JP4213756B2 - Planographic printing plate precursor and laminate of planographic printing plate precursor - Google Patents
Planographic printing plate precursor and laminate of planographic printing plate precursor Download PDFInfo
- Publication number
- JP4213756B2 JP4213756B2 JP2007152384A JP2007152384A JP4213756B2 JP 4213756 B2 JP4213756 B2 JP 4213756B2 JP 2007152384 A JP2007152384 A JP 2007152384A JP 2007152384 A JP2007152384 A JP 2007152384A JP 4213756 B2 JP4213756 B2 JP 4213756B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- printing plate
- layer
- protective layer
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims description 154
- 239000002243 precursor Substances 0.000 title claims description 110
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 218
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 187
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 160
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 113
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 109
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 109
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 89
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 84
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 65
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 55
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 55
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 55
- 239000010445 mica Substances 0.000 claims description 47
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 claims description 47
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 43
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 40
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 37
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 claims description 22
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 claims description 17
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims description 8
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 claims description 7
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 claims description 6
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 6
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 5
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 5
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 claims description 4
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 claims description 3
- -1 oxygen Chemical class 0.000 description 108
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 99
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 98
- 238000000034 method Methods 0.000 description 88
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 66
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 65
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 57
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 44
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 42
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 42
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 40
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 36
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 32
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 32
- 238000011161 development Methods 0.000 description 31
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 29
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 27
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 27
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 26
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 25
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 25
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 24
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 24
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 22
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 22
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 22
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 21
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 20
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 19
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000002585 base Substances 0.000 description 18
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 17
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 17
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 17
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 17
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 17
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 16
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 16
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 16
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 15
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 15
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 15
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 14
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 14
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 14
- 230000008569 process Effects 0.000 description 14
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 13
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 13
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 13
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 13
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 13
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 12
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 12
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 11
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 11
- RJDOZRNNYVAULJ-UHFFFAOYSA-L [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[F-].[F-].[Mg++].[Mg++].[Mg++].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] Chemical compound [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[F-].[F-].[Mg++].[Mg++].[Mg++].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] RJDOZRNNYVAULJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 11
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 11
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 11
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 11
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 11
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 11
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 11
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 11
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 11
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 11
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 10
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 9
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 9
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 8
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 8
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 8
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 8
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine group Chemical group N1=CCC2=CC=CC=C12 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 8
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 8
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 7
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 7
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 7
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 7
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 7
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 7
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 6
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 6
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 6
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 6
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 6
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical group OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 5
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 5
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 5
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 5
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 5
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 5
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 5
- 125000001476 phosphono group Chemical group [H]OP(*)(=O)O[H] 0.000 description 5
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 5
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 5
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 5
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 5
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 5
- NBOCQTNZUPTTEI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(hydrazinesulfonyl)phenoxy]benzenesulfonohydrazide Chemical compound C1=CC(S(=O)(=O)NN)=CC=C1OC1=CC=C(S(=O)(=O)NN)C=C1 NBOCQTNZUPTTEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920002070 Pluronic® P 84 Polymers 0.000 description 4
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 4
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 4
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 4
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 4
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 4
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 4
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical group CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 3
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 3
- 125000000707 boryl group Chemical group B* 0.000 description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 3
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- 229930002875 chlorophyll Natural products 0.000 description 3
- 235000019804 chlorophyll Nutrition 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 3
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 3
- 150000003009 phosphonic acids Chemical group 0.000 description 3
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 3
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 3
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N Calcium cation Chemical compound [Ca+2] BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 2
- PVNIIMVLHYAWGP-UHFFFAOYSA-N Niacin Chemical compound OC(=O)C1=CC=CN=C1 PVNIIMVLHYAWGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000978776 Senegalia senegal Species 0.000 description 2
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 2
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 2
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000007869 azo polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- IWOUKMZUPDVPGQ-UHFFFAOYSA-N barium nitrate Chemical compound [Ba+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O IWOUKMZUPDVPGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GKRVGTLVYRYCFR-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol;2-methylidenebutanedioic acid Chemical compound OCCCCO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O GKRVGTLVYRYCFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 229910001424 calcium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N calcium nitrate Chemical compound [Ca+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 2
- ATNHDLDRLWWWCB-AENOIHSZSA-M chlorophyll a Chemical compound C1([C@@H](C(=O)OC)C(=O)C2=C3C)=C2N2C3=CC(C(CC)=C3C)=[N+]4C3=CC3=C(C=C)C(C)=C5N3[Mg-2]42[N+]2=C1[C@@H](CCC(=O)OC\C=C(/C)CCC[C@H](C)CCC[C@H](C)CCCC(C)C)[C@H](C)C2=C5 ATNHDLDRLWWWCB-AENOIHSZSA-M 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N dichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)Cl JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N dipicolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=N1 WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N fluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)CF QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007863 gel particle Substances 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000008233 hard water Substances 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N isocrotonic acid Chemical compound C\C=C/C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 2
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N magnesium nitrate Chemical compound [Mg+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 2
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 2
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 2
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N p-toluic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N phenoxyacetic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC=CC=C1 LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052628 phlogopite Inorganic materials 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N picolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=N1 SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 2
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 2
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 2
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 230000003405 preventing effect Effects 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 2
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 2
- 230000001953 sensory effect Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 2
- DHEQXMRUPNDRPG-UHFFFAOYSA-N strontium nitrate Chemical compound [Sr+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O DHEQXMRUPNDRPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 2
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N trisodium borate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]B([O-])[O-] BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N undecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC(O)=O ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- CUNWUEBNSZSNRX-RKGWDQTMSA-N (2r,3r,4r,5s)-hexane-1,2,3,4,5,6-hexol;(z)-octadec-9-enoic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO.OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O CUNWUEBNSZSNRX-RKGWDQTMSA-N 0.000 description 1
- OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N (4-prop-2-enoyloxycyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCC(OC(=O)C=C)CC1 OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical class C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- FGTUGLXGCCYKPJ-SPIKMXEPSA-N (Z)-but-2-enedioic acid 2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O.OC(=O)\C=C/C(O)=O.OCCOCCOCCO FGTUGLXGCCYKPJ-SPIKMXEPSA-N 0.000 description 1
- SORHAFXJCOXOIC-CCAGOZQPSA-N (z)-4-[2-[(z)-3-carboxyprop-2-enoyl]oxyethoxy]-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(=O)OCCOC(=O)\C=C/C(O)=O SORHAFXJCOXOIC-CCAGOZQPSA-N 0.000 description 1
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- ZORQXIQZAOLNGE-UHFFFAOYSA-N 1,1-difluorocyclohexane Chemical compound FC1(F)CCCCC1 ZORQXIQZAOLNGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Butyleneglycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)CCOC(=O)C(C)=C VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLFVTCARHBZDH-UHFFFAOYSA-N 1,4-dicyclohexylcyclohexane Chemical group C1CCCCC1C1CCC(C2CCCCC2)CC1 OHLFVTCARHBZDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C(C)=C)OC(=O)C(C)=C OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPUJTMFKJTXSHW-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethoxy)ethanol Chemical compound COCOC(C)O RPUJTMFKJTXSHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 1-aminopropan-2-ol Chemical compound CC(O)CN HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene-2-carboxamide Chemical compound C1=CC=C2SC(C(=O)N)=CC2=C1 GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004973 1-butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000004972 1-butynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006019 1-methyl-1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- RZRNAYUHWVFMIP-KTKRTIGZSA-N 1-oleoylglycerol Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC(O)CO RZRNAYUHWVFMIP-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000530 1-propynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1C(C)(C)C QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APJRQJNSYFWQJD-GGWOSOGESA-N 2-[(e)-but-2-enoyl]oxyethyl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCCOC(=O)\C=C\C APJRQJNSYFWQJD-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- APJRQJNSYFWQJD-GLIMQPGKSA-N 2-[(z)-but-2-enoyl]oxyethyl (z)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C/C(=O)OCCOC(=O)\C=C/C APJRQJNSYFWQJD-GLIMQPGKSA-N 0.000 description 1
- YJGHMLJGPSVSLF-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-octanoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl octanoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)CCCCCCC YJGHMLJGPSVSLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(2-hydroxyethyl)amino]acetic acid Chemical compound OCCN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIYWVRIBDZTTMH-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-[4-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]phenyl]propan-2-yl]phenoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OCCOC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OCCOC(=O)C(C)=C)C=C1 VIYWVRIBDZTTMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DILXLMRYFWFBGR-UHFFFAOYSA-N 2-formylbenzene-1,4-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C(C=O)=C1 DILXLMRYFWFBGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-6-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1C=O ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[(2-methylprop-2-enoylamino)methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(C)=C TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003229 2-methylhexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GDHSRTFITZTMMP-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenebutanedioic acid;propane-1,2-diol Chemical compound CC(O)CO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O GDHSRTFITZTMMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004135 2-norbornyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C2([H])C([H])([H])C1([H])C([H])([H])C2([H])* 0.000 description 1
- VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(=O)C=C VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCDJVEYJSSTYSW-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethyl acetate Chemical compound CC(C)OCCOC(C)=O HCDJVEYJSSTYSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBBOQIHGWMYDPM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylphenol;formaldehyde Chemical compound O=C.CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O LBBOQIHGWMYDPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAUAQNGYDSHRET-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethoxybenzoic acid Chemical group COC1=CC=C(C(O)=O)C=C1OC DAUAQNGYDSHRET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKAJSJJFBSOMGS-UHFFFAOYSA-N 3,6-diamino-10-methylacridinium chloride Chemical compound [Cl-].C1=C(N)C=C2[N+](C)=C(C=C(N)C=C3)C3=CC2=C1 KKAJSJJFBSOMGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEPGNQLKWDULGD-UHFFFAOYSA-N 3-(3-prop-2-enoyloxypropoxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCOCCCOC(=O)C=C KEPGNQLKWDULGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALKYHXVLJMQRLQ-UHFFFAOYSA-N 3-Hydroxy-2-naphthoate Chemical compound C1=CC=C2C=C(O)C(C(=O)O)=CC2=C1 ALKYHXVLJMQRLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRYCRPNCXLQHPN-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=C(O)C=CC=C1C=O ZRYCRPNCXLQHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropan-1-ol Chemical compound COCCCO JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl acetate Chemical compound COCCCOC(C)=O CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)CCOC(=O)C=C FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUWHCTSQIAULAK-UHFFFAOYSA-N 4-(2-hydroxyethyl)benzoic acid Chemical compound OCCC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 FUWHCTSQIAULAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCOC(=O)C(C)=C XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQVKTHRQIXSMGY-UHFFFAOYSA-N 4-Ethylbenzoic acid Chemical compound CCC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ZQVKTHRQIXSMGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZOPXAHXBBDBX-FCXRPNKRSA-N 4-[(e)-but-2-enoyl]oxybutyl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCCCCOC(=O)\C=C\C KTZOPXAHXBBDBX-FCXRPNKRSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=NC=C1 KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZIIFPSPUDAGJM-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-2-n,2-n-diethylpyrimidine-2,4-diamine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(N)=CC(Cl)=N1 XZIIFPSPUDAGJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000789 Aluminium-silicon alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001342 Bakelite® Polymers 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N Brassidinsaeure Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 1
- LAKGQRZUKPZJDH-GLIMQPGKSA-N C\C=C/C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)\C=C/C Chemical compound C\C=C/C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)\C=C/C LAKGQRZUKPZJDH-GLIMQPGKSA-N 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- 150000000703 Cerium Chemical class 0.000 description 1
- 229920002101 Chitin Polymers 0.000 description 1
- 229920001661 Chitosan Polymers 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCKYPQBAHLOOJQ-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane-1,2-diaminetetraacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)C1CCCCC1N(CC(O)=O)CC(O)=O FCKYPQBAHLOOJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVZWSLJZHVFIQJ-UHFFFAOYSA-N Cyclopropane Chemical compound C1CC1 LVZWSLJZHVFIQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N Decanoic acid Natural products CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- PYGXAGIECVVIOZ-UHFFFAOYSA-N Dibutyl decanedioate Chemical compound CCCCOC(=O)CCCCCCCCC(=O)OCCCC PYGXAGIECVVIOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N Docosanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URXZXNYJPAJJOQ-UHFFFAOYSA-N Erucic acid Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCCCCCC(O)=O URXZXNYJPAJJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N Etidronic acid Chemical compound OP(=O)(O)C(O)(C)P(O)(O)=O DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N Magnesium ion Chemical compound [Mg+2] JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N N,N-bis{2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl}glycine Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(=O)O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005118 N-alkylcarbamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- LRYAPECLTRYCTR-UHFFFAOYSA-N NC(=O)C=C.NC(=O)C=C.NC(=O)C=C.NCCNCCN Chemical compound NC(=O)C=C.NC(=O)C=C.NC(=O)C=C.NCCNCCN LRYAPECLTRYCTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical compound ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- YDMUKYUKJKCOEE-SPIKMXEPSA-N OC(=O)\C=C/C(O)=O.OC(=O)\C=C/C(O)=O.OCC(CO)(CO)CO Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O.OC(=O)\C=C/C(O)=O.OCC(CO)(CO)CO YDMUKYUKJKCOEE-SPIKMXEPSA-N 0.000 description 1
- BEAWHIRRACSRDJ-UHFFFAOYSA-N OCC(CO)(CO)CO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O Chemical compound OCC(CO)(CO)CO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O BEAWHIRRACSRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGZUGUNAAMMFMG-UHFFFAOYSA-N P(=O)(O)(O)C(C(C(=O)O)(C(=O)O)C(=O)O)CC.C(C)(=O)O.C(C)(=O)O.C(C)(=O)O.C(C)(=O)O.NCC(CN)O Chemical compound P(=O)(O)(O)C(C(C(=O)O)(C(=O)O)C(=O)O)CC.C(C)(=O)O.C(C)(=O)O.C(C)(=O)O.C(C)(=O)O.NCC(CN)O KGZUGUNAAMMFMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229920000388 Polyphosphate Polymers 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N Potassium ion Chemical compound [K+] NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVUMOYIDDBPOLL-XWVZOOPGSA-N Sorbitan monostearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O HVUMOYIDDBPOLL-XWVZOOPGSA-N 0.000 description 1
- 239000004147 Sorbitan trioleate Substances 0.000 description 1
- PRXRUNOAOLTIEF-ADSICKODSA-N Sorbitan trioleate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OC[C@@H](OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC PRXRUNOAOLTIEF-ADSICKODSA-N 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLGBZMMZGDRARJ-UHFFFAOYSA-N Triphenylene Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C3C2=C1 SLGBZMMZGDRARJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- GPVDHNVGGIAOQT-UHFFFAOYSA-N Veratric acid Natural products COC1=CC=C(C(O)=O)C(OC)=C1 GPVDHNVGGIAOQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical group C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZQBWGFCGIRLBB-NJYHNNHUSA-N [(2r)-2-[(2s,3r,4s)-3,4-dihydroxyoxolan-2-yl]-2-octadecanoyloxyethyl] octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O PZQBWGFCGIRLBB-NJYHNNHUSA-N 0.000 description 1
- GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C(C)=C GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N [2,2-dimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)=C ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAKGQRZUKPZJDH-GGWOSOGESA-N [2-[[(e)-but-2-enoyl]oxymethyl]-3-hydroxy-2-(hydroxymethyl)propyl] (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)\C=C\C LAKGQRZUKPZJDH-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQAXGZLFSSPBMK-UHFFFAOYSA-M [7-(dimethylamino)phenothiazin-3-ylidene]-dimethylazanium;chloride;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Cl-].C1=CC(=[N+](C)C)C=C2SC3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 XQAXGZLFSSPBMK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N [Nitrilotris(methylene)]trisphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBDVBAABEUKEGA-UHFFFAOYSA-N [Si].[Si].[Si].[Si].[K] Chemical compound [Si].[Si].[Si].[Si].[K] WBDVBAABEUKEGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Chemical group CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical group 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2,3,4,5,6-pentahydroxyhexanal;sodium Chemical compound [Na].CC(O)=O.OCC(O)C(O)C(O)C(O)C=O DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPKHZNPWBDQZCN-UHFFFAOYSA-N acridine orange free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC2=NC3=CC(N(C)C)=CC=C3C=C21 DPKHZNPWBDQZCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001251 acridines Chemical class 0.000 description 1
- 229940023020 acriflavine Drugs 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005035 acylthio group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005138 alkoxysulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005189 alkyl hydroxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005332 alkyl sulfoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005162 aryl oxy carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005142 aryl oxy sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005135 aryl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005228 aryl sulfonate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-triol;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.OC1=CC=CC(O)=C1O HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001559 benzoic acids Chemical class 0.000 description 1
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N benzoquinolinylidene Natural products C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052626 biotite Inorganic materials 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSUIVCLOAAJSRE-UHFFFAOYSA-N bis(2-methoxyethyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound COCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCOC HSUIVCLOAAJSRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFMQKOWCDKKBIF-UHFFFAOYSA-N bis(3,5-difluorophenyl)phosphane Chemical compound FC1=CC(F)=CC(PC=2C=C(F)C=C(F)C=2)=C1 ZFMQKOWCDKKBIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 125000001626 borono group Chemical group [H]OB([*])O[H] 0.000 description 1
- 239000001058 brown pigment Substances 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZQCLFIWZYVKKK-UHFFFAOYSA-N butane-1,3-diol 2-methylidenebutanedioic acid Chemical compound CC(O)CCO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O OZQCLFIWZYVKKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 230000005591 charge neutralization Effects 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940106681 chloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- 229940099898 chlorophyllin Drugs 0.000 description 1
- 235000019805 chlorophyllin Nutrition 0.000 description 1
- 239000001752 chlorophylls and chlorophyllins Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 230000009918 complex formation Effects 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- LMGZGXSXHCMSAA-UHFFFAOYSA-N cyclodecane Chemical compound C1CCCCCCCCC1 LMGZGXSXHCMSAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDXRQENMIVHKPI-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-diol Chemical compound OC1(O)CCCCC1 PDXRQENMIVHKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N cyclooctane Chemical compound C1CCCCCCC1 WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004914 cyclooctane Substances 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004986 diarylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N dichloridooxygen Chemical compound ClOCl RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960005215 dichloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- PUFGCEQWYLJYNJ-UHFFFAOYSA-N didodecyl benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCCCCCC PUFGCEQWYLJYNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N dioxazine Chemical compound O1ON=CC=C1 PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASMQGLCHMVWBQR-UHFFFAOYSA-M diphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(=O)([O-])OC1=CC=CC=C1 ASMQGLCHMVWBQR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YGANSGVIUGARFR-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxosilane oxo(oxoalumanyloxy)alumane oxygen(2-) Chemical compound [O--].[K+].[K+].O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O YGANSGVIUGARFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRXRGVFLQOSHOH-UHFFFAOYSA-L dipotassium;oxalate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C(=O)C([O-])=O IRXRGVFLQOSHOH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940060296 dodecylbenzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 1
- YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N eosin Chemical compound [Na+].OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(Br)C(=O)C(Br)=C2OC2=C(Br)C(O)=C(Br)C=C21 YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPUOLQHDNGRHBS-KTKRTIGZSA-N erucic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- IINNWAYUJNWZRM-UHFFFAOYSA-L erythrosin B Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(I)C(=O)C(I)=C2OC2=C(I)C([O-])=C(I)C=C21 IINNWAYUJNWZRM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940011411 erythrosine Drugs 0.000 description 1
- 239000004174 erythrosine Substances 0.000 description 1
- 235000012732 erythrosine Nutrition 0.000 description 1
- DAOJMFXILKTYRL-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;2-methylidenebutanedioic acid Chemical compound OCCO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O DAOJMFXILKTYRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl formate Chemical compound CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 230000006355 external stress Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNBHRKFJIUUOQI-UHFFFAOYSA-N fluorescein Chemical compound O1C(=O)C2=CC=CC=C2C21C1=CC=C(O)C=C1OC1=CC(O)=CC=C21 GNBHRKFJIUUOQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006162 fluoroaliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- USEUJPGSYMRJHM-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;4-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=C(O)C=C1 USEUJPGSYMRJHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000011087 fumaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- RZRNAYUHWVFMIP-HXUWFJFHSA-N glycerol monolinoleate Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@H](O)CO RZRNAYUHWVFMIP-HXUWFJFHSA-N 0.000 description 1
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 description 1
- 229960004275 glycolic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 1
- 239000003673 groundwater Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- KWLMIXQRALPRBC-UHFFFAOYSA-L hectorite Chemical compound [Li+].[OH-].[OH-].[Na+].[Mg+2].O1[Si]2([O-])O[Si]1([O-])O[Si]([O-])(O1)O[Si]1([O-])O2 KWLMIXQRALPRBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000271 hectorite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 238000009775 high-speed stirring Methods 0.000 description 1
- 150000002433 hydrophilic molecules Chemical class 0.000 description 1
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000001261 hydroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N isoindolin-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NCC2=C1 PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002655 kraft paper Substances 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001684 low density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004702 low-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229910001425 magnesium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 description 1
- 150000002689 maleic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001960 metal nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- RMIODHQZRUFFFF-UHFFFAOYSA-N methoxyacetic acid Chemical compound COCC(O)=O RMIODHQZRUFFFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000877 morphologic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052627 muscovite Inorganic materials 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N n-[6-(prop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCCCCCNC(=O)C=C YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N n-hydroxy-n-phenylnitrous amide Chemical compound O=NN(O)C1=CC=CC=C1 DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 229920005615 natural polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011664 nicotinic acid Substances 0.000 description 1
- 235000001968 nicotinic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960003512 nicotinic acid Drugs 0.000 description 1
- YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N nifuroxazide Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C(=O)N\N=C\C1=CC=C([N+]([O-])=O)O1 YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000018 nitroso group Chemical group N(=O)* 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N norbornane Chemical compound C1C[C@H]2CC[C@@H]1C2 UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000001053 orange pigment Substances 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004812 organic fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- KHPXUQMNIQBQEV-UHFFFAOYSA-N oxaloacetic acid Chemical compound OC(=O)CC(=O)C(O)=O KHPXUQMNIQBQEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N oxozirconium;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.[Zr]=O CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002926 oxygen Chemical class 0.000 description 1
- DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);titanium(4+);sulfate Chemical compound [O-2].[Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKMXAIVXVKGGFM-UHFFFAOYSA-N p-cumic acid Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 CKMXAIVXVKGGFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 229960003330 pentetic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Substances OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N perinone Chemical compound C12=NC3=CC=CC=C3N2C(=O)C2=CC=C3C4=C2C1=CC=C4C(=O)N1C2=CC=CC=C2N=C13 DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N phenyl phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OC1=CC=CC=C1 CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLCHBQKMVKNBOV-UHFFFAOYSA-N phenylphosphinic acid Chemical compound OP(=O)C1=CC=CC=C1 MLCHBQKMVKNBOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 229940081066 picolinic acid Drugs 0.000 description 1
- OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N picric acid Chemical compound OC1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920002006 poly(N-vinylimidazole) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 239000001205 polyphosphate Substances 0.000 description 1
- 235000011176 polyphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- GHTWQCXOBQMUHR-UHFFFAOYSA-M potassium;2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(carboxymethyl)amino]acetate Chemical compound [K+].OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC([O-])=O GHTWQCXOBQMUHR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SQTLECAKIMBJGK-UHFFFAOYSA-I potassium;titanium(4+);pentafluoride Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[Ti+4] SQTLECAKIMBJGK-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N propionamide Chemical compound CCC(N)=O QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940080818 propionamide Drugs 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001057 purple pigment Substances 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical compound O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001008 quinone-imine dye Substances 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 1
- 229940081623 rose bengal Drugs 0.000 description 1
- AZJPTIGZZTZIDR-UHFFFAOYSA-L rose bengal Chemical compound [K+].[K+].[O-]C(=O)C1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1C1=C2C=C(I)C(=O)C(I)=C2OC2=C(I)C([O-])=C(I)C=C21 AZJPTIGZZTZIDR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229930187593 rose bengal Natural products 0.000 description 1
- STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N rose bengal A Natural products O1C(=O)C(C(=CC=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H sodium hexametaphosphate Chemical compound [Na]OP1(=O)OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])O1 GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 229940100515 sorbitan Drugs 0.000 description 1
- 229940035044 sorbitan monolaurate Drugs 0.000 description 1
- 239000001593 sorbitan monooleate Substances 0.000 description 1
- 235000011069 sorbitan monooleate Nutrition 0.000 description 1
- 229940035049 sorbitan monooleate Drugs 0.000 description 1
- 239000001587 sorbitan monostearate Substances 0.000 description 1
- 235000011076 sorbitan monostearate Nutrition 0.000 description 1
- 229940035048 sorbitan monostearate Drugs 0.000 description 1
- 229960005078 sorbitan sesquioleate Drugs 0.000 description 1
- 235000019337 sorbitan trioleate Nutrition 0.000 description 1
- 229960000391 sorbitan trioleate Drugs 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 229940114926 stearate Drugs 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 150000003455 sulfinic acids Chemical class 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical compound [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000002345 surface coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- YNHJECZULSZAQK-UHFFFAOYSA-N tetraphenylporphyrin Chemical compound C1=CC(C(=C2C=CC(N2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3N2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 YNHJECZULSZAQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004897 thiazines Chemical class 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N thioindigo Chemical compound S\1C2=CC=CC=C2C(=O)C/1=C1/C(=O)C2=CC=CC=C2S1 JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 1
- 150000007944 thiolates Chemical class 0.000 description 1
- OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N thiopyrylium Chemical class C1=CC=[S+]C=C1 OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000348 titanium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- NLLZTRMHNHVXJJ-UHFFFAOYSA-J titanium tetraiodide Chemical compound I[Ti](I)(I)I NLLZTRMHNHVXJJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K titanium(iii) chloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)Cl YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229950003937 tolonium Drugs 0.000 description 1
- HNONEKILPDHFOL-UHFFFAOYSA-M tolonium chloride Chemical compound [Cl-].C1=C(C)C(N)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 HNONEKILPDHFOL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000005424 tosyloxy group Chemical group S(=O)(=O)(C1=CC=C(C)C=C1)O* 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N triacetin Chemical compound CC(=O)OCC(OC(C)=O)COC(C)=O URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002622 triacetin Drugs 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- 229940001496 tribasic sodium phosphate Drugs 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004319 trichloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004953 trihalomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N triisopropylamine Chemical compound CC(C)N(C(C)C)C(C)C RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- 229950002929 trinitrophenol Drugs 0.000 description 1
- 125000005580 triphenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N vinylphosphonic acid Chemical class OP(O)(=O)C=C ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 229920003176 water-insoluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001834 xanthenyl group Chemical class C1=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3C(C12)* 0.000 description 1
- 125000006839 xylylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
- B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/02—Cover layers; Protective layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/06—Backcoats; Back layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/14—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by macromolecular organic compounds, e.g. binder, adhesives
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/04—Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
本発明は、赤外線レーザー光での直接描画、高速製版可能なネガ型の平版印刷版原版、及び該平版印刷版原版を、合紙を介さずに直接積層してなる積層体に関する。 The present invention relates to a negative lithographic printing plate precursor capable of direct drawing with an infrared laser beam and capable of high-speed plate making, and a laminate obtained by directly laminating the lithographic printing plate precursor without using a slip sheet.
従来、平版印刷版原版としては親水性支持体上に親油性の感光性樹脂層を設けた構成を有するPS版が広く用いられ、その製版方法として、通常は、リスフイルムを介してマスク露光(面露光)後、非画像部を溶解除去することにより所望の印刷版を得ていた。
近年、画像情報を、コンピューターを用いて電子的に処理、蓄積、出力する、デジタル化技術が広く普及してきている。そして、そのようなデジタル化技術に対応した新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきた。その結果レーザー光のような指向性の高い光をデジタル化された画像情報に従って走査し、リスフイルムを介すこと無く、直接印刷版を製造するコンピューター トゥ プレート(CTP)技術が切望されており、これに適応した平版印刷版原版を得ることが重要な技術課題となっている。
Conventionally, PS plates having a structure in which an oleophilic photosensitive resin layer is provided on a hydrophilic support are widely used as lithographic printing plate precursors. As a plate making method, mask exposure (typically through a lithographic film) After the surface exposure), the desired printing plate was obtained by dissolving and removing the non-image area.
In recent years, digitization techniques that electronically process, store, and output image information using a computer have become widespread. Various new image output methods corresponding to such digitization techniques have come into practical use. As a result, computer-to-plate (CTP) technology that scans highly directional light such as laser light according to digitized image information and directly produces a printing plate without going through a lithographic film is eagerly desired. Obtaining a lithographic printing plate precursor adapted to this is an important technical issue.
このような走査露光可能な平版印刷版原版としては、親水性支持体上にレーザー露光によりラジカルやブレンステッド酸などの活性種を発生しうる感光性化合物を含有した親油性感光性樹脂層(以下、記録層ともいう)を設けた構成が提案され、既に上市されている。この平版印刷版原版をデジタル情報に基づきレーザー走査し活性種を発生せしめ、その作用によって記録層に物理的、或いは化学的な変化を起こし不溶化させ、引き続き現像処理することによってネガ型の平版印刷版を得ることができる。
特に、親水性支持体上に、感光スピードに優れる光重合開始剤、付加重合可能なエチレン性不飽和化合物、及びアルカリ現像液に可溶なバインダーポリマーを含有する光重合型の記録層、並びに必要に応じて酸素遮断性の保護層を設けた平版印刷版原版(例えば、特許文献1参照)は、生産性に優れ、更に現像処理が簡便であり、解像度や着肉性もよいといった利点から、望ましい印刷性能を有するものである。
As such a lithographic printing plate precursor capable of scanning exposure, an oleophilic photosensitive resin layer containing a photosensitive compound capable of generating active species such as radicals and Bronsted acids by laser exposure on a hydrophilic support (hereinafter referred to as “lithographic printing plate precursor”) , Also referred to as a recording layer) has been proposed and is already on the market. This lithographic printing plate precursor is laser-scanned based on digital information to generate active species, which causes physical or chemical changes in the recording layer to insolubilize it, followed by development processing, thereby developing a negative lithographic printing plate Can be obtained.
In particular, a photopolymerization type recording layer containing a photopolymerization initiator excellent in photosensitive speed, an addition-polymerizable ethylenically unsaturated compound, and a binder polymer soluble in an alkali developer on a hydrophilic support, and necessary According to the planographic printing plate precursor (for example, see Patent Document 1) provided with an oxygen-blocking protective layer is excellent in productivity, simple development processing, and good resolution and inking properties, It has desirable printing performance.
また、より生産性を向上させるため、つまり、製版スピードを向上させるために、特定の構造を有するシアニン色素、ヨードニウム塩及びエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合可能な化合物よりなる光重合性組成物を記録層に用い、画像様露光後の加熱処理を必要としない記録材料が提案されているが(例えば、特許文献2参照。)、この記録材料は、重合反応時に空気中の酸素による重合阻害がおこり、感度の低下や、形成された画像部の強度が不充分であるという問題があった。
この問題に対し、記録層上に水溶性ポリマーを含有する保護層を設ける方法、或いは、無機質の層状化合物と水溶性ポリマーを含有する保護層を設ける方法(例えば、特許文献3参照。)が知られている。これらの保護層の存在により、重合阻害が防止され、記録層の硬化反応が促進され、画像部の強度を向上させることが可能となる。
Further, in order to improve productivity, that is, to improve plate making speed, photopolymerizability comprising a cyanine dye having a specific structure, an iodonium salt and an addition-polymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond. A recording material that uses the composition as a recording layer and does not require heat treatment after imagewise exposure has been proposed (see, for example, Patent Document 2). This recording material is caused by oxygen in the air during the polymerization reaction. There was a problem that the polymerization was inhibited, the sensitivity was lowered, and the strength of the formed image area was insufficient.
To solve this problem, a method of providing a protective layer containing a water-soluble polymer on the recording layer or a method of providing a protective layer containing an inorganic layered compound and a water-soluble polymer (for example, see Patent Document 3) is known. It has been. The presence of these protective layers prevents polymerization inhibition, promotes the curing reaction of the recording layer, and improves the strength of the image area.
一方、現像処理が簡便である光重合型の平版印刷版原版の製版作業における生産性としては、露光工程にかかる時間短縮が重要となってくる。露光工程には、通常、原版と原版の間に、原版同士の接着防止機能や、比較的軟らかい保護層の表面がアルミニウム支持体とこすれて生じるキズ防止機能を有する合紙が挿入された積層体として供給される。そのため、露光工程での合紙除去時間が非効率の原因となっていた。この露光工程での効率化を図るためには、原版間に合紙を挿入しない積層体を用いることで、合紙除去の工程を省略すればよく、このことから、平版印刷版原版同士の耐接着性と保護層表面がアルミニウム支持体とこすれて生じるキズについての改良が望まれていた。
平版印刷版原版同士の耐接着性の向上に関しては、前述の無機質の層状化合物と水溶性ポリマーを含有する保護層を設ける方法が有効であるが、より高い耐傷性が求められているのが現状である。
On the other hand, shortening the time required for the exposure process is important as the productivity in the plate making operation of a photopolymerization type lithographic printing plate precursor that is easy to develop. In the exposure process, a laminate in which an interleaving paper having an anti-adhesion function between originals and an anti-scratching function caused by rubbing the surface of a relatively soft protective layer with an aluminum support is usually inserted between the originals. Supplied as Therefore, the slip sheet removal time in the exposure process has been a cause of inefficiency. In order to improve the efficiency in this exposure process, it is sufficient to omit the process of removing the slip sheet by using a laminate that does not insert the slip sheet between the master plates. There has been a need for improvements in adhesion and scratches caused by rubbing the protective layer surface with an aluminum support.
For improving the adhesion resistance between lithographic printing plate precursors, the above-described method of providing a protective layer containing an inorganic layered compound and a water-soluble polymer is effective, but the present situation is that higher scratch resistance is required. It is.
以上のことより、記録層の重合阻害を効果的に抑制するとともに、原版間に合紙を挿入しない積層体を用いても、平版印刷版原版同士の耐接着性と保護層表面がアルミニウム支持体とこすれて生じるキズが改良された、製版作業における生産性を向上しうる平版印刷版原版が望まれていた。
本発明は、前記従来における問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明の目的は、レーザー露光による書き込みが可能であり、かつ、記録層上に保護層を有する平版印刷版原版であって、製版作業における生産性を向上しうる平版印刷版原版を提供することにある。
より具体的には、レーザー露光による書き込みが可能である記録層上に、該記録層の重合阻害を抑制し、現像除去性に優れ、更に、平版印刷版原版を積層した場合にも、平版印刷版原版の保護層表面と隣接する平版印刷版原版の支持体側表面との接着を抑制し、また、保護層表面とアルミニウム支持体裏面との間で生じるこすりキズを改良しうる保護層を備えた平版印刷版原版を提供することにある。
また、本発明のさらなる目的は、合紙を介することなく積層しても、隣接する保護層と支持体裏面との接着及び保護層の傷つきが抑制された、製版作業に供して生産性を向上しうる、平版印刷版原版の積層体を提供することにある。
An object of the present invention is to solve the conventional problems and achieve the following objects.
That is, an object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor that can be written by laser exposure and has a protective layer on the recording layer, and that can improve productivity in plate making operations. There is to do.
More specifically, on the recording layer on which writing by laser exposure is possible, the polymerization inhibition of the recording layer is suppressed, the development removability is excellent, and even when a planographic printing plate precursor is laminated, the planographic printing Provided with a protective layer that suppresses adhesion between the protective layer surface of the plate precursor and the support side surface of the adjacent lithographic printing plate precursor, and can improve the scratches generated between the protective layer surface and the back surface of the aluminum support The purpose is to provide a lithographic printing plate precursor.
Further, a further object of the present invention is to improve productivity by making a plate making operation in which adhesion between the adjacent protective layer and the back surface of the support and damage to the protective layer are suppressed even when laminated without interposing paper. Another object of the present invention is to provide a laminate of a planographic printing plate precursor.
本発明者は、上記課題を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、最上層に位置する保護層にシリカで表面被覆した有機樹脂微粒子を添加することで、上記目的が達成されることを見出し、本発明を完成した。 As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventors have found that the above object can be achieved by adding organic resin fine particles whose surface is coated with silica to the protective layer located in the uppermost layer, The present invention has been completed.
即ち、本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、レーザー露光による書き込みが可能な重合性ネガ型記録層を有し、最上層にシリカで表面被覆した有機樹脂微粒子と親水性ポリマーとを含有する保護層を有することを特徴とする。
ここで、シリカで表面被覆した樹脂微粒子のコアとして用いる有機樹脂としては、ポリアクリル酸系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポシキ系樹脂、フェノール樹脂、及び、メラミン樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂であることが好ましい。
本発明の保護層は単層構造のものであってもよく、また、複数層の積層構造を有する保護層であってもよいが、保護層を構成する層のうち、少なくとも1層に雲母化合物を含有することが好ましい態様である。
また、支持体がアルミニウム支持体であり、該支持体の裏面には有機樹脂からなるバックコート層を有することが好ましい。
本発明の請求項7に係る平版印刷版原版の積層体は、前記本発明の平版印刷版原版を、直接接触させて複数枚積層してなることを特徴とする。
That is, the lithographic printing plate precursor of the present invention has a polymerizable negative recording layer writable by laser exposure on a support, and an organic resin fine particle coated with silica on the uppermost layer and a hydrophilic polymer. It has the protective layer to contain.
Here, the organic resin used as the core of the resin fine particles coated with silica is made of polyacrylic acid resin, polyurethane resin, polystyrene resin, polyester resin, epoxy resin, phenol resin, and melamine resin. It is preferably at least one resin selected from the group.
The protective layer of the present invention may have a single layer structure or may be a protective layer having a multilayer structure, and at least one of the layers constituting the protective layer is a mica compound. It is a preferable aspect to contain.
Moreover, it is preferable that a support body is an aluminum support body and has the backcoat layer which consists of organic resin in the back surface of this support body.
The lithographic printing plate precursor laminate according to claim 7 of the present invention is characterized in that a plurality of the lithographic printing plate precursors of the present invention are laminated in direct contact with each other.
本発明の作用は明確ではないが以下のように推定している。
通常、重合性ネガ型記録層を有する平版印刷版原版の保護層には、優れた酸素遮断性を有することからポリビニルアルコールなどの親水性ポリマーが用いられる。工場生産スケールで、このような平版印刷版原版を製造する場合に、ポリビニアルコール水溶液を主成分とする保護層塗布液中に、マット性を付与する目的で有機樹脂微粒子を添加分散した塗布液を調整すると、調製後、塗布開始までの間に数時間から1日程度塗布液を保存する間に、疎水性の有機樹脂微粒子が親水性ポリマーであるポリビニアルコールとの相溶性が低いために分離やすく、この塗布液を用いて記録層上に保護層を設ける際に、有機樹脂微粒子が偏在して保護層中に樹脂粒子が存在しない部分や樹脂粒子の凝集物が存在する部分などができるなどの問題が生じる。
Although the operation of the present invention is not clear, it is estimated as follows.
Usually, a hydrophilic polymer such as polyvinyl alcohol is used for the protective layer of a lithographic printing plate precursor having a polymerizable negative recording layer because it has excellent oxygen barrier properties. When manufacturing such a lithographic printing plate precursor at a factory production scale, a coating liquid in which organic resin fine particles are added and dispersed in a protective layer coating liquid mainly composed of a polyvinyl alcohol aqueous solution for the purpose of imparting matting properties. When the coating solution is stored for a few hours to a day after the preparation until the start of coating, the hydrophobic organic resin fine particles have low compatibility with the polyvinyl alcohol, which is a hydrophilic polymer. When the protective layer is provided on the recording layer using this coating solution, the organic resin fine particles are unevenly distributed so that the resin layer is not present in the protective layer or the resin particle aggregate is present. Problems arise.
本発明においては、保護層を形成する主成分である親水性ポリマーに有機樹脂微粒子を添加する際に、ポリビニアルコールなどの親水性樹脂との相溶性に優れるシリカ成分により被覆された有機樹脂微粒子を添加するため、有機樹脂粒子の分散安定性が向上し、上記のような、有機樹脂微粒子が塗布液中から分離することによって生じる問題点が改善される。
即ち、シリカ成分により被覆された有機樹脂微粒子は、被膜形成成分である親水性ポリマーとの親和性に優れるため、樹脂粒子の均一分散が達成されるとともに、粒子界面における親水性ポリマーとの密着性が向上することで、塗布−乾燥後の皮膜性も向上し、外部と接触した場合でも有機微粒子の脱落がほとんど発生せず、安定した耐傷性が得られることが判明した。
In the present invention, when the organic resin fine particles are added to the hydrophilic polymer as the main component for forming the protective layer, the organic resin fine particles coated with a silica component having excellent compatibility with a hydrophilic resin such as polyvinyl alcohol Is added, the dispersion stability of the organic resin particles is improved, and the above-described problems caused by separation of the organic resin fine particles from the coating liquid are improved.
That is, the organic resin fine particles coated with the silica component are excellent in affinity with the hydrophilic polymer as the film forming component, so that uniform dispersion of the resin particles is achieved and adhesion with the hydrophilic polymer at the particle interface. As a result, it was found that the coating property after coating and drying was improved, and organic fine particles were hardly dropped even when contacted with the outside, and stable scratch resistance was obtained.
さらに、有機微粒子を被覆したシリカ成分は酸素遮断性に優れるため、通常、マット剤として有機樹脂微粒子を添加した際に懸念される、樹脂微粒子による酸素遮断性低下を生じることがなく、重合性ネガ型記録層上の酸素遮断性機能を有するオーバーコート層に添加しても良好な酸素遮断性を維持することができ、微粒子形状形態のピンホール(露光部の画像形成阻害に起因する微細な画像ヌケ)の発生が見られず、優れた耐傷性と酸素遮断性を両立し得るものと考えている。 Furthermore, since the silica component coated with organic fine particles is excellent in oxygen barrier properties, it does not cause a decrease in oxygen barrier properties due to resin fine particles, which is usually a concern when organic resin fine particles are added as a matting agent. Even when added to an overcoat layer having an oxygen-blocking function on the mold recording layer, good oxygen-blocking properties can be maintained, and pinholes in the form of fine particles (fine images resulting from inhibition of image formation in exposed areas) It is considered that no scratches are observed and that both excellent scratch resistance and oxygen barrier properties can be achieved.
本発明によれば、レーザーによる書き込みが可能であり、かつ、保護層を有する平版印刷版原版であって、製版作業における生産性を向上しうる平版印刷版原版を提供することができる。より具体的には、レーザーによる書き込みが可能である重合性ネガ型記録層上に、該記録層の重合阻害を抑制し、現像除去性に優れ、更に、平版印刷版原版を積層した場合にも、平版印刷版原版の保護層表面と隣接する平版印刷版原版の支持体側表面との接着を抑制し、また、保護層表面とアルミニウム支持体裏面との間で生じるこすりキズを改良しうる保護層を備えた平版印刷版原版を提供することができる。
また、本発明によれば、合紙を介することなく積層しても、隣接する保護層と支持体裏面との接着及び保護層の傷つきが抑制された、製版作業に供して生産性を向上しうる、平版印刷版原版の積層体を提供することができる。
According to the present invention, a writable by Les Za, and a lithographic printing plate precursor having a protective layer, it is possible to provide a lithographic printing plate precursor capable of improving productivity in plate-making operation. More specifically, the polymerizable negative-type recording layer is writable by Les Za, suppressing polymerization inhibition of the recording layer, excellent in development removability, further, in case of stacking the planographic printing plate precursor However, it is possible to suppress adhesion between the protective layer surface of the lithographic printing plate precursor and the support side surface of the adjacent lithographic printing plate precursor, and to protect the scratches generated between the protective layer surface and the back surface of the aluminum support. A lithographic printing plate precursor having a layer can be provided.
In addition, according to the present invention, even when laminated without intervening paper, adhesion between the adjacent protective layer and the back of the support and damage to the protective layer are suppressed. A laminate of a lithographic printing plate precursor can be provided.
以下、本発明を詳細に説明する。
まず、本発明の平版印刷版原版について述べる。
<平版印刷版原版>
本発明の平版印刷版原版は、支持体、好ましくは、表面親水性を示すアルミニウム支持体上に、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及び所望によりバインダーポリマーを含有する重合性ネガ型記録層と、保護層と、を順次積層してなる平版印刷版原版であって、前記保護層が、シリカで表面被覆した有機樹脂微粒子と親水性ポリマーとを含有し、且つ、そのような保護層を平版印刷版原版の最上層として有することを特徴とする。
以下、本発明の平版印刷版原版を構成するこれらの各構成要素について説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
First, the planographic printing plate precursor of the present invention will be described.
<Lithographic printing plate precursor>
The lithographic printing plate precursor of the present invention is a polymerizable negative type containing an infrared absorber, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and optionally a binder polymer on a support, preferably an aluminum support exhibiting surface hydrophilicity. A lithographic printing plate precursor in which a recording layer and a protective layer are sequentially laminated, wherein the protective layer contains organic resin fine particles coated with silica and a hydrophilic polymer, and such protection It has a layer as the uppermost layer of the planographic printing plate precursor.
Hereinafter, each of these components constituting the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described.
<最上層としての保護層>
本発明に係る、平版印刷版原版の最上部に位置する保護層(以下、適宜、特定保護層と称する)は、シリカで表面被覆した有機樹脂微粒子(以下、適宜、シリカ被覆微粒子と称する)と、親水性ポリマーとを含有することを特徴とする。
本発明の平版印刷版原版における記録層は、以下に詳述するように、重合性ネガ型記録層であることから、通常、露光を大気中で行うために、画像形成反応を阻害する大気中に存在する酸素や水分、塩基性物質等の低分子化合物の記録層への混入を防止する目的で、該記録層の上に、保護層を設けている。
<Protective layer as the top layer>
According to the present invention, the protective layer (hereinafter referred to as a specific protective layer as appropriate) located at the top of the lithographic printing plate precursor is organic resin fine particles whose surface is coated with silica (hereinafter referred to as silica-coated fine particles as appropriate). And a hydrophilic polymer.
Since the recording layer in the lithographic printing plate precursor according to the present invention is a polymerizable negative type recording layer as will be described in detail below, it is usually in the atmosphere that hinders the image forming reaction in order to perform exposure in the air. A protective layer is provided on the recording layer for the purpose of preventing low molecular weight compounds such as oxygen, moisture, and basic substances present in the recording layer from entering the recording layer.
このような目的のために設けられている保護層、特に最上部に位置する特定保護層に、親水性ポリマー、好ましくは、ポリビニルアルコールを主成分とする親水性ポリマーと、シリカで表面被覆された有機樹脂微粒子とを含有させることで、塗布液中での有機樹脂微粒子の安定性が飛躍的に高まり、この塗布液を用いて作製した平版印刷版原版は、常に優れた膜強度を達成することができ、更に、保護層にマット性を付与することができる。その結果、保護層は、感度の向上だけではなく、経時保存性の向上や、セーフライト適性の向上が達成できると共に、変形などによる劣化やキズの発生を抑制することが可能となる。また、保護層に優れたマット性が付与されることから、本発明の平版印刷版原版を積層した場合、平版印刷版原版の保護層表面と隣接する平版印刷版原版の支持体裏面との接着及び、保護層表面とアルミニウム支持体裏面との間で生じるこすりキズを抑制することが可能となる。 A protective layer provided for such a purpose, particularly a specific protective layer located at the uppermost part, was surface-coated with a hydrophilic polymer, preferably a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol, and silica. By containing the organic resin fine particles, the stability of the organic resin fine particles in the coating liquid is dramatically increased, and the lithographic printing plate precursor produced using this coating liquid always achieves excellent film strength. In addition, the protective layer can be given a matte property. As a result, the protective layer can not only improve sensitivity, but also improve storage stability over time and improve safelight suitability, and can suppress deterioration due to deformation or the like and generation of scratches. Further, since excellent matting properties are imparted to the protective layer, when the planographic printing plate precursor of the present invention is laminated, adhesion between the protective layer surface of the planographic printing plate precursor and the back side of the support of the adjacent planographic printing plate precursor And it becomes possible to suppress the rubbing crack which arises between a protective layer surface and an aluminum support body back surface.
なお、上記のように本発明に係る特定保護層は、マット性を付与しうることから、平版印刷版原版の最上層として存在することを要する。
また、本発明に係る特定保護層は単層の場合には当該層中に、また、保護層が積層構造を有する場合には、保護層を形成する複数の層のいずれかに、雲母化合物を含有することが、酸素遮断性、外部圧力耐性、及び、耐接着性の諸特性を向上させるといった観点から好ましい。
以下、本発明に係る保護層に用いられる各成分について順次説明する。
As described above, the specific protective layer according to the present invention needs to be present as the uppermost layer of the lithographic printing plate precursor because it can impart matting properties.
Further, when the specific protective layer according to the present invention is a single layer, the mica compound is contained in the layer, and when the protective layer has a laminated structure, the mica compound is added to any of the plurality of layers forming the protective layer. It is preferable to contain it from the viewpoint of improving various properties such as oxygen barrier properties, external pressure resistance, and adhesion resistance.
Hereinafter, each component used for the protective layer according to the present invention will be sequentially described.
(シリカ被覆有機樹脂微粒子)
本発明のシリカ被覆微粒子は、有機樹脂からなる微粒子をシリカで表面被覆してなる。コアとなる有機樹脂微粒子は、平版印刷版原版の保護層表面と隣接する平版印刷版原版の支持体裏面との接着及び、保護層表面とアルミニウム支持体裏面との間で生じるこすりキズを抑制するために添加するものである。このような、マット剤として働く微粒子に望まれる基本的特性は、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、空気中の湿分や、温度によって、軟化したり、ベトついたりすることがない樹脂であって、最上部の保護層に添加得することで、その表面に適当な凹凸を付与し、接着表面積を減少させるものが好ましい。
(Silica-coated organic resin fine particles)
The silica-coated fine particles of the present invention are formed by surface-coating fine particles made of an organic resin with silica. Organic resin fine particles that serve as a core suppress adhesion between the protective layer surface of the lithographic printing plate precursor and the back surface of the adjacent lithographic printing plate precursor, and scratches generated between the protective layer surface and the back surface of the aluminum support. It is added for this purpose. The basic characteristics desired for such fine particles that act as a matting agent are that the transmission of light used for exposure is not substantially inhibited, and it does not soften or become sticky depending on the moisture and temperature in the air. It is preferably a resin that is added to the uppermost protective layer to impart appropriate irregularities to its surface and reduce the adhesion surface area.
また、こすりキズ抑制の観点からは、マット粒子は、硬いAl面とこすれた時に生じる応力を緩和できるものが好ましい。さらに、微粒子は保護層のバインダーとなる親水性ポリマー、好ましくは、保護層に汎用のポリビニルアルコールと親和性が高く、膜中に良く混練され、且つ、被膜形成後においても、膜表面から脱離し難いものが好ましい。
本発明に係るシリカ被覆微粒子のコアとなる有機樹脂微粒子を構成する有機樹脂としては、先述べたような物性を有する樹脂であれば制限なく使用することができ、例えば、ポリアクリル酸系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポシキ系樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。
なかでも、好ましいバインダーであるポリビニルアルコールとの親和性の観点から、ポリアクリル酸系樹脂、ポリウレタン系樹脂、及びメラミン樹脂などが好ましい。
Further, from the viewpoint of suppressing scratching, the mat particles are preferably those that can relieve stress generated when rubbing with a hard Al surface. Furthermore, the fine particles have a hydrophilic polymer that serves as a binder for the protective layer, and preferably have a high affinity with general-purpose polyvinyl alcohol in the protective layer, are well kneaded in the film, and are detached from the film surface even after the film is formed. Difficult ones are preferred.
As the organic resin constituting the organic resin fine particles serving as the core of the silica-coated fine particles according to the present invention, any resin having physical properties as described above can be used without limitation, for example, polyacrylic acid resin, Examples include polyurethane resins, polystyrene resins, polyester resins, epoxy resins, phenol resins, melamine resins, and silicone resins.
Of these, polyacrylic acid resins, polyurethane resins, and melamine resins are preferable from the viewpoint of affinity with polyvinyl alcohol, which is a preferred binder.
また、該有機樹脂微粒子表面を被覆するシリカ層を形成する材料としては、アルコキシシロキサン系化合物の縮合物などのアルコキシシリル基を有する化合物、特に、ゾル−ゲル法にて使用するシロキサン系材料、具体的には、シリカゾル、コロイダルシリカ、シリカナノ粒子などのシリカ微粒子などが好ましく挙げられる。
シリカ被覆微粒子の構成としては、有機樹脂微粒子表面にシリカ微粒子が固体成分として付着しているものであっても、アルコキシシロキサン系化合物を縮合反応させて有機樹脂微粒子表面にシロキサン系化合物層を形成したものであってもよい。
Further, as a material for forming a silica layer covering the surface of the organic resin fine particles, compounds having an alkoxysilyl group such as a condensate of an alkoxysiloxane compound, in particular, a siloxane material used in a sol-gel method, specifically Specifically, silica fine particles such as silica sol, colloidal silica, silica nanoparticles and the like are preferable.
Regarding the constitution of the silica-coated fine particles, even if the silica fine particles adhere to the surface of the organic resin fine particles as a solid component, a condensation reaction of the alkoxysiloxane compound was performed to form a siloxane compound layer on the surface of the organic resin fine particles. It may be a thing.
シリカは必ずしも有機樹脂微粒子表面全域を被覆している必要はなく、少なくとも有機樹脂微粒子に対し、0.5質量%以上の量で表面被覆していれば本発明の効果を得ることができる。即ち、有機樹脂微粒子の表面の少なくとも一部にシリカが存在することで、有機微粒子表面におけるPVAとの親和性向上が達成され、外部応力を受けた場合でも微粒子の脱落が抑制され、優れた耐傷性、耐接着性を維持することができる。このため、本発明における「シリカ被覆」とは、このように有機樹脂微粒子の表面の少なくとも一部にシリカが存在する状態をも包含するものとする。
シリカの表面被覆状態は、走査型電子顕微鏡(TEM)等による形態観察により確認することができ、また、シリカの被覆量は、蛍光X線分析などの元素分析によりSi原子を検知し、そこに存在するシリカの量を算出することで確認することができる。
The silica does not necessarily have to cover the entire surface of the organic resin fine particles, and the effect of the present invention can be obtained if the surface is coated at an amount of 0.5% by mass or more with respect to at least the organic resin fine particles. That is, the presence of silica on at least a part of the surface of the organic resin fine particles achieves an improved affinity with PVA on the surface of the organic fine particles, and even when subjected to external stress, the fine particles are prevented from falling off and have excellent scratch resistance. And adhesion resistance can be maintained. For this reason, “silica coating” in the present invention includes such a state that silica is present on at least a part of the surface of the organic resin fine particles.
The surface coating state of silica can be confirmed by morphological observation with a scanning electron microscope (TEM) or the like, and the silica coating amount is detected by detecting Si atoms by elemental analysis such as fluorescent X-ray analysis. This can be confirmed by calculating the amount of silica present.
シリカ被覆微粒子の製造方法としては特に制限はなく、シリカ微粒子あるいはシリカ前駆体化合物を、樹脂微粒子の原料となるモノマー成分と共存させて有機樹脂微粒子形成と同時にシリカ表面被覆層を形成させる方法であってもよく、また、有機樹脂微粒子を形成した後、シリカ微粒子を物理的に表面に付着させ、その後、固定化する方法をとってもよい。 The method for producing the silica-coated fine particles is not particularly limited, and is a method in which the silica surface coating layer is formed simultaneously with the formation of the organic resin fine particles by coexisting the silica fine particles or the silica precursor compound with the monomer component as the raw material of the resin fine particles. Alternatively, after forming the organic resin fine particles, the silica fine particles may be physically attached to the surface and then fixed.
製造方法の一例を挙げれば、まず、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ポリアクリル酸などの水溶性高分子やリン酸カルシウム、炭酸カルシウムなどの無機系懸濁剤などから適宜選択される懸濁安定剤を含む水中に、シリカと、原料樹脂(より具体的には、前記した有機樹脂を構成する、懸濁重合が可能なモノマー、懸濁架橋が可能なプレポリマー、または樹脂液などの原料樹脂)と、を添加、攪拌、混合して、シリカと疎水性原料樹脂とを分散させてなる懸濁液を調製する。その際、懸濁安定剤の種類、その濃度、攪拌回転数などを調節することにより、目的の粒径を有するエマルジョン(懸濁液)を形成することができる。次いで、この懸濁液を加温して反応を開始させ、樹脂原料を、懸濁重合または懸濁架橋させることにより樹脂粒子を生成させる。このとき、共存するシリカが重合或いは架橋反応により硬化する樹脂粒子に、特に、その物性に起因して樹脂粒子表面近傍に、固定化される。その後、これを固液分離し、洗浄により粒子に付着している懸濁安定剤を取り除いて、乾燥させる。これにより、シリカが固定化された所望粒径の略球状の有機樹脂粒子が得られる。 To give an example of the production method, first, in water containing a water-soluble polymer such as polyvinyl alcohol, methylcellulose, polyacrylic acid, and a suspension stabilizer appropriately selected from inorganic suspensions such as calcium phosphate and calcium carbonate. Silica and a raw material resin (more specifically, a monomer capable of suspension polymerization, a prepolymer capable of suspension crosslinking, or a raw material resin such as a resin liquid constituting the organic resin described above) are added. Then, stirring and mixing are performed to prepare a suspension in which silica and the hydrophobic raw material resin are dispersed. At that time, an emulsion (suspension) having a target particle size can be formed by adjusting the type of suspension stabilizer, its concentration, the number of stirring revolutions, and the like. Next, the suspension is heated to start the reaction, and resin particles are produced by suspension polymerization or suspension crosslinking of the resin raw material. At this time, the coexisting silica is fixed to the resin particles that are cured by polymerization or cross-linking reaction, particularly near the surface of the resin particles due to the physical properties thereof. Thereafter, this is subjected to solid-liquid separation, and the suspension stabilizer attached to the particles is removed by washing, followed by drying. Thereby, substantially spherical organic resin particles having a desired particle size on which silica is immobilized are obtained.
このように、懸濁重合、或いは懸濁架橋の際に条件を制御して所望の大きさの樹脂を得ることもできるが、このような制御を厳密に行うことなくシリカ付着有機樹脂微粒子を生成した後、メッシュ濾過法により所望の大きさのシリカ被覆微粒子を得ることもできる。 In this way, it is possible to obtain a resin of a desired size by controlling the conditions during suspension polymerization or suspension crosslinking. However, silica-adhered organic resin fine particles can be produced without strict control. Then, silica-coated fine particles having a desired size can be obtained by a mesh filtration method.
上記方法によりシリカ被覆微粒子を製造する際の混合物における原料の添加量としては、原料樹脂とシリカとの総量が100重量部の場合、まず、分散媒である水200〜800重量部に懸濁安定剤0.1〜20重量部を添加し、十分に溶解または分散させ、その液中に、前記した100重量部の原料樹脂とシリカとの混合物を投入し、分散粒子が所定の粒度になるように攪拌速度を調整しながら攪拌し、この粒度調整を行った後に液温を30〜90℃に昇温し、1〜8時間反応させればよい。 When the total amount of the raw material resin and silica is 100 parts by weight, the addition amount of the raw material in the mixture when the silica-coated fine particles are produced by the above method is first stable in suspension in 200 to 800 parts by weight of water as a dispersion medium. 0.1 to 20 parts by weight of the agent is added and sufficiently dissolved or dispersed, and the mixture of 100 parts by weight of the raw material resin and silica is added to the liquid so that the dispersed particles have a predetermined particle size. After adjusting the particle size, the liquid temperature is raised to 30 to 90 ° C. and reacted for 1 to 8 hours.
シリカ被覆微粒子の製造方法については、前記した方法はその一例であり、例えば、特開2002−327036公報、特開2002−173410公報、特開2004−307837公報、及び、特開2006−38246公報などに詳細に記載され、ここに記載の方法により得られるシリカ被覆微粒子はいずれも本発明に好適に使用することができる。 As for the method for producing silica-coated fine particles, the above-described method is an example, and for example, JP 2002-327036 A, JP 2002-173410 A, JP 2004-307837 A, JP 2006-38246 A, and the like. Any of the silica-coated fine particles described in detail in the above and obtained by the method described herein can be suitably used in the present invention.
また、本発明に使用しうるシリカ被覆微粒子は市販品としても入手可能であり、具体的な例としては、シリカ/メラミン複合微粒子としては、日産化学工業(株)オプトビーズ2000M,オプトビーズ3500M,オプトビーズ6500M,オプトビーズ10500M,オプトビーズ3500S,オプトビーズ6500Sが挙げられる。シリカ/アクリル複合微粒子としては、根上工業(株)アートパールG−200透明,アートパールG−400透明,アートパールG−800透明,アートパールGR−400透明,アートパールGR−600透明,アートパールGR−800透明,アートパールJ−7Pが挙げられる。シリカ/ウレタン複合微粒子としては、根上工業(株)アートパールC−400透明,C−800透明,P−800T,U−600T,U−800T,CF−600T,CF800T,大日精化(株)ダイナミックビーズCN5070D,ダンプラコートTHUが挙げられる。 The silica-coated fine particles that can be used in the present invention are also available as commercial products. As specific examples, silica / melamine composite fine particles include Nissan Chemical Industries Co., Ltd. Opt Bead 2000M, Opt Bead 3500M, Examples thereof include opt beads 6500M, opt beads 10500M, opt beads 3500S, and opt beads 6500S. As silica / acrylic composite fine particles, Negami Industrial Co., Ltd. Art Pearl G-200 transparent, Art Pearl G-400 transparent, Art Pearl G-800 transparent, Art Pearl GR-400 transparent, Art Pearl GR-600 transparent, Art Pearl GR-800 transparent, Art Pearl J-7P. As silica / urethane composite fine particles, Negami Industrial Co., Ltd. Art Pearl C-400 Transparent, C-800 Transparent, P-800T, U-600T, U-800T, CF-600T, CF800T, Daiichi Seika Co., Ltd. Dynamic Examples thereof include beads CN5070D and dampula coat THU.
本発明に係るシリカ被覆微粒子の形状は、真球状形状が好ましいが、平板形状もしくは投影図が楕円形状となるような所謂紡錘形状であってもよい。
好ましい平均粒子径は1〜30μmφであり、更に好ましくは、1.5〜20μmφであり、もっとも好ましくは、2〜15μmφである。この範囲において十分なスペーサー機能、マット性能を発現することができ、保護層表面への固定化が容易で、外部からの接触応力に対しても優れた保持機能を有する。
本発明に係る特定保護層におけるシリカ被覆微粒子の好ましい添加量は、5〜1000mg/m2であり、更に好ましくは、10〜500mg/m2であり、もっとも好ましくは、20〜200mg/m2である
また、保護層全体に対する好ましい添加量としては、保護層全固形分に対し、0.5〜95質量%であることが好ましく、1〜50質量%であることがより好ましく、もっとも好ましくは2〜20質量%の範囲である。
The shape of the silica-coated fine particles according to the present invention is preferably a true spherical shape, but may be a so-called spindle shape having a flat plate shape or an elliptical projection.
The average particle diameter is preferably 1 to 30 μmφ, more preferably 1.5 to 20 μmφ, and most preferably 2 to 15 μmφ. In this range, a sufficient spacer function and mat performance can be expressed, the immobilization on the surface of the protective layer is easy, and the holding function is excellent against contact stress from the outside.
The preferable addition amount of the silica-coated fine particles in the specific protective layer according to the present invention is 5 to 1000 mg / m 2 , more preferably 10 to 500 mg / m 2 , most preferably 20 to 200 mg / m 2 . In addition, the preferable addition amount with respect to the entire protective layer is preferably 0.5 to 95% by mass, more preferably 1 to 50% by mass, and most preferably 2% with respect to the total solid content of the protective layer. It is in the range of ˜20% by mass.
(他の有機樹脂微粒子)
本発明に係る特定保護層には、前記シリカ被覆有機樹脂微粒子に加え、本発明の効果を損なわない限りにおいて、他の(シリカ被覆層を有しない)有機樹脂微粒子を併用することができる。
併用可能な有機樹脂微粒子としては、ポリ(メタ)アクリル酸エステル類、ポリスチレン及びその誘導体、ポリアミド類、ポリイミド類、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ポリプロピレン、などのポリオレフィン類、ポリウレタン、ポリウレア、ポリエステル類などの合成樹脂からなる微粒子、及び、キチン、キトサン、セルロース、架橋澱粉、架橋セルロース等の天然高分子からなる微粒子などが好ましく挙げられる。
なかでも、合成樹脂微粒子は、粒子サイズ制御の容易さや、表面改質により所望の表面特性を制御し易いなどの利点がある。
(Other organic resin fine particles)
In the specific protective layer according to the present invention, in addition to the silica-coated organic resin fine particles, other organic resin fine particles (without the silica coating layer) can be used in combination as long as the effects of the present invention are not impaired.
Examples of organic resin fine particles that can be used in combination include poly (meth) acrylates, polystyrene and derivatives thereof, polyamides, polyimides, polyolefins such as low density polyethylene, high density polyethylene, and polypropylene, polyurethanes, polyureas, and polyesters. Preferred are fine particles made of synthetic resins such as, and fine particles made of natural polymers such as chitin, chitosan, cellulose, crosslinked starch, and crosslinked cellulose.
Among these, synthetic resin fine particles have advantages such as easy particle size control and easy control of desired surface characteristics by surface modification.
このような、有機樹脂微粒子の製造方法は、PMMAのような比較的に硬い樹脂では、破砕法による微粒子化も可能であるが、乳化・懸濁重合法により粒子を合成する方法が、粒子径制御の容易性、精度から現在主流に採用されている。
これら微粒子粉体の製造方法は、「超微粒子と材料」日本材料科学会編、裳華房1993年発刊、「微粒子・粉体の作製と応用」川口春馬監修、シーエムシー出版2005年発刊等に詳細に記載されている。
In such a method for producing organic resin fine particles, a relatively hard resin such as PMMA can be formed into fine particles by a crushing method. Currently adopted in the mainstream due to ease of control and accuracy.
The production method of these fine particle powders is “Ultra Fine Particles and Materials”, edited by Japan Society for Materials Science, published in 1993. Are described in detail.
特定保護層においてシリカ被覆微粒子と併用可能な有機樹脂微粒子は市販品としても入手可能であり、例えば、綜研化学株式会社製、架橋アクリル樹脂MX−300、MX−500、MX−1000、MX−1500H、MR−2HG、MR−7HG,MR−10HG、MR−3GSN、MR−5GSN、MR−7G、MR−10G、MR−5C、MR−7GC、スチリル樹脂系のSX−350H、SX−500H、積水化成品工業製アクリル樹脂、MBX−5、MBX−8、MBX−12MBX−15、MBX−20,MB20X−5、MB30X−5、MB30X−8、MB30X−20、SBX−6、SBX−8、SBX−12、SBX−17三井化学製ポリオレフィン樹脂、ケミパールW100、W200、W300、W308、W310、W400、W401、W405、W410、W500、WF640、W700、W800、W900、W950、WP100などがあげられる。 Organic resin fine particles that can be used in combination with silica-coated fine particles in the specific protective layer are also available as commercial products. For example, cross-linked acrylic resins MX-300, MX-500, MX-1000, MX-1500H manufactured by Soken Chemical Co., Ltd. MR-2HG, MR-7HG, MR-10HG, MR-3GSN, MR-5GSN, MR-7G, MR-10G, MR-5C, MR-7GC, styryl resin-based SX-350H, SX-500H, Sekisui Acrylic resin made by Kasei Kogyo Kogyo, MBX-5, MBX-8, MBX-12MBX-15, MBX-20, MB20X-5, MB30X-5, MB30X-8, MB30X-20, SBX-6, SBX-8, SBX -12, SBX-17 Mitsui Chemicals polyolefin resin, Chemipearl W100, W200, W300, W308, W 10, W400, W401, W405, W410, W500, WF640, W700, W800, W900, W950, WP100, and the like.
本発明に係る特定保護層に任意成分として含まれる他の有機樹脂微粒子の真比重は、0.90から1.30の範囲にあり、平均粒子径が2.0〜15μmであることが好ましく、真比重が、0.90から1.20の範囲にあり、3.0〜12μmであることがより好ましい。
これらの粒子の保護層固形分中の含有量は、1.0〜30質量%が好ましく、2.0〜〜20質量%がより好ましい。また、必須成分であるシリカ被覆微粒子に対して、5.0〜50質量%の範囲であることが好ましい。
これら任意成分としての有機樹脂微粒子は、これを併用することにより、表面マット効果、接着防止効果及び耐キズ性効果が向上するが、添加量が上記好ましい範囲を超えた場合には、感度低下や、保護層表面から有機微粒子が離脱しやすくなるといった問題を生じる懸念がある。
The true specific gravity of other organic resin fine particles contained as an optional component in the specific protective layer according to the present invention is in the range of 0.90 to 1.30, and the average particle diameter is preferably 2.0 to 15 μm, The true specific gravity is in the range of 0.90 to 1.20, more preferably 3.0 to 12 μm.
1.0-30 mass% is preferable and, as for content in the protective layer solid content of these particle | grains, 2.0-20 mass% is more preferable. Moreover, it is preferable that it is the range of 5.0-50 mass% with respect to the silica covering fine particle which is an essential component.
When these organic resin fine particles as an optional component are used in combination, the surface mat effect, the adhesion preventing effect and the scratch resistance effect are improved. There is a concern that the organic fine particles may be easily detached from the surface of the protective layer.
(親水性ポリマー)
本発明の平版印刷原版は、重合性ネガ型記録層を有することから、酸素遮断性に優れた保護層を設けることが好ましい。
保護層を形成するバインダーとしては、均一な皮膜を形成し得るものであれば特に制限はないが、除去性の観点から親水性であることを要し、さらに、以下に詳述する観点から、水溶性ポリマーであることが好ましい。しかしながらこれに限定されるわけではなく、水不溶性ポリマーを本発明の効果を損なわない限りにおいて適宜選択して併用することも可能である。
保護層のバインダーとして使用しうる各種ポリマーとしては、具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルイミダゾール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリ酢酸ビニルの部分鹸化物、エチレン−ビニルアルコール共重合体、水溶性セルロース誘導体、ゼラチン、デンプン誘導体、アラビアゴム等の水溶性ポリマーや、ポリ塩化ビニリデン、ポリ(メタ)アクリロニトリル、ポリサルホン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアミド、セロハン等のポリマー等が挙げられる。これらは、必要に応じて2種以上を併用して用いることもできる。
(Hydrophilic polymer)
Since the lithographic printing original plate of the present invention has a polymerizable negative recording layer, it is preferable to provide a protective layer having excellent oxygen barrier properties.
The binder for forming the protective layer is not particularly limited as long as it can form a uniform film, but it is required to be hydrophilic from the viewpoint of removability, and from the viewpoint of detailed description below. A water-soluble polymer is preferred. However, the present invention is not limited thereto, and a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used in combination as long as the effects of the present invention are not impaired.
Specific examples of various polymers that can be used as the binder for the protective layer include, for example, polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl imidazole, polyacrylic acid, polyacrylamide, polyvinyl acetate partially saponified product, ethylene- Vinyl alcohol copolymers, water-soluble cellulose derivatives, gelatin, starch derivatives, water-soluble polymers such as gum arabic, polyvinylidene chloride, poly (meth) acrylonitrile, polysulfone, polyvinyl chloride, polyethylene, polycarbonate, polystyrene, polyamide, cellophane And the like. These may be used in combination of two or more as required.
なかでも、保護層の形成に用いられるバインダポリマーとしては、記録層との密着性に優れ、その表面(最表面)は他の材料との接着性が低く、且つ、露光後の現像工程で容易に除去できるポリマーが好ましい。
このような観点から、保護層のバインダー成分としては親水性ポリマーの中でも水溶性ポリマーが好ましく、特に、ポリビニルアルコールを主成分として用いることが好ましい。ポリビニルアルコールは優れた被膜形成性と比較的低接着性の表面を有する。
Among them, the binder polymer used for forming the protective layer has excellent adhesion to the recording layer, its surface (outermost surface) has low adhesion to other materials, and is easy in the development process after exposure. Polymers that can be removed easily are preferred.
From such a viewpoint, the binder component of the protective layer is preferably a water-soluble polymer among hydrophilic polymers, and particularly preferably polyvinyl alcohol as a main component. Polyvinyl alcohol has an excellent film-forming property and a relatively low adhesion surface.
本発明において好ましい水溶性ポリマーとして用いられるポリビニルアルコール(PVA)は、ケン化度85から99、好ましくは91.0〜99の化合物が好ましい。ケン化度がこの範囲であれば、必要な酸素遮断性と低接着性表面を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、いずれの構成を有していてもよい。即ち、ポリビニルアルコールの一部が、エステル、エーテル及びアセタールなどで置換されているものでもよいし、また、一部が変性されていてもよいし、更に、他の共重合成分を含むものであってもよい。
一般には、使用するPVAのケン化度が高い程、言い換えれば、未置換ビニルアルコール単位含率が高い程、酸素遮断性が高くなる。このため、本発明に係る保護層は、例えば、ケン化度が91モル%以上のポリビニルアルコールを主成分とすることが好ましく、後述するように、さらに保護層のいずれかに雲母化合物を併用することにより、保護層の酸素遮断性が一層向上する。
Polyvinyl alcohol (PVA) used as a preferred water-soluble polymer in the present invention is preferably a compound having a saponification degree of 85 to 99, preferably 91.0 to 99. If the degree of saponification is within this range, it may have any structure as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for having a necessary oxygen barrier property and a low adhesion surface. That is, a part of the polyvinyl alcohol may be substituted with ester, ether, acetal, etc., a part thereof may be modified, and it may contain other copolymer components. May be.
Generally, the higher the degree of saponification of the PVA used, in other words, the higher the content of unsubstituted vinyl alcohol units, the higher the oxygen barrier property. Therefore, the protective layer according to the present invention preferably contains, for example, polyvinyl alcohol having a saponification degree of 91 mol% or more as a main component, and further uses a mica compound in any one of the protective layers as will be described later. As a result, the oxygen barrier property of the protective layer is further improved.
ポリビニルアルコールは、重合度が200〜2400の範囲のものが好ましい。このようなポリマーは市販品としても入手可能であり、具体的には、株式会社クラレ製の、PVA−102、PVA−103、PVA−104、PVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−120、PVA−124、PVA−117H、PVA−135H、PVA−HC、PVA−617、PVA−624、PVA−706、PVA−613、PVA−CS、PVA−CST、日本合成化学工業株式会社製の、ゴーセノールNL−05、NM−11、NM−14、AL−06、P−610、C−500、A−300、AH−17、日本酢ビ・ポバール株式会社製の、JF−04、JF−05、JF−10、JF−17、JF−17L、JM−05、JM−10、JM−17、JM−17L、JT−05、JT−13、JT−15等が挙げられる。 Polyvinyl alcohol having a polymerization degree in the range of 200 to 2400 is preferable. Such a polymer is also available as a commercial product, specifically, PVA-102, PVA-103, PVA-104, PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA manufactured by Kuraray Co., Ltd. -120, PVA-124, PVA-117H, PVA-135H, PVA-HC, PVA-617, PVA-624, PVA-706, PVA-613, PVA-CS, PVA-CST, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. Of Gohsenol NL-05, NM-11, NM-14, AL-06, P-610, C-500, A-300, AH-17, JF-04, JF manufactured by Nihon Ventures & Poval Co., Ltd. -05, JF-10, JF-17, JF-17L, JM-05, JM-10, JM-17, JM-17L, JT-05, JT-13, JT- 5, and the like.
さらに、本発明において用いられる好ましい水溶性ポリマーとしては、例えば、イタコン酸やマレイン酸変性のカルボキシ変性ポリビニルアルコールやスルホン酸変性ポリビニルアルコール等も好適なものとして挙げられ、これら酸変性ポリビニルアルコールも、より好ましく使用できる。
本発明に係る特定保護層の形成に好適に用いうる酸変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、株式会社クラレ製の、KL−118、KM−618、KM−118、SK−5102、MP−102、R−2105、日本合成化学工業株式会社製の、ゴーセナールCKS−50、T−HS−1、T−215、T−350、T−330、T−330H、日本酢ビ・ポバール株式会社製の、AF−17、AT−17等が挙げられる。
Furthermore, preferable water-soluble polymers used in the present invention include, for example, itaconic acid and maleic acid-modified carboxy-modified polyvinyl alcohol, sulfonic acid-modified polyvinyl alcohol and the like, and these acid-modified polyvinyl alcohols are also more preferable. It can be preferably used.
Examples of the acid-modified polyvinyl alcohol that can be suitably used for forming the specific protective layer according to the present invention include KL-118, KM-618, KM-118, SK-5102, MP-102, and R manufactured by Kuraray Co., Ltd. -2105, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., Gohsenal CKS-50, T-HS-1, T-215, T-350, T-330, T-330H, AF manufactured by Nihon Ventures & Poval Co., Ltd. -17, AT-17 and the like.
水溶性ポリマー(好ましくはポリビニルアルコール)は、保護層中の全固形分量に対して、45〜95質量%の範囲で含有されることが好ましく、50〜90質量%の範囲で含有されることがより好ましい。この含有量の範囲において、優れた被膜形成性と、それに起因する高感度化及び低接着性が達成され、積層した平版印刷版原版同士の接着を抑制する効果が発現する。
保護層を形成する水溶性ポリマーは1種のみを用いてもよく、目的に応じて複数種を併用してもよい。例えば、PVAにポリビニルピロリドンを併用することで酸素透過性を制御することができる。複数種の水溶性ポリマーを用いる場合においても、それらの総含有量が上記の質量範囲であることが好ましい。
The water-soluble polymer (preferably polyvinyl alcohol) is preferably contained in the range of 45 to 95% by mass, and contained in the range of 50 to 90% by mass with respect to the total solid content in the protective layer. More preferred. In the range of this content, excellent film-forming properties, high sensitivity and low adhesiveness resulting therefrom are achieved, and the effect of suppressing adhesion between laminated lithographic printing plate precursors is exhibited.
Only 1 type may be used for the water-soluble polymer which forms a protective layer, and multiple types may be used together according to the objective. For example, oxygen permeability can be controlled by using polyvinylpyrrolidone in combination with PVA. Even when a plurality of types of water-soluble polymers are used, the total content thereof is preferably in the above mass range.
保護層中のポリビニルアルコールの塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。
本発明における保護層は、25℃−60%RH1気圧における酸素透過度が、0.5ml/m2・day以上100ml/m2・day以下であることが好ましく、この酸素透過度を達成する組成を選択する。
The coating amount of polyvinyl alcohol in the protective layer is selected in consideration of oxygen barrier properties / development removal properties, fogging properties, adhesion properties, and scratch resistance.
The protective layer in the present invention preferably has an oxygen permeability at 25 ° C.-60% RH 1 atm of 0.5 ml / m 2 · day to 100 ml / m 2 · day, and a composition that achieves this oxygen permeability. Select.
(特定保護層形成用塗布液の調製)
本発明に係る特定保護層の形成にあたっては、シリカ被覆微粒子及び所望により併用される有機樹脂微粒子は、粉体で供給されるものは、保護層の主成分であるポリビニルアルコールなどの水溶性ポリマーの水溶液中に、直接添加して分散すればよい。分散方法としては、例えば、ホモジナイザー、ホモミキサー、ボールミル、ペイントシェーカーなどの公知の簡易な分散機により分散する方法をとればよい。
(Preparation of coating solution for forming specific protective layer)
In the formation of the specific protective layer according to the present invention, the silica-coated fine particles and optionally used organic resin fine particles are supplied in a powder form of a water-soluble polymer such as polyvinyl alcohol which is the main component of the protective layer. What is necessary is just to add and disperse | distribute directly in aqueous solution. As a dispersion method, for example, a dispersion method using a known simple disperser such as a homogenizer, a homomixer, a ball mill, or a paint shaker may be used.
このとき、分散安定性向上の目的で所望により界面活性剤を加えることができる。分散安定性向上に用いる界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、何れも使用可能である。
ノニオン界面活性剤としては、例えば、ポリエチレングリコールアルキルエーテル、アルケニルエーテル類、ポリエチレングリコールアルキルエステル類、ポリエチレングリコールアリールエーテル類などが挙げられる。アニオン界面活性剤としては、アルキルまたはアリールスルホン酸塩型、アルキルまたはアリール硫酸エステル塩型、アルキルまたはアリールリン酸塩エステル型、アルキルまたはアリールカルボン酸塩型の界面活性剤が挙げられる。カチオン界面活性剤としては、アルキルアミン塩型、アルキルピリジニウム塩型、アルキルアンモニウム塩型界面活性剤が挙げられる。
より具体的には、これら界面活性剤の更に多くの具体例については「最新・界面活性剤の機能創製・素材開発・応用技術」堀内照夫、鈴木敏幸編集 技術教育出版社に記載されるものを挙げることができる。
At this time, a surfactant can be added as desired for the purpose of improving dispersion stability. As the surfactant used for improving the dispersion stability, any of a nonionic surfactant, an anionic surfactant, and a cationic surfactant can be used.
Examples of nonionic surfactants include polyethylene glycol alkyl ethers, alkenyl ethers, polyethylene glycol alkyl esters, polyethylene glycol aryl ethers, and the like. Anionic surfactants include alkyl or aryl sulfonate type, alkyl or aryl sulfate ester type, alkyl or aryl phosphate ester type, alkyl or aryl carboxylate type surfactants. Examples of the cationic surfactant include alkylamine salt type, alkylpyridinium salt type, and alkylammonium salt type surfactants.
More specifically, more specific examples of these surfactants are described in “Latest Surfactant Functional Creation / Material Development / Applied Technology” Teruo Horiuchi, edited by Toshiyuki Suzuki Can be mentioned.
また、シリカ被覆微粒子として、三井化学製ケミーパルシリーズの微粒子を用いる場合、この微粒子は、水に分散した状態で供給されるため、これらの分散物を直接、保護層水溶液中に添加撹拌し、保護層塗布液を作製することができる。 Moreover, when using Mitsui Chemicals Chemie Pal series fine particles as silica-coated fine particles, since these fine particles are supplied in a state of being dispersed in water, these dispersions are directly added and stirred in the protective layer aqueous solution, A protective layer coating solution can be prepared.
特定保護層には、前記各成分の他、本発明の効果を損なわない範囲において、種々の添加剤を目的に応じて添加することができる。
例えば、記録層を露光する際に用いる光(本発明においては赤外光)の透過性に優れ、かつ、露光に関わらない波長の光を効率よく吸収しうる、着色剤(水溶性染料)を添加してもよい。これにより、感度を低下させることなく、セーフライト適性を高めることができる。
Various additives can be added to the specific protective layer depending on the purpose, in addition to the above-described components, as long as the effects of the present invention are not impaired.
For example, a colorant (water-soluble dye) that is excellent in the transparency of light used for exposing the recording layer (infrared light in the present invention) and can efficiently absorb light having a wavelength that is not related to exposure. It may be added. Thereby, safelight aptitude can be improved, without reducing a sensitivity.
〔保護層の層構成〕
本発明の平版印刷版原版における保護層は単層構造であっても、複数の層を有する積層構造であってもよい。複数の層を有する場合には、最上層にシリカ被覆微粒子を含有することを要する。
[Layer structure of protective layer]
The protective layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention may have a single layer structure or a multilayer structure having a plurality of layers. In the case of having a plurality of layers, the uppermost layer needs to contain silica-coated fine particles.
(雲母化合物)
本発明の平版印刷版原版における保護層には、雲母化合物を用いることが、酸素遮断性向上の観点から好ましい。雲母化合物を併用する場合、雲母化合物は保護層を構成する層のうち、いずれか一層に含まれていればよい。
例えば、単層構造の特定保護層のみを有する場合、これが最上層となるので、該保護層には、水溶性ポリマー、シリカ被覆微粒子に加え、雲母化合物を添加すればよく、積層構造の保護層の場合には、その最上層は水溶性ポリマーとシリカ被覆微粒子とを含有するが、雲母化合物は最上層に含まれていても、記録層近傍側の他の層中にバインダー、好ましくは水溶性ポリマーとともに含まれていてもよい。
(Mica compound)
For the protective layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention, it is preferable to use a mica compound from the viewpoint of improving oxygen barrier properties. When the mica compound is used in combination, the mica compound may be contained in any one of the layers constituting the protective layer.
For example, in the case of having only a specific protective layer having a single layer structure, this is the uppermost layer. Therefore, in addition to the water-soluble polymer and silica-coated fine particles, a mica compound may be added to the protective layer. In this case, the uppermost layer contains a water-soluble polymer and silica-coated fine particles, but even if the mica compound is contained in the uppermost layer, it is a binder, preferably water-soluble, in the other layers near the recording layer. It may be included with the polymer.
本発明において用いられる雲母化合物とは、例えば、一般式:A(B,C)2−5D4O10(OH,F,O)2〔ただし、Aは、K,Na,Caの何れか、B及びCは、Fe(II),Fe(III),Mn,Al,Mg,Vの何れかであり、Dは、Si又はAlである。〕で表される如き天然雲母、合成雲母等の雲母群が挙げられる。 The mica compound used in the present invention is, for example, a general formula: A (B, C) 2-5 D 4 O 10 (OH, F, O) 2 [where A is any of K, Na, and Ca , B and C are any one of Fe (II), Fe (III), Mn, Al, Mg and V, and D is Si or Al. ] Mica groups such as natural mica and synthetic mica represented by
本発明に用いうる雲母化合物は、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げられる。合成雲母としては、フッ素金雲母KMg3(AlSi3O10)F2、カリ四ケイ素雲母KMg2.5(Si4O10)F2等の非膨潤性雲母、及びNaテトラシリリックマイカNaMg2.5(Si4O10)F2、Na又はLiテニオライト(Na,Li)Mg2Li(Si4O10)F2、モンモリロナイト系のNa又はLiヘクトライト(Na,Li)1/8Mg2/5Li1/8(Si4O10)F2等の膨潤性雲母等が挙げられる。更に、合成スメクタイトも有用である。 Examples of the mica compound that can be used in the present invention include muscovite, soda mica, phlogopite, biotite, and sericite. As the synthetic mica, non-swelling mica such as fluor-phlogopite mica KMg 3 (AlSi 3 O 10 ) F 2 , potassium tetrasilicon mica KMg 2.5 (Si 4 O 10 ) F 2 , and Na tetrasilicic mica NaMg 2 .5 (Si 4 O 10 ) F 2 , Na or Li Teniolite (Na, Li) Mg 2 Li (Si 4 O 10 ) F 2 , Montmorillonite Na or Li Hectorite (Na, Li) 1/8 Mg 2 Swellable mica such as / 5 Li 1/8 (Si 4 O 10 ) F 2 . In addition, synthetic smectites are also useful.
本発明においては、雲母化合物の中でも、フッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。即ち、この膨潤性合成雲母は、100〜150nm(10〜15Å)程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘度鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にNa+、Ca2+、Mg2+等の陽イオンを吸着している。これらの層間に介在している陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換する。特に、層間の陽イオンがLi+、Na+の場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、本発明において有用であり、特に、均一な品質の粒子が入手容易であるという観点からも膨潤性合成雲母が好ましく用いられる。 In the present invention, among the mica compounds, fluorine-based swellable mica is particularly useful. That is, this swellable synthetic mica has a laminated structure composed of unit crystal lattice layers with a thickness of about 100 to 150 nm (10 to 15 cm), and the substitution of metal atoms in the lattice is significantly larger than other viscosity minerals. As a result, the lattice layer is deficient in positive charge, and cations such as Na + , Ca 2+ and Mg 2+ are adsorbed between the layers to compensate for this. The cations present between these layers are called exchangeable cations and exchange with various cations. In particular, when the cation between layers is Li + or Na + , the bond between the layered crystal lattices is weak because the ionic radius is small, and the layer swells greatly with water. If shear is applied in this state, it will easily cleave and form a stable sol in water. Swellable synthetic mica has a strong tendency and is useful in the present invention. In particular, swellable synthetic mica is preferably used from the viewpoint that particles of uniform quality are easily available.
本発明において使用される雲母化合物の形状としては、平板状の粒子形状を有するものであり、有機樹脂微粒子への吸着の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きいほどよい。従って、アスペクト比は20以上であり、好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。なお、アスペクト比は粒子の長径に対する厚さの比であり、例えば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。 As the shape of the mica compound used in the present invention, it has a plate-like particle shape, and from the viewpoint of adsorption to the organic resin fine particles, the thinner the better, the planar size is the coated surface As long as the smoothness and the transmittance of actinic rays are not impaired, the larger the better. Accordingly, the aspect ratio is 20 or more, preferably 100 or more, particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the thickness to the major axis of the particle, and can be measured from, for example, a projected view of the particle by a micrograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.
本発明において保護層に使用される雲母化合物の粒子径は、その平均長径が0.3〜20μm、好ましくは0.5〜10μm、特に好ましくは1〜5μmである。また、該粒子の平均の厚さは、0.1μm以下、好ましくは、0.05μm以下、特に好ましくは、0.01μm以下である。具体的には、例えば、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは、厚さが1〜50nm、面サイズ(長径)が1〜20μm程度である。 The average major axis of the mica compound used in the protective layer in the present invention is 0.3 to 20 μm, preferably 0.5 to 10 μm, particularly preferably 1 to 5 μm. The average thickness of the particles is 0.1 μm or less, preferably 0.05 μm or less, particularly preferably 0.01 μm or less. Specifically, for example, the swellable synthetic mica that is a representative compound has a thickness of 1 to 50 nm and a surface size (major axis) of about 1 to 20 μm.
雲母化合物の保護層に含有される量は、雲母化合物がシリカ被覆微粒子と同一の層に含まれる場合には、シリカ被覆微粒子の添加量及び種類により変動するものの、一般的にはシリカ被覆微粒子の重量に対して雲母粒子の重量比が3:1から2:3の範囲であることが好ましく、2:1から1:1の範囲がより好ましい。
シリカ被覆微粒子に対し、上記範囲において、分散性向上効果及びAl支持体裏面と擦り合わせた時の耐キズ性の向上を両立することができる。複数種の雲母化合物を併用した場合でも、これらの雲母化合物の合計の量が上記の重量比であることが必要である。
また、積層構造を有する保護層の場合、複数ある層のいずれかに雲母化合物を用いればよいが、当該層がシリカ被覆微粒子を含まない層である場合には、水溶性ポリマー100質量部に対して、雲母化合物を5〜50質量部の割合で添加することが好ましい。
When the mica compound is contained in the same layer as the silica-coated fine particles, the amount contained in the protective layer of the mica compound varies depending on the addition amount and type of the silica-coated fine particles. The weight ratio of mica particles to weight is preferably in the range of 3: 1 to 2: 3, more preferably in the range of 2: 1 to 1: 1.
In the above-mentioned range, the silica-coated fine particles can achieve both the effect of improving dispersibility and the improvement of scratch resistance when rubbing with the back surface of the Al support. Even when a plurality of types of mica compounds are used in combination, the total amount of these mica compounds needs to be the above weight ratio.
In the case of a protective layer having a laminated structure, a mica compound may be used in any of a plurality of layers. However, when the layer is a layer that does not contain silica-coated fine particles, Thus, it is preferable to add the mica compound at a ratio of 5 to 50 parts by mass.
(保護層の形成)
本発明における保護層は、シリカ被覆微粒子を分散させた分散液と所望により併用される雲母化合物を分散させた分散液とを攪拌混合し、その分散液と、ポリビニルアルコールを含むバインダー成分(又は、ポリビニルアルコールを含むバインダー成分を溶解した水溶液)と、を配合してなる保護層用塗布液を、記録層上に塗布することで形成することができる。なお、保護層塗布液の調製時におけるシリカ被覆微粒子、雲母化合物及び親水性ポリマーの配合順序は、目的に応じて適宜変更することも可能である。具体的には、例えば、既述の如く、粉体で供給される粒子成分を、親水性ポリマー溶液中に直接添加して分散させることもできる。また、予め調製された粒子分散液に併用する他の粒子を直接添加して分散させることもできる。
なお、複数の層構成を有する保護層であって、雲母化合物が最上層ではなく、より記録層の近傍に存在する層に添加される場合には、当該層には、シリカ被覆微粒子を配合する必要がないことから、最上層の保護層塗布液は記述のように調製し、雲母化合物を含む層は、以下に詳述する方法により雲母化合物を分散させた塗布液を用いて形成すればよい。
(Formation of protective layer)
The protective layer in the present invention is prepared by stirring and mixing a dispersion in which silica-coated fine particles are dispersed and a dispersion in which a mica compound used in combination is dispersed, and the dispersion and a binder component containing polyvinyl alcohol (or And an aqueous solution in which a binder component containing polyvinyl alcohol is dissolved) is coated on the recording layer. It should be noted that the blending order of the silica-coated fine particles, the mica compound and the hydrophilic polymer at the time of preparing the protective layer coating solution can be appropriately changed according to the purpose. Specifically, for example, as described above, the particle component supplied as a powder can be directly added and dispersed in the hydrophilic polymer solution. Further, other particles used in combination with the particle dispersion prepared in advance can be directly added and dispersed.
In addition, when the protective layer has a plurality of layer structures and the mica compound is added to a layer that is closer to the recording layer than the uppermost layer, silica-coated fine particles are added to the layer. Since it is not necessary, the uppermost protective layer coating solution is prepared as described, and the layer containing the mica compound may be formed using a coating solution in which the mica compound is dispersed by the method described in detail below. .
保護層に用いる雲母化合物の一般的な分散方法の例について述べる。まず、水100質量部に先に雲母化合物の好ましいものとして挙げた膨潤性雲母化合物を5〜10質量部添加し、充分水になじませ、膨潤させた後、分散機にかけて分散する。
ここで用いる分散機としては、機械的に直接力を加えて分散する各種ミル、大きな剪断力を有する高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機等が挙げられる。具体的には、ボールミル、サンドグラインダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホモジナイザー、ティゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケディミル、ジェットアジター、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置等が挙げられる。上記の方法で分散した雲母化合物の2〜15質量%の分散物は高粘度或いはゲル状であり、保存安定性は極めて良好である。
この分散物を用いて保護層用塗布液を調製する際には、シリカ被覆微粒子や有機樹脂微粒子と併用する場合にはこれらの水分散物とを混合し、充分攪拌した後、ポリビニルアルコールを含むバインダー成分(又は、特定ポリビニルアルコールを含むバインダー成分を溶解した水溶液)と配合して調製するのが好ましい。同一層においてシリカ被覆微粒子などと共存しない場合には、この分散物とバインダー成分とを配合して調製すればよい。
An example of a general dispersion method of the mica compound used for the protective layer will be described. First, 5 to 10 parts by mass of the swellable mica compound mentioned above as a preferable mica compound is added to 100 parts by mass of water, and the mixture is thoroughly swelled and swollen, and then dispersed by a disperser.
Examples of the disperser used here include various mills that disperse mechanically by applying a direct force, a high-speed stirring disperser having a large shearing force, and a disperser that provides high-intensity ultrasonic energy. Specifically, ball mill, sand grinder mill, visco mill, colloid mill, homogenizer, tisol bar, polytron, homomixer, homo blender, ketdy mill, jet agitator, capillary emulsifier, liquid siren, electrostrictive ultrasonic generator, An emulsifying device having a Paulman whistle can be used. A dispersion of 2 to 15% by mass of the mica compound dispersed by the above method is highly viscous or gelled, and the storage stability is very good.
When preparing a coating solution for the protective layer using this dispersion, when used in combination with silica-coated fine particles or organic resin fine particles, these aqueous dispersions are mixed and sufficiently stirred, and then contain polyvinyl alcohol. It is preferably prepared by blending with a binder component (or an aqueous solution in which a binder component containing specific polyvinyl alcohol is dissolved). In the case where it does not coexist with silica-coated fine particles in the same layer, this dispersion and a binder component may be blended and prepared.
この保護層用塗布液には、塗布性を向上させための界面活性剤や被膜の物性改良のための水溶性の可塑剤などの公知の添加剤を加えることができる。
水溶性の可塑剤としては、例えば、プロピオンアミド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等が挙げられる。また、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマーを加えることもできる。更に、この塗布液には、記録層との密着性、塗布液の経時安定性を向上するための公知の添加剤を加えてもよい。
Known additives such as a surfactant for improving the coating property and a water-soluble plasticizer for improving the physical properties of the film can be added to the coating solution for the protective layer.
Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, sorbitol and the like. A water-soluble (meth) acrylic polymer can also be added. Furthermore, a known additive for improving the adhesion to the recording layer and the temporal stability of the coating solution may be added to the coating solution.
本発明に係る保護層の塗布方法は、特に制限されるものではなく、米国特許第3,458,311号又は特開昭55−49729号に記載されている方法を適用することができる。 The method for coating the protective layer according to the present invention is not particularly limited, and a method described in US Pat. No. 3,458,311 or JP-A-55-49729 can be applied.
本発明に係る保護層の塗布量は、単層構造の保護層の場合、0.1g/m2〜4.0g/m2であることが好ましく、0.3g/m2〜3.0g/m2であることがさらに好ましい。この塗布量の範囲において、保護層の膜強度が良好に維持され、耐キズ性に優れる。また、露光により保護層に入射した光の透過性、酸素遮断性が適切な範囲に保たれるため、画質悪化やセーフライト適性が悪化する懸念もない。
保護層が積層構造を有する場合、シリカ被覆微粒子を含有する最上層の塗布量は、0.1g/m2〜3.0g/m2であることが好ましく、0.5g/m2〜2.0g/m2であることがさらに好ましい。最上層と記録層との間に設けられる保護層の塗布量は0.1g/m2〜2.0g/m2であることが好ましく、0.2g/m2〜1.0g/m2であることがさらに好ましい。
保護層が積層構造を有する場合、最上層と記録層との間に設けられる層には、酸素遮断性に優れた水溶性ポリマーと雲母化合物とを含有することが、酸素遮断性とマット性の両立という観点から好ましい。
The coating amount of the protective layer according to the present invention, when the protective layer having a single layer structure is preferably from 0.1g / m 2 ~4.0g / m 2 , 0.3g / m 2 ~3.0g / it is more preferably m 2. In the range of this coating amount, the film strength of the protective layer is maintained well, and scratch resistance is excellent. Moreover, since the permeability and oxygen barrier property of light incident on the protective layer by exposure are maintained in an appropriate range, there is no concern that image quality deteriorates or safelight suitability deteriorates.
If the protective layer has a laminated structure, the coating amount of the uppermost layer containing silica-coated fine particles is preferably from 0.1g / m 2 ~3.0g / m 2 , 0.5g / m 2 ~2. More preferably, it is 0 g / m 2 . Preferably the coating amount of the protective layer is 0.1g / m 2 ~2.0g / m 2 provided between the uppermost and the recording layer, at 0.2g / m 2 ~1.0g / m 2 More preferably it is.
When the protective layer has a laminated structure, the layer provided between the uppermost layer and the recording layer contains a water-soluble polymer having excellent oxygen barrier properties and a mica compound. It is preferable from the viewpoint of compatibility.
<記録層>
本発明に係る平版印刷版原版は、レーザーに感応性を有する、即ち、レーザー露光による書き込みが可能な記録層(感光層)を有する。該記録層は、必須成分として、増感色素、重合開始剤、重合性化合物、及びバインダーポリマーを含有し、更に必要に応じて、着色剤や他の任意成分を含む重合性ネガ型の記録層である。
<Recording layer>
The lithographic printing plate precursor according to the invention has a recording layer (photosensitive layer) that is sensitive to laser, that is, writable by laser exposure . The recording layer contains a sensitizing dye, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a binder polymer as essential components, and further contains a colorant and other optional components as necessary. It is.
本発明における重合性ネガ型の記録層は、増感色素の吸収波長に応じたレーザーに感応するため、CTPに有用な種々のレーザーに感光することができる。例えば、増感色素として赤外線吸収剤を用いた場合について述べれば、ここに含まれる赤外線吸収剤は、赤外線レーザーの照射(露光)に対し高感度で電子励起状態となり、かかる電子励起状態に係る電子移動、エネルギー移動、発熱(光熱変換機能)などが、記録層中に併存する重合開始剤に作用して、該重合開始剤に化学変化を生起させてラジカルを生成させる。
この場合のラジカルの生成機構としては、1.赤外線吸収剤の光熱変換機能により発生した熱が、後述する重合開始剤(例えば、スルホニウム塩)を熱分解しラジカルを発生させる、2.赤外線吸収剤が発生した励起電子が、重合開始剤(例えば、活性ハロゲン化合物)に移動しラジカルを発生させる、3.励起した赤外線吸収剤に重合開始剤(例えば、ボレート化合物)から電子移動してラジカルが発生する、等が挙げられる。そして、生成したラジカルにより重合性化合物が重合反応を起こし、露光部が硬化して画像部となる。
The polymerizable negative recording layer in the present invention is sensitive to a laser corresponding to the absorption wavelength of the sensitizing dye, and therefore can be exposed to various lasers useful for CTP. For example, in the case of using an infrared absorber as a sensitizing dye, the infrared absorber contained therein is in an electronically excited state with high sensitivity to infrared laser irradiation (exposure), and the electrons in the electronically excited state Transfer, energy transfer, heat generation (photothermal conversion function) and the like act on the polymerization initiator coexisting in the recording layer, causing a chemical change in the polymerization initiator to generate radicals.
In this case, the radical generation mechanism is as follows: 1. Heat generated by the photothermal conversion function of the infrared absorber thermally decomposes a polymerization initiator (for example, sulfonium salt) described later to generate radicals. 2. Excited electrons generated by the infrared absorber move to a polymerization initiator (for example, an active halogen compound) to generate radicals. For example, a radical is generated by electron transfer from a polymerization initiator (for example, a borate compound) to an excited infrared absorber. Then, the polymerizable compound causes a polymerization reaction by the generated radical, and the exposed portion is cured to become an image portion.
本発明におけて上記態様の平版印刷版原版は、記録層が増感色素として赤外線吸収剤を含有することにより、750nm〜1400nmの波長を有する赤外線レーザー光での直接描画される製版に特に好適に用いられるようになり、従来の平版印刷版原版に比べ、高い画像形成性を発現することができる。
以下に、本発明に係る記録層を構成する各成分について説明する。
In the present invention, the lithographic printing plate precursor according to the above aspect is particularly suitable for plate making directly drawn with an infrared laser beam having a wavelength of 750 to 1400 nm because the recording layer contains an infrared absorber as a sensitizing dye. As compared with the conventional lithographic printing plate precursor, it can exhibit high image forming properties.
Below, each component which comprises the recording layer based on this invention is demonstrated.
(増感色素)
本発明に係る記録層は、感度の観点から、レーザー露光における露光波長に適合する所定の波長の光を吸収する増感色素を含有する。
この増感色素が吸収し得る波長の露光により後述する重合開始剤のラジカル発生反応や、それによる重合性化合物の重合反応が促進されるものである。このような増感色素としては、公知の分光増感色素又は染料、又は光を吸収して光重合開始剤と相互作用する染料又は顔料が挙げられる。この増感色素が適合する波長のレーザー露光により高感度で電子励起状態となり、かかる電子励起状態に係る電子移動、エネルギー移動などが、後述する重合開始剤に作用して、該重合開始剤に高感度で化学変化を生起させてラジカルを生成させるのに有用である。
(Sensitizing dye)
The recording layer according to the present invention contains a sensitizing dye that absorbs light of a predetermined wavelength that matches the exposure wavelength in laser exposure from the viewpoint of sensitivity.
The exposure of the wavelength that can be absorbed by the sensitizing dye accelerates the radical generation reaction of the polymerization initiator described later and the polymerization reaction of the polymerizable compound thereby. Examples of such a sensitizing dye include a known spectral sensitizing dye or dye, or a dye or pigment that absorbs light and interacts with a photopolymerization initiator. This sensitizing dye becomes a highly sensitive electronically excited state by laser exposure at a wavelength suitable for the sensitizing dye, and electron transfer, energy transfer, and the like related to the electronically excited state act on the polymerization initiator described later, and are high in the polymerization initiator. It is useful for generating radicals by causing chemical changes with sensitivity.
増感色素の吸収する光の波長により、本発明における記録層は、紫外線から可視光線及び赤外線まで種々の波長に感応することができる。例えば、増感色素として赤外線吸収剤を用いる場合には、波長760nmから1200nmの赤外光に対して感応することになる。また、波長350nmから450nmに極大吸収波長を有する色素を用いることで、青色〜紫の可視光に対して感応することになる。 Depending on the wavelength of light absorbed by the sensitizing dye, the recording layer in the present invention can be sensitive to various wavelengths from ultraviolet rays to visible rays and infrared rays. For example, when an infrared absorber is used as the sensitizing dye, it is sensitive to infrared light having a wavelength of 760 nm to 1200 nm. Further, by using a dye having a maximum absorption wavelength from 350 nm to 450 nm, it is sensitive to blue to purple visible light.
本発明に用いられる増感色素として好ましい分光増感色素又は染料は、多核芳香族類(例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン)、キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル)、シアニン類(例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン)、メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン)、チアジン類(例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー)、アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン)、フタロシアニン類(例えば、フタロシアニン、メタルフタロシアニン)、ポルフィリン類(例えば、テトラフェニルポルフィリン、中心金属置換ポルフィリン)、クロロフィル類(例えば、クロロフィル、クロロフィリン、中心金属置換クロロフィル)、金属錯体、アントラキノン類(例えば、アントラキノン)、スクアリウム類(例えば、スクアリウム)等が挙げられ、これらは、例えば、特開2005−250438公報の段落番号〔0188〕〜〔0258〕に詳細に記載され、ここに記載の化合物を適宜選択して本発明における増感色素として使用することができる。 Spectral sensitizing dyes or dyes preferred as the sensitizing dye used in the present invention are polynuclear aromatics (eg, pyrene, perylene, triphenylene), xanthenes (eg, fluorescein, eosin, erythrosine, rhodamine B, rose bengal). ), Cyanines (eg, thiacarbocyanine, oxacarbocyanine), merocyanines (eg, merocyanine, carbomerocyanine), thiazines (eg, thionine, methylene blue, toluidine blue), acridines (eg, acridine orange, chloroflavin) , Acriflavine), phthalocyanines (eg, phthalocyanine, metal phthalocyanine), porphyrins (eg, tetraphenylporphyrin, central metal-substituted porphyrin), chlorophylls (eg, chlorophyll) Chlorophyllin, central metal-substituted chlorophyll), metal complexes, anthraquinones (for example, anthraquinone), squalium (for example, squalium), and the like, for example, paragraph numbers [0188] to [0188] to [ [0258] can be selected as appropriate and used as a sensitizing dye in the present invention.
なかでも、本発明における記録層には、増感色素として以下に詳述する赤外線吸収剤を含有することが好ましい。
赤外線吸収剤は、赤外線レーザーの照射(露光)に対し高感度で電子励起状態となり、先にのべた電子励起状態に係る電子移動、エネルギー移動に加え、光熱変換機能により熱エネルギーが生成されるため、重合開始剤により高感度で化学変化を生起させるのに有用である。
本発明において使用される特に好ましい増感色素である赤外線吸収剤としては、750nm〜1400nmの波長に吸収極大を有する染料又は顔料が好ましく挙げられる。
Among these, the recording layer in the present invention preferably contains an infrared absorber described in detail below as a sensitizing dye.
Infrared absorbers are in an electronically excited state with high sensitivity to infrared laser irradiation (exposure), and heat energy is generated by the photothermal conversion function in addition to the electron transfer and energy transfer related to the previous electron excited state. It is useful for causing a chemical change with high sensitivity by a polymerization initiator.
As an infrared absorber which is a particularly preferable sensitizing dye used in the present invention, a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 750 nm to 1400 nm is preferably exemplified.
染料としては、市販の染料及び例えば、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.
Preferred dyes include, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, JP-A-58-173696, 58-181690, JP-A-58-194595, etc., methine dyes, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59- No. 73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744 and the like, Naphthoquinone dyes described in JP-A-58-112792, etc., British Patent 434,875 And cyanine dyes.
また、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として、米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
また、本発明における赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、以下に例示するような特開2002−278057号公報に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
Also, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924, Trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248 Nos. 59-84249, 59-146063, 59-146061, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, U.S. Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salts described above and the pyrylium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 are also preferably used. . Moreover, as another example preferable as a dye, the near-infrared absorptive dye described as the formula (I) and (II) in US Patent 4,756,993 can be mentioned.
Other preferable examples of the infrared absorbing dye in the present invention include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 as exemplified below.
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい例として下記一般式(a)で示されるシアニン色素が挙げられる。 Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and particularly preferred examples include cyanine dyes represented by the following general formula (a).
一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示す基を表す。ここで、X2は酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。
以下に示す基において、Xa −は後述するZa −と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。
In general formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, —NPh 2 , X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or 1 to 1 carbon atom including a hetero atom. 12 hydrocarbon groups are shown. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se.
In the group shown below, X a - is Z a which will be described below - has the same definition as, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom Represents.
R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.
Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za −は、対アニオンを示す。ただし、一般式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa −は必要ない。好ましいZa −は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Z a − represents a counter anion. However, when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in the structure thereof, Z a is does not require charge neutralization - is not necessary. Preferred Z a − is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, from the storage stability of the recording layer coating solution. Hexafluorophosphate ions and aryl sulfonate ions.
本発明において、好適に用いることのできる一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969公報の段落番号[0017]から[0019]に記載されたものを挙げることができる。
また、特に好ましい他の例として更に、前記した特開2002−278057号公報に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
但し、対イオンとして、ハロゲンイオンを含有してないものが特に好ましい。
Specific examples of the cyanine dye represented by formula (a) that can be suitably used in the present invention include those described in paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969. Can do.
Further, other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 described above.
However, those containing no halogen ion as the counter ion are particularly preferred.
本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。 Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used.
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。 Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.
これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。 These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.
顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることが更に好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。この好ましい粒径の範囲において、記録層中における顔料の優れた分散安定性が得られ、均一な記録層が得られる。 The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. Within this preferred particle size range, excellent dispersion stability of the pigment in the recording layer can be obtained, and a uniform recording layer can be obtained.
顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。 As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).
これらの赤外線吸収剤は、本発明に係る記録層に用いる場合、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。 When these infrared absorbers are used in the recording layer according to the present invention, they may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.
これらの増感色素、好ましくは赤外線吸収剤の添加量は、記録層中における均一性や記録層の耐久性の観点から、記録層を構成する全固形分に対し0.01〜50質量%であることが好ましく、より好ましくは0.1〜10質量%の範囲であり、増感色素として染料を用いる場合には、特に好ましくは0.5〜10質量%、顔料を用いる場合には、特に好ましくは0.1〜10質量%の割合で添加することができる。 The addition amount of these sensitizing dyes, preferably infrared absorbers, is 0.01 to 50% by mass with respect to the total solid content constituting the recording layer from the viewpoint of uniformity in the recording layer and durability of the recording layer. It is preferably in the range of 0.1 to 10% by mass, particularly preferably 0.5 to 10% by mass when a dye is used as a sensitizing dye, and particularly when a pigment is used. Preferably it can add in the ratio of 0.1-10 mass%.
(重合開始剤)
本発明に用いられる重合開始剤は、後述する重合性化合物の硬化反応を開始、進行させる機能を有し、熱により分解してラジカルを発生する熱分解型のラジカル発生剤、赤外線吸収剤の励起電子を受容してラジカルを発生する電子移動型のラジカル発生剤、又は、励起した赤外線吸収剤に電子移動してラジカルを発生する電子移動型のラジカル発生剤など、エネルギーを付与することでラジカルを生成させるものであればいかなる化合物を用いてもよい。例えば、オニウム塩、活性ハロゲン化合物、オキシムエステル化合物、ボレート化合物などが挙げられる。これらは併用してもよい。本発明ではオニウム塩が好ましく、中でも、スルホニウム塩が特に好ましい。
本発明において好適に用いられるスルホニウム塩重合開始剤としては、下記一般式(I)で表されるオニウム塩が挙げられる。
(Polymerization initiator)
The polymerization initiator used in the present invention has a function of initiating and advancing the curing reaction of a polymerizable compound described later, and is a thermal decomposition type radical generator that decomposes by heat to generate radicals, and excitation of an infrared absorber. Electron transfer type radical generator that accepts electrons and generates radicals, or electron transfer type radical generator that generates electrons by transferring electrons to an excited infrared absorber, and so on to give radicals. Any compound may be used as long as it is generated. For example, onium salts, active halogen compounds, oxime ester compounds, borate compounds and the like can be mentioned. These may be used in combination. In the present invention, an onium salt is preferable, and a sulfonium salt is particularly preferable.
Examples of the sulfonium salt polymerization initiator suitably used in the present invention include onium salts represented by the following general formula (I).
一般式(I)中、R11、R12及びR13は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。(Z11)−はハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、カルボキシレートイオン、及びスルホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、カルボキシレートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 In general formula (I), R 11 , R 12 and R 13 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferable substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or an aryloxy group having 12 or less carbon atoms. (Z 11 ) − represents a counter ion selected from the group consisting of halogen ion, perchlorate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, carboxylate ion, and sulfonate ion, preferably perchloric acid Ions, hexafluorophosphate ions, carboxylate ions, and aryl sulfonate ions.
以下に、一般式(I)で表されるオニウム塩の具体例([OS−1]〜[OS−12])を挙げるが、これらに限定されるものではない。 Specific examples ([OS-1] to [OS-12]) of the onium salt represented by the general formula (I) are shown below, but are not limited thereto.
上記したものの他、特開2002−148790公報、特開2002−148790公報、特開2002−350207公報、特開2002−6482公報に記載の特定の芳香族スルホニウム塩も好適に用いられる。 In addition to the above, specific aromatic sulfonium salts described in JP-A Nos. 2002-148790, 2002-148790, 2002-350207, and 2002-6482 are also preferably used.
本発明においては、上記スルホニウム塩重合開始剤の他にも、他の重合開始剤(他のラジカル発生剤)を用いることができる。他のラジカル発生剤としては、スルホニウム塩以外の他のオニウム塩、トリハロメチル基を有するトリアジン化合物、過酸化物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、キノンジアジド、活性ハロゲン化合物、オキシムエステル化合物、トリアリールモノアルキルボレート化合物などが挙げられ、中でも、高感度であることから、オニウム塩が好ましい。また、上記のスルホニウム塩重合開始剤を必須成分として、これらの重合開始剤(ラジカル発生剤)を併用することもできる。 In the present invention, in addition to the sulfonium salt polymerization initiator, other polymerization initiators (other radical generators) can be used. Other radical generators include onium salts other than sulfonium salts, triazine compounds having a trihalomethyl group, peroxides, azo polymerization initiators, azide compounds, quinonediazides, active halogen compounds, oxime ester compounds, triaryls. Examples thereof include monoalkyl borate compounds. Among them, onium salts are preferable because of their high sensitivity. Moreover, these polymerization initiators (radical generators) can be used in combination with the sulfonium salt polymerization initiator as an essential component.
本発明において好適に用い得る他のオニウム塩としては、ヨードニウム塩及びジアゾニウム塩が挙げられる。本発明において、これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、ラジカル重合の開始剤として機能する。
本発明における他のオニウム塩としては、下記一般式(II)及び(III)で表されるオニウム塩が挙げられる。
Other onium salts that can be suitably used in the present invention include iodonium salts and diazonium salts. In the present invention, these onium salts function not as acid generators but as radical polymerization initiators.
Other onium salts in the present invention include onium salts represented by the following general formulas (II) and (III).
一般式(II)中、Ar21とAr22は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。(Z21)−は(Z11)−と同義の対イオンを表す。 In the general formula (II), Ar 21 and Ar 22 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents when this aryl group has a substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or a carbon atom having 12 or less carbon atoms. An aryloxy group is mentioned. (Z 21 ) − represents a counter ion having the same meaning as (Z 11 ) − .
一般式(III)中、Ar31は、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下のアリール基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、炭素原子数12個以下のアリールオキシ基、炭素原子数12個以下のアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のアリールアミノ基又は、炭素原子数12個以下のジアリールアミノ基が挙げられる。(Z31)−は(Z11)−と同義の対イオンを表す。 In the general formula (III), Ar 31 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred examples of the substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, an aryloxy group having 12 or less carbon atoms, and 12 or less carbon atoms. Examples thereof include an alkylamino group, a dialkylamino group having 12 or less carbon atoms, an arylamino group having 12 or less carbon atoms, or a diarylamino group having 12 or less carbon atoms. (Z 31 ) − represents a counter ion having the same meaning as (Z 11 ) − .
以下に、本発明において、好適に用いることのできる一般式(II)で示されるオニウム塩([OI−1]〜[OI−10])、及び一般式(III)で示されるオニウム塩([ON−1]〜[ON−5])の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。 In the present invention, onium salts represented by general formula (II) ([OI-1] to [OI-10]) and onium salts represented by general formula (III) ([ Specific examples of ON-1] to [ON-5] are given below, but are not limited thereto.
本発明において重合開始剤(ラジカル発生剤)として好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、特開2001−133696号公報に記載されたもの等を挙げることができる。 Specific examples of onium salts that can be suitably used as a polymerization initiator (radical generator) in the present invention include those described in JP-A No. 2001-133696.
なお、本発明において用いられる重合開始剤(ラジカル発生剤)は、極大吸収波長が400nm以下であることが好ましく、更に360nm以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印刷版原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。 The polymerization initiator (radical generator) used in the present invention preferably has a maximum absorption wavelength of 400 nm or less, and more preferably 360 nm or less. By making the absorption wavelength in the ultraviolet region in this way, the lithographic printing plate precursor can be handled under white light.
本発明における重合開始剤の総含有量は、感度及び印刷時の非画像部に汚れの発生の観点から、記録層を構成する全固形分に対し0.1〜50質量%、好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%である。 The total content of the polymerization initiator in the invention is from 0.1 to 50% by mass, preferably from 0.1 to 50% by mass, based on the total solid content constituting the recording layer, from the viewpoint of sensitivity and generation of smudges in the non-image area during printing. It is 5-30 mass%, Most preferably, it is 1-20 mass%.
本発明における重合開始剤としては、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。2種以上の重合開始剤を併用する場合は、例えば、好適に用いられるスルホニウム塩重合開始剤のみを複数種用いてもよいし、スルホニウム塩重合開始剤と他の重合開始剤とを併用してもよい。
スルホニウム塩重合開始剤と他の重合開始剤とを併用する場合、その含有比(質量比)としては、100/1〜100/50が好ましく、100/5〜100/25がより好ましい。
また、重合開始剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。
As a polymerization initiator in this invention, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together. When two or more polymerization initiators are used in combination, for example, a plurality of suitably used sulfonium salt polymerization initiators may be used, or a sulfonium salt polymerization initiator and another polymerization initiator may be used in combination. Also good.
When the sulfonium salt polymerization initiator and another polymerization initiator are used in combination, the content ratio (mass ratio) is preferably 100/1 to 100/50, more preferably 100/5 to 100/25.
Moreover, a polymerization initiator may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.
本発明における記録層に、重合開始剤として好ましい、高感度のスルホニウム塩重合開始剤を用いる場合、ラジカル重合反応が効果的に進行し、形成された画像部の強度が非常に高いものとなる。従って、後述する保護層の高い酸素遮断機能とあいまって、高い画像部強度を有する平版印刷版を作製することができ、その結果、耐刷性が一層向上する。また、スルホニウム塩重合開始剤はそれ自体が経時安定性に優れていることから、作製された平版印刷版原版を保存した際にも、所望されない重合反応の発生が効果的に抑制されるという利点をも有することになる。 When a highly sensitive sulfonium salt polymerization initiator, which is preferable as a polymerization initiator, is used for the recording layer in the invention, the radical polymerization reaction proceeds effectively, and the strength of the formed image area becomes very high. Therefore, combined with the high oxygen blocking function of the protective layer described later, a lithographic printing plate having high image area strength can be produced, and as a result, printing durability is further improved. In addition, since the sulfonium salt polymerization initiator itself is excellent in stability over time, even when the produced lithographic printing plate precursor is stored, the occurrence of an undesirable polymerization reaction is effectively suppressed. Will also have.
(重合性化合物)
本発明に用いられる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、即ち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
(Polymerizable compound)
The polymerizable compound used in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and is selected from compounds having at least one, preferably two or more ethylenically unsaturated bonds. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, that is, dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。 Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer.
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。 Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate.
Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate.
Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.
Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.
その他のエステルの例として、例えば、特公昭46−27926、特公昭51−47334、特開昭57−196231記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240、特開昭59−5241、特開平2−226149記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。 Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59-5241. Those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。 Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.
また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。 In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Can be mentioned.
CH2=C(Ra)COOCH2CH(Rb)OH・・・一般式
(ただし、Ra及びRbは、H又はCH3を示す。)
CH 2 = C (R a) COOCH 2 CH (R b) OH ··· formula (wherein, R a and R b represent H or CH 3.)
また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。 Also, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, and JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable. Further, by using addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238, It is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.
その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。 Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337 and JP-B-1-40336, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like can also be mentioned. . In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.
これらの付加重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。感光スピードの点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部、即ち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感光性と強度の両方を調節する方法も有効である。大きな分子量の化合物や疎水性の高い化合物は、感光スピードや膜強度に優れる反面、現像スピードや現像液中での析出といった点で好ましく無い場合がある。また、記録層組成物中の他の成分(例えば、バインダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させ得ることがある。
また、本発明の平版印刷版原版では、後述の支持体や保護層等との密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
About these addition polymerizable compounds, the details of usage, such as the structure, single use or combination, addition amount, etc. can be arbitrarily set according to the final performance design. For example, it is selected from the following viewpoints. From the viewpoint of photosensitive speed, a structure having a high unsaturated group content per molecule is preferred, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferred. Further, in order to increase the strength of the image portion, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrenic compound, A method of adjusting both photosensitivity and strength by using a vinyl ether compound) is also effective. A compound having a large molecular weight or a compound having high hydrophobicity is excellent in photosensitive speed and film strength, but is not preferable in terms of development speed and precipitation in a developer. In addition, the selection and use method of the addition polymerization compound is also an important factor for compatibility and dispersibility with other components in the recording layer composition (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.). For example, the compatibility may be improved by using a low-purity compound or using two or more kinds in combination.
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a specific structure may be selected for the purpose of improving adhesion to a support or a protective layer described later.
記録層組成物中の付加重合性化合物の含有量に関しては、感度、相分離の発生、記録層の粘着性、更には、現像液からの析出性の観点から、記録層組成物中の固形分に対して、好ましくは5〜80質量%、更に好ましくは40〜75質量%の範囲で使用される。
また、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。その他、付加重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択できる。更に、本発明の平版印刷版原版では、下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施し得る。
Regarding the content of the addition polymerizable compound in the recording layer composition, the solid content in the recording layer composition is considered in terms of sensitivity, occurrence of phase separation, adhesiveness of the recording layer, and precipitation from the developer. The amount is preferably 5 to 80% by mass, more preferably 40 to 75% by mass.
These may be used alone or in combination of two or more. In addition, as the method of using the addition polymerizable compound, an appropriate structure, blending, and addition amount can be arbitrarily selected from the viewpoints of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging property, refractive index change, surface tackiness, and the like. Furthermore, in the lithographic printing plate precursor according to the invention, a layer constitution / coating method such as undercoating or overcoating can be carried out.
(バインダーポリマー)
本発明に用いられるバインダーポリマーは、膜性向上の観点から含有されるものであって、膜性を向上させる機能を有していれば、種々のものを使用することがすることができる。中でも、本発明において好適なバインダーポリマーとしては、下記一般式(i)で表される繰り返し単位を有するバインダーポリマーである。以下、一般式(i)で表される繰り返し単位を有するバインダーポリマーを、適宜、特定バインダーポリマーと称し、詳細に説明する。
(Binder polymer)
The binder polymer used in the present invention is contained from the viewpoint of improving the film property, and various types can be used as long as it has a function of improving the film property. Especially, as a binder polymer suitable in this invention, it is a binder polymer which has a repeating unit represented by the following general formula (i). Hereinafter, the binder polymer having the repeating unit represented by the general formula (i) is appropriately referred to as a specific binder polymer and will be described in detail.
(一般式(i)中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子からなる群より選択される2以上の原子を含み構成され、その総原子数が2〜82である連結基を表す。Aは酸素原子又は−NR3−を表し、R3は水素原子又は炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。nは1〜5の整数を表す。) (In the general formula (i), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 contains two or more atoms selected from the group consisting of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom. And represents a linking group having a total atom number of 2 to 82. A represents an oxygen atom or —NR 3 —, and R 3 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. N represents an integer of 1 to 5.)
まず、一般式(i)におけるR1は、水素原子又はメチル基を表し、特にメチル基が好ましい。 First, R 1 in the general formula (i) represents a hydrogen atom or a methyl group, and a methyl group is particularly preferable.
一般式(i)におけるR2で表される連結基は、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子からなる群より選択される2以上の原子を含み構成され、その総原子数が2〜82であり、好ましくは2〜50であり、より好ましくは2〜30である。ここで示す総原子数は、当該連結基が置換基を有する場合には、その置換基を含めた原子数を指す。より具体的には、R2で表される連結基の主骨格を構成する原子数が、1〜30であることが好ましく、3〜25であることがより好ましく、4〜20であることが更に好ましく、5〜10であることが最も好ましい。なお、本発明における「連結基の主骨格」とは、一般式(i)におけるAと末端COOHとを連結するためのみに使用される原子又は原子団を指し、特に、連結経路が複数ある場合には、使用される原子数が最も少ない経路を構成する原子又は原子団を指す。したがって、連結基内に環構造を有する場合、その連結部位(例えば、o−、m−、p−など)により算入されるべき原子数が異なる。 The linking group represented by R 2 in the general formula (i) includes two or more atoms selected from the group consisting of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom. The number is 2 to 82, preferably 2 to 50, and more preferably 2 to 30. The total number of atoms shown here refers to the number of atoms including the substituent when the linking group has a substituent. More specifically, the number of atoms constituting the main skeleton of the linking group represented by R 2 is preferably 1-30, more preferably 3-25, and 4-20. More preferred is 5-10. The “main skeleton of the linking group” in the present invention refers to an atom or an atomic group used only for linking A and the terminal COOH in the general formula (i), and particularly when there are a plurality of linking paths. Refers to an atom or atomic group that constitutes a path with the smallest number of atoms used. Therefore, when a linking group has a ring structure, the number of atoms to be included differs depending on the linking site (for example, o-, m-, p-, etc.).
また、より具体的には、アルキレン、置換アルキレン、アリーレン、置換アリーレンなどが挙げられ、これらの2価の基がアミド結合やエステル結合で複数連結された構造を有していてもよい。
鎖状構造の連結基としては、エチレン、プロピレン等が挙げられる。また、これらのアルキレンがエステル結合を介して連結されている構造もまた好ましいものとして例示することができる。
More specific examples include alkylene, substituted alkylene, arylene, substituted arylene, and the like, and a structure in which a plurality of these divalent groups are linked by an amide bond or an ester bond may be used.
Examples of the linking group having a chain structure include ethylene and propylene. A structure in which these alkylenes are linked via an ester bond can also be exemplified as a preferable example.
この中でも、一般式(i)におけるR2で表される連結基は、炭素原子数3から30までの脂肪族環状構造を有する(n+1)価の炭化水素基であることが好ましい。より具体的には、任意の置換基によって一個以上置換されていてもよいシクロプロパン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロデカン、ジシクロヘキシル、ターシクロヘキシル、ノルボルナン等の脂肪族環状構造を有する化合物を構成する任意の炭素原子上の水素原子を(n+1)個除き、(n+1)価の炭化水素基としたものを挙げることができる。また、R2は、置換基を含めて炭素数3から30であることが好ましい。 Among these, the linking group represented by R 2 in the general formula (i) is preferably an (n + 1) -valent hydrocarbon group having an aliphatic cyclic structure having 3 to 30 carbon atoms. More specifically, a compound having an aliphatic cyclic structure such as cyclopropane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, cyclodecane, dicyclohexyl, tercyclohexyl, norbornane and the like, which may be substituted one or more by any substituent. And (n + 1) valent hydrocarbon groups by removing (n + 1) hydrogen atoms on an arbitrary carbon atom constituting. R 2 preferably has 3 to 30 carbon atoms including a substituent.
脂肪族環状構造を構成する化合物の任意の炭素原子は、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子から選ばれるヘテロ原子で、一個以上置き換えられていてもよい。耐刷性の点で、R2は縮合多環脂肪族炭化水素、橋架け環脂肪族炭化水素、スピロ脂肪族炭化水素、脂肪族炭化水素環集合(複数の環が結合又は連結基でつながったもの)等、2個以上の環を含有してなる炭素原子数5から30までの置換基を有していてもよい脂肪族環状構造を有する(n+1)価の炭化水素基であることが好ましい。この場合も炭素数は置換基が有する炭素原子を含めてのものである。 One or more arbitrary carbon atoms of the compound constituting the aliphatic cyclic structure may be replaced with a heteroatom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom. In terms of printing durability, R 2 is a condensed polycyclic aliphatic hydrocarbon, a bridged cyclic aliphatic hydrocarbon, a spiro aliphatic hydrocarbon, an aliphatic hydrocarbon ring assembly (a plurality of rings are connected by a bond or a linking group). A (n + 1) -valent hydrocarbon group having an aliphatic cyclic structure which may have a substituent of 5 to 30 carbon atoms containing two or more rings. . Also in this case, the carbon number includes the carbon atom of the substituent.
R2で表される連結基としては、特に、連結基の主骨格を構成する原子数が5〜10のものが好ましく、構造的には、鎖状構造であって、その構造中にエステル結合を有するものや、前記の如き環状構造を有するものが好ましい。 As the linking group represented by R 2 , those having 5 to 10 atoms constituting the main skeleton of the linking group are particularly preferable, and are structurally a chain structure, and an ester bond in the structure. And those having a cyclic structure as described above are preferred.
R2で表される連結基に導入可能な置換基としては、水素を除く1価の非金属原子団を挙げることができ、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N’−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキルウレイド基、N’−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アリール−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共役塩基基、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、N−アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、N−アルキルスルホニルスルファモイル基(−SO2NHSO2(alkyl))及びその共役塩基基、N−アリールスルホニルスルファモイル基(−SO2NHSO2(aryl))及びその共役塩基基、N−アルキルスルホニルカルバモイル基(−CONHSO2(alkyl))及びその共役塩基基、N−アリールスルホニルカルバモイル基(−CONHSO2(aryl))及びその共役塩基基、アルコキシシリル基(−Si(Oalkyl)3)、アリーロキシシリル基(−Si(Oaryl)3)、ヒドロキシシリル基(−Si(OH)3)及びその共役塩基基、ホスホノ基(−PO3H2)及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノ基(−PO3(alkyl)2)、ジアリールホスホノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスホノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノ基(−PO3H(alkyl))及びその共役塩基基、モノアリールホスホノ基(−PO3H(aryl))及びその共役塩基基、ホスホノオキシ基(−OPO3H2)及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノオキシ基(−OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスホノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスホノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノオキシ基(−OPO3H(alkyl))及びその共役塩基基、モノアリールホスホノオキシ基(−OPO3H(aryl))及びその共役塩基基、シアノ基、ニトロ基、ジアルキルボリル基(−B(alkyl)2)、ジアリールボリル基(−B(aryl)2)、アルキルアリールボリル基(−B(alkyl)(aryl))、ジヒドロキシボリル基(−B(OH)2)及びその共役塩基基、アルキルヒドロキシボリル基(−B(alkyl)(OH))及びその共役塩基基、アリールヒドロキシボリル基(−B(aryl)(OH))及びその共役塩基基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。 Examples of the substituent that can be introduced into the linking group represented by R 2 include monovalent nonmetallic atomic groups other than hydrogen, such as halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), hydroxyl groups. Group, alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N- Diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy Group, arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N′- Arylureido group, N ′, N′-diarylureido group, N′-alkyl-N′-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N′-alkyl-N-alkylureido group, N '-Alkyl-N-arylureido group, N', N'-dialkyl-N-alkylureido group, N ', N'-dialkyl-N-arylureido group, N'-aryl-N-alkylureido group, N '-Aryl-N-arylureido group, N', N'-diaryl-N-alkylureido group, N ', N'-diaryl-N-arylureido group, N'-a Kill-N′-aryl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group and its conjugate base group, Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, Alkylsulfinyl , An arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfo group (-SO 3 H) and its conjugated base group, alkoxy sulfonyl group, aryloxy sulfonyl group, sulfinamoyl group, N- alkylsulfinamoyl group, N, N -Dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, N-acylsulfamoyl group and its conjugate base group , N- alkylsulfonylsulfamoyl group (-SO 2 NHS 2 (alkyl)) and its conjugated base group, N- aryl sulfonylsulfamoyl group (-SO 2 NHSO 2 (aryl) ) and its conjugated base group, N- alkylsulfonylcarbamoyl group (-CONHSO 2 (alkyl)) and Its conjugate base group, N-arylsulfonylcarbamoyl group (—CONHSO 2 (aryl)) and its conjugate base group, alkoxysilyl group (—Si (Oalkyl) 3 ), aryloxysilyl group (—Si (Oaryl) 3 ), Hydroxysilyl group (—Si (OH) 3 ) and its conjugate base group, phosphono group (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group, dialkylphosphono group (—PO 3 (alkyl) 2 ), diarylphosphono group (—PO 3 (aryl) 2 ), an alkylarylphosphono group (—PO 3 (a lkyl) (aryl)), monoalkylphosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group, monoarylphosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group, phosphonooxy group ( -OPO 3 H 2) and its conjugated base group, a dialkyl phosphono group (-OPO 3 (alkyl) 2) , diaryl phosphono group (-OPO 3 (aryl) 2) , alkylaryl phosphono group (- OPO 3 (alkyl) (aryl) ), monoalkyl phosphono group (-OPO 3 H (alkyl)) and its conjugated base group, monoarylphosphono group (-OPO 3 H (aryl)) and its conjugate base group, a cyano group, a nitro group, a dialkyl boryl group (-B (alkyl) 2), Jiariruboriru group (-B ( RYL) 2), alkyl aryl boryl group (-B (alkyl) (aryl) ), dihydroxy boryl group (-B (OH) 2) and its conjugated base group, an alkyl hydroxy boryl group (-B (alkyl) (OH) ) And conjugated base groups thereof, arylhydroxyboryl groups (-B (aryl) (OH)) and conjugated base groups thereof, aryl groups, alkenyl groups and alkynyl groups.
本発明の平版印刷版原版では、記録層の設計にもよるが、水素結合可能な水素原子を有する置換基や、特に、カルボン酸よりも酸解離定数(pKa)が小さい酸性を有する置換基は、耐刷性を下げる傾向にあるので好ましくない。一方、ハロゲン原子や、炭化水素基(アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基)、アルコキシ基、アリーロキシ基などの疎水性置換基は、耐刷を向上する傾向にあるのでより好ましく、特に、環状構造がシクロペンタンやシクロヘキサン等の6員環以下の単環脂肪族炭化水素である場合には、このような疎水性の置換基を有していることが好ましい。これら置換基は可能であるならば、置換基同士、又は置換している炭化水素基と結合して環を形成してもよく、置換基は更に置換されていてもよい。 In the lithographic printing plate precursor according to the invention, although depending on the design of the recording layer, a substituent having a hydrogen atom capable of hydrogen bonding, particularly a substituent having an acid dissociation constant (pKa) smaller than that of a carboxylic acid is , Because it tends to lower the printing durability. On the other hand, hydrophobic substituents such as halogen atoms, hydrocarbon groups (alkyl groups, aryl groups, alkenyl groups, alkynyl groups), alkoxy groups, aryloxy groups and the like are more preferable because they tend to improve printing durability. When the cyclic structure is a monocyclic aliphatic hydrocarbon having 6 or less members such as cyclopentane or cyclohexane, it preferably has such a hydrophobic substituent. If possible, these substituents may be bonded to each other or with a substituted hydrocarbon group to form a ring, and the substituent may be further substituted.
一般式(i)におけるAがNR3−である場合のR3は、水素原子又は炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。このR3で表される炭素数1〜10までの一価の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1−アダマンチル基、2−ノルボルニル基等の炭素数1〜10までの直鎖状、分枝状、又は環状のアルキル基が挙げられる。
アリール基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、インデニル基等の炭素数1〜10までのアリール基、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を1個含有する炭素数1〜10までのヘテロアリール基、例えば、フリル基、チエニル基、ピロリル基、ピリジル基、キノリル基等が挙げられる。
アルケニル基の具体例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、1−メチル−1−プロペニル基、1−シクロペンテニル基、1−シクロヘキセニル基等の炭素数1〜10までの直鎖状、分枝状、又は環状のアルケニル基が挙げられる。
アルキニル基の具体例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、1−オクチニル基等の炭素数1〜10までのアルキニル基が挙げられる。R3が有してもよい置換基としては、R2が導入し得る置換基として挙げたものと同様である。但し、R3の炭素数は、置換基の炭素数を含めて1〜10である。
When A in the general formula (i) is NR 3 —, R 3 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 3 include an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group.
Specific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, 1 carbon number such as tert-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 1-adamantyl group, 2-norbornyl group Up to 10 linear, branched or cyclic alkyl groups.
Specific examples of the aryl group include carbon having one heteroatom selected from the group consisting of an aryl group having 1 to 10 carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, and an indenyl group, a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom. Examples include heteroaryl groups of 1 to 10, such as furyl, thienyl, pyrrolyl, pyridyl, and quinolyl groups.
Specific examples of the alkenyl group include those having 1 to 10 carbon atoms such as vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, 1-methyl-1-propenyl group, 1-cyclopentenyl group, 1-cyclohexenyl group and the like. A linear, branched, or cyclic alkenyl group is mentioned.
Specific examples of the alkynyl group include alkynyl groups having 1 to 10 carbon atoms such as ethynyl group, 1-propynyl group, 1-butynyl group, and 1-octynyl group. The substituent that R 3 may have is the same as those exemplified as the substituent that R 2 can introduce. The number of carbon atoms of R 3 is 1 to 10 including the carbon number of the substituent.
一般式(i)におけるAは、合成が容易であることから、酸素原子又は−NH−であることが好ましい。 A in the general formula (i) is preferably an oxygen atom or —NH— because synthesis is easy.
一般式(i)におけるnは、1〜5の整数を表し、耐刷の点で好ましくは1である。 N in the general formula (i) represents an integer of 1 to 5, and is preferably 1 in terms of printing durability.
以下に、一般式(i)で表される繰り返し単位の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Although the preferable specific example of the repeating unit represented by general formula (i) below is shown, this invention is not limited to these.
一般式(i)で表される繰り返し単位は、バインダーポリマー中に1種類だけであってもよいし、2種類以上含有していてもよい。本発明における特定バインダーポリマーは、一般式(i)で表される繰り返し単位だけからなるポリマーであってもよいが、通常、他の共重合成分と組み合わされ、コポリマーとして使用される。コポリマーにおける一般式(i)で表される繰り返し単位の総含有量は、その構造や、記録層組成物の設計等によって適宜決められるが、好ましくはポリマー成分の総モル量に対し、1〜99モル%、より好ましくは5〜40モル%、更に好ましくは5〜20モル%の範囲で含有される。 One type of repeating unit represented by the general formula (i) may be contained in the binder polymer, or two or more types may be contained. The specific binder polymer in the present invention may be a polymer composed only of the repeating unit represented by the general formula (i), but is usually used as a copolymer in combination with other copolymerization components. The total content of the repeating unit represented by the general formula (i) in the copolymer is appropriately determined depending on the structure thereof, the design of the recording layer composition, and the like, but preferably 1 to 99 with respect to the total molar amount of the polymer component. It is contained in the range of mol%, more preferably 5 to 40 mol%, still more preferably 5 to 20 mol%.
コポリマーとして用いる場合の共重合成分としては、ラジカル重合可能なモノマーであれば従来公知のものを制限なく使用できる。具体的には、「高分子データハンドブック−基礎編−(高分子学会編、培風館、1986)」記載のモノマー類が挙げられる。このような共重合成分は1種類であってもよいし、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。 As a copolymerization component in the case of using as a copolymer, a conventionally well-known thing can be used without a restriction | limiting, if it is a monomer which can be radically polymerized. Specific examples include monomers described in “Polymer Data Handbook—Basic Edition” (Edition of Polymer Society, Bafukan, 1986). One type of such copolymerization component may be used, or two or more types may be used in combination.
本発明における特定バインダーポリマーの分子量は、画像形成性や耐刷性の観点から適宜決定される。好ましい分子量としては、2,000〜1,000,000、より好ましくは5,000〜500,000、更に好ましくは10,000〜200,000の範囲である。 The molecular weight of the specific binder polymer in the present invention is appropriately determined from the viewpoint of image formability and printing durability. The molecular weight is preferably in the range of 2,000 to 1,000,000, more preferably 5,000 to 500,000, and still more preferably 10,000 to 200,000.
本発明おいて用いられるバインダーポリマーは、特定バインダーポリマー単独であってもよいし、他のバインダーポリマーを1種以上併用して、混合物として用いてもよい。併用されるバインダーポリマーは、バインダーポリマー成分の総質量に対し1〜60質量%、好ましくは1〜40質量%、更に好ましくは1〜20質量%の範囲で用いられる。併用できるバインダーポリマーとしては、従来公知のものを制限なく使用でき、具体的には、本業界においてよく使用されるアクリル主鎖バインダーや、ウレタンバインダー等が好ましく用いられる。 The binder polymer used in the present invention may be a specific binder polymer alone, or may be used as a mixture by combining one or more other binder polymers. The binder polymer used in combination is used in the range of 1 to 60% by mass, preferably 1 to 40% by mass, and more preferably 1 to 20% by mass with respect to the total mass of the binder polymer component. As the binder polymer that can be used in combination, a conventionally known binder polymer can be used without limitation, and specifically, an acrylic main chain binder, a urethane binder, or the like often used in the industry is preferably used.
記録層組成物中での特定バインダーポリマー及び併用してもよいバインダーポリマーの合計量は、適宜決めることができるが、記録層組成物中の不揮発性成分の総質量に対し、通常、10〜90質量%であり、好ましくは20〜80質量%、更に好ましくは30〜70質量%の範囲である。
また、このようなバインダーポリマーの酸価(meg/g)としては、2.00〜3.60の範囲であることが好ましい。
The total amount of the specific binder polymer in the recording layer composition and the binder polymer that may be used in combination can be determined as appropriate, but is usually 10 to 90 with respect to the total mass of the nonvolatile components in the recording layer composition. It is mass%, Preferably it is 20-80 mass%, More preferably, it is the range of 30-70 mass%.
Moreover, as an acid value (meg / g) of such a binder polymer, it is preferable that it is the range of 2.00-3.60.
−併用可能な他のバインダーポリマー−
前記特定バインダーポリマーと併用可能な他のバインダーポリマーは、ラジカル重合性基を有するバインダーポリマーであることが好ましい。
そのラジカル重合性基としては、ラジカルにより重合することが可能であれば特に限定されないが、α−置換メチルアクリル基[−OC(=O)−C(−CH2Z)=CH2、Z=ヘテロ原子から始まる炭化水素基]、アクリル基、メタクリル基、アリル基、スチリル基が挙げられ、この中でも、アクリル基、メタクリル基が好ましい。
かかるバインダーポリマー中のラジカル重合性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、感度や保存性の観点から、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。
-Other binder polymers that can be used together-
The other binder polymer that can be used in combination with the specific binder polymer is preferably a binder polymer having a radical polymerizable group.
The radical polymerizable group is not particularly limited as long as it can be polymerized by a radical, but α-substituted methylacrylic group [—OC (═O) —C (—CH 2 Z) ═CH 2 , Z = A hydrocarbon group starting from a hetero atom], an acryl group, a methacryl group, an allyl group, and a styryl group. Among these, an acryl group and a methacryl group are preferable.
The content of the radical polymerizable group in the binder polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 1 g per binder polymer from the viewpoint of sensitivity and storage stability. It is 10.0 mmol, More preferably, it is 1.0-7.0 mmol, Most preferably, it is 2.0-5.5 mmol.
また、併用可能な他のバインダーポリマーは、更に、アルカリ可溶性基を有するものが好ましい。バインダーポリマー中のアルカリ可溶性基の含有量(中和滴定による酸価)は、現像カスの析出性や耐刷性の観点から、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜3.0mmol、より好ましくは0.2〜2.0mmol、最も好ましくは0.45〜1.0mmolである。 Further, the other binder polymer that can be used in combination is preferably one having an alkali-soluble group. The content of alkali-soluble groups in the binder polymer (acid value by neutralization titration) is preferably from 0.1 to 3.0 mmol, more preferably from 1 to 3.0 g of binder polymer, from the viewpoints of precipitation of developing residue and printing durability. Is 0.2 to 2.0 mmol, most preferably 0.45 to 1.0 mmol.
このようなバインダーポリマーの質量平均分子量は、皮膜性(耐刷性)や、塗布溶剤への溶解性の観点から、好ましくは2,000〜1,000,000、より好ましくは10,000〜300,000、最も好ましくは20,000〜200,000の範囲である。 The mass average molecular weight of such a binder polymer is preferably from 2,000 to 1,000,000, more preferably from 10,000 to 300, from the viewpoints of film properties (press life) and solubility in a coating solvent. In the range of 20,000 to 200,000.
また、このようなバインダーポリマーのガラス転移点(Tg)は、保存安定性、耐刷性、及び感度の観点から、好ましくは70〜300℃、より好ましくは80〜250℃、最も好ましくは90〜200℃の範囲である。
バインダーポリマーのガラス転移点を高めるため手段としては、その分子中に、アミド基やイミド基を含有することが好ましく、特に、メタクリルアミドやメタクリルアミド誘導体を含有することが好ましい。
Further, the glass transition point (Tg) of such a binder polymer is preferably 70 to 300 ° C., more preferably 80 to 250 ° C., and most preferably 90 to 90 ° C. from the viewpoints of storage stability, printing durability, and sensitivity. It is in the range of 200 ° C.
As a means for increasing the glass transition point of the binder polymer, the molecule preferably contains an amide group or an imide group, and particularly preferably contains a methacrylamide or a methacrylamide derivative.
(その他の成分)
本発明に係る記録層には、以上の基本成分の他に、更にその用途、製造方法等に適したその他の成分を適宜添加することができる。以下、好ましい添加剤に関し例示する。
(Other ingredients)
In addition to the above basic components, the recording layer according to the present invention may further contain other components suitable for its use and production method. Hereinafter, preferred additives will be exemplified.
−着色剤−
本発明に係る記録層には、その着色を目的として、染料若しくは顔料を添加してもよい。これにより、印刷版としての製版後の画像の視認性や、画像濃度測定機適性といったいわゆる検版性を向上させることができる。着色剤としては、具体例としては、例えば、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料などの染料があり、中でも、カチオン性染料が好ましい。
着色剤としての染料及び顔料の添加量は、全記録層組成物中の不揮発性成分に対して約0.5質量%〜約5質量%が好ましい。
-Colorant-
A dye or pigment may be added to the recording layer according to the present invention for the purpose of coloring. As a result, it is possible to improve the so-called plate inspection properties such as the visibility of the image after plate making as a printing plate and the suitability of an image density measuring machine. Specific examples of the colorant include pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, and titanium oxide, and dyes such as ethyl violet, crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. Among them, a cationic dye is preferable.
The addition amount of the dye and the pigment as the colorant is preferably about 0.5% by mass to about 5% by mass with respect to the nonvolatile components in the entire recording layer composition.
−重合禁止剤−
本発明に係る記録層においては、重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、即ち、重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合禁止剤としてはハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合禁止剤の添加量は、記録層組成物中の不揮発性成分の質量に対して約0.01質量%〜約5質量%が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、記録層組成物中の不揮発性成分に対して約0.5質量%〜約10質量%が好ましい。
-Polymerization inhibitor-
In the recording layer according to the present invention, it is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond, that is, the polymerizable compound. . Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol ), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine primary cerium salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% by mass to about 5% by mass with respect to the mass of the nonvolatile component in the recording layer composition. If necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide or the like may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen and may be unevenly distributed on the surface of the layer in the course of drying after coating. The addition amount of the higher fatty acid derivative is preferably about 0.5% by mass to about 10% by mass with respect to the nonvolatile component in the recording layer composition.
−その他の添加剤−
更に、本発明に係る記録層には、硬化皮膜の物性を改良するための無機充填剤や、その他可塑剤、記録層表面のインク着肉性を向上させ得る感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、バインダーポリマーと付加重合性化合物との合計質量に対し一般的に10質量%以下の範囲で添加することができる。
また、本発明に係る記録層において、後述する膜強度(耐刷性)向上を目的とした、現像後の加熱・露光の効果を強化するために、UV開始剤や、熱架橋剤等の添加も行うことができる。
-Other additives-
Furthermore, the recording layer according to the present invention may be added with known additives such as inorganic fillers for improving the physical properties of the cured film, other plasticizers, and oil-sensitizing agents that can improve the ink deposition properties of the recording layer surface. An agent may be added. Examples of plasticizers include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, triacetyl glycerin, and addition polymerization with binder polymer. Generally, it can be added in a range of 10% by mass or less based on the total mass with the compound.
In addition, in the recording layer according to the present invention, in order to enhance the effect of heating and exposure after development for the purpose of improving the film strength (printing durability) described later, addition of a UV initiator, a thermal crosslinking agent, etc. Can also be done.
〔支持体〕
(支持体の表面処理)
本発明における支持体には、後述のような親水化処理が施されたものが用いられる。このような支持体としては、紙、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が挙げられ、その中でも、寸法安定性がよく、比較的安価であり、必要に応じた表面処理により親水性や強度にすぐれた表面を提供できるアルミニウム板は更に好ましい。また、特公昭48−18327号公報に記載されているようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シートも好ましい。
[Support]
(Surface treatment of support)
As the support in the present invention, a support subjected to a hydrophilization treatment as described later is used. Examples of such a support include paper, polyester film or aluminum plate. Among them, a surface having good dimensional stability, relatively inexpensive, and excellent hydrophilicity and strength by surface treatment as required. An aluminum plate that can be provided is more preferred. A composite sheet in which an aluminum sheet is bonded on a polyethylene terephthalate film as described in Japanese Patent Publication No. 48-18327 is also preferable.
本発明において最も好適な支持体としてのアルミニウム板とは、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属板であり、純アルミニウム板の他、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、又はアルミニウム(合金)がラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルム又は紙の中から選ばれる。以下の説明において、上記に挙げたアルミニウム又はアルミニウム合金からなる支持体をアルミニウム支持体と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがあり、合金中の異元素の含有量は10質量%以下である。本発明では純アルミニウム板が好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来公知公用の素材のもの、例えば、JIS A 1050、JIS A 1100、JIS A 3103、JIS A 3005などを適宜利用することができる。 The aluminum plate as the most preferable support in the present invention is a metal plate mainly composed of dimensionally stable aluminum, and contains pure aluminum plate, aluminum as a main component, and a trace amount of foreign elements. An alloy plate or aluminum (alloy) is selected from a laminated or vapor-deposited plastic film or paper. In the following description, the above-mentioned support made of aluminum or an aluminum alloy is generically used as an aluminum support. Examples of the foreign element contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of the foreign element in the alloy is 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is suitable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain a slightly different element. Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and a conventionally known publicly available material such as JIS A 1050, JIS A 1100, JIS A 3103, JIS A 3005, etc. It can be used as appropriate.
また、本発明に用いられるアルミニウム支持体の厚みは、およそ0.1mm〜0.6mm程度である。この厚みは印刷機の大きさ、印刷版の大きさ及びユーザーの希望により適宜変更することができる。
このようなアルミニウム支持体には、後述の表面処理が施され、親水化される。
Moreover, the thickness of the aluminum support body used for this invention is about 0.1 mm-about 0.6 mm. This thickness can be changed as appropriate according to the size of the printing press, the size of the printing plate, and the desire of the user.
Such an aluminum support is subjected to a surface treatment described later to be hydrophilized.
(粗面化処理)
粗面化処理方法は、特開昭56−28893号公報に開示されているような機械的粗面化、化学的エッチング、電解グレインなどがある。更に塩酸又は硝酸電解液中で電気化学的に粗面化する電気化学的粗面化方法、及びアルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立でするポールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を粗面化するブラシグレイン法のような機械的粗面化法を用いることができ、上記粗面化方法を単独或いは組み合わせて用いることもできる。その中でも粗面化に有用に使用される方法は塩酸又は硝酸電解液中で化学的に粗面化する電気化学的方法であり、適する陽極時電気量は50C/dm2〜400C/dm2の範囲である。更に具体的には、0.1〜50%の塩酸又は硝酸を含む電解液中、温度20〜80℃、時間1秒〜30分、電流密度100C/dm2〜400C/dm2の条件で交流及び/又は直流電解を行うことが好ましい。
(Roughening treatment)
Examples of the roughening treatment method include mechanical roughening, chemical etching, and electrolytic grain as disclosed in JP-A-56-28893. Furthermore, the electrochemical surface roughening method in which the surface is electrochemically roughened in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte solution, the aluminum surface is scratched with a metal wire, the wire brush grain method, the surface of the aluminum is polished with a polishing ball and an abrasive. A mechanical graining method such as a pole grain method, a brush grain method in which the surface is roughened with a nylon brush and an abrasive, can be used, and the above roughening methods can be used alone or in combination. Among them, a method usefully used for roughening is an electrochemical method in which roughening is chemically performed in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte, and a suitable amount of electricity during anode is 50 C / dm 2 to 400 C / dm 2 . It is a range. More specifically, in the electrolytic solution containing from 0.1 to 50 percent of hydrochloric acid or nitric, temperature 20 to 80 ° C., for 1 second to 30 minute, alternating at a current density of 100C / dm 2 ~400C / dm 2 It is preferable to perform direct current electrolysis.
このように粗面化処理したアルミニウム支持体は、酸又はアルカリにより化学的にエッチングされてもよい。好適に用いられるエッチング剤は、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等であり、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ1〜50%、20〜100℃である。エッチングのあと表面に残留する汚れ(スマット)を除去するために酸洗いが行われる。用いられる酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学的粗面化処理後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭53−12739号公報に記載されているような50〜90℃の温度の15〜65質量%の硫酸と接触させる方法及び特公昭48−28123号公報に記載されているアルカリエッチングする方法が挙げられる。以上のように処理された後、処理面の表面粗さRaが0.2〜0.5μm程度であれば、特に、方法、条件は限定しない。 The roughened aluminum support may be chemically etched with acid or alkali. Etching agents suitably used are caustic soda, sodium carbonate, sodium aluminate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and the like. Preferred ranges of concentration and temperature are 1 to 50% and 20%, respectively. ~ 100 ° C. Pickling is performed to remove dirt (smut) remaining on the surface after etching. As the acid used, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, borohydrofluoric acid and the like are used. In particular, as a method for removing smut after the electrochemical surface roughening treatment, contact with 15 to 65 mass% sulfuric acid at a temperature of 50 to 90 ° C. as described in JP-A-53-12739 is preferable. And the alkali etching method described in Japanese Patent Publication No. 48-28123. After the treatment as described above, the method and conditions are not particularly limited as long as the surface roughness Ra of the treated surface is about 0.2 to 0.5 μm.
(陽極酸化処理)
以上のようにして処理され酸化物層を形成したアルミニウム支持体には、その後に陽極酸化処理がなされる。
陽極酸化処理は硫酸、燐酸、シュウ酸若しくは硼酸/硼酸ナトリウムの水溶液が単独若しくは複数種類組み合わせて電解浴の主成分として用いられる。この際、電解液中に少なくともAl合金板、電極、水道水、地下水等に通常含まれる成分はもちろん含まれても構わない。更には第2、第3成分が添加されていても構わない。ここでいう第2、3成分とは、例えば、Na、K、Mg、Li、Ca、Ti、Al、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn等の金属のイオンやアンモニウムイオン等に陽イオンや、硝酸イオン、炭酸イオン、塩素イオン、リン酸イオン、フッ素イオン、亜硫酸イオン、チタン酸イオン、ケイ酸イオン、硼酸イオン等の陰イオンが挙げられ、その濃度としては0〜10000ppm程度含まれてもよい。陽極酸化処理の条件に特に限定はないが、好ましくは30〜500g/リットル、処理液温10〜70℃で、電流密度0.1〜40A/m2の範囲で直流又は交流電解によって処理される。形成される陽極酸化皮膜の厚さは0.5〜1.5μmの範囲である。好ましくは0.5〜1.0μmの範囲である。以上の処理によって作製された支持体が、陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアのポア径が5〜10nm、ポア密度が8×1015〜2×1016個/m2の範囲に入るように処理条件が選択されることが好ましい。
(Anodizing treatment)
The aluminum support that has been treated as described above to form an oxide layer is then anodized.
In the anodizing treatment, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, or an aqueous solution of boric acid / sodium borate is used as a main component of the electrolytic bath singly or in combination. In this case, the electrolyte solution may of course contain at least components normally contained in at least an Al alloy plate, an electrode, tap water, groundwater, and the like. Further, the second and third components may be added. Here, the second and third components are, for example, metal ions such as Na, K, Mg, Li, Ca, Ti, Al, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, and Zn, and ammonium ions. Examples include cations, nitrate ions, carbonate ions, chloride ions, phosphate ions, fluorine ions, sulfite ions, titanate ions, silicate ions, borate ions, and the like, and the concentration is 0 to 10,000 ppm. May be included. There are no particular limitations on the conditions of the anodizing treatment, but the treatment is preferably performed by direct current or alternating current electrolysis at a treatment liquid temperature of 10 to 70 ° C. and a current density of 0.1 to 40 A / m 2 at 30 to 500 g / liter. . The thickness of the formed anodic oxide film is in the range of 0.5 to 1.5 μm. Preferably it is the range of 0.5-1.0 micrometer. The support produced by the above treatment is treated so that the pore diameter of the micropores existing in the anodized film is in the range of 5 to 10 nm and the pore density is in the range of 8 × 10 15 to 2 × 10 16 pieces / m 2. It is preferred that the conditions are selected.
前記支持体表面の親水化処理としては、広く公知の方法が適用できる。特に好ましい処理としては、シリケート又はポリビニルホスホン酸等による親水化処理が施される。皮膜はSi、又はP元素量として2〜40mg/m2、より好ましくは4〜30mg/m2で形成される。塗布量はケイ光X線分析法により測定できる。 As the hydrophilization treatment of the support surface, widely known methods can be applied. As a particularly preferable treatment, a hydrophilic treatment with silicate or polyvinylphosphonic acid is performed. A film | membrane is formed by 2-40 mg / m < 2 > as Si or P element amount, More preferably, it is 4-30 mg / m < 2 >. The coating amount can be measured by fluorescent X-ray analysis.
上記の親水化処理は、アルカリ金属ケイ酸塩、又はポリビニルホスホン酸が1〜30質量%、好ましくは2〜15質量%であり、25℃のpHが10〜13である水溶液に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム支持体を、例えば、15〜80℃で0.5〜120秒浸漬することにより実施される。 The hydrophilization treatment is carried out by applying an anodized film to an aqueous solution containing 1 to 30% by mass, preferably 2 to 15% by mass of alkali metal silicate or polyvinylphosphonic acid, and having a pH of 10 to 13 at 25 ° C. This is carried out by immersing the aluminum support on which is formed, for example, at 15 to 80 ° C. for 0.5 to 120 seconds.
前記親水化処理に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなどが使用される。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のpHを高くするために使用される水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩若しくは第IVB族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVB族金属塩としては、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。 As the alkali metal silicate used for the hydrophilization treatment, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate, or the like is used. Examples of the hydroxide used for increasing the pH of the aqueous alkali metal silicate solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. In addition, you may mix | blend alkaline-earth metal salt or Group IVB metal salt with said process liquid. Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate, and water-soluble substances such as sulfate, hydrochloride, phosphate, acetate, oxalate, and borate. Salt. Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium fluoride titanium, potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride, etc. Can be mentioned.
アルカリ土類金属塩若しくは、第IVB族金属塩は、単独又は2種以上組み合わせて使用することができる。これらの金属塩の好ましい範囲は0.01〜10質量%であり、更に好ましい範囲は0.05〜5.0質量%である。また、米国特許第3,658,662号明細書に記載されているようなシリケート電着も有効である。特公昭46−27481号、特開昭52−58602号、特開昭52−30503号に開示されているような電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理及び親水化処理を組合せた表面処理も有用である。 Alkaline earth metal salts or Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. A preferable range of these metal salts is 0.01 to 10% by mass, and a more preferable range is 0.05 to 5.0% by mass. Silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective. Surface obtained by combining a support with electrolytic grains as disclosed in JP-B-46-27481, JP-A-52-58602, JP-A-52-30503, and the above anodizing treatment and hydrophilization treatment Processing is also useful.
(支持体の裏面処理)
本発明の平版印刷版原版には、耐傷性をより向上させる目的で、支持体裏面を修飾することが好ましい。支持体裏面の修飾方法としては、例えば、アルミニウム支持体を用いた場合には、その裏面に、記録層側と同じ様に全面に均一に陽極酸化皮膜を形成する方法や、バックコート層を形成する方法などが挙げられる。陽極酸化皮膜を形成する方法をとる場合の被膜形成量としては、0.6g/m2以上であることが好ましく、0.7〜6g/m2の範囲であることが好ましい。これらのうち、バックコート層を設ける方法がより有効であり好ましい。以下、これらの裏面処理方法について説明する。
(Backside treatment of support)
The lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably modified on the back side of the support for the purpose of further improving scratch resistance. As a method for modifying the back surface of the support, for example, when an aluminum support is used, a method of uniformly forming an anodic oxide film on the entire back surface as in the recording layer side or a back coat layer is formed on the back surface. The method of doing is mentioned. The film-forming amount in the case of taking a method of forming an anodic oxide film, is preferably 0.6 g / m 2 or more, preferably in the range of 0.7~6g / m 2. Of these, a method of providing a backcoat layer is more effective and preferable. Hereinafter, these back surface processing methods will be described.
(1.裏面陽極酸化皮膜の形成方法)
最初に、アルミニウム支持体裏面に、記録層側と同じ様に全面に均一に陽極酸化皮膜を0.6g/m2以上形成する方法について記載する。陽極酸化皮膜の形成は、支持体表面処理において説明したのと同様の手段により行われる。支持体裏面に設けられる陽極酸化皮膜の厚みは、0.6g/m2以上であれば有効であり、性能上の観点からはその上限には特に制限はないが、皮膜形成時の電力などのエネルギー、形成に要する時間などを考慮すれば6g/m2程度であればよく、実用的な好ましい皮膜量は0.7g〜6g/m2であり、より好ましい範囲としては1.0g〜3g/m2である。
陽極酸化皮膜の量は、蛍光X線を用い、Al2O3のピークを測定し、ピーク高さと被膜量の検量線により、換算することができる。
(1. Method for forming back surface anodized film)
First, a method for forming 0.6 g / m 2 or more of an anodic oxide film uniformly on the entire surface in the same manner as on the recording layer side on the back surface of the aluminum support will be described. The formation of the anodized film is performed by the same means as described in the support surface treatment. The thickness of the anodized film provided on the back surface of the support is effective if it is 0.6 g / m 2 or more, and the upper limit is not particularly limited from the viewpoint of performance. Considering energy, time required for formation, etc., it may be about 6 g / m 2 , and a practical preferable film amount is 0.7 g to 6 g / m 2 , and a more preferable range is 1.0 g to 3 g / m 2. a m 2.
The amount of the anodic oxide film can be converted by measuring the peak of Al 2 O 3 using fluorescent X-rays and using a calibration curve of the peak height and the film amount.
本発明において、アルミニウム支持体の面に陽極酸化皮膜が全面に設けられ、その量が0.6g/m2以上であることは、平版印刷版原版におけるアルミニウム支持体の記録層と反対側の陽極酸化皮膜を有する面の中央部と、その中央部を通り、処理方向(Machine Direction)に直交する方向(Transverse Direction)における両端から各々5cmの端部について、いずれもが陽極酸化皮膜量0.6g/m2以上であることにより確認される。 In the present invention, the anodic oxide film is provided on the entire surface of the aluminum support, and the amount thereof is 0.6 g / m 2 or more. The center part of the surface having the oxide film and the end part 5 cm from both ends in the direction (Transverse Direction) passing through the center part and orthogonal to the processing direction (Machine Direction) are both 0.6 g of anodic oxide film amount. / M 2 or more.
(2.バックコート層の形成方法)
次に、アルミニウム支持体裏面にバックコート層を設ける方法について記載する。本発明におけるバックコート層としては、どのような組成のものを用いてもよいが、特に、以下に詳述する有機金属化合物又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物と、コロイダルシリカゾルとを含むバックコート層や有機樹脂被膜からなるバックコート層が好ましく挙げられる。
(2−1.金属酸化物とコロイダルシリカゾルとを含むバックコート層)
本発明におけるバックコート層の好ましい第1の態様として、金属酸化物とコロイダルシリカゾルとを含むバックコート層が挙げられる。
より具体的には、有機金属化合物あるいは無機金属化合物を水および有機溶媒中で、酸、またはアルカリなどの触媒で加水分解、及び縮重合反応を起こさせたいわゆるゾル−ゲル反応液により形成されるバックコート層が好ましい。
バックコート層形成に用いる有機金属化合物あるいは無機金属化合物としては、例えば、金属アルコキシド、金属アセチルアセトネート、金属酢酸塩、金属シュウ酸塩、金属硝酸塩、金属硫酸塩、金属炭酸塩、金属オキシ塩化物、金属塩化物およびこれらを部分加水分解してオリゴマー化した縮合物が挙げられる。
金属アルコキシドはM(OR)nの一般式で表される(Mは金属元素、Rはアルキル基、nは金属元素の酸化数を示す)。具体例としては、例えば、Si(OCH3)4、Si(OC2H5)4、Si(OC3H7)4、Si(OC4H9)4、Al(OCH3)3、Al(OC2H5)3、Al(OC3H7)3、Al(OC4H9)3、B(OCH3)3、B(OC2H5)3、B(OC3H7)3、B(OC4H9)3、Ti(OCH3)4、Ti(OC2H5)4、Ti(OC3H7)4、Ti(OC4H9)4、Zr(OCH3)4、Zr(OC2H5)4、Zr(OC3H7)4、Zr(OC4H9)4などが挙げられ、その他にも、例えば、Ge、Li、Na、Fe、Ga、Mg、P、Sb、Sn、Ta、Vなどの原子のアルコキシドが挙げられる。さらに、CH3Si(OCH3)3、C2H5Si(OCH3)3、CH3Si(OC2H5)3、C2H5Si(OC2H5)3などのモノ置換珪素アルコキシドも用いられる。
(2. Method for forming backcoat layer)
Next, a method for providing a backcoat layer on the back surface of the aluminum support will be described. As the back coat layer in the present invention, any composition may be used, and in particular, a metal oxide obtained by hydrolysis and polycondensation of an organometallic compound or an inorganic metal compound described in detail below. A back coat layer comprising a colloidal silica sol or a back coat layer comprising an organic resin film is preferred.
(2-1. Backcoat layer containing metal oxide and colloidal silica sol)
A preferred first aspect of the backcoat layer in the present invention includes a backcoat layer containing a metal oxide and a colloidal silica sol.
More specifically, it is formed by a so-called sol-gel reaction solution in which an organometallic compound or an inorganic metal compound is hydrolyzed with a catalyst such as an acid or an alkali and a polycondensation reaction in water and an organic solvent. A backcoat layer is preferred.
Examples of the organic metal compound or inorganic metal compound used for forming the backcoat layer include metal alkoxide, metal acetylacetonate, metal acetate, metal oxalate, metal nitrate, metal sulfate, metal carbonate, metal oxychloride. , Metal chlorides, and condensates obtained by partial hydrolysis of these to form oligomers.
The metal alkoxide is represented by a general formula of M (OR) n (M is a metal element, R is an alkyl group, and n is an oxidation number of the metal element). As specific examples, for example, Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4 , Al (OCH 3 ) 3 , Al ( OC 2 H 5 ) 3 , Al (OC 3 H 7 ) 3 , Al (OC 4 H 9 ) 3 , B (OCH 3 ) 3 , B (OC 2 H 5 ) 3 , B (OC 3 H 7 ) 3 , B (OC 4 H 9 ) 3 , Ti (OCH 3 ) 4 , Ti (OC 2 H 5 ) 4 , Ti (OC 3 H 7 ) 4 , Ti (OC 4 H 9 ) 4 , Zr (OCH 3 ) 4 , Zr (OC 2 H 5 ) 4 , Zr (OC 3 H 7 ) 4 , Zr (OC 4 H 9 ) 4 and the like can be mentioned, for example, Ge, Li, Na, Fe, Ga, Mg, P , Alkoxides of atoms such as Sb, Sn, Ta, and V. Moreover, CH 3 Si (OCH 3) 3, C 2 H 5 Si (OCH 3) 3, CH 3 Si (OC 2 H 5) 3, mono-substituted silicon, such as C 2 H 5 Si (OC 2 H 5) 3 Alkoxides are also used.
これらの有機金属化合物あるいは無機金属化合物は単独、または二つ以上のものを組み合わせて用いることができる。これらの有機金属化合物あるいは無機金属化合物のなかでは金属アルコキシドが反応性に富み、金属−酸素の結合からできた重合体を生成しやすく好ましい。それらのうち、Si(OCH3)4、Si(OC2H5)4、Si(OC3H7)4、Si(OC4H9)4、などの珪素のアルコキシド化合物が安価で入手し易く、それから得られる金属酸化物の被覆層が優れており特に好ましい。また、これらの珪素のアルコキシド化合物を部分加水分解して縮合したオリゴマーも好ましい。この例としては、約40質量%のSiO2を含有する平均5量体のエチルシリケートオリゴマーが挙げられる。 These organometallic compounds or inorganic metal compounds can be used alone or in combination of two or more. Among these organic metal compounds or inorganic metal compounds, metal alkoxides are preferable because they are highly reactive and easily form a polymer made of a metal-oxygen bond. Among them, silicon alkoxide compounds such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , and Si (OC 4 H 9 ) 4 are inexpensive and easily available. The coating layer of the metal oxide obtained therefrom is excellent and particularly preferred. Also preferred are oligomers obtained by condensing these silicon alkoxide compounds by partial hydrolysis. An example of this is an average pentameric ethylsilicate oligomer containing about 40% by weight of SiO 2 .
さらに、前記珪素のテトラアルコキシ化合物の一個または二個のアルコキシ基をアルキル基や反応性を持った基で置換したいわゆるシランカップリング剤を、これら金属アルコキシドと併用することも好ましい例として挙げられる。本発明におけるバックコート層に添加するシランカップリング剤としては、前記珪素のテトラアルコキシ化合物における一個または二個のアルコキシ基を炭素数4〜20の長鎖アルキル、フッ素置換アルキル基などの疎水性の置換基で置換したシランカップリング剤が挙げられ、特にフッ素置換アルキル基を有するシランカップリング剤が好ましい。この様なシランカップリング剤の具体例としては、CF3CH2CH2Si(OCH3)3、CF3CF2CH2CH2Si(OCH3)3、CF3CH2CH2Si(OC2H5)3などが挙げられ、市販品では、信越化学株式会社製LS−1090等が挙げられる。上記フッ素置換アルキル基で置換されたシランカップリング剤は、本発明における有機フッ素化合物に包含される。このようなシランカップリング剤の好ましい含有量は、バックコート層全固形分の5〜90質量%であり、より好ましく10〜80質量%の範囲である。 Furthermore, it is also preferable to use a so-called silane coupling agent in which one or two alkoxy groups of the silicon tetraalkoxy compound are substituted with an alkyl group or a reactive group in combination with these metal alkoxides. As the silane coupling agent to be added to the backcoat layer in the present invention, one or two alkoxy groups in the silicon tetraalkoxy compound may be a hydrophobic group such as a long-chain alkyl group having 4 to 20 carbon atoms or a fluorine-substituted alkyl group. Examples include silane coupling agents substituted with a substituent, and silane coupling agents having a fluorine-substituted alkyl group are particularly preferred. Specific examples of such a silane coupling agent include CF 3 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 CH 2 CH 2 Si (OC). 2 H 5 ) 3 and the like, and commercially available products include LS-1090 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. The silane coupling agent substituted with the fluorine-substituted alkyl group is included in the organic fluorine compound in the present invention. The preferable content of such a silane coupling agent is 5 to 90% by mass, more preferably 10 to 80% by mass, based on the total solid content of the backcoat layer.
バックコート層のゾル−ゲル塗布液を形成する際に有用な触媒としては、有機、無機の酸およびアルカリが用いられる。その例としては、塩酸、硫酸、亜硫酸、硝酸、亜硝酸、フッ化水素酸、リン酸、亜リン酸などの無機酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、グリコール酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、フロロ酢酸、ブロモ酢酸、メトキシ酢酸、オキサロ酢酸、クエン酸、シュウ酸、コハク酸、リンゴ酸、酒石酸、フマル酸、マレイン酸、マロン酸、アスコルビン酸、安息香酸、3,4−ジメトキシ安息香酸のような置換安息香酸、フェノキシ酢酸、フタル酸、ピクリン酸、ニコチン酸、ピコリン酸、ピラジン、ピラゾール、ジピコリン酸、アジピン酸、p−トルイル酸、テレフタル酸、1,4−シクロヘキセン−2,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸などの有機酸、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の水酸化物、アンモニア、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアルカリが挙げられる。 As a catalyst useful when forming a sol-gel coating solution for the backcoat layer, organic and inorganic acids and alkalis are used. Examples include hydrochloric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, nitric acid, nitrous acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, phosphorous acid and other inorganic acids, formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, glycolic acid, chloroacetic acid, dichloroacetic acid, Trichloroacetic acid, fluoroacetic acid, bromoacetic acid, methoxyacetic acid, oxaloacetic acid, citric acid, oxalic acid, succinic acid, malic acid, tartaric acid, fumaric acid, maleic acid, malonic acid, ascorbic acid, benzoic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid Substituted benzoic acids such as acids, phenoxyacetic acid, phthalic acid, picric acid, nicotinic acid, picolinic acid, pyrazine, pyrazole, dipicolinic acid, adipic acid, p-toluic acid, terephthalic acid, 1,4-cyclohexene-2,2 -Organic acids such as dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, and hydroxy acids of alkali metals and alkaline earth metals Things, ammonia, ethanolamine, diethanolamine, and alkali such as triethanolamine.
他の好ましい触媒として、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、およびリン酸エステル類など、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニルなどの有機酸も使用できる。 Other preferred catalysts include sulfonic acids, sulfinic acids, alkyl sulfates, phosphonic acids, and phosphate esters, such as p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl acid. Organic acids such as phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, and diphenyl phosphate can also be used.
これらの触媒は単独または二種以上を組み合わせて用いることができる。触媒は原料の金属化合物に対して0.001〜10質量%が好ましく、より好ましくは0.05〜5質量%の範囲である。触媒量がこの範囲より少ないとゾル−ゲル反応の開始が遅くなり、この範囲より多いと反応が急速に進み、不均一なゾル−ゲル粒子ができるため、得られる被覆層は剥離しやすいものとなる。 These catalysts can be used alone or in combination of two or more. The catalyst is preferably from 0.001 to 10% by mass, more preferably from 0.05 to 5% by mass, based on the starting metal compound. If the amount of the catalyst is less than this range, the start of the sol-gel reaction is delayed, and if it is more than this range, the reaction proceeds rapidly and non-uniform sol-gel particles are formed. Become.
ゾル−ゲル反応を開始させるには更に適量の水が必要であり、その好ましい添加量は原料の金属化合物を完全に加水分解するのに必要な水の量の0.05〜50倍モルが好ましく、より好ましくは0.5〜30倍モルである。水の量がこの範囲より少ないと加水分解が進みにくく、この範囲より多いと原料が薄められるためか、やはり反応が進みにくくなる。 In order to initiate the sol-gel reaction, an appropriate amount of water is further required, and the preferred amount of addition is preferably 0.05 to 50 times the amount of water required to completely hydrolyze the starting metal compound. More preferably, it is 0.5 to 30 times mol. If the amount of water is less than this range, the hydrolysis is difficult to proceed, and if it is more than this range, the reaction is difficult to proceed because the raw material is diluted.
ゾル−ゲル反応液には更に溶媒が添加される。溶媒は原料の金属化合物を溶解し、反応で生じたゾル−ゲル粒子を溶解または分散するものであればよく、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどの低級アルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトンなどのケトン類が用いられる。またバックコート層の塗布面質向上等の目的でエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコールおよびジプロピレングリコールなどのグリコール類のモノまたはジアルキルエーテルおよび酢酸エステルを用いることができる。これらの溶媒の中で水と混合可能な低級アルコール類が好ましい。ゾル−ゲル反応液は塗布するのに適した濃度に溶媒で調製されるが、溶媒の全量を最初から反応液に加えると原料が希釈されるためか加水分解反応が進みにくくなる。そこで溶媒の一部をゾル−ゲル反応液に加え、反応が進んだ時点で残りの溶媒を加える方法が好ましい。
このようにして形成された金属酸化物とコロイダルシリカゾルとを含むバックコート層の塗布量としては、0.01〜3.0g/m2であることが好ましく、0.03〜1.0g/m2であることがさらに好ましい。
A solvent is further added to the sol-gel reaction solution. The solvent is not particularly limited as long as it dissolves the starting metal compound and dissolves or disperses the sol-gel particles produced by the reaction, such as lower alcohols such as methanol, ethanol, propanol, and butanol, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, and the like. Ketones are used. In addition, mono- or dialkyl ethers and acetates of glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, and dipropylene glycol can be used for the purpose of improving the coating surface quality of the backcoat layer. Of these solvents, lower alcohols that are miscible with water are preferred. The sol-gel reaction solution is prepared with a solvent at a concentration suitable for coating. However, if the total amount of the solvent is added to the reaction solution from the beginning, the raw material is diluted, making it difficult for the hydrolysis reaction to proceed. Therefore, a method of adding a part of the solvent to the sol-gel reaction solution and adding the remaining solvent when the reaction proceeds is preferable.
The coating amount of the back coat layer containing the metal oxide thus formed and the colloidal silica sol is preferably 0.01 to 3.0 g / m 2 and preferably 0.03 to 1.0 g / m 2. 2 is more preferable.
(2−2.有機樹脂被膜からなるバックコート層)
本発明におけるバックコート層の他の好ましい例としては、支持体裏面に形成された有機樹脂被膜からなるバックコート層が挙げられる。
本態様においてバックコート層を形成しうる好ましい樹脂のとしては、例えば、ユリア樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ジアリルフタレート樹脂等の熱硬化性樹脂が挙げられる。なかでも、形成される層の物理的強度が高いという観点から、フェノール樹脂が好ましく、より具体的には、例えば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,又はm−/p−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂やピロガロールアセトン樹脂が好ましく挙げられる。
(2-2. Backcoat layer made of organic resin film)
Another preferred example of the back coat layer in the present invention includes a back coat layer comprising an organic resin film formed on the back surface of the support.
Examples of a preferable resin that can form the backcoat layer in this embodiment include thermosetting resins such as urea resin, epoxy resin, phenol resin, melamine resin, and diallyl phthalate resin. Among these, a phenol resin is preferable from the viewpoint that the physical strength of the formed layer is high, and more specifically, for example, a phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m− / p. Preferred are novolak resins and pyrogallol acetone resins such as mixed cresol formaldehyde resins, phenol / cresol (which may be either m-, p-, or m- / p-mixed) mixed formaldehyde resins.
また、フェノール樹脂としては、更に、米国特許第4,123,279号明細書に記載されているように、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体が挙げられる。
フェノール樹脂としては、その重量平均分子量が500以上であることが画像形成性の点で好ましく、1,000〜700,000であることがより好ましい。また、その数平均分子量が500以上であることが好ましく、750〜650,000であることがより好ましい。分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は1.1〜10であることが好ましい。
Further, as the phenol resin, as described in US Pat. No. 4,123,279, an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin is further used. Examples thereof include a condensation polymer of phenol and formaldehyde as a substituent.
The phenol resin preferably has a weight average molecular weight of 500 or more from the viewpoint of image forming properties, and more preferably 1,000 to 700,000. The number average molecular weight is preferably 500 or more, and more preferably 750 to 650,000. The dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.
また、これらのフェノール樹脂は単独で用いるのみならず、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。組み合わせる場合には、米国特許第4123279号明細書に記載されているような、t−ブチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体や、オクチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体、本発明者らが先に提出した特開2000−241972号公報に記載の芳香環上に電子吸引性基を有するフェノール構造を有する有機樹脂などを併用してもよい。 Moreover, these phenol resins may be used alone or in combination of two or more. In the case of combination, it has 3 to 8 carbon atoms such as a condensation polymer of t-butylphenol and formaldehyde or a condensation polymer of octylphenol and formaldehyde as described in US Pat. No. 4,123,279. A polycondensation product of phenol and formaldehyde having an alkyl group as a substituent, an organic compound having a phenol structure having an electron-withdrawing group on an aromatic ring described in JP-A-2000-241972 previously filed by the present inventors You may use resin etc. together.
本発明におけるバックコート層には、塗布面状性の改良や表面物性制御の目的で、界面活性剤添加することができる。ここで用いられる界面活性剤としては、カルボン酸、スルホン酸、硫酸エステル及び燐酸エステルのいずれかを有するアニオン型の界面活性剤;脂肪族アミン、第4級アンモニウム塩のようなカチオン型の界面活性剤;ベタイン型の両性界面活性剤;又は、ポリオキシ化合物の脂肪酸エステル、ポリアルキンレンオキシド縮合型、ポリエチレンイミン縮合型の様なノニオン型界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられるが、特にフッ素系界面活性剤が好ましい。
界面活性剤の添加量は、目的に応じて適宜選択されるが、一般的には、バックコート層中に0.1〜10.0質量%の範囲で添加することができる。
A surfactant can be added to the backcoat layer in the present invention for the purpose of improving the coating surface properties and controlling the surface properties. As the surfactant used here, an anionic surfactant having any of carboxylic acid, sulfonic acid, sulfate ester and phosphate ester; a cationic surfactant such as aliphatic amine, quaternary ammonium salt Agents: Betaine-type amphoteric surfactants; or non-ionic surfactants such as fatty acid esters of polyoxy compounds, polyalkynelene oxide condensation type, polyethyleneimine condensation type, fluorine-based surfactants, etc. A fluorochemical surfactant is preferred.
The addition amount of the surfactant is appropriately selected depending on the purpose, but can be generally added in the range of 0.1 to 10.0% by mass in the back coat layer.
フッ素系界面活性剤としては、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤が特に好ましい。このようなフッ素系界面活性剤について詳細に述べる。
バックコート層に特に好適に使用しうるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニオン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などのカチオン型及びパーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基及び親水性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基及び親油性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。更にこれらの中でも前記フルオロ脂肪族基が下記一般式(1)で表される基であることが好ましい。
As the fluorine-based surfactant, a fluorine-based surfactant containing a perfluoroalkyl group in the molecule is particularly preferable. Such a fluorochemical surfactant will be described in detail.
Fluorosurfactants that can be used particularly favorably in the backcoat layer include anionic types such as perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, and perfluoroalkyl phosphates, and amphoteric such as perfluoroalkyl betaines. Type, cationic type such as perfluoroalkyltrimethylammonium salt and perfluoroalkylamine oxide, perfluoroalkylethylene oxide adduct, perfluoroalkyl group and hydrophilic group-containing oligomer, perfluoroalkyl group and lipophilic group-containing oligomer, perfluoro Nonionic types such as alkyl group, hydrophilic group and lipophilic group-containing oligomer, perfluoroalkyl group and lipophilic group-containing urethane are included. Among these, the fluoroaliphatic group is preferably a group represented by the following general formula (1).
(前記一般式(1)中、R2及びR3は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜4個のアルキル基を表し、Xは単結合もしくはアルキレン基、アリーレン基などから選択される2価の連結基を表し、mは0以上の整数、nは1以上の整数を表す。)
ここで、Xが2価の連結基を表すとき、アルキレン基、アリーレン基等の連結基は、置換基を有するものであってもよく、また、その構造中に、エーテル基、エステル基、アミド基などから選ばれる連結基を有するものであってもよい。アルキレン基、アリーレン基に導入可能な置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これらはさらに置換基を有するものであってもよい。これらのうち、Xとしては、アルキレン基、アリーレン基、又は、エーテル基、エステル基、アミド基などから選ばれる連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、又は、内部にエーテル基或いはエステル基を有するアルキレン基がより好ましく、無置換のアルキレン基、又は、内部にエーテル基或いはエステル基を有するアルキレン基が最も好ましい。
このようなフッ素系界面活性剤をバックコート層中に0.5〜10質量%程度含むことが好ましい。
(In the general formula (1), R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and X is selected from a single bond, an alkylene group, an arylene group, or the like. Represents a divalent linking group, m represents an integer of 0 or more, and n represents an integer of 1 or more.)
Here, when X represents a divalent linking group, the linking group such as an alkylene group or an arylene group may have a substituent, and in the structure, an ether group, an ester group, an amide It may have a linking group selected from a group and the like. Examples of the substituent that can be introduced into the alkylene group and the arylene group include a halogen atom, a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, and an aryl group, and these may further have a substituent. Good. Among these, X is preferably an alkylene group, an arylene group, or an alkylene group having a linking group selected from an ether group, an ester group, an amide group, and the like, an unsubstituted alkylene group, an unsubstituted arylene group, or An alkylene group having an ether group or an ester group inside is more preferable, and an unsubstituted alkylene group or an alkylene group having an ether group or an ester group inside is most preferable.
It is preferable that about 0.5 to 10% by mass of such a fluorosurfactant is contained in the backcoat layer.
有機樹脂被膜からなるバックコート層をアルミニウム支持体の裏面に被覆するには種々の方法が適用できる。バックコート層成分、具体的には、有機樹脂を主成分とする各原料に所望によりシリカゲル等の微粒子を添加した後、例えば適当な溶媒に溶解して、または乳化分散液にして塗布液を調製し、支持体裏面に塗布し、乾燥する方法や、予めフィルム状に成形した有機樹脂膜を、接着剤を介して或いは加熱により、アルミニウム支持体に貼り合わせる方法、溶融押し出し機で溶融皮膜を形成し、支持体に貼り合わせる方法等が挙げられる。なかでも、塗布量制御の容易性の観点から最も好ましいのは溶液にして塗布、乾燥する方法である。ここで使用される溶媒としては、特開昭62−251739号公報に記載されているような有機溶剤が単独あるいは混合して用いられる。 Various methods can be applied to cover the back surface of the aluminum support with the backcoat layer made of an organic resin film. After adding fine particles such as silica gel to the backcoat layer components, specifically, organic resin as the main ingredient, if desired, for example, dissolved in an appropriate solvent or prepared as an emulsified dispersion to prepare a coating solution Then, it is applied to the back side of the support and dried, or an organic resin film previously formed into a film shape is attached to the aluminum support via an adhesive or by heating, and a molten film is formed with a melt extruder. And a method of bonding to a support. Among these, the most preferable method from the viewpoint of easy control of the coating amount is a method of coating and drying the solution. As the solvent used here, an organic solvent as described in JP-A-62-251739 is used alone or in combination.
バックコート層塗布液を支持体表面に塗布する手段としては、バーコーター、ロールコーター、グラビアコーター、あるいはカーテンコーター、エクストルーダ、スライドホッパー等公知の計量塗布装置を挙げることができるが、アルミニウム支持体裏面に傷を付け無い点からカーテンコーター、エクストルーダ、スライドホッパー等の非接触型定量コーターが特に好ましい。 Examples of means for applying the backcoat layer coating solution to the support surface include a bar coater, a roll coater, a gravure coater, a known coater, such as a curtain coater, an extruder, and a slide hopper. Non-contact quantitative coaters such as curtain coaters, extruders, slide hoppers, etc. are particularly preferred from the viewpoint of not scratching the surface.
本発明のバックコート層の厚さは、金属酸化物とコロイダルシリカゾルとを含むバックコート層、有機樹脂からなるバックコート層のいずれにおいても、形成された膜厚が0.1〜8μmの範囲であることが好ましい。この厚さの範囲において、アルミ支持体裏面の表面滑り性が向上し、且つ、印刷中、印刷周辺で用いられる薬品によるバックコート層の溶解や膨潤による厚みの変動、及び、それに起因する印圧が変化による印刷特性の劣化を抑制することができる。
上記バックコート層において、最も好ましいのは、有機樹脂からなるバックコート層である。
The thickness of the back coat layer of the present invention is such that the formed film thickness is in the range of 0.1 to 8 μm in both the back coat layer containing the metal oxide and the colloidal silica sol and the back coat layer made of an organic resin. Preferably there is. In this thickness range, the surface slipperiness of the back surface of the aluminum support is improved, and during printing, the thickness variation due to dissolution and swelling of the backcoat layer by chemicals used around the printing, and the printing pressure resulting therefrom Can suppress the deterioration of the printing characteristics due to the change.
In the back coat layer, the most preferable is a back coat layer made of an organic resin.
〔平版印刷版原版の作製〕
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、記録層と保護層とをこの順に設け、更に必要に応じて、下塗り層等を設けてなる。かかる平版印刷版原版は、上述の各種成分を含む塗布液を、それぞれ、適当な溶媒に溶かして、支持体上に、順次塗布することにより製造することができる。
[Preparation of lithographic printing plate precursor]
The lithographic printing plate precursor according to the invention is provided with a recording layer and a protective layer in this order on a support, and further, if necessary, an undercoat layer. Such a lithographic printing plate precursor can be produced by dissolving the above-described coating liquids containing the various components in an appropriate solvent and sequentially coating them on a support.
記録層を塗設する際には、前記記録層成分を種々の有機溶剤に溶かして、記録層塗布液とし、支持体又は下塗り層上に塗布される。
ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独或いは混合して使用することができる。そして、記録層塗布液中の固形分の濃度は、2〜50質量%が適当である。
When the recording layer is applied, the recording layer components are dissolved in various organic solvents to form a recording layer coating solution, which is applied onto the support or the undercoat layer.
Solvents used here include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl Ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, Examples include ethyl lactate. These solvents can be used alone or in combination. The concentration of the solid content in the recording layer coating solution is suitably 2 to 50% by mass.
前記記録層の被覆量は、主に、記録層の感度、現像性、露光膜の強度・耐刷性に影響し得るもので、用途に応じ適宜選択することが望ましい。被覆量が少なすぎる場合には、耐刷性が十分でなくなる。一方多すぎる場合には、感度が下がり、露光に時間がかかる上、現像処理にもより長い時間を要するため好ましくない。走査露光用平版印刷版原版としては、その被覆量は乾燥後の質量で約0.1g/m2〜約10g/m2の範囲が適当である。より好ましくは0.5〜5g/m2である。 The coating amount of the recording layer mainly affects the sensitivity of the recording layer, the developability, the strength and printing durability of the exposed film, and is preferably selected as appropriate according to the application. When the coating amount is too small, the printing durability is not sufficient. On the other hand, if the amount is too large, the sensitivity is lowered, it takes time for exposure, and a longer time is required for development processing, which is not preferable. As the planographic printing plate precursor for scanning exposure, the coating amount is suitably in the range of about 0.1 g / m 2 to about 10 g / m 2 in terms of the mass after drying. More preferably from 0.5 to 5 g / m 2.
〔中間層(下塗り層)〕
本発明に係る平版印刷版原版には、記録層と支持体との間の密着性や汚れ性を改善する目的で、中間層(下塗り層)を設けてもよい。このような中間層の具体例としては、特公昭50−7481号、特開昭54−72104号、特開昭59−101651号、特開昭60−149491号、特開昭60−232998号、特開平3−56177号、特開平4−282637号、特開平5−16558号、特開平5−246171号、特開平7−159983号、特開平7−314937号、特開平8−202025号、特開平8−320551号、特開平9−34104号、特開平9−236911号、特開平9−269593号、特開平10−69092号、特開平10−115931号、特開平10−161317号、特開平10−260536号、特開平10−282682号、特開平11−84674号、特開平11−38635号、特開平11−38629号、特開平10−282645号、特開平10−301262号、特開平11−24277号、特開平11−109641号、特開平10−319600号、特開平11−84674号、特開平11−327152号、特開2000−10292号、特開2000−235254号、特開2000−352854号、特開2001−209170号、特願平11−284091号等に記載のものを挙げることができる。
[Intermediate layer (undercoat layer)]
The lithographic printing plate precursor according to the invention may be provided with an intermediate layer (undercoat layer) for the purpose of improving the adhesion and soiling between the recording layer and the support. Specific examples of such an intermediate layer include JP-B-50-7481, JP-A-54-72104, JP-A-59-101651, JP-A-60-149491, JP-A-60-232998, JP-A-3-56177, JP-A-4-282737, JP-A-5-16558, JP-A-5-246171, JP-A-7-159983, JP-A-7-314937, JP-A-8-202025, Special Kaihei 8-320551, JP 9-34104, JP 9-236911, JP 9-269593, JP 10-69092, JP 10-115931, JP 10-161317, JP 10-260536, JP-A-10-282682, JP-A-11-84684, JP-A-11-38635, JP-A-11-38629, JP-A-10-282645, JP-A-10-301262, JP-A-11-24277, JP-A-11-109641, JP-A-10-319600, JP-A-11-84684, JP-A-11-327152, JP-A-11-327152 Examples thereof include those described in JP 2000-10292, JP 2000-235254, JP 2000-352854, JP 2001-209170, and Japanese Patent Application No. 11-284091.
<製版方法>
以下、本発明の平版印刷版の製版方法について説明する。
本発明の平版印刷版の製版方法は、上述の本発明の平版印刷版原版を、保護層とアルミニウム支持体裏面とを直接接触させて複数枚積層してなる積層体を、プレートセッター内にセットし、該平版印刷版原版を1枚ずつ自動搬送した後に、750nm〜1400nmの波長で露光処理した後、実質的に加熱処理を経ることなく、搬送速度が1.25m/分以上の条件にて現像処理を行なうことを特徴とする。
上述の本発明の平版印刷版原版は、中間に合紙を挟み込むことなく積層しても、平版印刷版原版の間の密着性や、保護層へのキズの発生が抑制されるため、上記のような製版方法に適用することができる。
本発明の平版印刷版の製版方法によれば、平版印刷版原版を、合紙を挟み込むことなく積層した積層体を用いることから、合紙の除去が不必要となり、製版工程における生産性が向上する。
<Plate making method>
Hereinafter, the plate making method of the planographic printing plate of the present invention will be described.
The plate making method of the lithographic printing plate of the present invention comprises the step of setting a laminate comprising a plurality of the above-described lithographic printing plate precursors of the present invention in direct contact with the protective layer and the back surface of the aluminum support in a plate setter. Then, after the lithographic printing plate precursor is automatically conveyed one by one, it is exposed at a wavelength of 750 nm to 1400 nm, and is substantially subjected to a heating speed of 1.25 m / min without any heat treatment. Development processing is performed.
Even if the lithographic printing plate precursor of the present invention described above is laminated without interposing the interleaf, the adhesion between the lithographic printing plate precursors and the generation of scratches on the protective layer are suppressed. It can be applied to such a plate making method.
According to the plate-making method of the lithographic printing plate of the present invention, since the laminated body obtained by laminating the lithographic printing plate precursor without sandwiching the slip sheet is used, it is not necessary to remove the slip sheet, and the productivity in the plate-making process is improved. To do.
この製版方法は、上述した本発明の平版印刷版原版の製版にも好適であることはいうまでもないが、少なくとも、赤外線吸収剤、重合開始剤、及び重合性化合物を含有し、750nm〜1400nmの波長の露光によりアルカリ現像液に対する溶解性が低下する重合性ネガ型記録層を備えた平版印刷版原版のいずれにも好適に適用できる。具体的には、本発明に係る平版印刷版原版の記録層を構成する各成分の欄で説明した「赤外線吸収剤、重合開始剤、及び重合性化合物」の各成分を含有する記録層であればよく、バインダーポリマーとしては公知のものを含んでいてもよいし、含まなくてもかまわない。 Needless to say, this plate making method is also suitable for plate making of the above-described lithographic printing plate precursor according to the present invention, but contains at least an infrared absorber, a polymerization initiator, and a polymerizable compound, and is 750 nm to 1400 nm. The present invention can be suitably applied to any lithographic printing plate precursor provided with a polymerizable negative type recording layer whose solubility in an alkaline developer is reduced by exposure at a wavelength of. Specifically, it may be a recording layer containing each component of “infrared absorber, polymerization initiator, and polymerizable compound” explained in the column of each component constituting the recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention. What is necessary is just to include a well-known thing as a binder polymer, and does not need to contain it.
また、本発明の平版印刷版の製版方法が適用される記録層としては、pH10〜13.5のアルカリ現像液に対する未露光部の現像速度が80nm/sec以上、かつ、該アルカリ現像液の露光部での浸透速度が50nF/sec以下である物性を有することが好ましい。この記録層の未露光部の現像速度や硬化後の記録層に対するアルカリ現像液の浸透速度の測定方法は、本出願人が先に出願した特願2004−248535号明細書に記載された方法を用いることができる。記録層の未露光部の現像速度や硬化後の記録層に対するアルカリ現像液の浸透速度の制御は、常法により行うことができるが、代表的なものとしては、前記特定バインダーポリマーを使用する方法の他、未露光部の現像速度の向上には、親水性の化合物の添加が有用であり、露光部への現像液浸透抑制には、疎水性の化合物の添加手段が有用である。 The recording layer to which the lithographic printing plate making method of the present invention is applied has a development rate of 80 nm / sec or more in an unexposed portion with respect to an alkaline developer having a pH of 10 to 13.5, and exposure of the alkaline developer. It is preferable that the penetration rate in the part has a physical property of 50 nF / sec or less. The method for measuring the developing speed of the unexposed portion of the recording layer and the penetration speed of the alkaline developer into the recording layer after curing is the method described in Japanese Patent Application No. 2004-248535 filed earlier by the present applicant. Can be used. Control of the development speed of the unexposed portion of the recording layer and the penetration speed of the alkaline developer into the recording layer after curing can be performed by a conventional method, but as a typical method, a method using the specific binder polymer In addition, the addition of a hydrophilic compound is useful for improving the developing speed of the unexposed area, and the means for adding a hydrophobic compound is useful for suppressing the penetration of the developer into the exposed area.
〔露光〕
本発明における露光処理に用いられる光源としては、用いる増感色素に応じた波長で露光し得るものであれば、如何なるものでもよいが、赤外線レーザーが好適なものとして挙げられる。中でも、本発明においては、750nm〜1400nmの波長の赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーにより画像露光されることが好ましい。レーザーの出力は100mW以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、1画素あたりの露光時間は20μ秒以内であることが好ましい。平版印刷版原版に照射されるエネルギーは10〜300mJ/cm2であることが好ましい。露光のエネルギーが低すぎると記録層の硬化が十分に進行しない。また、露光のエネルギーが高すぎると記録層がレーザーアブレーションされ、画像が損傷することがある。
〔exposure〕
The light source used in the exposure process in the present invention, as long as it is capable of exposing a wave length corresponding to the sensitizing dyes used may be any, but is mentioned as an infrared laser is preferred. Especially, in this invention, it is preferable to image-expose with the solid laser and semiconductor laser which radiate | emit infrared rays with a wavelength of 750 nm-1400 nm. The laser output is preferably 100 mW or more, and a multi-beam laser device is preferably used to shorten the exposure time. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec. The energy applied to the planographic printing plate precursor is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 . If the exposure energy is too low, the recording layer does not sufficiently cure. If the exposure energy is too high, the recording layer may be laser ablated and the image may be damaged.
本発明における露光処理では、光源の光ビームをオーバーラップさせて露光することができる。オーバーラップとは副走査ピッチ幅がビーム径より小さいことをいう。オーバーラップは、例えば、ビーム径をビーム強度の半値幅(FWHM)で表わしたとき、FWHM/副走査ピッチ幅(オーバーラップ係数)で定量的に表現することができる。本発明ではこのオーバーラップ係数が0.1以上であることが好ましい。 In the exposure processing in the present invention, exposure can be performed by overlapping light beams of light sources. Overlap means that the sub-scanning pitch width is smaller than the beam diameter. The overlap can be expressed quantitatively by FWHM / sub-scanning pitch width (overlap coefficient), for example, when the beam diameter is expressed by the half width (FWHM) of the beam intensity. In the present invention, the overlap coefficient is preferably 0.1 or more.
本発明に使用する露光装置の光源の走査方式は特に限定はなく、円筒外面走査方式、円筒内面走査方式、平面走査方式などを用いることができる。また、光源のチャンネルは単チャンネルでもマルチチャンネルでもよいが、円筒外面方式の場合にはマルチチャンネルが好ましく用いられる。 The scanning method of the light source of the exposure apparatus used in the present invention is not particularly limited, and a cylindrical outer surface scanning method, a cylindrical inner surface scanning method, a planar scanning method, or the like can be used. The channel of the light source may be a single channel or a multi-channel, but in the case of a cylindrical outer surface system, a multi-channel is preferably used.
本発明においては、上述のように、露光処理された平版印刷版原版は、特段の加熱処理及び水洗処理を行なうことなく、現像処理に供される。この加熱処理を行なわないことで、加熱処理に起因する画像の不均一性を抑制することができる。また、加熱処理及び水洗処理を行なわないことで、現像処理において安定な高速処理が可能となる。 In the present invention, as described above, the exposed lithographic printing plate precursor is subjected to a development process without performing any special heat treatment and water washing treatment. By not performing this heat treatment, image non-uniformity due to the heat treatment can be suppressed. Further, by performing neither heat treatment nor water washing treatment, stable high-speed processing is possible in development processing.
〔現像〕
本発明における現像処理では、現像液を用いて、記録層の非画像部を除去する。
なお、本発明においては、上述のように、現像処理における処理速度、即ち、現像処理における平版印刷版原版の搬送速度(ライン速度)は、1.25m/分以上であることを要し、より好ましくは、1.35m/分以上である。また、搬送速度の上限値には特に制限はないが、搬送の安定性の観点からは、3m/分以下であることが好ましい。
以下、本発明に用いられる現像液について説明する。
〔developing〕
In the development processing in the present invention, the non-image portion of the recording layer is removed using a developer.
In the present invention, as described above, the processing speed in the development process, that is, the transport speed (line speed) of the lithographic printing plate precursor in the development process needs to be 1.25 m / min or more. Preferably, it is 1.35 m / min or more. Moreover, there is no restriction | limiting in particular in the upper limit of a conveyance speed, However, From a viewpoint of the stability of conveyance, it is preferable that it is 3 m / min or less.
Hereinafter, the developer used in the present invention will be described.
(現像液)
本発明に用いられる現像液は、pH14以下のアルカリ水溶液であることが好ましく、また、芳香族アニオン界面活性剤を含有することが好ましい。
(Developer)
The developer used in the present invention is preferably an alkaline aqueous solution having a pH of 14 or less, and preferably contains an aromatic anionic surfactant.
(芳香族アニオン界面活性剤)
本発明における現像液に用いられる芳香族アニオン界面活性剤は、現像促進効果、重合性ネガ型の記録層成分及び保護層成分の現像液中での分散安定化効果があり、現像処理安定化において好ましい。中でも、本発明に用いられる芳香族アニオン界面活性剤としては、下記一般式(A)又は一般式(B)で表される化合物であることが好ましい。
(Aromatic anionic surfactant)
The aromatic anionic surfactant used in the developer in the present invention has a development accelerating effect and a dispersion stabilizing effect in the developer of the polymerizable negative recording layer component and the protective layer component. preferable. Among these, the aromatic anionic surfactant used in the present invention is preferably a compound represented by the following general formula (A) or general formula (B).
上記一般式(A)又は一般式(B)において、R1、R3は、それぞれ独立に、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数1〜5のアルキレン基を表し、具体的には、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基等が挙げられ、中でも、エチレン基、プロピレン基が特に好ましい。
m、nは、それぞれ独立に、1〜100から選択される整数を表し、中でも、1〜30が好ましく、2〜20がより好ましい。また、mが2以上の場合、複数存在するR1は同一でも異なっていてもよい。同じく、nが2以上の場合、複数存在するR3は同一でも異なっていてもよい。
t、uは、それぞれ独立に、0又は1を表す。
In the above general formula (A) or general formula (B), R 1 and R 3 each independently represents a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, specifically, an ethylene group. , Propylene group, butylene group, pentylene group, and the like, among which ethylene group and propylene group are particularly preferable.
m and n each independently represent an integer selected from 1 to 100. Among them, 1 to 30 are preferable, and 2 to 20 are more preferable. When m is 2 or more, a plurality of R 1 may be the same or different. Similarly, when n is 2 or more, a plurality of R 3 may be the same or different.
t and u each independently represents 0 or 1.
R2、R4は、それぞれ独立に、直鎖又は分岐鎖の炭素数1〜20のアルキル基を表し、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ドデシル基等が挙げられ、中でも、メチル基、エチル基、iso−プロピル基、n−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、tert−ブチル基が特に好ましい。
p、qはそれぞれ、0〜2から選択される整数を表す。Y1、Y2は、それぞれ単結合、又は炭素原子数1〜10のアルキレン基を表し、具体的には、単結合、メチレン基、エチレン基が好ましく、特に単結合が好ましい。
(Z1)r+、(Z2)s+は、それぞれ独立に、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、或いは、無置換又はアルキル基で置換されたアンモニウムイオンを表し、具体例としては、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、マグネシウムイオン、カルシウムイオン、アンモニウムイオン、炭素数1〜20の範囲の、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基が置換した2級〜4級のアンモニウムイオンなどが挙げられ、特に、ナトリウムイオンが好ましい。r、sはそれぞれ、1又は2を表す。
以下に、具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
R 2 and R 4 each independently represent a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, specifically, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, dodecyl group Among them, a methyl group, an ethyl group, an iso-propyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an iso-butyl group, and a tert-butyl group are particularly preferable.
p and q each represent an integer selected from 0 to 2; Y 1 and Y 2 each represent a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and specifically, a single bond, a methylene group or an ethylene group is preferable, and a single bond is particularly preferable.
(Z 1 ) r + and (Z 2 ) s + each independently represents an alkali metal ion, an alkaline earth metal ion, or an ammonium ion that is unsubstituted or substituted with an alkyl group. Sodium ion, potassium ion, magnesium ion, calcium ion, ammonium ion, secondary to quaternary ammonium ion substituted with an alkyl group, aryl group, or aralkyl group in the range of 1 to 20 carbon atoms, etc. In particular, sodium ion is preferable. r and s each represent 1 or 2.
Specific examples are shown below, but the present invention is not limited thereto.
これら芳香族アニオン界面活性剤は、単独で使用してもよいし、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。芳香族アニオン界面活性剤の添加量は、現像液中における芳香族アニオン界面活性剤の濃度が1.0〜10質量%の範囲とすることが好ましく、より好ましくは2〜10質量%の範囲とすることが効果的である。ここで、含有量が1.0質量%以下であると、現像性低下及び記録層成分の溶解性低下を招き、含有量が10質量%以上であると、印刷版の耐刷性を低下させる。 These aromatic anionic surfactants may be used alone or in appropriate combination of two or more. The amount of the aromatic anionic surfactant added is preferably such that the concentration of the aromatic anionic surfactant in the developer is in the range of 1.0 to 10% by mass, more preferably in the range of 2 to 10% by mass. It is effective to do. Here, when the content is 1.0% by mass or less, the developability and the solubility of the recording layer components are lowered, and when the content is 10% by mass or more, the printing durability of the printing plate is reduced. .
本発明に係る現像液には、前記芳香族アニオン界面活性剤以外に、その他の界面活性剤を併用してもよい。その他の界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンステアレート等のポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンセスキオレエート、ソルビタントリオレエート等のソルビタンアルキルエステル類、グリセロールモノステアレート、グリセロールモノオレート等のモノグリセリドアルキルエステル類等のノニオン界面活性剤である。
これらその他の界面活性剤の現像液中における含有量は有効成分換算で、0.1から10質量%が好ましい。
In addition to the aromatic anionic surfactant, other surfactants may be used in combination with the developer according to the present invention. Examples of other surfactants include polyoxyethylene naphthyl ether, polyoxyethylene alkylphenyl ether, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene stearyl ether, Polyoxyethylene alkyl esters such as oxyethylene stearate, sorbitan monolaurate, sorbitan monostearate, sorbitan distearate, sorbitan monooleate, sorbitan sesquioleate, sorbitan trioleate, sorbitan alkyl esters, glycerol mono Nonionic surfactants such as monoglyceride alkyl esters such as stearate and glycerol monooleate.
The content of these other surfactants in the developer is preferably from 0.1 to 10% by mass in terms of active ingredients.
(2価金属に対するキレート剤)
本発明に係る現像液には、例えば、硬水に含まれるカルシウムイオンなどによる影響を抑制する目的で、2価金属に対するキレート剤を含有させることが好ましい。2価金属に対するキレート剤としては、例えば、Na2P2O7、Na5P3O3、Na3P3O9、Na2O4P(NaO3P)PO3Na2、カルゴン(ポリメタリン酸ナトリウム)などのポリリン酸塩、例えばエチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、そのアミン塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、ナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,3−ジアミノ−2−プロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのようなアミノポリカルボン酸類の他2−ホスホノブタントリカルボン酸−1,2,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;2−ホスホノブタノントリカルボン酸−2,3,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1−ホスホノエタントリカルボン酸−1,2、2、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような有機ホスホン酸類を挙げることができ、中でも、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、そのアミン塩;エチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、そのアンモニウム塩、そのカリウム塩、;ヘキサメチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、そのアンモニウム塩、そのカリウム塩が好ましい。
このようなキレート剤の最適量は使用される硬水の硬度及びその使用量に応じて変化するが、一般的には、使用時の現像液中に0.01〜5質量%、より好ましくは0.01〜0.5質量%の範囲で含有させる。
(Chelating agent for divalent metals)
The developer according to the present invention preferably contains a chelating agent for a divalent metal, for example, for the purpose of suppressing the influence of calcium ions contained in hard water. Examples of the chelating agent for the divalent metal include Na 2 P 2 O 7 , Na 5 P 3 O 3 , Na 3 P 3 O 9 , Na 2 O 4 P (NaO 3 P) PO 3 Na 2 , Calgon (polymetalin). Polyphosphates such as ethylenediaminetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt, its amine salt; diethylenetriaminepentaacetic acid, its potassium salt, sodium salt; triethylenetetraminehexaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt Hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; nitrilotriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; 1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; 1,3-diamino-2 -Propanol tetraacetic acid 2-phosphonobutane tricarboxylic acid-1,2,4, potassium salt thereof, sodium salt thereof; 2-phosphonobutanone tricarboxylic acid-2, in addition to aminopolycarboxylic acids such as potassium salt, sodium salt thereof, etc. 3,4, its potassium salt, its sodium salt; 1-phosphonoethanetricarboxylic acid-1,2,2, its potassium salt, its sodium salt; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, its potassium salt, Examples thereof include organic phosphonic acids such as aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salt, sodium salt, etc. Among them, ethylenediaminetetraacetic acid, potassium salt, sodium salt, amine salt; ethylenediamine; Tetra (methylenephosphonic acid), its ammonium salt, its potash Salt; hexamethylenediamine tetra (methylene phosphonic acid), an ammonium salt, its potassium salt is preferred.
The optimum amount of such a chelating agent varies depending on the hardness of the hard water used and the amount used, but is generally 0.01 to 5% by mass, more preferably 0% in the developing solution at the time of use. It is made to contain in the range of 0.01-0.5 mass%.
また、本発明に係る現像液には、現像調整剤として有機酸のアルカリ金属塩類、無機酸のアルカリ金属塩類を加えてもよい。例えば、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、クエン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウムなどを単独若しくは2種以上を組み合わせて混合して用いてもよい。 Further, an alkali metal salt of an organic acid or an alkali metal salt of an inorganic acid may be added to the developer according to the present invention as a development regulator. For example, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium citrate, potassium, ammonium and the like may be used alone or in combination of two or more.
(アルカリ剤)
本発明に係る現像液に用いられるアルカリ剤としては、例えば、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、硼酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、及び同リチウムなどの無機アルカリ剤及び、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの有機アルカリ剤等が挙げられる。本発明においては、これらを単独で用いてもよいし、若しくは2種以上を組み合わせて混合して用いてもよい。
(Alkaline agent)
Examples of the alkaline agent used in the developer according to the present invention include tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, potassium, ammonium, and lithium. Inorganic alkaline agents such as monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine And organic alkali agents such as diisotopanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine, and tetramethylammonium hydroxide. In the present invention, these may be used alone or in combination of two or more.
また、上記以外のアルカリ剤として、アルカリ珪酸塩を挙げることができる。アルカリ珪酸塩は塩基と組み合わせて使用してもよい。使用するアルカリ珪酸塩としては、水に溶解したときにアルカリ性を示すものであって、例えば珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウム、珪酸アンモニウムなどがある。これらのアルカリ珪酸塩は1種単独でも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Moreover, alkali silicate can be mentioned as alkali agents other than the above. Alkali silicates may be used in combination with a base. The alkali silicate to be used exhibits alkalinity when dissolved in water, and examples thereof include sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate, and ammonium silicate. These alkali silicates may be used alone or in combination of two or more.
本発明に用いられる現像液は、支持体の親水化成分としての珪酸塩の成分である酸化ケイ素SiO2と、アルカリ成分としてのアルカリ酸化物M2O(Mはアルカリ金属又はアンモニウム基を表す)との混合比率、及び濃度の調整により、最適な範囲に容易に調節することができる。酸化ケイ素SiO2とアルカリ酸化物M2Oとの混合比率(SiO2/M2Oのモル比)は、支持体の陽極酸化皮膜が過度に溶解(エッチング)されることに起因する放置汚れや、溶解アルミニウムと珪酸塩との錯体形成に起因する不溶性ガスの発生を抑制するといった観点から、好ましくは0.75〜4.0の範囲であり、より好ましくは0.75〜3.5の範囲で使用される。 The developer used in the present invention is composed of silicon oxide SiO 2 which is a silicate component as a hydrophilizing component of a support and alkali oxide M 2 O as an alkali component (M represents an alkali metal or ammonium group). By adjusting the mixing ratio and concentration, it can be easily adjusted to the optimum range. The mixing ratio (SiO 2 / M 2 O molar ratio) of silicon oxide SiO 2 and alkali oxide M 2 O is the amount of unstained dirt caused by excessive dissolution (etching) of the anodized film of the support. From the viewpoint of suppressing the generation of insoluble gas due to complex formation between dissolved aluminum and silicate, the range is preferably 0.75 to 4.0, more preferably 0.75 to 3.5. Used in.
また、現像液中のアルカリ珪酸塩の濃度としては、支持体の陽極酸化皮膜の溶解(エッチング)抑制効果、現像性、沈殿や結晶生成の抑制効果、及び廃液時における中和の際のゲル化防止効果などの観点から、現像液の質量に対して、SiO2量として、0.01〜1mol/Lが好ましく、より好ましくは0.05〜0.8mol/Lの範囲で使用される。 In addition, the alkali silicate concentration in the developer includes the effect of inhibiting dissolution (etching) of the anodic oxide film on the support, the developability, the effect of inhibiting precipitation and crystal formation, and the gelation during neutralization during waste From the viewpoint of the prevention effect and the like, the SiO 2 amount is preferably 0.01 to 1 mol / L, more preferably 0.05 to 0.8 mol / L with respect to the mass of the developer.
本発明において使用される現像液には、上記の成分の他に、必要に応じて以下のような成分を併用することができる。例えば、安息香酸、フタル酸、p−エチル安息香酸、p−n−プロピル安息香酸、p−イソプロピル安息香酸、p−n−ブチル安息香酸、p−t−ブチル安息香酸、p−t−ブチル安息香酸、p−2−ヒドロキシエチル安息香酸、デカン酸、サリチル酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸等の有機カルボン酸;プロピレングリコール等の有機溶剤;この他、還元剤、染料、顔料、硬水軟化剤、防腐剤等が挙げられる。 In addition to the above components, the following components can be used in combination in the developer used in the present invention, if necessary. For example, benzoic acid, phthalic acid, p-ethylbenzoic acid, pn-propylbenzoic acid, p-isopropylbenzoic acid, pn-butylbenzoic acid, pt-butylbenzoic acid, pt-butylbenzoic acid Acids, p-2-hydroxyethylbenzoic acid, decanoic acid, salicylic acid, organic carboxylic acids such as 3-hydroxy-2-naphthoic acid; organic solvents such as propylene glycol; other reducing agents, dyes, pigments, water softeners And preservatives.
本発明に用いられる現像液は、25℃におけるpHが10〜12.5の範囲であることが好ましく、pH11〜12.5の範囲であることがより好ましい。本発明における現像液は、前記界面活性剤を含むため、このような低pHの現像液を用いても、非画像部において優れた現像性を発現する。このように、現像液のpHを比較的低い値とすることにより、現像時における画像部へのダメージを軽減するとともに、現像液の取扱い性にも優れる。 The developer used in the present invention preferably has a pH in the range of 10 to 12.5 at 25 ° C, and more preferably in the range of pH 11 to 12.5. Since the developer in the present invention contains the surfactant, even if such a low pH developer is used, excellent developability is exhibited in the non-image area. Thus, by setting the pH of the developing solution to a relatively low value, damage to the image area during development is reduced and the handling property of the developing solution is excellent.
また、該現像液の導電率xは、2<x<30mS/cmであることが好ましく、5〜25mS/cmであることがより好ましい。
ここで、導電率を調整するための導電率調整剤として、有機酸のアルカリ金属塩類、無機酸のアルカリ金属塩類等を添加することが好ましい。
The conductivity x of the developer is preferably 2 <x <30 mS / cm, more preferably 5 to 25 mS / cm.
Here, it is preferable to add an alkali metal salt of an organic acid, an alkali metal salt of an inorganic acid, or the like as a conductivity adjusting agent for adjusting the conductivity.
上記の現像液は、露光された平版印刷版原版の現像液及び現像補充液として用いることができ、自動現像機に適用することが好ましい。自動現像機を用いて現像する場合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。本発明の製版方法においてもこの補充方式が好ましく適用される。 The developer can be used as a developer and a development replenisher for the exposed lithographic printing plate precursor, and is preferably applied to an automatic processor. When developing using an automatic developing machine, the developing solution becomes fatigued according to the amount of processing, so that the processing capability may be restored by using a replenishing solution or a fresh developing solution. This replenishment method is also preferably applied to the plate making method of the present invention.
更に、自動現像機を用いて、現像液の処理能力を回復させるためには、米国特許第4,882,246号に記載されている方法で補充することが好ましい。また、特開昭50−26601号、同58−54341号、特公昭56−39464号、同56−42860号、同57−7427号の各公報に記載されている現像液も好ましい。 Further, in order to restore the processing capacity of the developer using an automatic developing machine, it is preferable to replenish by the method described in US Pat. No. 4,882,246. Developers described in JP-A-50-26601, 58-54341, JP-B-56-39464, 56-42860, and 57-7427 are also preferable.
本発明のより好ましい現像補充液は、アルミニウムイオンと水溶性キレート化合物形成能を有するオキシカルボン酸キレート剤と、アルカリ金属の水酸化物と、界面活性剤とを含有し、ケイ酸塩を含有せず、pH11〜13.5の水溶液であることを特徴とする現像補充液である。このような現像補充液を使用することにより、優れた現像性と版材の画像部の強度を損なうことの無い特性を有し、現像液のアルカリによりアルミニウム支持体が溶出されて形成する水酸化アルミニウムの析出が効果的に抑制され、自動現像機の現像浴ローラー表面への水酸化アルミニウムを主成分とする汚れの付着や、引き続く水洗浴内への水酸化アルミニウム析出物の蓄積が低減され、長期間安定に処理することができる。 A more preferred development replenisher of the present invention contains an oxycarboxylic acid chelating agent having an ability to form a water-soluble chelate compound with aluminum ions, an alkali metal hydroxide, and a surfactant, and contains a silicate. A developing replenisher characterized by being an aqueous solution having a pH of 11 to 13.5. By using such a development replenisher, it has excellent developability and characteristics that do not impair the strength of the image area of the plate material, and is formed by elution of the aluminum support by the alkali of the developer. Precipitation of aluminum is effectively suppressed, adhesion of stains mainly composed of aluminum hydroxide to the surface of the developing bath roller of the automatic processor, and subsequent accumulation of aluminum hydroxide precipitates in the washing bath are reduced. It can be processed stably for a long time.
このようにして現像処理された平版印刷版原版は、特開昭54−8002号、同55−115045号、同59−58431号等の各公報に記載されているように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理される。 The lithographic printing plate precursor thus developed is subjected to washing water, surface activity as described in JP-A Nos. 54-8002, 55-11545, 59-58431, and the like. It is post-treated with a desensitizing solution containing a rinse solution containing an agent and the like, gum arabic and starch derivatives.
本発明の平版印刷版の製版方法においては、画像強度・耐刷性の向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱若しくは、全面露光を行うこともできる。
現像後の加熱には非常に強い条件を利用することができる。通常は加熱温度が200〜500℃の範囲で実施される。現像後の加熱温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じるおそれがある。
In the lithographic printing plate making method of the present invention, for the purpose of improving the image strength and printing durability, the image after development can be subjected to whole surface post-heating or whole surface exposure.
Very strong conditions can be used for heating after development. Usually, the heating temperature is 200 to 500 ° C. If the heating temperature after development is low, sufficient image strengthening action cannot be obtained, and if it is too high, problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area may occur.
以上の処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。
印刷時、版上の汚れ除去のため使用するプレートクリーナーとしては、従来公知のPS版用プレートクリーナーが使用され、例えば、マルチクリーナー、CL−1、CL−2、CP、CN−4、CN、CG−1、PC−1、SR、IC(富士写真フイルム株式会社製)等が挙げられる。
The planographic printing plate obtained by the above processing is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.
As the plate cleaner used for removing stains on the plate during printing, a conventionally known plate cleaner for PS plate is used. For example, a multi cleaner, CL-1, CL-2, CP, CN-4, CN, CG-1, PC-1, SR, IC (made by Fuji Photo Film Co., Ltd.), etc. are mentioned.
以下、実施例によって本発明を説明するが本発明はこれらに限定されるものではない。
(シリカ被覆微粒子の水分散物の作製)
(1)オプトビーズ6500M水分散物の調製
純水74g中に、分散安定性向上を目的として、ノニオン界面活性剤(日本乳化剤(株)製、エマレックス710)を3.0gとカルボキシメチルセルロース(第一工業製薬(株)セロゲンPR)を3.0g添加溶解する。この水溶液に、シリカ複合架橋メラミン樹脂微粒子(日産化学工業(株)製、オプトビーズ6500M)20.0gを加え、株式会社日本精機製作所製エースホモジナイザーで、10,000rpmで、15分間分散し、オプトビーズ6500M水分散物を得た。
Hereinafter, the present invention will be described by way of examples, but the present invention is not limited thereto.
(Preparation of aqueous dispersion of silica-coated fine particles)
(1) Preparation of Optobead 6500M Water Dispersion In 74 g of pure water, 3.0 g of nonionic surfactant (Emulex 710, manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) and carboxymethylcellulose (No. 1) were added for the purpose of improving dispersion stability. Dissolve 3.0 g of Ito Kogyo Seiyaku Co., Ltd. Cellogen PR). To this aqueous solution was added 20.0 g of silica composite cross-linked melamine resin fine particles (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., Opt Bead 6500M), and dispersed with an ace homogenizer manufactured by Nippon Seiki Seisakusho Co., Ltd. at 10,000 rpm for 15 minutes. A bead 6500M aqueous dispersion was obtained.
(2)アートパールJ−7P水分散物の調製
上記オプトビーズ6500M水分散物の、オプトビーズ6500Mに代えて、シリカ複合架橋アクリル樹脂微粒子(根上工業(株)製アートパールJ−7P)20.0gを添加したほかは、(1)6500M水分散物の調製と同様にしてアートパールJ−7水分散物を得た。
(3)アートパールU−800T水分散物の調製
上記オプトビーズ6500M水分散物の、オプトビーズ6500Mに代えて、シリカ複合架橋ウレタン樹脂微粒子(根上工業(株)製アートパールU−800T)20.0gを加えたほかは、(1)6500M水分散物の調製と同様にしてアートパールU−800T水分散物を得た。
(2) Preparation of Art Pearl J-7P Water Dispersion Silica composite crosslinked acrylic resin fine particles (Art Pearl J-7P manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.) instead of Opto beads 6500M of the above-mentioned Opto beads 6500M aqueous dispersion. (1) Art Pearl J-7 aqueous dispersion was obtained in the same manner as in the preparation of the 6500M aqueous dispersion except that 0 g was added.
(3) Preparation of Art Pearl U-800T Water Dispersion Silica composite crosslinked urethane resin fine particles (Art Pearl U-800T manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.) instead of Opto Bead 6500M of the above-mentioned Opto Bead 6500M aqueous dispersion20. (1) Art Pearl U-800T aqueous dispersion was obtained in the same manner as in the preparation of 6500M aqueous dispersion except that 0 g was added.
〔実施例1〕
(支持体の作製)
厚さ0.30mm、幅1030mmのJIS A 1050アルミニウム板を用いて、以下に示す表面処理を行った。
[Example 1]
(Production of support)
The surface treatment shown below was performed using a JIS A 1050 aluminum plate having a thickness of 0.30 mm and a width of 1030 mm.
<表面処理>
表面処理は、以下の(a)〜(f)の各種処理を連続的に行った。なお、各処理及び水洗の後にはニップローラで液切りを行った。
<Surface treatment>
In the surface treatment, the following various treatments (a) to (f) were continuously performed. In addition, after each process and water washing, the liquid was drained with the nip roller.
(a)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%、温度70℃でエッチング処理を行い、アルミニウム板を5g/m2溶解した。その後水洗を行った。 (A) The aluminum plate was etched at a caustic soda concentration of 26 mass%, an aluminum ion concentration of 6.5 mass%, and a temperature of 70 ° C. to dissolve the aluminum plate by 5 g / m 2 . Thereafter, it was washed with water.
(b)温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオン0.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後水洗した。 (B) A desmut treatment by spraying was performed with a 1% by mass aqueous solution of nitric acid having a temperature of 30 ° C. (including 0.5% by mass of aluminum ions), and then washed with water.
(c)60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。この時の電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオン0.5質量%、アンモニウムイオン0.007質量%含む)、温度30℃であった。交流電源は電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが2msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で25A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で250C/cm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。その後水洗を行った。 (C) An electrochemical surface roughening treatment was continuously performed using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass aqueous nitric acid solution (including 0.5% by mass aluminum ions and 0.007% by mass ammonium ions) at a temperature of 30 ° C. The AC power source was subjected to electrochemical surface roughening using a carbon electrode as a counter electrode, using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time TP of 2 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 25 A / dm 2 at the current peak value, and the amount of electricity was 250 C / cm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Thereafter, it was washed with water.
(d)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチング処理を35℃で行い、アルミニウム板を0.2g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分の除去と、生成したピットのエッジ部分を溶解し、エッジ部分を滑らかにした。その後水洗した。 (D) The aluminum plate was etched by spraying at 35 ° C. with a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass, the aluminum plate was dissolved at 0.2 g / m 2 , and electricity was obtained using the previous AC. The removal of the smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated during chemical roughening and the edge portion of the generated pit were dissolved to smooth the edge portion. Thereafter, it was washed with water.
(e)温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後スプレーによる水洗を行った。 (E) A desmut treatment by spraying was performed with a 25% by weight aqueous solution of sulfuric acid having a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), followed by washing with water by spraying.
(f)硫酸濃度170g/リットル(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、温度33℃、電流密度が5(A/dm2)で、50秒間陽極酸化処理を行った。その後水洗を行った。この時の陽極酸化皮膜重量が2.7g/m2であった。
このようにして得られたアルミニウム支持体の表面粗さRaは0.27(測定機器;東京精密(株)製サーフコム、蝕針先端径2ミクロンメーター)であった。
(F) Anodization was performed for 50 seconds at a sulfuric acid concentration of 170 g / liter (containing 0.5 mass% of aluminum ions), a temperature of 33 ° C., and a current density of 5 (A / dm 2 ). Thereafter, it was washed with water. At this time, the weight of the anodized film was 2.7 g / m 2 .
The surface roughness Ra of the aluminum support thus obtained was 0.27 (measuring instrument: Surfcom manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd., stylus tip diameter 2 micrometer).
<下塗り層>
次に、このアルミニウム支持体に下記下塗り層用塗布液をワイヤーバーにて塗布し、90℃30秒間乾燥した。塗布量は10mg/m2であった。
<Undercoat layer>
Next, the following undercoat layer coating solution was applied to the aluminum support with a wire bar and dried at 90 ° C. for 30 seconds. The coating amount was 10 mg / m 2 .
(下塗り層用塗布液)
・下記構造の高分子化合物A(重量平均分子量:3万) 0.05g
・メタノール 27g
・イオン交換水 3g
(Coating solution for undercoat layer)
-Polymer compound A having the following structure (weight average molecular weight: 30,000) 0.05 g
・ Methanol 27g
・ Ion exchange water 3g
(記録層の形成)
下記記録層塗布液[P−1]を調製し、上記のアルミニウム支持体にワイヤーバーを用いて塗布した。乾燥は、温風式乾燥装置にて115℃で34秒間行い、平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は1.4g/m2であった。
(Formation of recording layer)
The following recording layer coating solution [P-1] was prepared and applied to the above aluminum support using a wire bar. Drying was performed at 115 ° C. for 34 seconds with a hot air dryer to obtain a lithographic printing plate precursor. The coating amount after drying was 1.4 g / m 2 .
<記録層塗布液[P−1]>
・赤外線吸収剤(IR−1) 0.074g
・重合開始剤(OS−12) 0.280g
・添加剤(PM−1) 0.151g
・重合性化合物(AM−1) 1.00g
・特定バインダーポリマー(BT−1) 1.00g
・エチルバイオレット(C−1) 0.04g
・フッ素系界面活性剤 0.015g
(メガファックF−780−F 大日本インキ化学工業(株)、
メチルイソブチルケトン(MIBK)30質量%溶液)
・メチルエチルケトン 10.4g
・メタノール 4.83g
・1−メトキシ−2−プロパノール 10.4g
<Recording layer coating solution [P-1]>
・ Infrared absorber (IR-1) 0.074g
-Polymerization initiator (OS-12) 0.280g
・ Additive (PM-1) 0.151g
・ Polymerizable compound (AM-1) 1.00 g
・ Specific binder polymer (BT-1) 1.00g
・ Ethyl violet (C-1) 0.04g
・ Fluorine-based surfactant 0.015g
(Megafac F-780-F Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.,
Methyl isobutyl ketone (MIBK) 30% by mass solution)
・ Methyl ethyl ketone 10.4g
・ Methanol 4.83g
・ 10.4 g of 1-methoxy-2-propanol
なお、上記記録層塗布液に用いた重合開始剤(OS−12)は、前述の一般式(1)で表されるオニウム塩の化合物例として挙げられているものを指す。また、赤外線吸収剤(IR−1)、添加剤(PM−1)、重合性化合物(AM−1)、バインダーポリマー(BT−1)、及びエチルバイオレット(C−1)の構造を以下に示す。 In addition, the polymerization initiator (OS-12) used for the recording layer coating solution refers to those exemplified as the onium salt compound examples represented by the general formula (1). The structures of the infrared absorber (IR-1), additive (PM-1), polymerizable compound (AM-1), binder polymer (BT-1), and ethyl violet (C-1) are shown below. .
(保護層の形成)
前記の如く、記録層塗布液[P−1]を用いて形成した記録層の表面に、下記保護層塗布液[1]をワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて125℃75秒間乾燥させたて保護層を形成し、実施例1の平版印刷版原版を得た。
この保護層の全塗布量は(乾燥後の被覆量)は1.6g/m2であった。
(Formation of protective layer)
As described above, the following protective layer coating solution [1] was applied to the surface of the recording layer formed using the recording layer coating solution [P-1] with a wire bar, and 125 ° C. for 75 seconds using a hot air drying apparatus. A protective layer was formed after drying, and the lithographic printing plate precursor of Example 1 was obtained.
The total coating amount of this protective layer (the coating amount after drying) was 1.6 g / m 2 .
<保護層塗布液[1]>
・合成雲母(ソマシフME−100、8%水分散液、コープケミカル(株)製) 94g
・ポリビニルアルコール
(CKS−50:ケン化度99モル%、重合度300、日本合成化学工業株式会社製)
58g
・第一工業製薬(株)セロゲンPR 24g
・界面活性剤−1(BASF社製、プルロニックP−84) 2.5g
・界面活性剤−2(日本エマルジョン社製、エマレックス710) 5g
・シリカ複合有機樹脂微粒子水分散物(オプトビーズ6500M水分散物) 15g
[前記分散物の調製(1)で得たもの]
・純水 1364g
<Protective layer coating solution [1]>
・ Synthetic mica (Somasif ME-100, 8% aqueous dispersion, manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) 94 g
Polyvinyl alcohol (CKS-50: saponification degree 99 mol%, polymerization degree 300, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.)
58g
・ Daiichi Kogyo Seiyaku Serogen PR 24g
・ Surfactant-1 (BASF, Pluronic P-84) 2.5 g
・ Surfactant-2 (Nippon Emulsion, Emalex 710) 5g
-Silica composite organic resin fine particle aqueous dispersion (Optobead 6500M aqueous dispersion) 15g
[Those obtained in the preparation of the dispersion (1)]
・ Pure water 1364g
〔実施例2〜5〕
実施例1の保護層用塗布液の組成において、シリカ被覆有機樹脂微粒子の種類と雲母化合物の添加量を下記表1のように変えた他は、実施例1と同様にして、実施例2〜5の平版印刷版原版を得た。
[Examples 2 to 5]
In the composition of the coating solution for the protective layer of Example 1, the same applies as in Example 2 except that the type of silica-coated organic resin fine particles and the amount of mica compound added were changed as shown in Table 1 below. 5 lithographic printing plate precursors were obtained.
〔実施例6〕
実施例1で用いたのと同じ記録層塗布液[P−1]を用いて形成した記録層の表面に、下記保護層塗布液[2]をワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて125℃75秒間乾燥させて第1の保護層を形成した。
この保護層の全塗布量は(乾燥後の被覆量)は0.5g/m2であった。
Example 6
The following protective layer coating solution [2] is applied with a wire bar to the surface of the recording layer formed using the same recording layer coating solution [P-1] as used in Example 1, and applied to a hot-air drying apparatus. And dried at 125 ° C. for 75 seconds to form a first protective layer.
The total coating amount of this protective layer (the coating amount after drying) was 0.5 g / m 2 .
<保護層塗布液[2]>
・合成雲母(ソマシフME−100、8%水分散液、コープケミカル(株)製) 94g
・ポリビニルアルコール
(CKS−50:ケン化度99モル%、重合度300、日本合成化学工業株式会社製)
82g
・界面活性剤−1(BASF社製、プルロニックP−84) 2.5g
・界面活性剤−2(日本エマルジョン社製、エマレックス710) 5g
・純水 1384g
<Protective layer coating solution [2]>
・ Synthetic mica (Somasif ME-100, 8% aqueous dispersion, manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) 94 g
Polyvinyl alcohol (CKS-50: saponification degree 99 mol%, polymerization degree 300, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.)
82g
・ Surfactant-1 (BASF, Pluronic P-84) 2.5 g
・ Surfactant-2 (Nippon Emulsion, Emalex 710) 5g
・ Pure water 1384g
次に、この第1の保護層の表面に、下記保護層塗布液[3]をワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて125℃60秒間乾燥させて第2の保護層を形成し、実施例6の平版印刷版原版を得た。
この第2の保護層の全塗布量は(乾燥後の被覆量)は1.2g/m2であった。
Next, the following protective layer coating solution [3] is applied to the surface of the first protective layer with a wire bar, and dried at 125 ° C. for 60 seconds with a hot air dryer to form a second protective layer. A lithographic printing plate precursor of Example 6 was obtained.
The total coating amount of this second protective layer (the coating amount after drying) was 1.2 g / m 2 .
<保護層塗布液[3]>
・ポリビニルアルコール
(CKS−50:ケン化度99モル%、重合度300、日本合成化学工業株式会社製)
58g
・第一工業製薬(株)セロゲンPR 24g
・界面活性剤−1(日本エマルジョン社製、エマレックス710) 5g
・シリカ複合有機樹脂微粒子水分散物 (オプトビーズ6500M水分散物) 20g
・純水 1384g
<Protective layer coating solution [3]>
Polyvinyl alcohol (CKS-50: saponification degree 99 mol%, polymerization degree 300, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.)
58g
・ Daiichi Kogyo Seiyaku Serogen PR 24g
・ Surfactant-1 (Nippon Emulsion, Emalex 710) 5g
-Silica composite organic resin fine particle water dispersion (Optobead 6500M water dispersion) 20g
・ Pure water 1384g
〔実施例7〕
実施例1で用いたのと同じ記録層塗布液[P−1]を用いて形成した記録層の表面に、下記保護層塗布液[4]をワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて125℃75秒間乾燥させて第1の保護層を形成した。
この保護層の全塗布量は(乾燥後の被覆量)は0.5g/m2であった。
Example 7
On the surface of the recording layer formed using the same recording layer coating solution [P-1] as used in Example 1, the following protective layer coating solution [4] was applied with a wire bar, and the hot air drying apparatus was applied. And dried at 125 ° C. for 75 seconds to form a first protective layer.
The total coating amount of this protective layer (the coating amount after drying) was 0.5 g / m 2 .
<保護層塗布液[4]>
・合成雲母(ソマシフME−100、8%水分散液、コープケミカル(株)製) 94g
・ポリビニルアルコール
(CKS−50:ケン化度99モル%、重合度300、日本合成化学工業株式会社製)
82g
・界面活性剤−1(BASF社製、プルロニックP−84) 2.5g
・界面活性剤−2(日本エマルジョン社製、エマレックス710) 5g
・純水 1384g
次に、この第1の保護層の表面に、下記保護層塗布液[5]をワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて125℃60秒間乾燥させて第2の保護層を形成し、実施例7の平版印刷版原版を得た。
この第2の保護層の全塗布量は(乾燥後の被覆量)は1.2g/m2であった。
<Protective layer coating solution [4]>
・ Synthetic mica (Somasif ME-100, 8% aqueous dispersion, manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) 94 g
Polyvinyl alcohol (CKS-50: saponification degree 99 mol%, polymerization degree 300, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.)
82g
・ Surfactant-1 (BASF, Pluronic P-84) 2.5 g
・ Surfactant-2 (Nippon Emulsion, Emalex 710) 5g
・ Pure water 1384g
Next, the following protective layer coating solution [5] is applied to the surface of the first protective layer with a wire bar, and dried at 125 ° C. for 60 seconds with a hot air dryer to form a second protective layer. A lithographic printing plate precursor of Example 7 was obtained.
The total coating amount of this second protective layer (the coating amount after drying) was 1.2 g / m 2 .
<保護層塗布液[5]>
・ポリビニルアルコール
(CKS−50:ケン化度99モル%、重合度300、日本合成化学工業株式会社製)
58g
・第一工業製薬(株)セロゲンPR 24g
・界面活性剤−1(日本エマルジョン社製、エマレックス710) 5g
・シリカ複合有機樹脂微粒子 (アートパールJ−7P水分散物) 20g
・純水 2793g
<Protective layer coating solution [5]>
Polyvinyl alcohol (CKS-50: saponification degree 99 mol%, polymerization degree 300, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.)
58g
・ Daiichi Kogyo Seiyaku Serogen PR 24g
・ Surfactant-1 (Nippon Emulsion, Emalex 710) 5g
・ Silica composite organic resin fine particles (Art Pearl J-7P aqueous dispersion) 20g
・ Pure water 2793g
〔実施例8〕
(シリカ被覆微粒子の水分散物の調製)
(4)コロイダルシリカ表面被覆有機粒子(MS1)の調製
(4−1)アクリレート粒子を含む水分散体の調製
メチルメタクリレ−ト90質量部、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート(新中村化学工業(株)製、商品名「NKエステルM−90G」、#400)5質量部、4−ビニルピリジン5質量部、アゾ系重合開始剤(和光純薬工業(株)製、商品名「V50」)1質量部及びイオン交換水400質量部をフラスコに仕込み、窒素ガス雰囲気下で攪拌しながら70℃に昇温した。この温度で攪拌しつつ24時間保持した。この反応混合物をイオン交換水で希釈することにより、アミノ基の陽イオン及びポリエチレングリコール鎖を有する官能基を備えた平均粒子径6μmのポリメチルメタクリレート系粒子を10質量%含む水分散体を得た。重合収率は92%であった。
この水分散体100質量部をフラスコに仕込み、これにメチルトリメトキシシラン1質量部を添加し、40℃で2時間攪拌した。その後、1規定硝酸水溶液を添加してpHを2.0に調整することにより、アクリレート粒子を含む水分散体を得た。
Example 8
(Preparation of aqueous dispersion of silica-coated fine particles)
(4) Preparation of colloidal silica surface-coated organic particles (MS1) (4-1) Preparation of aqueous dispersion containing acrylate particles Methyl methacrylate 90 parts by mass, methoxypolyethylene glycol methacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) , Trade name "NK ester M-90G", # 400) 5 parts by mass, 4-vinylpyridine 5 parts by mass, azo polymerization initiator (product name "V50" manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 1 part by mass And 400 mass parts of ion-exchange water was prepared to the flask, and it heated up at 70 degreeC, stirring in nitrogen gas atmosphere. The mixture was held for 24 hours while stirring at this temperature. By diluting this reaction mixture with ion-exchanged water, an aqueous dispersion containing 10% by mass of polymethylmethacrylate particles having an average particle diameter of 6 μm and having a functional group having an amino group cation and a polyethylene glycol chain was obtained. . The polymerization yield was 92%.
100 parts by mass of this aqueous dispersion was charged into a flask, 1 part by mass of methyltrimethoxysilane was added thereto, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 2 hours. Thereafter, a 1N aqueous nitric acid solution was added to adjust the pH to 2.0 to obtain an aqueous dispersion containing acrylate particles.
(4−2)コロイダルシリカ粒子を含む水分散体の調製
コロイダルシリカ粒子(日産化学(株)製、商品名「スノーテックスO」、平均一次粒子径12nm)を水中に分散させ、これに1規定水酸化カリウム水溶液を添加してpHを調整することにより、コロイダルシリカ粒子を10質量%含有するpHが8.5の水分散体を得た。
(4−3)コロイダルシリカ表面被覆有機粒子(MS1)の調製
上記(4−1)得られた有機粒子を含む水分散体100質量部に、上記(4−2)で得られたコロイダルシリカ粒子を含む水分散体50質量部を攪拌しながら2時間かけて徐々に添加し、更にその後2時間攪拌することにより、ポリメチルメタクリレート系粒子にシリカ粒子が付着した粒子を含む水分散体を得た。
次いで、得られた水分散体にビニルトリエトキシシラン2質量部を添加して1時間攪拌した後、更にテトラエトキシシラン1質量部を添加した。これを60℃に昇温させ、攪拌を3時間継続した後、室温まで冷却することにより、平均粒子径6.5μmφのコロイダルシリカ表面被覆有機粒子(以下、適宜、MS1と称する)を10質量%含有する水分散体を調製した。
その後、攪拌を止め24時間静置させる事でMS1を沈降させ、上澄み液をデカンテーションで取り除いた。その後、純水を200重量部加え24時間静置の後、上澄み液をデカンテーションで取り除いた。ハーフウエット状態のMS1に70℃の温風を吹き付け乾燥させ12重量部の固形体を取り出した。
得られたMS1を走査型電子顕微鏡で観察したところ、ポリメチルメタクリレート系粒子の表面の80%にシリカ粒子が付着していることが確認された。
(4-2) Preparation of Aqueous Dispersion Containing Colloidal Silica Particles Colloidal silica particles (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., trade name “Snowtex O”, average primary particle size 12 nm) are dispersed in water, and 1 standard is added to this. By adjusting the pH by adding an aqueous potassium hydroxide solution, an aqueous dispersion having a pH of 8.5 containing 10% by mass of colloidal silica particles was obtained.
(4-3) Preparation of colloidal silica surface-coated organic particles (MS1) The colloidal silica particles obtained in (4-2) above were added to 100 parts by mass of the aqueous dispersion containing the organic particles obtained in (4-1) above. An aqueous dispersion containing particles in which silica particles are adhered to polymethyl methacrylate particles was obtained by gradually adding 50 parts by mass of an aqueous dispersion containing a mixture over 2 hours while stirring and further stirring for 2 hours. .
Next, 2 parts by mass of vinyltriethoxysilane was added to the obtained aqueous dispersion and stirred for 1 hour, and then 1 part by mass of tetraethoxysilane was further added. The temperature was raised to 60 ° C., stirring was continued for 3 hours, and then cooled to room temperature, whereby 10% by mass of colloidal silica surface-coated organic particles having an average particle diameter of 6.5 μmφ (hereinafter referred to as MS1 as appropriate). An aqueous dispersion containing was prepared.
Thereafter, stirring was stopped and the mixture was allowed to stand for 24 hours to sediment MS1, and the supernatant was removed by decantation. Thereafter, 200 parts by weight of pure water was added and allowed to stand for 24 hours, and then the supernatant was removed by decantation. MS1 in a half-wet state was dried by blowing hot air at 70 ° C. to remove 12 parts by weight of a solid.
When the obtained MS1 was observed with a scanning electron microscope, it was confirmed that silica particles adhered to 80% of the surface of the polymethylmethacrylate particles.
(4−4)シリカ被覆微粒子の水分散物
上記(4−3)で得られたMS1(固形体)10重量部を雲母分散液(コープケミカル(株) MEB−3L 雲母固形分3.2%)190重量部に添加し、株式会社日本精機製作所製エースホモジナイザーを用いて、10,000rpmで、15分間分散し、MS1水分散物を得た。
(4-4) Aqueous dispersion of silica-coated fine particles 10 parts by weight of MS1 (solid body) obtained in the above (4-3) was used as a mica dispersion (Coop Chemical Co., Ltd. MEB-3L mica solid content 3.2%. ) It was added to 190 parts by weight, and dispersed at 10,000 rpm for 15 minutes using an Ace homogenizer manufactured by Nippon Seiki Seisakusho Co., Ltd. to obtain an MS1 aqueous dispersion.
(保護層の形成)
実施例1で用いたのと同じ記録層塗布液[P−1]を用いて形成した記録層の表面に、下記保護層塗布液[4]をワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて125℃75秒間乾燥させて第1の保護層を形成した。
この保護層の全塗布量は(乾燥後の被覆量)は0.5g/m2であった。
(Formation of protective layer)
On the surface of the recording layer formed using the same recording layer coating solution [P-1] as used in Example 1, the following protective layer coating solution [4] was applied with a wire bar, and the hot air drying apparatus was applied. And dried at 125 ° C. for 75 seconds to form a first protective layer.
The total coating amount of this protective layer (the coating amount after drying) was 0.5 g / m 2 .
<保護層塗布液[4]>
・合成雲母(ソマシフME−100、8%水分散液、コープケミカル(株)製) 94g
・ポリビニルアルコール
(CKS−50:ケン化度99モル%、重合度300、日本合成化学工業株式会社製)
82g
・界面活性剤−1(BASF社製、プルロニックP−84) 2.5g
・界面活性剤−2(日本エマルジョン社製、エマレックス710) 5g
・純水 1384g
<Protective layer coating solution [4]>
・ Synthetic mica (Somasif ME-100, 8% aqueous dispersion, manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) 94 g
Polyvinyl alcohol (CKS-50: saponification degree 99 mol%, polymerization degree 300, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.)
82g
・ Surfactant-1 (BASF, Pluronic P-84) 2.5 g
・ Surfactant-2 (Nippon Emulsion, Emalex 710) 5g
・ Pure water 1384g
次に、この第1の保護層の表面に、下記保護層塗布液[5]をワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて125℃60秒間乾燥させて第2の保護層を形成し、実施例8の平版印刷版原版を得た。
この第2の保護層の全塗布量は(乾燥後の被覆量)は1.2g/m2であった。
Next, the following protective layer coating solution [5] is applied to the surface of the first protective layer with a wire bar, and dried at 125 ° C. for 60 seconds with a hot air dryer to form a second protective layer. A lithographic printing plate precursor of Example 8 was obtained.
The total coating amount of this second protective layer (the coating amount after drying) was 1.2 g / m 2 .
<保護層塗布液[5]>
・ポリビニルアルコール
(CKS−50:ケン化度99モル%、重合度300、日本合成化学工業株式会社製)
58g
・第一工業製薬(株)セロゲンPR 24g
・界面活性剤−1(日本エマルジョン社製、エマレックス710) 5g
・シリカ複合有機樹脂微粒子 (上記MS1水分散物) 20g
・純水 2793g
<Protective layer coating solution [5]>
Polyvinyl alcohol (CKS-50: saponification degree 99 mol%, polymerization degree 300, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.)
58g
・ Daiichi Kogyo Seiyaku Serogen PR 24g
・ Surfactant-1 (Nippon Emulsion, Emalex 710) 5g
・ Silica composite organic resin fine particles (MS1 aqueous dispersion) 20g
・ Pure water 2793g
〔実施例9〕
実施例1で用いた支持体の裏面に、下記バックコート層塗布液[1]をワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて125℃60秒間乾燥させて有機樹脂からなるバックコート層を形成したものを支持体として用いた他は、実施例1と同様にして、実施例9の平版印刷版原版を得た。
このバックコート層の全塗布量は(乾燥後の被覆量)は0.5g/m2であった。
Example 9
The back coat layer coating solution [1] shown below was applied to the back surface of the support used in Example 1 with a wire bar, and dried at 125 ° C. for 60 seconds with a hot air dryer to form a back coat layer made of an organic resin. A lithographic printing plate precursor of Example 9 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the formed material was used as a support.
The total coating amount of this back coat layer (the coating amount after drying) was 0.5 g / m 2 .
<バックコート層塗布液[1]>
・PR55422 (住友ベークライト(株)(フェノール/m−クレゾール
/p−クレゾール=5/3/2 平均分子量 5300) 1.0g
・フッ素系界面活性剤(F780F、大日本インキ化学工業(株)) 0.005g
・メチルエチルケトン 25g
<Backcoat layer coating solution [1]>
・ PR55422 (Sumitomo Bakelite Co., Ltd. (phenol / m-cresol / p-cresol = 5/3/2 average molecular weight 5300) 1.0 g
-Fluorosurfactant (F780F, Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.005g
・ Methyl ethyl ketone 25g
〔比較例1〕
実施例1の保護層用塗布液の組成において、シリカ複合有機樹脂微粒子及び合成雲母を添加しない他は、実施例1と同様にして、比較例1の平版印刷版原版を得た。
〔比較例2〕
実施例6の保護層用塗布液の組成において、最上層にシリカ複合有機樹脂微粒子を添加しない他は、実施例6と同様にして、比較例2の平版印刷版原版を得た。
[Comparative Example 1]
A lithographic printing plate precursor of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the silica composite organic resin fine particles and synthetic mica were not added in the composition of the protective layer coating solution of Example 1.
[Comparative Example 2]
A lithographic printing plate precursor of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Example 6 except that in the composition of the coating liquid for protective layer of Example 6, the silica composite organic resin fine particles were not added to the uppermost layer.
〔平版印刷版原版の評価〕
(1)感度の評価
得られた平版印刷版原版を、Creo社製Trendsetter800II Quantumにて、解像度2400dpi、外面ドラム回転数200rpm、出力0〜8Wの範囲で、logEで0.15ずつ出力を変化させて露光した。なお、露光は25℃50%RHの条件下で行った。
[Evaluation of planographic printing plate precursor]
(1) Evaluation of sensitivity The output of the obtained lithographic printing plate precursor was changed by 0.15 at logE within a range of resolution 2400 dpi, external drum rotation speed 200 rpm, output 0-8 W, using a Trendsetter 800II Quantum manufactured by Creo. And exposed. The exposure was performed under conditions of 25 ° C. and 50% RH.
露光後、加熱処理、水洗処理は行わず、富士フイルム(株)社製自動現像機LP−1310HIIを用い搬送速度(ライン速度)2m/分、現像温度30℃で現像処理した。なお、現像液はDH−Nの1:4水希釈液を用い、現像補充液はFCT−421の1:1.4水希釈、フィニッシャーは富士フイルム(株)社製GN−2Kの1:1水希釈液を用いた。
現像して得られた平版印刷版の画像部濃度を、マクベス反射濃度計RD−918を使用し、該濃度計に装備されている赤フィルターを用いてシアン濃度を測定した。測定した濃度が0.9を得るのに必要な露光量の逆数を感度の指標とした。
なお、評価結果は、実施例1で得られた平版印刷版の感度を100とし、他の平版印刷版の感度はその相対評価とした。値が大きいほど、感度が優れていることを意味する。
After the exposure, neither heat treatment nor water washing treatment was performed, and development processing was performed at a conveyance speed (line speed) of 2 m / min and a development temperature of 30 ° C. using an automatic developing machine LP-1310HII manufactured by FUJIFILM Corporation. The developer used was a 1: 4 water diluted solution of DH-N, the developer replenisher was diluted 1: 1.4 water of FCT-421, and the finisher was 1: 1 of GN-2K manufactured by FUJIFILM Corporation. A water dilution was used.
The cyan density of the image area density of the lithographic printing plate obtained by development was measured using a Macbeth reflection densitometer RD-918 and using a red filter equipped with the densitometer. The reciprocal of the exposure necessary to obtain a measured density of 0.9 was used as an index of sensitivity.
The evaluation results were such that the sensitivity of the lithographic printing plate obtained in Example 1 was 100, and the sensitivity of other lithographic printing plates was a relative evaluation thereof. A larger value means higher sensitivity.
(2)耐キズ性の評価
得られた平版印刷版原版20枚の間に合紙を挟むことなく積層して積層体を形成した。この積層体を、既にカセットにセットしてある本発明の平版印刷版原版の上にエッジから5cmずらして(積層した20枚の版材がカセット内の版材のエッジから5cm外側へ飛び出した状態で)重ねた後、飛び出した20枚の版材のエッジを水平方向に押し込んで、積層した20枚の一番下の版の裏面アルミニウム支持体が、カセット中の最上の平版印刷版原版の保護層表面をこするようにしながら、カセット内へ設置した。この保護層表面を、アルミニウム支持体裏面でこすられた版材を、耐キズ性の評価用版材とした。
この版材をセッティング部分からオートローダーにて、Creo社製Trendsetter3244に搬送し、解像度2400dpiで50%平網画像を、出力7W、外面ドラム回転数150rpm、版面エネルギー110mJ/cm2で露光した。露光後、上記感度評価と同様に現像処理を行なった。得られた平版印刷版の平網画像中に発生したキズの有無を目視評価した。
評価は1〜5の官能評価で行い、3が実用下限レベル、2以下は実用上不可レベルとした。
(2) Evaluation of scratch resistance A laminate was formed by stacking the obtained lithographic printing plate precursors with no interleaving paper between the 20 lithographic printing plate precursors. This laminated body is shifted from the edge by 5 cm on the planographic printing plate precursor of the present invention that has already been set in the cassette (the stacked 20 plate materials are projected 5 cm outward from the edge of the plate material in the cassette). After stacking, the edges of the 20 protruding plate materials are pushed in horizontally, and the back aluminum support of the 20 stacked bottom plates protects the top lithographic printing plate precursor in the cassette. It was placed in the cassette while rubbing the layer surface. A plate material obtained by rubbing the surface of the protective layer on the back surface of the aluminum support was used as a plate material for evaluation of scratch resistance.
The plate material was conveyed from the setting portion to a Trend setter 3244 manufactured by Creo Corporation using a loader, and a 50% flat screen image was exposed at a resolution of 2400 dpi at an output of 7 W, an outer drum rotation speed of 150 rpm, and a plate surface energy of 110 mJ / cm 2 . After the exposure, development processing was performed in the same manner as the sensitivity evaluation. The presence or absence of scratches generated in the flat screen image of the obtained lithographic printing plate was visually evaluated.
Evaluation was performed by sensory evaluation of 1 to 5, 3 being a practical lower limit level, and 2 or less being a practically impossible level.
(3)平版印刷版原版同士の接着の評価
得られた平版印刷版原版(10×10cm)3枚を、25℃75%RHの環境下で2時間調湿後、3枚の原版を同方向に合紙の挟み込みのない状態で順次重ねて積層体を得た。この積層体を、アルミニウムラミネート層を有するクラフト紙で密閉包装し、4kgの荷重をかけた状態で、30℃環境下5日間放置した。その後の積層体について、平版印刷版原版の記録層側表面(保護層表面)と隣接する平版印刷版原版の支持体側表面との接着状態を評価した。
平版印刷版原版同士の接着は、1〜5の官能評価で行い、3が実用下限レベル、2以下は実用上不可レベルとした。以上の結果を表1に示す。
(3) Evaluation of adhesion between lithographic printing plate precursors 3 lithographic printing plate precursors (10 × 10 cm) obtained were conditioned for 2 hours in an environment of 25 ° C. and 75% RH, and the 3 original plates were directed in the same direction. Were laminated one after another without interleaving of the interleaving paper to obtain a laminate. This laminate was hermetically packaged with kraft paper having an aluminum laminate layer, and left under a 30 ° C. environment for 5 days under a load of 4 kg. About the laminated body after that, the adhesion state of the recording layer side surface (protective layer surface) of the planographic printing plate precursor and the support side surface of the adjacent planographic printing plate precursor was evaluated.
Adhesion between the lithographic printing plate precursors was performed by sensory evaluation of 1 to 5, 3 being a practical lower limit level, and 2 or less being a practically impossible level. The results are shown in Table 1.
表1から明らかなように、実施例1〜5、実施例9の平版印刷版原版、即ち、重合性ネガ型記録層上に、シリカ被覆微粒子及びポリビニルアルコールを含有する保護層を設けてなる平版印刷版原版、及び、雲母化合物を含有する保護層とシリカ被覆微粒子を含む最上部の保護層との積層構造の保護層を設けてなる実施例6〜8の平版印刷版原版は、いずれも高感度で記録可能であり、合紙なしでも耐キズ性に優れ、高湿下に置かれた後でも、平版印刷版原版同士の接着が見られないことがわかった。
また、実施例1と実施例6との対比において、雲母化合物を含有する保護層とシリカ被覆微粒子を含む最上部の保護層との積層構造を有するものは、感度及び耐傷性にさらなる向上が見られることがわかる。
これに対し、シリカ被覆有機樹脂微粒子を含まない保護層を有する比較例1、2の平版印刷版原版は、感度には優れるものの、高湿下に置かれた後の平版印刷版原版同士に接着が見られ、アルミニウム支持体裏面と保護層表面がこすられた時に発生する耐キズ性が著しく劣っていることがわかった。
As is clear from Table 1, the planographic printing plate precursors of Examples 1 to 5 and Example 9, that is, a planographic plate in which a protective layer containing silica-coated fine particles and polyvinyl alcohol is provided on a polymerizable negative recording layer. The printing plate precursor and the planographic printing plate precursors of Examples 6 to 8 provided with a protective layer having a laminated structure of a protective layer containing a mica compound and an uppermost protective layer containing silica-coated fine particles are all high. It was found that recording was possible with sensitivity, excellent scratch resistance even without interleaving paper, and adhesion between lithographic printing plate precursors was not observed even after being placed under high humidity.
Further, in contrast to Example 1 and Example 6, those having a laminated structure of a protective layer containing a mica compound and an uppermost protective layer containing silica-coated fine particles showed a further improvement in sensitivity and scratch resistance. I understand that
In contrast, the lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 1 and 2 having a protective layer that does not contain silica-coated organic resin fine particles are excellent in sensitivity, but adhere to the lithographic printing plate precursors after being placed under high humidity. It was found that scratch resistance generated when the back surface of the aluminum support and the surface of the protective layer were rubbed was remarkably inferior.
Claims (7)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007152384A JP4213756B2 (en) | 2006-06-09 | 2007-06-08 | Planographic printing plate precursor and laminate of planographic printing plate precursor |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006161397 | 2006-06-09 | ||
JP2007152384A JP4213756B2 (en) | 2006-06-09 | 2007-06-08 | Planographic printing plate precursor and laminate of planographic printing plate precursor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008015503A JP2008015503A (en) | 2008-01-24 |
JP4213756B2 true JP4213756B2 (en) | 2009-01-21 |
Family
ID=39072514
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007152384A Active JP4213756B2 (en) | 2006-06-09 | 2007-06-08 | Planographic printing plate precursor and laminate of planographic printing plate precursor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4213756B2 (en) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5113701B2 (en) * | 2008-09-25 | 2013-01-09 | 富士フイルム株式会社 | Production method of lithographic printing plate precursor |
EP2204698B1 (en) | 2009-01-06 | 2018-08-08 | FUJIFILM Corporation | Plate surface treatment agent for lithographic printing plate and method for treating lithographic printing plate |
US8383319B2 (en) * | 2009-08-25 | 2013-02-26 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors and stacks |
JP5538197B2 (en) * | 2010-03-26 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | Removable plate precursor for lithographic printing plate, discarded plate precursor assembly for lithographic printing plate, and plate making method for lithographic printing plate |
JP5680390B2 (en) * | 2010-12-03 | 2015-03-04 | 富士フイルム株式会社 | Removable plate precursor for lithographic printing plate, discarded plate precursor assembly for lithographic printing plate, and plate making method for lithographic printing plate |
JP5205483B2 (en) | 2011-02-04 | 2013-06-05 | 富士フイルム株式会社 | Planographic printing plate precursor and plate making method |
JP5186574B2 (en) | 2011-02-28 | 2013-04-17 | 富士フイルム株式会社 | Planographic printing plate precursor and plate making method |
JP5690696B2 (en) | 2011-09-28 | 2015-03-25 | 富士フイルム株式会社 | Planographic printing plate making method |
CN106183520B (en) | 2012-03-29 | 2019-05-17 | 富士胶片株式会社 | Original edition of lithographic printing plate and its printing process |
JP5699112B2 (en) | 2012-07-27 | 2015-04-08 | 富士フイルム株式会社 | Planographic printing plate precursor and plate making method |
US9063423B2 (en) | 2013-02-28 | 2015-06-23 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors and use |
CN105647772B (en) * | 2014-12-26 | 2018-08-07 | 淮阴工学院 | Aging hastening method based on foraging white spirit agent |
EP3318414A4 (en) * | 2015-06-30 | 2018-08-01 | Fujifilm Corporation | Original plate for printing, lithographic printing plate, disposable plate for printing, and laminate thereof |
EP3437894B1 (en) | 2016-03-30 | 2020-06-03 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate original plate and laminate thereof and method for manufacturing lithographic printing plate original plate |
EP3677435B1 (en) | 2017-08-31 | 2023-09-06 | FUJIFILM Corporation | Printing plate precursor and printing plate precursor laminate |
WO2020067374A1 (en) | 2018-09-28 | 2020-04-02 | 富士フイルム株式会社 | Original plate for printing, laminate of original plate for printing, method for manufacturing printing plate, and printing method |
-
2007
- 2007-06-08 JP JP2007152384A patent/JP4213756B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008015503A (en) | 2008-01-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4213756B2 (en) | Planographic printing plate precursor and laminate of planographic printing plate precursor | |
US8105751B2 (en) | Planographic printing plate precursor and pile of planographic printing plate precursors | |
JP4668111B2 (en) | Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same | |
JP2007094138A (en) | Lithographic printing original plate and plate-making method for the same | |
JP4611234B2 (en) | Polymerizable negative lithographic printing plate precursor, laminate of lithographic printing plate precursor and method for producing polymerizable negative lithographic printing plate precursor | |
JP2008089916A (en) | Lithographic printing plate precursor, and lithographic printing plate precursor laminate | |
JP2008249851A (en) | Lithographic printing plate precursor | |
JP4429116B2 (en) | Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate making method | |
JP2008139813A (en) | Planographic printing plate precursor and stack thereof | |
JP4864789B2 (en) | Planographic printing plate precursor and laminate of planographic printing plate precursor | |
JP4777220B2 (en) | Photosensitive recording material, photosensitive lithographic printing plate precursor, and laminate thereof | |
JP4574506B2 (en) | Planographic printing plate precursor and its plate making method | |
JP4437948B2 (en) | Planographic printing plate precursor | |
JP2007268993A (en) | Original printing plate of lithographic printing plate and laminated body of original printing plate of lithographic printing plate | |
JP4864682B2 (en) | Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same | |
JP2010023402A (en) | Aluminum support for lithographic printing plate | |
JP4619912B2 (en) | Planographic printing plate precursor and its plate making method | |
JP5068682B2 (en) | Negative type planographic printing plate precursor | |
JP2010276824A (en) | Lithographic printing plate precursor and laminate of lithographic printing plate precursor | |
JP2007101693A (en) | Lithographic printing forme original plate | |
JP4524235B2 (en) | Planographic printing plate precursor | |
JP2007256685A (en) | Lithographic printing original plate and laminate thereof | |
JP4393331B2 (en) | Planographic printing plate precursor | |
JP2009109526A (en) | Planographic printing plate and planographic printing plate layered product | |
JP2007093797A (en) | Lithographic printing original plate and its plate-making method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080527 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20080707 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20080731 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080805 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081003 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081028 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081030 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111107 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4213756 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121107 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121107 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131107 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |