件で第1のマスクパターンデータを生成し、
該第1のマスクパターンデータを光近接効果補正処理して第1の補正パターンデータを生成し、
該設計データから第2の条件で、該第1のマスクパターンデータとマスクとしての実体は同一であるがデータとしては異なる第2のマスクパターンデータを生成し、
該第1のマスクパターンに施した光近接効果補正処理と同一の補正ルールを用いて、該第2のマスクパターンデータを光近接効果補正処理して第2の補正パターンデータを生成し、
該第1の補正パターンデータと該第2の補正パターンデータとを比較して両データが一致するか否かを判断する
各段階を含むことを特徴とする光近接効果補正処理検証方法。 - 該両データが一致しない場合には該光近接効果補正処理を修正する段階を更に含むことを特徴とする請求項1記載の光近接効果補正処理検証方法。
- 設計データから第1の条件で第1のマスクパターンデータを生成し、
該第1のマスクパターンデータを光近接効果補正処理して第1の補正パターンデータを生成し、
該設計データから第2の条件で第2のマスクパターンデータを生成し、
該第2のマスクパターンデータを光近接効果補正処理して第2の補正パターンデータを生成し、
該第1の補正パターンデータと該第2の補正パターンデータとを比較して両データが一致するか否かを判断する
各段階を含み、
該第1のマスクパターンデータを生成する段階は該設計データを回転させないで第1のマスクパターンデータを生成し、該第2のマスクパターンデータを生成する段階は該設計データを所定の角度だけ所定の方向に回転させて第2のマスクパターンデータを生成し、該第2の補正パターンデータを生成する段階は該第2のマスクパターンデータを光近接効果補正処理して得られるデータを該所定の角度だけ該所定の方向とは逆の方向に回転して該第2の補正パターンデータを生成することを特徴とする光近接効果補正処理検証方法。 - 該所定の角度は90度の整数倍であることを特徴とする請求項3記載の光近接効果補正処理検証方法。
- 設計データから第1の条件で第1のマスクパターンデータを生成し、
該第1のマスクパターンデータを光近接効果補正処理して第1の補正パターンデータを生成し、
該設計データから第2の条件で第2のマスクパターンデータを生成し、
該第2のマスクパターンデータを光近接効果補正処理して第2の補正パターンデータを生成し、
該第1の補正パターンデータと該第2の補正パターンデータとを比較して両データが一致するか否かを判断する
各段階を含み、
該第1のマスクパターンデータを生成する段階は該設計データを第1の所定の領域に分割して第1のマスクパターンデータを生成し、該第2のマスクパターンデータを生成する段階は該設計データを第1の所定の領域とは異なる第2の所定の領域に分割して第2のマスクパターンデータを生成することを特徴とする光近接効果補正処理検証方法。 - 該第1のマスクパターンデータを生成する段階は該第1の所定の領域を第1の処理グリッドにより規定し、該第2のマスクパターンデータを生成する段階は該第2の所定の領域を該第1の処理グリッドとは異なる第2の処理グリッドにより規定することを特徴とする請求項5記載の光近接効果補正処理検証方法。
- 設計データから第1の条件で第1のマスクパターンデータを生成し、
該第1のマスクパターンデータを光近接効果補正処理して第1の補正パターンデータを生成し、
該設計データから第2の条件で第2のマスクパターンデータを生成し、
該第2のマスクパターンデータを光近接効果補正処理して第2の補正パターンデータを生成し、
該第1の補正パターンデータと該第2の補正パターンデータとを比較して両データが一致するか否かを判断する
各段階を含み、
該第1のマスクパターンデータを生成する段階は該設計データを回転させることなく所定の領域に分割して第1のマスクパターンデータを生成し、該第2のマスクパターンデータを生成する段階は該設計データを所定の角度だけ所定の方向に回転させ該所定の領域に分割して第2のマスクパターンデータを生成し、該第2の補正パターンデータを生成する段階は該第2のマスクパターンデータを光近接効果補正処理して得られるデータを該所定の角度だけ該所定の方向とは逆の方向に回転して該第2の補正パターンデータを生成することを特徴とする光近接効果補正処理検証方法。 - 該所定の角度は90度の整数倍であることを特徴とする請求項7記載の光近接効果補正処理検証方法。
- 設計データから第1の条件で第1のマスクパターンデータを生成し、
該第1のマスクパターンデータを光近接効果補正処理して第1の補正パターンデータを生成し、
該設計データから第2の条件で、該第1のマスクパターンデータとマスクとしての実体は同一であるがデータとしては異なる第2のマスクパターンデータを生成し、
該第1のマスクパターンに施した光近接効果補正処理と同一の補正ルールを用いて、該第2のマスクパターンデータを光近接効果補正処理して第2の補正パターンデータを生成し、
該第1の補正パターンデータと該第2の補正パターンデータとを比較して両データが一致するか否かを判断する
各段階をコンピュータに実行させることを特徴とする光近接効果補正処理検証プログラム。 - 設計データから第1の条件で第1のマスクパターンデータを生成するユニットと、
該第1のマスクパターンデータを光近接効果補正処理して第1の補正パターンデータを生成するユニットと、
該設計データから第2の条件で、該第1のマスクパターンデータとマスクとしての実体は同一であるがデータとしては異なる第2のマスクパターンデータを生成するユニットと、
該第1のマスクパターンに施した光近接効果補正処理と同一の補正ルールを用いて、該第2のマスクパターンデータを光近接効果補正処理して第2の補正パターンデータを生成するユニットと、
該第1の補正パターンデータと該第2の補正パターンデータとを比較して両データが一致するか否かを判断するユニット
を含むことを特徴とする光近接効果補正処理検証システム。
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