[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP4218838B2 - Power supply system, power supply apparatus, and electronic circuit driving method - Google Patents

Power supply system, power supply apparatus, and electronic circuit driving method Download PDF

Info

Publication number
JP4218838B2
JP4218838B2 JP2005040108A JP2005040108A JP4218838B2 JP 4218838 B2 JP4218838 B2 JP 4218838B2 JP 2005040108 A JP2005040108 A JP 2005040108A JP 2005040108 A JP2005040108 A JP 2005040108A JP 4218838 B2 JP4218838 B2 JP 4218838B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
integrated circuit
semiconductor integrated
power supply
conductive fluid
supply system
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005040108A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2006230092A (en
Inventor
和明 矢澤
巖 瀧口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Interactive Entertainment Inc
Original Assignee
Sony Computer Entertainment Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Computer Entertainment Inc filed Critical Sony Computer Entertainment Inc
Priority to JP2005040108A priority Critical patent/JP4218838B2/en
Priority to US11/355,706 priority patent/US7973434B2/en
Publication of JP2006230092A publication Critical patent/JP2006230092A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4218838B2 publication Critical patent/JP4218838B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K7/00Constructional details common to different types of electric apparatus
    • H05K7/20Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating
    • H05K7/20218Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating using a liquid coolant without phase change in electronic enclosures
    • H05K7/20272Accessories for moving fluid, for expanding fluid, for connecting fluid conduits, for distributing fluid, for removing gas or for preventing leakage, e.g. pumps, tanks or manifolds
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04BPOSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B19/00Machines or pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B1/00 - F04B17/00
    • F04B19/006Micropumps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)

Description

本発明は、電力供給および冷却技術に関し、特に半導体集積回路を対象とした電力供給技術に関する。   The present invention relates to a power supply and cooling technique, and more particularly to a power supply technique for a semiconductor integrated circuit.

LSI設計において製造プロセスの微細化と素子の高集積化が一段と進み、チップの性能限界として発熱量を考慮することがLSIの設計上非常に重要になった。チップが高温になると、動作不良を起こしたり、長期信頼性が低下するため、様々な発熱対策がとられている。たとえば、チップの上部にヒートシンクを設けて、チップから発生する熱を逃がす方法がとられる。   In LSI design, the miniaturization of the manufacturing process and the high integration of elements have further progressed, and it has become very important for LSI design to consider the amount of heat generated as the performance limit of the chip. When the chip becomes hot, malfunctions occur and long-term reliability decreases, so various countermeasures against heat generation are taken. For example, a method is used in which a heat sink is provided on the top of the chip to release heat generated from the chip.

昨今のLSI、特に高性能のマイクロプロセッサでは、ヒートシンクでもとりきれない発熱が生じうるため、放熱効率の改善は永続的な課題である。
また、LSIにおいて、基板などと接続される端子の電流容量には限界があり、端子に流れる電流密度がLSIの信頼性に影響を及ぼすという問題が生じており、LSIに対する電力供給もまた、重要な技術的課題としてあげられる。
In recent LSIs, particularly high-performance microprocessors, heat generation that cannot be completely removed by a heat sink can occur, so improvement of heat dissipation efficiency is a permanent issue.
Further, in LSI, there is a limit to the current capacity of a terminal connected to a substrate or the like, and there is a problem that the current density flowing through the terminal affects the reliability of the LSI, and power supply to the LSI is also important. As a technical issue.

本発明はこうした課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、半導体集積回路を効果的に冷却しつつ、同時に電力を供給することができる電力供給システムの提供にある。   The present invention has been made in view of these problems, and an object thereof is to provide a power supply system capable of simultaneously supplying power while effectively cooling a semiconductor integrated circuit.

本発明のある態様は電力供給システムに関する。この電力供給システムは、電子回路を冷却するための冷却媒体の運動エネルギーを電気エネルギーに変換し、該電気エネルギーによって電子回路を駆動する。
冷却媒体として導電性流体を選択し、この導電性流体に磁界を印加することによって、ファラデーの電磁誘導の法則にもとづき導電性流体と磁界が相互作用して起電力が生じる。この起電力を利用することによって冷却対象となる電子回路を駆動することができる。
One embodiment of the present invention relates to a power supply system. This power supply system converts kinetic energy of a cooling medium for cooling an electronic circuit into electric energy, and drives the electronic circuit by the electric energy.
By selecting a conductive fluid as the cooling medium and applying a magnetic field to the conductive fluid, an electromotive force is generated by the interaction between the conductive fluid and the magnetic field based on Faraday's law of electromagnetic induction. By utilizing this electromotive force, the electronic circuit to be cooled can be driven.

本発明によれば、半導体集積回路を効果的に冷却しつつ、同時に電力供給することができる。   According to the present invention, it is possible to simultaneously supply power while effectively cooling a semiconductor integrated circuit.

実施の形態の詳細について説明する前に、その概要を述べる。   Before describing the details of the embodiment, an outline thereof will be described.

本発明のある態様は電力供給システムに関する。この電力供給システムは、流路が穿設された基体と、基体に穿設された流路に導電性流体を流通せしめるポンプと、導電性流体の流通方向に対して垂直に磁界を印加する磁石と、磁界の印加方向と平行な対向する2面に、流路を挟むように設けられた陽極と陰極と、を備え、駆動対象の半導体集積回路を、陽極と陰極間に発生する起電力によって駆動する。   One embodiment of the present invention relates to a power supply system. This power supply system includes: a base body having a flow path perforated; a pump that allows a conductive fluid to flow through the flow path formed in the base; and a magnet that applies a magnetic field perpendicular to the flow direction of the conductive fluid. And an anode and a cathode provided so as to sandwich the flow path on two opposing surfaces parallel to the direction of application of the magnetic field, and the semiconductor integrated circuit to be driven is driven by an electromotive force generated between the anode and the cathode To drive.

この態様によれば、基体内部の流路において、導電性流体と磁界が相互作用し、ファラデーの電磁誘導の法則にもとづき陰極と陽極間には起電力が発生し、この起電力によって半導体集積回路を駆動することができる。   According to this aspect, the conductive fluid and the magnetic field interact in the flow path inside the substrate, and an electromotive force is generated between the cathode and the anode based on Faraday's law of electromagnetic induction. Can be driven.

基体は半導体集積回路と密着して固定され、流路は半導体集積回路の発熱箇所に近接する領域に穿設されており、導電性流体を冷却する冷却装置をさらに備えてもよい。
基体と半導体集積回路を密着させることによって、半導体集積回路に生じた熱を流路を流れる導電性流体によって除去することができ、導電性流体を冷却装置によって冷却することによって冷却と電力供給を同時に行うことができる。
The substrate may be fixed in close contact with the semiconductor integrated circuit, the flow path may be perforated in a region close to the heat generating portion of the semiconductor integrated circuit, and may further include a cooling device for cooling the conductive fluid.
By bringing the substrate and the semiconductor integrated circuit into close contact with each other, heat generated in the semiconductor integrated circuit can be removed by the conductive fluid flowing through the flow path, and cooling and power supply can be performed simultaneously by cooling the conductive fluid with a cooling device. It can be carried out.

流路は、マイクロチャネル構造を有し、磁界の印加方向に隣接して複数穿設されてもよい。
流路をマイクロチャネル構造とすることによって、導電性流体の熱輸送効率を高めることができ、半導体集積回路の冷却効率を高めることができる。
The flow path may have a microchannel structure, and a plurality of flow paths may be formed adjacent to each other in the magnetic field application direction.
By using a microchannel structure for the flow path, the heat transport efficiency of the conductive fluid can be increased, and the cooling efficiency of the semiconductor integrated circuit can be increased.

半導体集積回路の温度を検出する温度検出部と、温度検出部によって検出された半導体集積回路の温度にもとづいて、冷却装置の冷却能力を制御する冷却制御部と、をさらに備えてもよい。
半導体集積回路の温度に応じて冷却装置を制御し、導電性流体の温度を調節することにより、安定した冷却を行うことができる。
You may further provide the temperature detection part which detects the temperature of a semiconductor integrated circuit, and the cooling control part which controls the cooling capacity of a cooling device based on the temperature of the semiconductor integrated circuit detected by the temperature detection part.
Stable cooling can be performed by controlling the cooling device according to the temperature of the semiconductor integrated circuit and adjusting the temperature of the conductive fluid.

陽極および陰極はそれぞれ、半導体集積回路の電源電圧端子および固定電圧端子に接続されてもよい。   The anode and the cathode may be connected to the power supply voltage terminal and the fixed voltage terminal of the semiconductor integrated circuit, respectively.

陽極および陰極はそれぞれ、半導体集積回路と平行に設けられており、陽極は、流路の半導体集積回路側に設けられており、陰極は、流路の半導体集積回路と反対側に設けられてもよい。
陽極および陰極をこのような位置関係とすることによって、導電性流体内を陰極から陽極に向かって流れる電子にも熱輸送させることができ、冷却効率をさらに高めることができる。
Each of the anode and the cathode is provided in parallel with the semiconductor integrated circuit, the anode is provided on the semiconductor integrated circuit side of the flow path, and the cathode is provided on the side of the flow path opposite to the semiconductor integrated circuit. Good.
By setting the anode and the cathode in such a positional relationship, the electrons flowing from the cathode toward the anode in the conductive fluid can also be thermally transported, and the cooling efficiency can be further improved.

