JP4205808B2 - 露光装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、ＰＤＰ（プラズマ・ディスプレイ・パネル）用ガラス基板、液晶表示パネル用ガラス基板、半導体製造装置用マスク基板あるいはプリント基板等の製造工程において、矩形状のパターン領域を有するパターン板と、例えば基板に塗布されたフォトレジスト等の矩形状の領域を有する感光材料とを互いに近接配置し、光源から出射された光を複合レンズを介してパターン板に照射することにより、感光材料に矩形所の画像を記録する露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、例えば基板に対してパターンを焼き付けるために使用される露光装置においては、パターン板全域において均一な照度分布を得るため、超高圧水銀灯等の光源から出射され楕円鏡により集光されたた光を、フライアイレンズと呼称される複合レンズを介してパターン板上に照射する光学系が採用されている。
【０００３】
このような光学系においては、光源から出射された光は、複合レンズを構成する複数のレンズユニットを介してパターン板方向に照射される。そして、各レンズユニットを通過した光が互いに重複する領域にパターン板を配置せしめることにより、パターン板全面において均一な照度分布を得ることが可能となる。
【０００４】
図５は、このような複合レンズ６の一例を示す平面図である。この複合レンズ６は、矩形状のレンズユニット３を縦横方向に並列配置することにより構成したものである。すなわち、この複合レンズ６は、７行５列に配置されたレンズユニット３から構成されている。
【０００５】
なお、各レンズユニット３は、その光軸を一致させた状態で互いに近接配置された２枚の矩形状のレンズ４を有する。そして、このレンズユニット３を構成するレンズ４は、図６に示すように、円形のレンズ５からその外周部（ハッチングを付した部分）を削除することにより、矩形状に形成されたものである。
【０００６】
光源から出射された光は、このようなレンズユニット３から構成された複合レンズ６を通過することにより、各レンズユニット３の外形と相似形の領域に照射されることになる。このため、各レンズユニット３の外形を必要な光照射領域に対応する形状とすることにより、光源からの光を効率的に光照射領域全域に照射することが可能となる。
【０００７】
ところで、このような光学系において、複合レンズ６によるケラレを防止し、光源からの光を効率的に光照射領域に導くためには、図７に示すように、光源からの光を集光した楕円鏡の像１が、可能な限り各レンズユニット３内に形成されるようにすることが好ましい。また、特に複合レンズ６の中央部に位置するレンズユニット３に着目した場合においては、このレンズユニット３の光軸と楕円鏡の像１の中心とが一致した状態で、楕円鏡の像１がレンズユニット３内に配置される必要がある。この楕円鏡の像１の一部が各レンズユニット３内に配置されない場合においては、その部分に対応した光量が各レンズユニット３を通過せず、光照射領域に到達しないことから、光量の一部が損失するためである。
【０００８】
なお、図７においては、各レンズユニット３を構成する２枚のレンズ４のうち、出口側のレンズ４を示している。
【０００９】
また、この場合において、複合レンズ６を構成する各レンズユニット３のうち複合レンズ６の端部に配置されたレンズユニット３においては、画角の広がりに伴って楕円鏡の像１の位置がいずれかの方向に移動するため、楕円鏡の像１は、各レンズユニット３内に余裕を持って収容される大きさとなっていることが好ましい。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
近年の基板の大サイズ化に伴い、光照射領域もより大きくする必要が生じている。そして、この光照射領域の大型化に伴って、露光に必要な照度が得られないという問題が生じている。
【００１１】
このため、光源としてより高出力のものを使用することが考えられる。しかしながら、この種の露光装置において一般的に使用される超高圧水銀灯においては、そのアーク間距離は出力の増加に対応して大きくなることから、超高圧水銀灯自体が大きくなり、これに伴って、超高圧水銀灯から出射される光を集光するための楕円鏡も大型化する。
【００１２】
このように、楕円鏡が大型化した場合においては、図７に示すように、その楕円鏡の像２も大型化し、この楕円鏡の像２の一部が各レンズユニット３内（特に、各レンズユニット３を構成する２枚のレンズ４のうち、出口側のレンズ４内）に配置されないことになる。そして、楕円鏡の像２における各レンズユニット３内に配置されない領域に対応する光は、各レンズユニット３を通過せず、光照射領域に到達しないことから、高出力の超高圧水銀灯を使用しても、その一部の光量が無駄になってしまう。