基体は、シリコンによって形成されてもよい。
熱伝導率が高く、加工や電極形成が容易なシリコンを基体の材料として選択することによって、一般的な半導体製造工程を利用して電力供給装置を製造することができる。
The substrate may be formed of silicon.
By selecting silicon having a high thermal conductivity and easy processing and electrode formation as a base material, a power supply device can be manufactured using a general semiconductor manufacturing process.

基体は、半導体集積回路が形成されるシリコン基板内に、半導体集積回路と一体に形成されてもよい。
基体を半導体集積回路と一体に形成することによって、半導体集積回路と基体との間の接着面におけるヒートロスが減少し、より効率的な冷却を行うことができる。
The base may be formed integrally with the semiconductor integrated circuit in a silicon substrate on which the semiconductor integrated circuit is formed.
By forming the base body integrally with the semiconductor integrated circuit, heat loss at the adhesive surface between the semiconductor integrated circuit and the base body is reduced, and more efficient cooling can be performed.

導電性流体は、半導体集積回路またはその周辺装置の動作温度近傍に沸点を有する液体を含んでもよい。電力供給システムは、半導体集積回路またはその周辺装置から発せられる熱エネルギーを、液体を気化させるエネルギーとして利用することにより、導電性流体を流路に流通せしめるための運動エネルギーに変換する補助ポンプをさらに備えてもよい。
導電性流体を基体内の流路を通過する際に膨張させ、Rankineサイクル(蒸気サイクル)などを利用した補助ポンプを用いることによって、半導体集積回路や、周辺の電源装置などを熱源とし、これらの熱源を導電性流体の動力として利用することができる。
The conductive fluid may include a liquid having a boiling point near the operating temperature of the semiconductor integrated circuit or its peripheral devices. The power supply system further includes an auxiliary pump that converts heat energy generated from the semiconductor integrated circuit or its peripheral device into energy for vaporizing the liquid, thereby converting the conductive fluid into kinetic energy for flowing through the flow path. You may prepare.
The conductive fluid is expanded when passing through the flow path in the substrate, and an auxiliary pump using a Rankine cycle (vapor cycle) is used as a heat source for a semiconductor integrated circuit, a peripheral power supply device, etc. A heat source can be used as power for the conductive fluid.

陽極および陰極間に発生する起電力により、半導体集積回路以外の負荷回路を駆動してもよい。
冷却対象となる半導体集積回路に代えて、あるいは半導体集積回路とともに、他の負荷回路を陰極および陽極間に発生する起電力によって駆動することができる。
A load circuit other than the semiconductor integrated circuit may be driven by an electromotive force generated between the anode and the cathode.
Instead of the semiconductor integrated circuit to be cooled or together with the semiconductor integrated circuit, another load circuit can be driven by an electromotive force generated between the cathode and the anode.

半導体集積回路を駆動するための駆動電圧を出力する電源をさらに備えてもよい。半導体集積回路を、電源から出力される駆動電圧または陽極および陰極間に発生する起電力のいずれかによって駆動してもよい。   You may further provide the power supply which outputs the drive voltage for driving a semiconductor integrated circuit. The semiconductor integrated circuit may be driven by either a driving voltage output from a power supply or an electromotive force generated between the anode and the cathode.

陽極および陰極間に発生する起電力が所定のしきい値より低いとき、電源から出力される駆動電圧によって半導体集積回路を駆動してもよい。
陽極および陰極間に発生する起電力として半導体集積回路を駆動するために必要な電圧が得られない場合などに、電源に切り替えることによって安定して半導体集積回路を駆動することができる。
When the electromotive force generated between the anode and the cathode is lower than a predetermined threshold value, the semiconductor integrated circuit may be driven by a driving voltage output from a power source.
When a voltage necessary for driving the semiconductor integrated circuit cannot be obtained as an electromotive force generated between the anode and the cathode, the semiconductor integrated circuit can be stably driven by switching to the power source.

陽極および陰極間に発生する起電力を検出し、起電力が所定の電圧値に近づくように導電性流体の速度を制御する制御部をさらに備えてもよい。
陽極および陰極間に発生する起電力は、導電性流体の速度に依存するため、起電力にもとづいて速度を帰還制御することによって安定した起電力を得ることができる。
You may further provide the control part which detects the electromotive force which generate | occur | produces between an anode and a cathode, and controls the speed | rate of a conductive fluid so that an electromotive force may approach a predetermined voltage value.
Since the electromotive force generated between the anode and the cathode depends on the speed of the conductive fluid, a stable electromotive force can be obtained by feedback-controlling the speed based on the electromotive force.

半導体集積回路の温度を検出する温度検出部と、温度検出部によって検出された半導体集積回路の温度にもとづいて、導電性流体の速度を制御する制御部と、をさらに備え、制御部は、半導体集積回路の温度が低い程、導電性流体の速度を低下させてもよい。
この場合、半導体集積回路の温度が低いときには、冷却能力を低下させることによりシステム全体の消費電力を低減することができる。
A temperature detection unit that detects the temperature of the semiconductor integrated circuit; and a control unit that controls the speed of the conductive fluid based on the temperature of the semiconductor integrated circuit detected by the temperature detection unit. The lower the temperature of the integrated circuit, the lower the speed of the conductive fluid.
In this case, when the temperature of the semiconductor integrated circuit is low, the power consumption of the entire system can be reduced by reducing the cooling capacity.

本発明の別の態様は、電力供給装置である。この電力供給装置は、導電性流体が流通する流路が穿設された基体と、流路を挟むように設けられた陽極と陰極と、を備える。この電力供給装置は、導電性流体と当該導電性流体に印加される磁界との相互作用によって陽極と陰極間に発生する起電力によって駆動対象の半導体集積回路を駆動する。   Another aspect of the present invention is a power supply apparatus. This power supply apparatus includes a base body in which a flow path through which a conductive fluid flows is formed, and an anode and a cathode provided so as to sandwich the flow path. This power supply device drives a semiconductor integrated circuit to be driven by an electromotive force generated between an anode and a cathode by an interaction between a conductive fluid and a magnetic field applied to the conductive fluid.

この態様によれば、基体内部の流路において、導電性流体と磁界が相互作用し、ファラデーの電磁誘導の法則にもとづき陰極と陽極間には起電力が発生し、この起電力によって半導体集積回路を駆動することができる。   According to this aspect, the conductive fluid and the magnetic field interact in the flow path inside the substrate, and an electromotive force is generated between the cathode and the anode based on Faraday's law of electromagnetic induction. Can be driven.

電力供給装置は、導電性流体に磁界を印加する磁石をさらに備えてもよい。
流路は、マイクロチャネル構造を有し、磁界の印加方向に隣接して複数穿設されてもよい。
The power supply apparatus may further include a magnet that applies a magnetic field to the conductive fluid.
The flow path may have a microchannel structure, and a plurality of flow paths may be formed adjacent to each other in the magnetic field application direction.

本発明のさらに別の態様は、電子回路駆動方法である。この電子回路駆動方法は、電子回路を冷却するための冷却媒体の運動エネルギーを電気エネルギーに変換し、該電気エネルギーによって電子回路を駆動する。
この態様によれば、冷却媒体が持つ運動エネルギーの一部を電気エネルギーに変換することによって、電子回路の冷却と電力供給を同時に行うことができる。
Yet another embodiment of the present invention is an electronic circuit driving method. In this electronic circuit driving method, the kinetic energy of a cooling medium for cooling the electronic circuit is converted into electric energy, and the electronic circuit is driven by the electric energy.
According to this aspect, by converting a part of the kinetic energy of the cooling medium into electric energy, it is possible to simultaneously cool the electronic circuit and supply power.

本発明のさらに別の態様もまた、電子回路駆動方法である。この電子回路駆動方法は、駆動対象である電子回路を冷却するための導電性流体と導電性流体に印加された磁界との相互作用によって生じる起電力によって冷却対象となる電子回路を駆動する。
この態様によれば、冷却媒体として導電性流体を選択し、この導電性流体に磁界を印加することによって、ファラデーの電磁誘導の法則にもとづき導電性流体の運動エネルギーが電気エネルギーに変換され、起電力が生じる。この起電力を利用することによって冷却対象となる電子回路を駆動することができる。
Yet another embodiment of the present invention is also an electronic circuit driving method. In this electronic circuit driving method, an electronic circuit to be cooled is driven by an electromotive force generated by an interaction between a conductive fluid for cooling the electronic circuit to be driven and a magnetic field applied to the conductive fluid.
According to this aspect, by selecting a conductive fluid as the cooling medium and applying a magnetic field to the conductive fluid, the kinetic energy of the conductive fluid is converted into electric energy based on Faraday's law of electromagnetic induction, and Electric power is generated. By utilizing this electromotive force, the electronic circuit to be cooled can be driven.

本発明のさらに別の態様もまた、電子回路駆動方法である。この電子回路駆動方法は、駆動対象である電子回路を冷却するために循環される導電性流体と導電性流体に印加された磁界との相互作用によって生じる起電力を、電子回路を駆動する主電源から供給される電力を補う補助電源として利用する。
この態様によれば、主電源をあらかじめ用意しておき、上述の起電力を補助電源として利用することで、回路の安定性を向上することができる。
Yet another embodiment of the present invention is also an electronic circuit driving method. In this electronic circuit driving method, an electromotive force generated by the interaction between a conductive fluid circulated to cool an electronic circuit to be driven and a magnetic field applied to the conductive fluid is used as a main power source for driving the electronic circuit. It is used as an auxiliary power source to supplement the power supplied from
According to this aspect, the stability of the circuit can be improved by preparing the main power source in advance and using the above-described electromotive force as the auxiliary power source.