【００１３】
このような複合レンズによる光のケラレの問題は、超高圧水銀灯に限らず、他の光源を使用した場合においても同様に生じる問題である。
【００１４】
このような問題に対応するため、複合レンズ６を構成する各レンズユニット３のサイズを大きくすることも考えられる。しかしながら、複合レンズ６を構成する各レンズユニット３を大型化した場合には、複合レンズ６自体の外形が大型化する。このため、この複合レンズ６の基板に対するコリメーション角も大きくなり、このような光学系を使用した露光装置の解像度が低下してしまう。
【００１５】
一方、複合レンズ６の外形の大型化を防止するため、複合レンズ６の分割数を減少（例えば、図５に示す７行５列を５行３列に変更）させた場合には、光照射領域における照度分布が低下してしまう。
【００１６】
また、複合レンズ６を構成する各レンズユニット３において、互いに近接して配置された２枚のレンズ４の距離を変更することにより、楕円鏡からの光が各レンズユニットを通過するように調整することも不可能ではないが、この場合においては、複合レンズを通過した後の光が必要な光照射領域を越えて過度に拡散するため、やはり、超高圧水銀灯における一部の光量が無駄になってしまう。
【００１７】
本発明者は、このような問題を解決するため、先に「光源から出射された光を複合レンズを介して矩形状の光被照射物に照射する露光装置において、前記光被照射物を照射するための矩形状の光照射領域に対応する矩形状のレンズユニットを、縦横方向に複数個並列配置することにより構成された複合レンズと、前記複合レンズを構成する矩形状の各レンズユニットの長辺方向に沿って配置された複数の光源と、前記複数の光源に各々対応して配設され、前記複数の光源から出射される光を前記複合レンズに集光する複数の楕円鏡とを備えた露光装置」を提案している（特願平１０−７３２７０号）。
【００１８】
このような露光装置によれば、複数の光源からの光を有効に矩形状の光照射領域に照射することができ、露光装置の解像度や照度分布を低下させることなく、露光に必要な照度を得ることが可能となる。
【００１９】
ところで、このような露光装置においては、複数の光源を各レンズユニットの長辺方向に沿って列設する構成であることから、複数の光源を含む平面方向における各光源から各レンズユニットへの光の入射角は、単一の光源を使用する場合に比べて大きい値となる。
【００２０】
このような条件下においては、各レンズユニットからの光の出射角についても、光の入射角に対応した一定値以上の大きい値に設定する必要がある。各レンズユニットからの光の出射角を光の入射角に対応した大きな値に設定しない場合には、上述した楕円鏡を大きくした場合と同様、複合レンズにおいて光のケラレが生じて、複合レンズに入射した光の一部が光照射領域に到達しないことから、複数個の超高圧水銀灯を使用しても、その一部の光量が無駄になるためである。
【００２１】
ところで、このような露光装置を利用して、矩形状のパターン領域を有するパターン板と基板に塗布されたフォトレジスト等の感光材料とを互いに近接配置し、光源から出射された光を複合レンズを介してパターン板に照射することにより、感光材料に矩形所の画像を記録する場合においては、複合レンズから出射した光を、コリメートミラー等のコリメート手段を利用して平行光とする必要がある。
【００２２】
このとき、複合レンズから出射する光の出射角が大きな値となった場合には、これに対応して、コリメート後の光の照射領域がパターン板における矩形状のパターン領域より大きくなってしまう。このため、光の照射領域とパターン領域とをほぼ一致させるために、コリメート手段におけるｆ値（コリメートミラーの半径ｒ）を小さなものとする必要がある。
【００２３】
しかしながら、大きな出射角を有する光を小さなｆ値を有するコリメート手段でコリメートした場合においては、ディクリネーション角およびコリメーション角が大きくなり、高い解像度で精度よく画像を記録することが不可能となるという問題を生ずる。
【００２４】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、光源からの光を有効に矩形状の光照射領域に照射して、高い解像度で精度よく画像を記録することができる露光装置を提供することを目的とする。
【００２５】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、矩形状のパターン領域を有するパターン板と矩形状の領域を有する感光材料とを互いに近接配置し、光源から出射された光を複合レンズを介して前記パターン板に照射することにより、前記感光材料に矩形所の画像を記録する露光装置であって、前記パターン板を照射するための矩形状の光照射領域に対応する矩形状のレンズユニットを、縦横方向に各々複数個並列配置することにより構成された複合レンズと、前記複合レンズを構成する矩形状の各レンズユニットの長辺方向に沿って配置された複数の光源と、前記複数の光源に各々対応して配設され、前記複数の光源から出射される光を前記複合レンズに集光する複数の楕円鏡と、前記複数の光源から出射され前記複合レンズを通過した光をコリメートする第１の球面ミラーと、前記第１の球面ミラーによりコリメートされた光をさらにコリメートして前記パターン板に照射するための第２の球面ミラーとを備えたことを特徴とする。
【００２６】
請求項２に記載の発明は、矩形状のパターン領域を有するパターン板と矩形状の領域を有する感光材料とを互いに近接配置し、光源から出射された光を複合レンズを介して前記パターン板に照射することにより、前記感光材料に矩形所の画像を記録する露光装置であって、前記パターン板を照射するためのその縦横比が略１対２の矩形状の光照射領域に対応するその縦横比が略１対２の矩形状のレンズユニットを、縦横方向に各々複数個並列配置することにより構成された複合レンズと、前記複合レンズを構成する矩形状の各レンズユニットの長辺方向に沿って配置された２個の光源と、前記２個の光源に各々対応して配設され、前記２個の光源から出射される光を前記複合レンズに集光する２個の楕円鏡と、前記複数の光源から出射され前記複合レンズを通過した光をコリメートする第１の球面ミラーと、前記第１の球面ミラーによりコリメートされた光をさらにコリメートして前記光被照射物に照射するための第２の球面ミラーとを備えたことを特徴とする。
【００２７】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の露光装置において、前記光照射領域および前記レンズユニットは、その縦横比が４対１０乃至７対１０に設定されている。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１はこの発明に係る露光装置の斜視図である。また、図２はその光学的な配置関係を模式的に示す側面図であり、図３は図２の平面図である。なお、図２および図３においては、折り返しミラー１４について、その図示を省略している。
【００２９】
この露光装置は、矩形状のＰＤＰ（プラズマ・ディスプレイ・パネル）用ガラス基板（以下、単に「基板」という）１８に矩形状のパターン領域を有するパターン板としてのフォトマスク１７を介して光を照射することにより、基板１８の表面に形成された感光材料の薄膜に対してパターン露光を行うためのものであり、各々対をなす光源１２ａ、１２ｂおよび楕円鏡１３ａ、１３ｂと、折り返しミラー１４と、複合レンズ（フライアイレンズ）６と、一対のコリメートミラー１５、１６とを備える。
【００３０】
なお、この露光装置によりその表面に形成された感光材料にパターンを露光される基板１８は、例えばハイビジョン用のディスプレイを製造されるために使用されるものであり、その縦横比は９対１６、すなわち、略１対２となっている。このため、この露光装置においては、この基板１８に露光を行うために必要な光照射領域１９も、その縦横比が略１対２となるように構成されている。
【００３１】
前記光源１２ａ、１２ｂは、紫外線を含む光を出射する超高圧水銀灯から構成される。この光源１２ａ、１２ｂは、各々、楕円鏡１３ａ、１３ｂにおける第１焦点に、その発光部の中心が位置するように配置されている。また、後述する複合レンズ６は、その表面がこの楕円鏡１３ａ、１３ｂの第２焦点付近に位置するように配置されている。このため、光源１２ａ、１２ｂから出射した光は、楕円鏡１３ａ、１３ｂにより、複合レンズ６の表面付近に集光される。
【００３２】
前記複合レンズ６は、図５に示す構成を有する。すなわち、この複合レンズ６は、図５に示すように、７行５列に配置されたレンズユニット３から構成されている。また、このレンズユニット３は、上述したように、その光軸を一致させて状態で互いに近接配置された２枚の矩形状のレンズ４を有する。そして、このレンズユニット３を構成するレンズ４は、図６に示すように、円形のレンズ５からその外周部（ハッチングを付した部分）を削除することにより、矩形状に形成されたものである。
【００３３】
なお、そして、各レンズユニット３の外形は、露光を行うべき基板１８の外形にほぼ対応させて、その縦横比が６対１０、すなわち、略１対２の矩形状となっている。
【００３４】
このため、光源１２ａ、１２ｂから出射し、楕円鏡１３ａ、１３ｂで集光された光は、このようなレンズユニット３から構成された複合レンズ６を通過することにより、各レンズユニット３の外形と相似形をなす矩形状の状態となる。
【００３５】
このとき、上述した各々２個の光源１２ａ、１２ｂおよび楕円鏡１３ａ、１３ｂは、上記各レンズユニット３の長辺方向に沿って配置されている。すなわち、上述した光源１２ａ、１２ｂおよび楕円鏡１３ａ、１３ｂは、上記複合レンズ６および基板１８の長辺方向に沿って配置されることになる。このため、これらの光源１２ａ、１２ｂおよび楕円鏡１３ａ、１３ｂと複合レンズ６との配置関係等を調整することにより、図４に示すように、光源１２ａ、１２ｂからの光を集光した楕円鏡１３ａ、１３ｂの像１ａ、１ｂを各レンズユニット３内に形成させることができる。
【００３６】
なお、図４においては、図７と同様、各レンズユニット３を構成する２枚のレンズ４のうち、出口側のレンズ４を示している。
【００３７】
すなわち、上述した各レンズユニット３は、その縦横比が６対１０、すなわち略１対２となっている。このため、各々２個の光源１２ａ、１２ｂおよび楕円鏡１３ａ、１３ｂを各レンズユニット３の長辺方向に沿って配置することにより、図７に示す単一の光源からの楕円鏡の像１の場合と同一の条件下においても、各レンズユニット３内に、２個の光源１２ａ、１２ｂからの光を集光した２個の楕円鏡１３ａ、１３ｂの像１ａ、１ｂを余裕を持って形成することができる。このため、２個の光源１２ａ、１２ｂからの光を効率的に光照射領域１９に導くことが可能となる。
【００３８】
なお、図４においては、２個の光源１２ａ、１２ｂからの光を集光した２個の楕円鏡１３ａ、１３ｂの像１ａ、１ｂを円形として図示しているが、各々２個の光源１２ａ、１２ｂおよび楕円鏡１３ａ、１３ｂは、複合レンズ６の光軸に対して互いに微小角度傾斜した状態で配設されているため、これらの像１ａ、１ｂは厳密には楕円形となる。しかしながら、この傾斜角度が小さい場合においては、この像１ａ、１ｂの形状を実質的に円形として取り扱うことができる。
【００３９】
前記折り返しミラー１４は、光を折り返すことによりこの露光装置をコンパクトに構成するためのものである。なお、折り返しミラー１４としては、光源１２ａ、１２ｂから出射された光のうち、パターン露光に使用される紫外線のみを反射し、熱源としての赤外線を吸収する機能を備えたダイクロイックミラーが使用されている。
【００４０】
前記コリメートミラー１５は複合レンズ６を通過した光をコリメートするためのものであり、前記コリメートミラー１６はコリメートミラー１５によりコリメートされた光をさらにコリメートしてフォトマスク１７に照射するためのものである。これらのコリメートミラー１５、１６は、球面ミラーから構成される。複合レンズ６を通過した光は、これらのコリメートミラー１５、１６のコリメート機能により平行光となり、フォトマスク１７に向けて照射される。このときの光照射領域１９は、上述した各レンズユニット３の縦横比である６対１０、すなわち略１対２となる。
【００４１】
前記フォトマスク１７は、基板１８表面の感光材料の薄膜に対して形成すべきパターンに対応した二値化パターンが、透光部材上に矩形状に形成された構成を有する。このフォトマスク１７は、基板１８の表面に対しプロキシミティギャップと呼称される微小距離だけ離隔した状態で、基板１８と平行に支持される。基板１８の表面に形成された感光材料の薄膜に対しては、このパターン板１７を通過した光によりパターン露光がなされる。
【００４２】
なお、フォトマスク１７と基板１８とを微小距離だけ離隔した状態でパターン露光を実行するかわりに、フォトマスク１７と基板１８とを当接させた状態でパターン露光を実行してもよい。この明細書における近接配置とは、このような態様をも含む概念である。
【００４３】
このような構成を有する露光装置においては、２個の光源１２ａ、１２ｂを使用することにより、従来のほぼ倍の照度をもって露光を行うことが可能となる。このとき、各々２個の光源１２ａ、１２ｂおよび楕円鏡１３ａ、１３ｂは、矩形状の各レンズユニット３の長辺方向に沿って配置されている。このため、光源１２ａ、１２ｂからの光を集光した楕円鏡１３ａ、１３ｂの像を各レンズユニット３内に容易に形成させることが可能となる。従って、２個の光源１２ａ、１２ｂから出射された光を有効に光照射領域１９に到達させることができる。
【００４４】
ここで、上述した実施形態に係る露光装置においては、各々２個の光源１２ａ、１２ｂおよび楕円鏡１３ａ、１３ｂを各レンズユニット３の長辺方向に沿って列設する構成であることから、各々２個の光源１２ａ、１２ｂおよび楕円鏡１３ａ、１３ｂを含む平面方向における各光源１２ａ、１２ｂから複合レンズ６を構成する各レンズユニット３への光の入射角θ１（図３参照）は、従来のように単一の光源を使用する場合に比べ、比較的大きい値となる。このような条件下においては、前述したように、光のケラレを防止するため、複合レンズ６を構成する各レンズユニット３からの光の出射角θ２（図３参照）についても、光の入射角θ１に対応した一定値以上の大きい値に設定する必要がある。
【００４５】
このとき、従来のように単一のコリメートミラーを使用して複合レンズ６から出射する光を平行光としている場合においては、出射角θ２が大きくなった場合にもコリメート後の光の照射領域をフォトマスク１７における矩形状のパターン領域に対応させるため、コリメートミラーのｆ値（コリメートミラーの半径ｒ）を小さなものと変更している。このため、フォトマスク１７に照射される光のディクリネーション角およびコリメーション角が大きくなるという現象が生じていた。ここで、ディクリネーション角が大きくなった場合には、記録されるパターンの精度が悪化する。また、コリメーション角が過度に大きくなった場合には、記録されるパターンの解像度が悪化する。
【００４６】
しかしながら、この実施形態に係る露光装置においては、一対のコリメートミラー１５、１６を利用することにより、複合レンズ６を構成する各レンズユニット３から出射角θ２で出射された光をコリメートして平行光とする構成であることから、出射角θ２が大きくなった場合においても、フォトマスク１７に照射される光のディクリネーション角およびコリメーション角を大きくすることなく、コリメート後の光の照射領域をフォトマスク１７における矩形状のパターン領域に対応させることが可能となる。
【００４７】
なお、各々２個の光源１２ａ、１２ｂおよび楕円鏡１３ａ、１３ｂを含む平面と垂直な方向における各光源１２ａ、１２ｂから複合レンズ６を構成する各レンズユニット３への光の入射角θ３（図２参照）は、上述した入射角θ１に比べて十分小さい値となる。従って、この方向における複合レンズ６を構成する各レンズユニット３からの光の出射角θ４（図２参照）を必要な値に設定することは容易であり、この方向に関して光のケラレが問題となることはない。
【００４８】
上述した実施の形態においては、ハイビジョン用の、その縦横比が９対１６のＰＤＰに使用される基板１８に対して露光を行うため、９対１６に近似する１対２の縦横比を有するレンズユニット３を使用している。ただし、このレンズユニット３の縦横比は、露光を行うべき基板１８の縦横比、すなわち、光照射領域１９の縦横比に対応させて、適宜変更することが可能である。例えば、ワイドテレビ用のディスプレイに使用される基板においては、そのディスプレイに必要とされる縦横比を採用すればよい。
【００４９】
このとき、その縦横比が４対１０〜７対１０程度であれば、各々２個の光源１２ａ、１２ｂおよび楕円鏡１３ａ、１３ｂを矩形状の各レンズユニット３の長辺方向に沿って適宜配置することにより、光源１２ａ、１２ｂからの光を集光した楕円鏡１３ａ、１３ｂの像を各レンズユニット３内に形成させることが可能となる。
【００５０】
なお、露光を行うべき基板の縦横比が１対３程度以上となった場合においては、各々３個以上の光源および楕円鏡を、その縦横比が１対３程度以上の矩形状の各レンズユニットの長辺方向に沿って適宜配置することにより、３個以上の光源からの光を集光した各楕円鏡の像を各レンズユニット内に形成させる構成とすればよい。
【００５１】
また、上述した実施形態においては、一対のコリメートミラー１５、１６を使用して複合レンズ６を通過した光を平行光としているが、３枚以上のコリメートミラーを使用して複合レンズ６を通過した光を平行光とする構成を採用してもよい。
【００５２】
【発明の効果】
請求項１に記載の発明によれば、パターン板を照射するための矩形状の光照射領域に対応する矩形状のレンズユニットを縦横方向に各々複数個並列配置することにより構成された複合レンズと、複合レンズを構成する矩形状の各レンズユニットの長辺方向に沿って配置された複数の光源と、複数の光源に各々対応して配設され、複数の光源から出射される光を複合レンズに集光する複数の楕円鏡と、複数の光源から出射され複合レンズを通過した光をコリメートする第１のコリメートミラーと、第１のコリメートミラーによりコリメートされた光をさらにコリメートしてパターン板に照射するための第２のコリメートミラーとを備えたことから、複数の光源からの光を有効に矩形状の光照射領域に照射することができる。このとき、第１、第２のコリメートミラーにより、照度分布を低下させることなく、高い解像度で精度よく画像を記録することが可能となる。
【００５３】
また、簡易な構成で大サイズの光照射領域に有効に光を照射することが可能となる。
【００５４】
請求項２または請求項３に記載の発明によれば、パターン板を照射するためのその縦横比が略１対２の矩形状の光照射領域に対応するその縦横比が略１対２の矩形状のレンズユニットを、縦横方向に各々複数個並列配置することにより構成された複合レンズと、複合レンズを構成する矩形状の各レンズユニットの長辺方向に沿って配置された２個の光源と、２個の光源に各々対応して配設され、２個の光源から出射される光を複合レンズに集光する２個の楕円鏡と、複数の光源から出射され複合レンズを通過した光をコリメートする第１のコリメートミラーと、第１のコリメートミラーによりコリメートされた光をさらにコリメートして光被照射物に照射するための第２のコリメートミラーとを備えたことから、２個の光源からの光を有効にその縦横比が略１対２の矩形状の光照射領域に照射することができる。このとき、第１、第２のコリメートミラーにより、照度分布を低下させることなく、高い解像度で精度よく画像を記録することが可能となる。
【００５５】
また、簡易な構成で大サイズの光照射領域に有効に光を照射することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 この発明に係る露光装置の斜視図である。
【図２】 この発明に係る露光装置の光学的な配置関係を模式的に示す側面図である。
【図３】 この発明に係る露光装置の光学的な配置関係を模式的に示す平面図である。
【図４】 楕円鏡１３ａ、１３ｂの像１ａ、１ｂとレンズユニット３との関係を示す模式図である。
【図５】 複合レンズ６の平面図である。
【図６】 レンズユニット３を構成するレンズ４の形成状態を示す説明図である。
【図７】 楕円鏡の像１とレンズユニット３との関係を示す模式図である。
【符号の説明】
１ａ、１ｂ 楕円鏡１３ａ、１３ｂの像
３ レンズユニット
４ レンズ
６ 複合レンズ
１２ａ、１２ｂ 光源
１３ａ、１３ｂ 楕円鏡
１４ 折り返しミラー
１５、１６ コリメートミラー
１７ フォトマスク
１８ 基板
１９ 光照射領域

Claims (3)

1. 矩形状のパターン領域を有するパターン板と矩形状の領域を有する感光材料とを互いに近接配置し、光源から出射された光を複合レンズを介して前記パターン板に照射することにより、前記感光材料に矩形所の画像を記録する露光装置であって、
   前記パターン板を照射するための矩形状の光照射領域に対応する矩形状のレンズユニットを、縦横方向に各々複数個並列配置することにより構成された複合レンズと、
   前記複合レンズを構成する矩形状の各レンズユニットの長辺方向に沿って配置された複数の光源と、
   前記複数の光源に各々対応して配設され、前記複数の光源から出射される光を前記複合レンズに集光する複数の楕円鏡と、
   前記複数の光源から出射され前記複合レンズを通過した光をコリメートする第１の球面ミラーと、
   前記第１の球面ミラーによりコリメートされた光をさらにコリメートして前記パターン板に照射するための第２の球面ミラーと、
   を備えたことを特徴とする露光装置。
2. 矩形状のパターン領域を有するパターン板と矩形状の領域を有する感光材料とを互いに近接配置し、光源から出射された光を複合レンズを介して前記パターン板に照射することにより、前記感光材料に矩形所の画像を記録する露光装置であって、
   前記パターン板を照射するためのその縦横比が略１対２の矩形状の光照射領域に対応するその縦横比が略１対２の矩形状のレンズユニットを、縦横方向に各々複数個並列配置することにより構成された複合レンズと、
   前記複合レンズを構成する矩形状の各レンズユニットの長辺方向に沿って配置された２個の光源と、
   前記２個の光源に各々対応して配設され、前記２個の光源から出射される光を前記複合レンズに集光する２個の楕円鏡と、
   前記複数の光源から出射され前記複合レンズを通過した光をコリメートする第１の球面ミラーと、
   前記第１の球面ミラーによりコリメートされた光をさらにコリメートして前記光被照射物に照射するための第２の球面ミラーと、
   を備えたことを特徴とする露光装置。
3. 請求項２に記載の露光装置において、
   前記光照射領域および前記レンズユニットは、その縦横比が４対１０乃至７対１０である露光装置。

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