以下、これらの発明の態様について、実施の形態をもとに詳細に説明する。   Hereinafter, these aspects of the invention will be described in detail based on the embodiments.

本発明の実施の形態に係る電力供給システムは、半導体集積回路を冷却し、同時に半導体集積回路に対して駆動電力を供給するものである。
図1は、実施の形態に係る電力供給システム100の全体構成を示す。電力供給システム100は、起電冷却ヘッド10、ポンプ14、輸送管16、冷却装置18を含む。
A power supply system according to an embodiment of the present invention cools a semiconductor integrated circuit and simultaneously supplies driving power to the semiconductor integrated circuit.
FIG. 1 shows an overall configuration of a power supply system 100 according to an embodiment. The power supply system 100 includes an electromotive cooling head 10, a pump 14, a transport pipe 16, and a cooling device 18.

起電冷却ヘッド10は、半導体集積回路12と密着して固定されており、半導体集積回路12から熱量Qを奪うとともに、起電力Esを供給する。この起電冷却ヘッド10は、後述するように、内部に冷却媒体が流し込めるよう流路が穿設された基体を備えており、両端で輸送管16と接続されている。冷却媒体としては、後述のように導電性流体を選択する。この起電冷却ヘッド10は、半導体集積回路12に電力を供給する電力供給装置として機能する。   The electromotive cooling head 10 is fixed in close contact with the semiconductor integrated circuit 12, deprives the semiconductor integrated circuit 12 of the amount of heat Q, and supplies the electromotive force Es. As will be described later, the electromotive cooling head 10 is provided with a base body having a flow passage through which a cooling medium can flow, and is connected to the transport pipe 16 at both ends. As the cooling medium, a conductive fluid is selected as described later. The electromotive cooling head 10 functions as a power supply device that supplies power to the semiconductor integrated circuit 12.

ポンプ14の駆動により、輸送管16および起電冷却ヘッド10の基体内部の流路に冷却媒体が循環される。起電冷却ヘッド10において半導体集積回路12から奪い取った熱量Qにより温度が上昇した冷却媒体は、冷却装置18で冷却される。冷却装置18は、たとえばヒートシンク、空冷ファン、ペルチェ素子、あるいはこれらの組み合わせなどによって構成され、輸送管16中を循環する冷却媒体から熱量Q’を奪う。このポンプ14は、機械的に流体を循環させるポンプで構成すればよい。   By driving the pump 14, the cooling medium is circulated through the transport pipe 16 and the flow path inside the base body of the electromotive cooling head 10. The cooling medium whose temperature has risen due to the amount of heat Q taken from the semiconductor integrated circuit 12 in the electromotive cooling head 10 is cooled by the cooling device 18. The cooling device 18 is constituted by, for example, a heat sink, an air cooling fan, a Peltier element, or a combination thereof, and takes the heat quantity Q ′ from the cooling medium circulating in the transport pipe 16. What is necessary is just to comprise this pump 14 with the pump which circulates a fluid mechanically.

このようにして、本実施の形態に係る電力供給システム100は、半導体集積回路12に固定された起電冷却ヘッド10に冷却媒体を循環させることによって半導体集積回路12を冷却する。   As described above, the power supply system 100 according to the present embodiment cools the semiconductor integrated circuit 12 by circulating the cooling medium through the electromotive cooling head 10 fixed to the semiconductor integrated circuit 12.

図2は、起電冷却ヘッド10の断面構成および半導体集積回路12との接続状態を示す。
半導体集積回路12は、BGA(Ball Grid Array)構造のフリップチップとなっており、プリント基板20にはんだボール22を介して接続されている。
起電冷却ヘッド10は、半導体集積回路12の裏面を覆うようにして密着されている。半導体集積回路12は、その裏面に電源電圧端子Vddと接地端子GNDを備えており、起電冷却ヘッド10において発生する起電力Esによって駆動される。
FIG. 2 shows a cross-sectional configuration of the electromotive cooling head 10 and a connection state with the semiconductor integrated circuit 12.
The semiconductor integrated circuit 12 is a flip chip having a BGA (Ball Grid Array) structure, and is connected to the printed circuit board 20 via solder balls 22.
The electromotive cooling head 10 is in close contact so as to cover the back surface of the semiconductor integrated circuit 12. The semiconductor integrated circuit 12 includes a power supply voltage terminal Vdd and a ground terminal GND on the back surface thereof, and is driven by an electromotive force Es generated in the electromotive cooling head 10.

起電冷却ヘッド10は、基体40、N極磁石50、S極磁石52を含む。図3は、起電冷却ヘッド10を上方からみた平面図である。
図2に示すように基体40内部には流路42が複数マイクロチャネルとして穿設されており、輸送管16から供給される冷却媒体が紙面の手前から奥に向かって流れている。この流路42は、半導体集積回路12の発熱箇所を覆うようにして設けられている。この流路42の内部には、図3に示す向きで冷却媒体が流通する。
The electromotive cooling head 10 includes a base body 40, an N pole magnet 50, and an S pole magnet 52. FIG. 3 is a plan view of the electromotive cooling head 10 as viewed from above.
As shown in FIG. 2, flow paths 42 are formed as a plurality of microchannels inside the base body 40, and the cooling medium supplied from the transport pipe 16 flows from the front of the paper toward the back. The flow path 42 is provided so as to cover the heat generating portion of the semiconductor integrated circuit 12. A cooling medium flows in the flow path 42 in the direction shown in FIG.

N極磁石50、S極磁石52は、この冷却媒体の流通方向、すなわち流路の穿設方向に対して垂直に磁界を印加するために、起電冷却ヘッド10を挟むようにして設けられている。このN極磁石50およびS極磁石52によって、紙面左から右方向に向かって磁界Bが発生する。これらの磁石は、永久磁石を用いてもよい。   The N-pole magnet 50 and the S-pole magnet 52 are provided so as to sandwich the electromotive cooling head 10 in order to apply a magnetic field perpendicular to the flow direction of the cooling medium, that is, the direction of the flow passage. The N-pole magnet 50 and the S-pole magnet 52 generate a magnetic field B from the left side to the right side of the drawing. These magnets may be permanent magnets.

図2に戻る。基体40に複数設けられた流路42の内壁には、それぞれ磁界Bの印加方向と平行な対向する2面に、流路を挟むようにして陽極44および陰極46がそれぞれ設けられている。流路42の内壁上面に設けられた陽極44同士、内壁下面に設けられた陰極46同士はそれぞれ電気的に接続されて、半導体集積回路12の電源電圧端子Vddおよび接地端子GNDに接続されている。   Returning to FIG. A plurality of anodes 44 and cathodes 46 are provided on two inner surfaces of the channel 42 provided in the base 40 so as to sandwich the channel on two opposing surfaces parallel to the direction in which the magnetic field B is applied. The anodes 44 provided on the upper surface of the inner wall of the channel 42 and the cathodes 46 provided on the lower surface of the inner wall are electrically connected to each other, and are connected to the power supply voltage terminal Vdd and the ground terminal GND of the semiconductor integrated circuit 12. .

基体40は、熱伝導性の良い材料で構成することが望ましい。また、基体40に穿設される流路42の内壁に設けられる陽極および陰極の端子は、銅などの金属材料で構成することになる。したがって、基体40の材料として、半導体、特にシリコンを用いた場合、シリコン半導体製造プロセスを用いて基体40を製造することができる。このようなマイクロチャネルを製造し、電極を形成する工程については、MEMS(Micro Electro Mechanical System)などに関連する公知の技術を用いることができるため、ここでは詳述しない。   The base 40 is preferably made of a material having good thermal conductivity. Further, the anode and cathode terminals provided on the inner wall of the flow path 42 formed in the base 40 are made of a metal material such as copper. Accordingly, when a semiconductor, particularly silicon, is used as the material of the base body 40, the base body 40 can be manufactured using a silicon semiconductor manufacturing process. A process for manufacturing such a microchannel and forming an electrode will not be described in detail because a known technique related to MEMS (Micro Electro Mechanical System) can be used.

基体40と半導体集積回路12との接続はいくつかの形態が考えられる。基体40と半導体集積回路12を別々に製造した場合、図2に示すように、はんだバンプなどで物理的に接続する、あるいは、基体40の電極と半導体集積回路12の電極とを圧力を加えて接触させる、あるいはワイヤボンドなどによって接続してもよい。   Several forms of connection between the substrate 40 and the semiconductor integrated circuit 12 are possible. When the base 40 and the semiconductor integrated circuit 12 are manufactured separately, as shown in FIG. 2, they are physically connected by solder bumps or the like, or pressure is applied between the electrode of the base 40 and the electrode of the semiconductor integrated circuit 12. They may be contacted or connected by wire bonding or the like.

図4は、図1の電力供給システムの変形例を示す図である。基体40の材料としてシリコンを選択する場合には、図4に破線で示すように、半導体集積回路12と基体40とを同一のシリコンチップ200上に一体に形成してもよい。この場合、半導体集積回路12と基体40との間の接着面が存在せず、図1の場合と比べてヒートロスが減少することになるため、より効率的な冷却を行うことができる。   FIG. 4 is a diagram showing a modification of the power supply system of FIG. When silicon is selected as the material of the base body 40, the semiconductor integrated circuit 12 and the base body 40 may be integrally formed on the same silicon chip 200 as indicated by a broken line in FIG. In this case, there is no adhesive surface between the semiconductor integrated circuit 12 and the base 40, and heat loss is reduced as compared with the case of FIG. 1, so that more efficient cooling can be performed.

以上のように構成された電力供給システム100の動作について図5をもとに説明する。
流路42および輸送管16には、冷却媒体として導電性流体が充填されている。この導電性流体としては液体金属、たとえば水銀、インジウム合金、ゲルマニウム合金、ビスマス系合金、NaKなどが挙げられる。この導電性流体は、半導体集積回路12から発生した熱を輸送すると同時に、磁界との相互作用によって起電力を発生させる。
図5は、流路42における導電性流体と磁界との相互作用の様子を示す図である。
The operation of the power supply system 100 configured as described above will be described with reference to FIG.
The flow path 42 and the transport pipe 16 are filled with a conductive fluid as a cooling medium. Examples of the conductive fluid include liquid metals such as mercury, indium alloys, germanium alloys, bismuth alloys, and NaK. This conductive fluid transports heat generated from the semiconductor integrated circuit 12 and at the same time generates an electromotive force by interaction with a magnetic field.
FIG. 5 is a diagram illustrating a state of interaction between the conductive fluid and the magnetic field in the flow path 42.

流路42には、導電性流体がx軸方向に向かって速度uで流れている。この流路42には、N極磁石50、S極磁石52によってz軸と反対向きに磁束密度Bで磁界が印加されている。図5のように磁界中に導電性流体を流すと、ファラデーの電磁誘導の法則に従い、流体の速度uおよび磁束密度Bに垂直方向に起電力Es=u×Bが発生する。この起電力Esは陽極44、陰極46から取り出すことができ、半導体集積回路12の駆動電圧として供給される。   In the flow path 42, the conductive fluid flows at a velocity u in the x-axis direction. A magnetic field is applied to the flow path 42 at a magnetic flux density B in the direction opposite to the z axis by the N pole magnet 50 and the S pole magnet 52. When a conductive fluid flows in a magnetic field as shown in FIG. 5, an electromotive force Es = u × B is generated in a direction perpendicular to the fluid velocity u and the magnetic flux density B according to Faraday's law of electromagnetic induction. The electromotive force Es can be taken out from the anode 44 and the cathode 46 and supplied as a driving voltage for the semiconductor integrated circuit 12.

この電力供給システム100において、ポンプ14によって導電性流体を駆動するために必要な電力などは、以下のように見積もることができる。
マイクロチャネルを構成する流路42に流れる導電性流体によって輸送可能な熱量Q[W]は、Q=Cp×g’×ΔT=ρ×Cp×V’×ΔTで表される。ここで、各定数はそれぞれ、導電性流体の熱容量Cp[J/kg/K]、質量流量g[kg]、密度ρ[m/kg]、体積流量V[m/s]、速度u[m/s]、マイクロチャネル通過前後の温度差ΔT[K]を表している。また、「’」はある物理量を時間微分することを意味する。したがって、導電性流体によって半導体集積回路12から発生する熱量Qchipを輸送するためには、体積流量Vの時間微分V’として、V’≧Qchip/(ρ×Cp×ΔT)が必要とされる。
In the power supply system 100, the power necessary for driving the conductive fluid by the pump 14 can be estimated as follows.
The amount of heat Q [W] that can be transported by the conductive fluid flowing in the flow path 42 constituting the microchannel is represented by Q = Cp × g ′ × ΔT = ρ × Cp × V ′ × ΔT. Here, the constants are the heat capacity Cp [J / kg / K], the mass flow rate g [kg], the density ρ [m 3 / kg], the volume flow rate V [m 3 / s], and the velocity u, respectively. [M / s] represents a temperature difference ΔT [K] before and after passing through the microchannel. “′” Means time differentiation of a physical quantity. Therefore, in order to transport the heat quantity Qchip generated from the semiconductor integrated circuit 12 by the conductive fluid, V ′ ≧ Qchip / (ρ × Cp × ΔT) is required as the time differential V ′ of the volume flow rate V.

マイクロチャネルの本数をN、チャネルあたりの断面積Achとすると、導電性流体の総断面積はN×Achで与えられる。マイクロチャネル内を流れる導電性流体の速度uは、u=V’/(N×Ach)で与えられるため、u≧Qchip/(N×Ach×ρ×Cp×ΔT)とすることによって、半導体集積回路12から発生する熱量を輸送することが可能となる。   When the number of microchannels is N and the cross-sectional area per channel is Ach, the total cross-sectional area of the conductive fluid is given by N × Ach. Since the velocity u of the conductive fluid flowing in the microchannel is given by u = V ′ / (N × Ach), by setting u ≧ Qchip / (N × Ach × ρ × Cp × ΔT), the semiconductor integration The amount of heat generated from the circuit 12 can be transported.

また、マイクロチャネルの流動抵抗ΔPは、ΔP=ρ×u/2、で与えられるため、マイクロチャネル内部に速度uで導電性流体を流す場合、導電性流体の駆動パワーWch[W]は、Wch=N×Ach×u×ΔPだけ必要とされる。 Furthermore, flow resistance [Delta] P of the microchannel, because given in ΔP = ρ × u 2/2 ,, when flowing conductive fluid at a velocity u in the interior microchannel, the driving power Wch of conductive fluid [W] is Only Wch = N × Ach × u × ΔP is required.

一方、起電冷却ヘッド10における起電力Es[V]は、磁束B[T]と導電性流体の速度uに比例し、E=u×Bで与えられる。陽極44および陰極46間の導電性流体の内部電気抵抗Rint[Ω]は、流体の電気抵抗率σ[Ω・m]、陽極44−陰極46間距離d[m]、電極面積S[m]として、Rint=σ×d/Sとなる。よって電力供給対象となる半導体集積回路12の内部抵抗をRext[Ω]とおくならば、半導体集積回路12に流れる電流Iは、I=Es/(Rin+Rext)となる。その結果、半導体集積回路12における消費電力は、Pchip=Es/(Rint+Rext)となる。
したがって、ポンプ14によって導電性流体に供給すべき電力Winは、起電力として半導体集積回路12に供給される電力と、マイクロチャネル内を流通させるために必要な電力の和となるため、半導体集積回路12の効率ηを考慮して、Win≧Wch+η×Pchip=N×Ach×ρ/2×u+η×B/(Rint+Rext)×uとなる。
On the other hand, the electromotive force Es [V] in the electromotive cooling head 10 is proportional to the magnetic flux B [T] and the velocity u of the conductive fluid, and is given by E = u × B. The internal electrical resistance Rint [Ω] of the conductive fluid between the anode 44 and the cathode 46 is the electrical resistivity σ [Ω · m] of the fluid, the distance d [m] between the anode 44 and the cathode 46, and the electrode area S [m 2 ]. ], Rint = σ × d / S. Therefore, if the internal resistance of the semiconductor integrated circuit 12 to be supplied with power is Rext [Ω], the current I flowing through the semiconductor integrated circuit 12 is I = Es / (Rin + Rext). As a result, the power consumption in the semiconductor integrated circuit 12 is Pchip = Es 2 / (Rint + Rext).
Therefore, the power Win to be supplied to the conductive fluid by the pump 14 is the sum of the power supplied to the semiconductor integrated circuit 12 as an electromotive force and the power necessary to circulate in the microchannel. Considering the efficiency η of 12, Win ≧ Wch + η × Pchip = N × Ach × ρ / 2 × u 3 + η × B 2 / (Rint + Rext) × u 2 .

導電性流体として水銀を用いた場合の設計例を以下に示す。半導体集積回路12から発生する熱量をQとし、ΔT=28°Cで輸送する場合を考えると、必要な質量流量は2.13g/s、体積流量で2.63cc/sとなる。マイクロチャネルを構成する流路の本数を70本、各流路の断面を70μm×70μm、長さを0.8cmとすると、各流路の平均速度としてu=0.94m/sが必要とされる。
このときのマイクロチャネル内部の流動抵抗は約2MPaとなる。これより、導電性流体の駆動電力は、Wch=4.9Wとなる。
A design example when mercury is used as the conductive fluid is shown below. Considering the case where the amount of heat generated from the semiconductor integrated circuit 12 is Q and transported at ΔT = 28 ° C., the required mass flow rate is 2.13 g / s and the volume flow rate is 2.63 cc / s. If the number of channels constituting the microchannel is 70, the cross section of each channel is 70 μm × 70 μm, and the length is 0.8 cm, u = 0.94 m / s is required as the average speed of each channel. The
At this time, the flow resistance inside the microchannel is about 2 MPa. Thus, the driving power of the conductive fluid is Wch = 4.9W.

磁束としてB=1.1Tの磁束を速度u=0.94m/sの導電性流体に印加した場合に得られる起電力Esは、Es=1.1Vとなる。電気抵抗値Rintを0.1mΩ、チップ側の内部抵抗Rext=1Ωとすると、半導体集積回路12に対して合計70Wの電力供給を行うことができる。   An electromotive force Es obtained when a magnetic flux of B = 1.1 T is applied as a magnetic flux to a conductive fluid having a velocity u = 0.94 m / s is Es = 1.1V. When the electrical resistance value Rint is 0.1 mΩ and the chip-side internal resistance Rext = 1Ω, a total of 70 W of power can be supplied to the semiconductor integrated circuit 12.

導電性流体の速度uは、起電によるエネルギーが失われ減速力F=JBを受けて減速する。したがって導電性流体を駆動するポンプ14は、この減速力を打ち消すように導電性流体を輸送管16に導電性流体を流し込む必要がある。すなわち、ポンプ14によってWin=Wchip+Wch=74.9Wの電力を導電性流体に対して供給すればよい。実際には、上記電力Winに加えて、輸送管16内に導電性流体を流通させるための電力が必要となる。   The speed u of the conductive fluid is decelerated in response to the deceleration force F = JB due to loss of energy due to electromotive force. Therefore, the pump 14 for driving the conductive fluid needs to flow the conductive fluid into the transport pipe 16 so as to cancel out the deceleration force. That is, the power of Win = Wchip + Wch = 74.9 W may be supplied to the conductive fluid by the pump 14. Actually, in addition to the electric power Win, electric power for circulating the conductive fluid in the transport pipe 16 is required.

以上のように、本実施の形態に係る電力供給システム100によれば、起電冷却ヘッド10によって半導体集積回路12から熱を奪うと同時に、冷却媒体として導電性流体を用いることによって起電冷却ヘッド10において起電力Esを発生させて半導体集積回路12に電力供給を行うことができる。   As described above, according to the power supply system 100 according to the present embodiment, the electromotive cooling head 10 removes heat from the semiconductor integrated circuit 12 and at the same time uses the electroconductive fluid as the cooling medium. 10, the electromotive force Es can be generated to supply power to the semiconductor integrated circuit 12.

また、電力供給を起電冷却ヘッド10の半導体集積回路12側に設けられた電極Vdd、GNDを介して行うが、これらの電極は、他の電極からの制約を受けないため、その面積を従来のBGAパッケージ構造に比べて広くすることが可能となり、従来のBGAパッケージ構造での課題であった1端子あたりの電流容量の問題などを解決することが可能となる。   In addition, power is supplied through the electrodes Vdd and GND provided on the semiconductor integrated circuit 12 side of the electromotive cooling head 10, but these electrodes are not restricted by other electrodes, so that the area thereof is conventionally reduced. The BGA package structure can be made wider, and the problem of current capacity per terminal, which has been a problem with the conventional BGA package structure, can be solved.

この電力供給システム100では、半導体集積回路12に対する電力供給に従来のような配線を用いる必要がないため、断線、短絡などの危険を低減することができる。また、配線による電力供給での課題であったマイグレーションの問題なども解消することができる。   In this power supply system 100, it is not necessary to use conventional wiring for power supply to the semiconductor integrated circuit 12, so that dangers such as disconnection and short circuit can be reduced. In addition, the problem of migration, which was a problem in power supply by wiring, can be solved.

以下、この電力供給システム100を基本として、回路をより安定に動作させ、あるいは効率的な冷却を行う技術を付加した変形例について説明する。   Hereinafter, based on the power supply system 100, a modification example in which a technique for operating the circuit more stably or performing efficient cooling will be described.

図6は、本実施の形態に係る電力供給システム100の第1の変形例を示す。
半導体集積回路12の発熱量Qは、回路の動作状態によって大きく変化する。したがって、冷却装置18における導電性流体の冷却能力を、半導体集積回路12の温度Tをモニタしながら、冷却装置18における冷却能力を制御してもよい。
図6は、半導体集積回路12の温度に応じて冷却装置18の冷却能力を制御する電力供給システム100aの構成例を示す。この電力供給システム100aは、起電冷却ヘッド10、ポンプ14、輸送管16、冷却装置18、温度検出部60、冷却制御部62を含む。以下、電力供給システム100の変形例について、図1から図3と同一の構成要素には同一の符号を付し、説明を省略する。
FIG. 6 shows a first modification of the power supply system 100 according to the present embodiment.
The calorific value Q of the semiconductor integrated circuit 12 varies greatly depending on the operation state of the circuit. Therefore, the cooling capacity of the cooling device 18 may be controlled while the temperature T of the semiconductor integrated circuit 12 is monitored.
FIG. 6 shows a configuration example of the power supply system 100 a that controls the cooling capacity of the cooling device 18 according to the temperature of the semiconductor integrated circuit 12. The power supply system 100 a includes an electromotive cooling head 10, a pump 14, a transport pipe 16, a cooling device 18, a temperature detection unit 60, and a cooling control unit 62. Hereinafter, in the modification of the power supply system 100, the same components as those in FIGS.

温度検出部60は、熱電対や赤外線センサ、あるいはその他の温度検出手段によって、半導体集積回路12の温度Tを検知する。この温度検出部60は、冷却装置18に対して半導体集積回路12の温度Tに対応した検出信号Vtを出力する。
冷却制御部62は、検出信号Vtにもとづいて冷却装置18の冷却能力を制御するための制御信号Vcntを生成して出力する。冷却制御部62における冷却能力の制御方法としては、検出信号Vtが所定のしきい値以上のとき、すなわち半導体集積回路12の温度Tが所定のしきい値以上のときに、その冷却能力を高めてもよいし、半導体集積回路12の温度Tが一定となるように冷却能力を帰還制御してもよい。冷却装置18が空冷ファンによって構成される場合には、制御信号Vcntによって空冷ファンの回転数を変化させればよいし、ペルチェ素子により構成される場合には、素子に印加する電圧を変化させることによって冷却能力を制御することができる。
The temperature detection unit 60 detects the temperature T of the semiconductor integrated circuit 12 using a thermocouple, an infrared sensor, or other temperature detection means. The temperature detection unit 60 outputs a detection signal Vt corresponding to the temperature T of the semiconductor integrated circuit 12 to the cooling device 18.
The cooling control unit 62 generates and outputs a control signal Vcnt for controlling the cooling capacity of the cooling device 18 based on the detection signal Vt. As a method of controlling the cooling capacity in the cooling controller 62, the cooling capacity is increased when the detection signal Vt is equal to or higher than a predetermined threshold value, that is, when the temperature T of the semiconductor integrated circuit 12 is equal to or higher than the predetermined threshold value. Alternatively, the cooling capacity may be feedback controlled so that the temperature T of the semiconductor integrated circuit 12 is constant. When the cooling device 18 is constituted by an air cooling fan, the rotation number of the air cooling fan may be changed by the control signal Vcnt. When the cooling device 18 is constituted by a Peltier element, the voltage applied to the element is changed. Can control the cooling capacity.

このように半導体集積回路12の温度Tに応じて冷却装置18の冷却能力を制御することによって、安定した冷却を行い、半導体集積回路12を安定に動作させることができる。また、半導体集積回路12の発熱量が小さい場合には、冷却装置18の駆動能力を低下させることによって、冷却装置18における消費電力を低減することができる。   In this way, by controlling the cooling capacity of the cooling device 18 according to the temperature T of the semiconductor integrated circuit 12, stable cooling can be performed and the semiconductor integrated circuit 12 can be operated stably. Further, when the heat generation amount of the semiconductor integrated circuit 12 is small, the power consumption in the cooling device 18 can be reduced by reducing the driving capability of the cooling device 18.

図7は、電力供給システムの第2の変形例を示す。図7の電力供給システム100bは、起電力検出部64、切り替えスイッチSW、電源66を含む。電力供給システム100bにおいて、ポンプ14によって輸送管16内の導電性流体を駆動開始した直後など、導電性流体の速度uが必要な値に達するまでの間、起電冷却ヘッド10から得られる起電力Esとして、半導体集積回路12を安定に動作させるために必要な電圧が得られない場合も想定される。そこで図7の電力供給システム100bは、起電冷却ヘッド10から得られる起電力Esがしきい値電圧よりも低いときに、半導体集積回路12への電力供給源を電源66へと切り替える。   FIG. 7 shows a second modification of the power supply system. The power supply system 100b of FIG. 7 includes an electromotive force detection unit 64, a changeover switch SW, and a power supply 66. In the power supply system 100b, the electromotive force obtained from the electromotive cooling head 10 until the speed u of the conductive fluid reaches a required value, such as immediately after the pump 14 starts driving the conductive fluid in the transport pipe 16. As Es, a case where a voltage necessary for stably operating the semiconductor integrated circuit 12 cannot be obtained is also assumed. 7 switches the power supply source to the semiconductor integrated circuit 12 to the power supply 66 when the electromotive force Es obtained from the electromotive cooling head 10 is lower than the threshold voltage.

起電力検出部64は、起電冷却ヘッド10から得られる起電力Esを検出し、所定のしきい値電圧Vthと比較する。このしきい値電圧Vthは、半導体集積回路12を安定に動作させるために必要な電圧より高く設定しておく。起電力検出部64からはスイッチSWに対して切り替え信号Vswが出力されている。
起電力検出部64は、Es>Vthのとき、スイッチSWを起電冷却ヘッド10側にオンし、Es<Vthのとき、スイッチSWを電源66側にオンする。電源66から出力される電圧Vdd’は、しきい値電圧Vthよりも高く設定しておく。
The electromotive force detector 64 detects the electromotive force Es obtained from the electromotive cooling head 10 and compares it with a predetermined threshold voltage Vth. This threshold voltage Vth is set higher than a voltage necessary for stable operation of the semiconductor integrated circuit 12. The electromotive force detection unit 64 outputs a switching signal Vsw to the switch SW.
The electromotive force detection unit 64 turns on the switch SW on the electromotive cooling head 10 side when Es> Vth, and turns on the switch SW on the power supply 66 side when Es <Vth. The voltage Vdd ′ output from the power supply 66 is set higher than the threshold voltage Vth.

このように構成された電力供給システム100bでは、半導体集積回路12に印加される駆動電圧が所定のしきい値電圧Vthよりも低くなることがないため、回路をより安定に動作させることができる。   In the power supply system 100b configured as described above, the drive voltage applied to the semiconductor integrated circuit 12 does not become lower than the predetermined threshold voltage Vth, so that the circuit can be operated more stably.

図8は、電力供給システムの第3の変形例を示す。この電力供給システム100cは、ポンプ14による導電性流体の速度uを調節することによって、起電冷却ヘッド10における起電力Esを安定化させる。
この電力供給システム100cは、図1の電力供給システム100に加えて、ポンプ制御部70を備えている。ポンプ制御部70は、演算増幅器72と、駆動電圧生成部74を含む。
FIG. 8 shows a third modification of the power supply system. The power supply system 100 c stabilizes the electromotive force Es in the electromotive cooling head 10 by adjusting the speed u of the conductive fluid by the pump 14.
The power supply system 100c includes a pump control unit 70 in addition to the power supply system 100 of FIG. The pump control unit 70 includes an operational amplifier 72 and a drive voltage generation unit 74.

演算増幅器72の非反転入力端子には基準電圧Vrefが入力されており、反転入力端子には半導体集積回路12に供給される起電力Esが入力されている。演算増幅器72から出力される誤差電圧Verrは、ポンプ14に入力されている。   The reference voltage Vref is input to the non-inverting input terminal of the operational amplifier 72, and the electromotive force Es supplied to the semiconductor integrated circuit 12 is input to the inverting input terminal. The error voltage Verr output from the operational amplifier 72 is input to the pump 14.

駆動電圧生成部74は、演算増幅器72から出力される誤差電圧Verrにもとづいてポンプ14の駆動能力を制御する。ポンプ14の駆動能力によって、導電性流体の速度uが制御されることになる。演算増幅器72においては、反転入力端子および非反転入力端子に入力される2つの電圧が等しくなるように誤差電圧Verrが帰還制御され、導電性流体の速度uが調節される。起電力Esは、導電性流体の速度uに比例するため、Es=Vrefとなるように起電力Esを安定化することができる。   The drive voltage generation unit 74 controls the drive capability of the pump 14 based on the error voltage Verr output from the operational amplifier 72. The speed u of the conductive fluid is controlled by the driving ability of the pump 14. In the operational amplifier 72, the error voltage Verr is feedback-controlled so that the two voltages inputted to the inverting input terminal and the non-inverting input terminal are equal, and the velocity u of the conductive fluid is adjusted. Since the electromotive force Es is proportional to the velocity u of the conductive fluid, the electromotive force Es can be stabilized so that Es = Vref.

一般的に半導体集積回路12に供給される電圧を安定化する場合には、リニアレギュレータなどを用いることになるが、この電力供給システム100においては、リニアレギュレータを用いなくても、起電力Esを検出し、導電性流体の速度uを帰還制御することによって、起電力Esを所望の基準電圧Vrefに安定化することができ、半導体集積回路12に対して安定した電圧を供給することができる。   In general, when the voltage supplied to the semiconductor integrated circuit 12 is stabilized, a linear regulator or the like is used. However, in this power supply system 100, the electromotive force Es can be obtained without using a linear regulator. By detecting and feedback-controlling the velocity u of the conductive fluid, the electromotive force Es can be stabilized at a desired reference voltage Vref, and a stable voltage can be supplied to the semiconductor integrated circuit 12.

図9は、電力供給システムの第4の変形例を示す。図9の電力供給システム100dは、図8の電力供給システム100cと同様に、ポンプ14の駆動能力を制御するポンプ制御部70を備えているが、半導体集積回路12の温度Tにもとづいてポンプ14の駆動能力を制御する点で図8とは異なっている。   FIG. 9 shows a fourth modification of the power supply system. The power supply system 100d in FIG. 9 includes a pump control unit 70 that controls the drive capability of the pump 14 as in the power supply system 100c in FIG. 8, but the pump 14 is based on the temperature T of the semiconductor integrated circuit 12. 8 is different from FIG. 8 in that the driving ability is controlled.

電力供給システム100dにおいて、ポンプ制御部70は、温度検出部60から出力される電圧Vtが所定の電圧以上のとき、すなわち、半導体集積回路12が所定のしきい値温度を超えたときにポンプ14の駆動能力を高めて起電冷却ヘッド10内の導電性流体の速度uを上げてもよい。あるいは、温度検出部60から出力される電圧Vtが所定の電圧に近づくように、すなわち、半導体集積回路12の温度Tが所定の温度に近づくようにポンプ14を帰還制御してもよい。
このように電力供給システムを構成することによって、半導体集積回路12の温度Tが所定の温度よりも高くなるのを防止することができるため、半導体集積回路12の熱暴走などを抑え、回路を安定に動作させることができる。さらに、半導体集積回路12における発熱量が少なく、半導体集積回路12の温度Tが低いときには、ポンプ14の駆動能力を落とすことによってポンプ14での消費電力を低減することが可能となるため装置全体の消費電力が低減されることになる。
In the power supply system 100d, the pump control unit 70 is configured to operate the pump 14 when the voltage Vt output from the temperature detection unit 60 is equal to or higher than a predetermined voltage, that is, when the semiconductor integrated circuit 12 exceeds a predetermined threshold temperature. To increase the speed u of the conductive fluid in the electromotive cooling head 10. Alternatively, the pump 14 may be feedback controlled so that the voltage Vt output from the temperature detection unit 60 approaches a predetermined voltage, that is, the temperature T of the semiconductor integrated circuit 12 approaches a predetermined temperature.
By configuring the power supply system in this way, it is possible to prevent the temperature T of the semiconductor integrated circuit 12 from becoming higher than a predetermined temperature, thereby suppressing thermal runaway of the semiconductor integrated circuit 12 and stabilizing the circuit. Can be operated. Further, when the heat generation amount in the semiconductor integrated circuit 12 is small and the temperature T of the semiconductor integrated circuit 12 is low, the power consumption of the pump 14 can be reduced by reducing the driving capability of the pump 14, so that Power consumption will be reduced.

電力供給システム100およびその変形例において、ポンプ14は、MHD(Magneto Hydro Dynamics)ポンプとして知られるポンプを用いても良い。本実施の形態に係る電力供給システム100では、冷却媒体として導電性流体を用いているため、この導電性流体の流れる方向と垂直に磁界を印加しておき、磁界と流れ方向に垂直に電界を印加することで、導電性流体がローレンツ力を受けて加速される。このMHDポンプの原理は、図5に示す発電機と背反する特性を利用したものである。このMHDポンプによれば、導電性流体に印加した電界によって加速度、すなわち速度を変化させることができ、機械的なポンプに比べてコンパクトに設計することが可能となる。   In the power supply system 100 and its modification, the pump 14 may be a pump known as an MHD (Magneto Hydrodynamics) pump. In the power supply system 100 according to the present embodiment, a conductive fluid is used as a cooling medium. Therefore, a magnetic field is applied perpendicular to the direction in which the conductive fluid flows, and an electric field is applied perpendicular to the magnetic field and the flow direction. When applied, the conductive fluid is accelerated by receiving the Lorentz force. The principle of this MHD pump utilizes the characteristics contrary to the generator shown in FIG. According to the MHD pump, the acceleration, that is, the speed can be changed by the electric field applied to the conductive fluid, and the design can be made more compact than the mechanical pump.

冷却媒体としては、導電性流体に水やFCなどの常温よりやや高い程度で気化する液体を混入しても良い。さらに、起電冷却ヘッド10の付近に補助ポンプを設置する。冷却媒体は、起電冷却ヘッド10内の流路42を通過する際に、半導体集積回路12から熱を奪う。この奪った熱によって冷却媒体に混入された液体は気化する。この液体の気化によって冷却媒体は膨張するため、補助ポンプによって熱エネルギーを運動エネルギーに変換して導電性流体を流路42に流通させることができる。こうした補助ポンプとしては、Rankineサイクルを利用した熱エンジンなどを利用することもできる。また、この補助ポンプの動力源となる熱源は、半導体集積回路12に限る必要はなく、半導体集積回路12が搭載されるセットの電源による発熱などを利用しても良い。   As the cooling medium, a liquid that vaporizes to a slightly higher degree than room temperature, such as water or FC, may be mixed in the conductive fluid. Further, an auxiliary pump is installed in the vicinity of the electromotive cooling head 10. The cooling medium removes heat from the semiconductor integrated circuit 12 when passing through the flow path 42 in the electromotive cooling head 10. The liquid mixed in the cooling medium is vaporized by the heat taken away. Since the cooling medium expands by the vaporization of the liquid, the conductive fluid can be circulated through the flow path 42 by converting the heat energy into kinetic energy by the auxiliary pump. As such an auxiliary pump, a heat engine using a Rankine cycle can be used. Further, the heat source serving as a power source for the auxiliary pump is not limited to the semiconductor integrated circuit 12, and heat generated by a power source of a set on which the semiconductor integrated circuit 12 is mounted may be used.

上記実施の形態およびその変形例は例示であり、それらの各構成要素や各処理プロセスの組合せにいろいろな変形例が可能なこと、またそうした変形例も本発明の範囲にあることは当業者に理解されるところである。   The above embodiment and its modifications are exemplifications, and it will be understood by those skilled in the art that various modifications can be made to the combinations of the respective components and processing processes, and such modifications are also within the scope of the present invention. It is understood.

たとえば、第1の変形例から第4の変形例に用いた技術は任意に組み合わせることが可能である。
第1の変形例および第4の変形例に用いられる技術を組み合わせる場合には、温度検出部を共通としてより安定な冷却動作を行うことができる。同様に、第2の変形例と第3の変形例に用いられる技術を組み合わせる場合には、起電力検出部64を共通とすることができ、半導体集積回路12に対する電力供給をさらに安定化することができる。
さらに、第1の変形例と第3の変形例を組み合わせた場合には、冷却装置18による冷却能力を調節して半導体集積回路12の温度Tを制御しつつ、ポンプ14により導電性流体の速度uを調節して起電冷却ヘッド10における起電力Esを安定に発生させることができる。
For example, the techniques used in the first to fourth modifications can be arbitrarily combined.
When the techniques used in the first modification and the fourth modification are combined, a more stable cooling operation can be performed by using a common temperature detection unit. Similarly, when the techniques used in the second modification and the third modification are combined, the electromotive force detection unit 64 can be shared, and the power supply to the semiconductor integrated circuit 12 can be further stabilized. Can do.
Further, when the first modification and the third modification are combined, the speed of the conductive fluid is controlled by the pump 14 while controlling the temperature T of the semiconductor integrated circuit 12 by adjusting the cooling capacity of the cooling device 18. The electromotive force Es in the electromotive cooling head 10 can be stably generated by adjusting u.

実施の形態に係る電力供給システムの全体構成を示す図である。It is a figure which shows the whole structure of the electric power supply system which concerns on embodiment. 起電冷却ヘッドの断面構成および半導体集積回路との接続状態を示す図である。It is a figure which shows the cross-sectional structure of an electromotive cooling head, and a connection state with a semiconductor integrated circuit. 図2の起電冷却ヘッドを上方からみた平面図である。It is the top view which looked at the electromotive cooling head of FIG. 2 from upper direction. 図1の電力供給システムの変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the electric power supply system of FIG. 流路における導電性流体と磁界との相互作用の様子を示す図である。It is a figure which shows the mode of interaction of the electroconductive fluid and magnetic field in a flow path. 電力供給システムの第1の変形例を示す図である。It is a figure which shows the 1st modification of an electric power supply system. 電力供給システムの第2の変形例を示す図である。It is a figure which shows the 2nd modification of an electric power supply system. 電力供給システムの第3の変形例を示す図である。It is a figure which shows the 3rd modification of an electric power supply system. 電力供給システムの第4の変形例を示す図である。It is a figure which shows the 4th modification of an electric power supply system.

符号の説明Explanation of symbols

100 電力供給システム、 10 起電冷却ヘッド、 12 半導体集積回路、 14 ポンプ、 16 輸送管、 18 冷却装置、 42 流路、 44 陽極、 46 陰極、 40 基体、 50 N極磁石、 52 S極磁石、 60 温度検出部、 62 冷却制御部、 64 起電力検出部、 70 ポンプ制御部、 72 演算増幅器、 74 駆動電圧生成部。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Electric power supply system, 10 Electromotive cooling head, 12 Semiconductor integrated circuit, 14 Pump, 16 Transport pipe, 18 Cooling device, 42 Flow path, 44 Anode, 46 Cathode, 40 Base, 50 N pole magnet, 52 S pole magnet, 60 temperature detector, 62 cooling controller, 64 electromotive force detector, 70 pump controller, 72 operational amplifier, 74 drive voltage generator.

Claims (16)

流路が穿設された基体と、
前記基体に穿設された流路に導電性流体を流通せしめるポンプと、
前記導電性流体の流通方向に対して垂直に磁界を印加する磁石と、
前記磁界の印加方向と平行な対向する2面に、前記流路を挟むように設けられた陽極と陰極と、
を備え、
駆動対象の半導体集積回路を、前記陽極と前記陰極間に発生する起電力によって駆動するとともに、前記導電性流体を冷却媒体として前記半導体集積回路を冷却し、
前記陽極および前記陰極はそれぞれ、前記半導体集積回路と平行に設けられており、前記陽極は、前記流路の前記半導体集積回路側に設けられており、前記陰極は、前記流路の前記半導体集積回路と反対側に設けられたことを特徴とする電力供給システム。
A base body in which a flow path is formed;
A pump that circulates a conductive fluid in a flow path drilled in the base;
A magnet for applying a magnetic field perpendicular to the flow direction of the conductive fluid;
An anode and a cathode provided so as to sandwich the flow path between two opposing surfaces parallel to the application direction of the magnetic field;
With
The semiconductor integrated circuit to be driven is driven by an electromotive force generated between the anode and the cathode, and the semiconductor integrated circuit is cooled using the conductive fluid as a cooling medium,
The anode and the cathode are each provided in parallel with the semiconductor integrated circuit, the anode is provided on the semiconductor integrated circuit side of the flow path, and the cathode is the semiconductor integrated circuit of the flow path. A power supply system provided on the opposite side of the circuit .
前記基体は前記半導体集積回路と密着して固定され、
前記流路は前記半導体集積回路の発熱箇所に近接する領域に穿設されており、
前記導電性流体を冷却する冷却装置をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の電力供給システム。
The base is fixed in close contact with the semiconductor integrated circuit;
The flow path is perforated in a region close to a heat generation point of the semiconductor integrated circuit,
The power supply system according to claim 1, further comprising a cooling device that cools the conductive fluid.
前記流路は、マイクロチャネル構造を有し、前記磁界の印加方向に隣接して複数穿設されることを特徴とする請求項1に記載の電力供給システム。   The power supply system according to claim 1, wherein the flow path has a microchannel structure, and a plurality of the flow paths are formed adjacent to each other in the application direction of the magnetic field. 前記半導体集積回路の温度を検出する温度検出部と、
前記温度検出部によって検出された前記半導体集積回路の温度にもとづいて、前記冷却装置の冷却能力を制御する冷却制御部と、
をさらに備えることを特徴とする請求項2に記載の電力供給システム。
A temperature detector for detecting the temperature of the semiconductor integrated circuit;
A cooling controller that controls the cooling capacity of the cooling device based on the temperature of the semiconductor integrated circuit detected by the temperature detector;
The power supply system according to claim 2, further comprising:
前記陽極および前記陰極はそれぞれ、前記半導体集積回路の電源電圧端子および固定電圧端子に接続されることを特徴とする請求項1に記載の電力供給システム。   The power supply system according to claim 1, wherein the anode and the cathode are connected to a power supply voltage terminal and a fixed voltage terminal of the semiconductor integrated circuit, respectively. 前記基体は、シリコンによって形成されることを特徴とする請求項1に記載の電力供給システム。   The power supply system according to claim 1, wherein the base is made of silicon. 前記基体は、前記半導体集積回路が形成されるシリコン基板内に、前記半導体集積回路と一体に形成されることを特徴とする請求項に記載の電力供給システム。 The power supply system according to claim 6 , wherein the base is formed integrally with the semiconductor integrated circuit in a silicon substrate on which the semiconductor integrated circuit is formed. 前記導電性流体は、前記半導体集積回路またはその周辺装置の動作温度近傍に沸点を有する液体を含み、
前記半導体集積回路またはその周辺装置から発せられる熱エネルギーを、前記液体を気化させるエネルギーとして利用することにより、前記導電性流体を前記流路に流通せしめるための運動エネルギーに変換する補助ポンプをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の電力供給システム。
The conductive fluid includes a liquid having a boiling point near the operating temperature of the semiconductor integrated circuit or its peripheral device,
The apparatus further includes an auxiliary pump that converts thermal energy generated from the semiconductor integrated circuit or its peripheral device into energy for vaporizing the liquid, thereby converting the conductive fluid into kinetic energy for flowing through the flow path. The power supply system according to claim 1.
前記陽極および前記陰極間に発生する起電力により、前記半導体集積回路以外の負荷回路を駆動することを特徴とする請求項1に記載の電力供給システム。   The power supply system according to claim 1, wherein a load circuit other than the semiconductor integrated circuit is driven by an electromotive force generated between the anode and the cathode. 前記半導体集積回路を駆動するための駆動電圧を出力する電源をさらに備え、
前記半導体集積回路を、前記電源から出力される駆動電圧または前記陽極および前記陰極間に発生する起電力のいずれかによって駆動することを特徴とする請求項1に記載の電力供給システム。
A power supply for outputting a driving voltage for driving the semiconductor integrated circuit;
The power supply system according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit is driven by either a drive voltage output from the power supply or an electromotive force generated between the anode and the cathode.
前記陽極および前記陰極間に発生する起電力が所定のしきい値より低いとき、前記電源から出力される駆動電圧によって前記半導体集積回路を駆動することを特徴とする請求項10に記載の電力供給システム。 11. The power supply according to claim 10 , wherein when the electromotive force generated between the anode and the cathode is lower than a predetermined threshold value, the semiconductor integrated circuit is driven by a driving voltage output from the power source. system. 前記陽極および前記陰極間に発生する起電力を検出し、前記起電力が所定の電圧値に近づくように前記導電性流体の速度を制御する制御部をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の電力供給システム。   The apparatus according to claim 1, further comprising a control unit that detects an electromotive force generated between the anode and the cathode and controls a speed of the conductive fluid so that the electromotive force approaches a predetermined voltage value. The power supply system described. 前記半導体集積回路の温度を検出する温度検出部と、
前記温度検出部によって検出された前記半導体集積回路の温度にもとづいて、前記導電性流体の速度を制御する制御部と、
をさらに備え、前記制御部は、前記半導体集積回路の温度が低い程、前記導電性流体の速度を低下させることを特徴とする請求項1に記載の電力供給システム。
A temperature detector for detecting the temperature of the semiconductor integrated circuit;
A control unit for controlling the speed of the conductive fluid based on the temperature of the semiconductor integrated circuit detected by the temperature detection unit;
The power supply system according to claim 1, further comprising: the controller that decreases the speed of the conductive fluid as the temperature of the semiconductor integrated circuit is lower.
導電性流体が流通する流路が穿設された基体と、
前記流路を挟むように設けられた陽極と陰極と、を備え、
前記導電性流体と当該導電性流体に印加される磁界との相互作用によって前記陽極と前記陰極間に発生する起電力によって駆動対象の半導体集積回路を駆動するとともに、前記導電性流体を冷却媒体として前記半導体集積回路を冷却し、
前記陽極および前記陰極はそれぞれ、前記半導体集積回路と平行に設けられており、前記陽極は、前記流路の前記半導体集積回路側に設けられており、前記陰極は、前記流路の前記半導体集積回路と反対側に設けられたことを特徴とする電力供給装置。
A base body with a flow path through which a conductive fluid flows; and
An anode and a cathode provided to sandwich the flow path,
The semiconductor integrated circuit to be driven is driven by an electromotive force generated between the anode and the cathode by the interaction between the conductive fluid and a magnetic field applied to the conductive fluid, and the conductive fluid is used as a cooling medium. Cooling the semiconductor integrated circuit;
The anode and the cathode are each provided in parallel with the semiconductor integrated circuit, the anode is provided on the semiconductor integrated circuit side of the flow path, and the cathode is the semiconductor integrated circuit of the flow path. A power supply device provided on the opposite side of the circuit .
前記導電性流体に磁界を印加する磁石をさらに備えることを特徴とする請求項14に記載の電力供給装置。 The power supply apparatus according to claim 14 , further comprising a magnet that applies a magnetic field to the conductive fluid. 前記流路は、マイクロチャネル構造を有し、前記磁界の印加方向に隣接して複数穿設されることを特徴とする請求項14に記載の電力供給装置。 The power supply device according to claim 14 , wherein the flow path has a microchannel structure, and a plurality of the flow paths are formed adjacent to each other in the application direction of the magnetic field.
JP2005040108A 2005-02-17 2005-02-17 Power supply system, power supply apparatus, and electronic circuit driving method Expired - Fee Related JP4218838B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005040108A JP4218838B2 (en) 2005-02-17 2005-02-17 Power supply system, power supply apparatus, and electronic circuit driving method
US11/355,706 US7973434B2 (en) 2005-02-17 2006-02-16 Power supply system employing conductive fluid

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005040108A JP4218838B2 (en) 2005-02-17 2005-02-17 Power supply system, power supply apparatus, and electronic circuit driving method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006230092A JP2006230092A (en) 2006-08-31
JP4218838B2 true JP4218838B2 (en) 2009-02-04

Family

ID=36911489

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005040108A Expired - Fee Related JP4218838B2 (en) 2005-02-17 2005-02-17 Power supply system, power supply apparatus, and electronic circuit driving method

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7973434B2 (en)
JP (1) JP4218838B2 (en)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007057167A (en) * 2005-08-25 2007-03-08 Micro Denshi Kk Liquid flow cooling device
US8430531B2 (en) 2009-01-08 2013-04-30 Terralux, Inc. Advanced cooling method and device for LED lighting
WO2011159323A1 (en) * 2010-06-14 2011-12-22 Parker-Hannifin Corporation High voltage power supply system and method
KR101301945B1 (en) * 2012-05-04 2013-08-30 한국철도기술연구원 Alignment control apparatus of magnetic particles
KR101367021B1 (en) * 2012-05-23 2014-02-24 삼성전기주식회사 Heat dissipation system for power module
US9348395B2 (en) * 2012-10-15 2016-05-24 Dell Products L.P. Power demand reduction system
US9897400B2 (en) * 2013-10-29 2018-02-20 Tai-Her Yang Temperature control system having adjacently-installed temperature equalizer and heat transfer fluid and application device thereof
CN106455408A (en) * 2015-08-05 2017-02-22 中兴通讯股份有限公司 Heat radiating device
US10109162B2 (en) 2016-09-01 2018-10-23 Immersion Corporation Haptic effect enabled system using fluid
US10122836B2 (en) * 2016-09-28 2018-11-06 Intel Corporation Magnetic convection cooling for handheld device
US10923998B2 (en) * 2017-06-27 2021-02-16 Saudi Arabian Oil Company Systems and methods to harvest energy and determine water holdup using the magnetohydrodynamic principle
JP2022088691A (en) * 2019-04-12 2022-06-15 パナソニックIpマネジメント株式会社 Magnetic fluid drive device and heat transport system
WO2021231620A1 (en) * 2020-05-12 2021-11-18 GemaTEG Inc. Electronic device cooling systems using cooled fluid and control of same
CN112153880B (en) * 2020-10-28 2022-06-07 武汉第二船舶设计研究所(中国船舶重工集团公司第七一九研究所) Double-sided heat exchange micro-channel liquid cooling radiator
JP2022123972A (en) * 2021-02-15 2022-08-25 キヤノン株式会社 Device having magnetic fluid heat transport system and imaging apparatus
CN113479841B (en) * 2021-05-24 2024-05-28 中国电子科技集团公司第五十五研究所 Silicon-based micro-channel substrate preparation method
DE102021210606A1 (en) 2021-09-23 2023-03-23 Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung Temperature control arrangement for a microelectric system
CN114390772B (en) * 2021-12-29 2024-03-08 江苏密特科智能装备制造有限公司 Precise component of semiconductor equipment

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3878410A (en) * 1974-02-21 1975-04-15 Us Energy Two-phase liquid-metal magnetohydrodynamic (MHD) generator
US4496287A (en) * 1980-02-14 1985-01-29 Robert M. Nelson Sensors for detection of fluid condition, and control systems utilizing their signals
US4767953A (en) * 1987-04-03 1988-08-30 Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. Electrode device for electromagnetic fluid flow apparatus
US5637934A (en) 1993-06-24 1997-06-10 Fabris; Gracio High expansion magnetohydrodynamic liquid metal generator of electricity
JP3327317B2 (en) * 1995-10-09 2002-09-24 株式会社荏原製作所 Inverter water cooling
US5763951A (en) * 1996-07-22 1998-06-09 Northrop Grumman Corporation Non-mechanical magnetic pump for liquid cooling
US6789611B1 (en) * 2000-01-04 2004-09-14 Jia Hao Li Bubble cycling heat exchanger
JP2002050727A (en) 2000-08-01 2002-02-15 Hitachi Maxell Ltd Electronic apparatus
US6942018B2 (en) * 2001-09-28 2005-09-13 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Electroosmotic microchannel cooling system
US6856037B2 (en) * 2001-11-26 2005-02-15 Sony Corporation Method and apparatus for converting dissipated heat to work energy
JP2004274942A (en) * 2003-03-11 2004-09-30 Ind Technol Res Inst Device and method for magnetic-current power generation and cooling
US6903929B2 (en) * 2003-03-31 2005-06-07 Intel Corporation Two-phase cooling utilizing microchannel heat exchangers and channeled heat sink
US7081684B2 (en) * 2003-10-06 2006-07-25 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Converting heat generated by a component to electrical energy

Also Published As

Publication number Publication date
US7973434B2 (en) 2011-07-05
JP2006230092A (en) 2006-08-31
US20060185973A1 (en) 2006-08-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7973434B2 (en) Power supply system employing conductive fluid
US9554487B2 (en) Microchannel heat transfer with liquid metals
EP3736856B1 (en) Microelectronics assembly including top and bottom packages in stacked configuration with shared cooling
Laloya et al. Heat management in power converters: From state of the art to future ultrahigh efficiency systems
US8598700B2 (en) Active thermal control for stacked IC devices
JP5846212B2 (en) Microchannel cooling device, microchannel cooling system, and electronic apparatus
US8017872B2 (en) System and method for proportional cooling with liquid metal
US20080229759A1 (en) Method and apparatus for cooling integrated circuit chips using recycled power
US20110167838A1 (en) Device and Method for Cooling Components Using Magnetizable Phase-Change Material
CN111527676A (en) Stator module and planar driving system
JP2015502054A (en) Electronic device with cooling action by liquid metal spreader
US20050139345A1 (en) Apparatus for using fluid laden with nanoparticles for application in electronic cooling
JP2003250262A (en) Method and apparatus for converting dissipated heat to work energy
JP2014509451A (en) Circuit assembly including thermoelectric module
US20040250994A1 (en) Methods and apparatuses for electronics cooling
US20080101022A1 (en) Micro-fluidic cooling apparatus with phase change
JP4034173B2 (en) Semiconductor integrated circuit device and semiconductor integrated circuit chip thereof
CN113921486A (en) Power electronic component and power electronic device
US10206310B2 (en) Electronics assemblies incorporating three-dimensional heat flow structures
JP2006522496A (en) Power circuit having a thermionic cooling system
US6253556B1 (en) Electrical system with cooling or heating
JP2024533680A (en) Temperature-regulated assemblies for microelectronic systems.
EP3939397B1 (en) Cooling of electronic components with an electrohydrodynamic flow unit
JP2014120516A (en) Semiconductor device
JP7146934B2 (en) Cooling system

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080812

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081010

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20081105

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20081106

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111121

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4218838

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121121

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121121

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131121

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees