JP4288729B2 - ベンゼン誘導体およびその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は液晶材料として有用なベンゼン誘導体およびその簡便かつ効率的な製造方法に関し、さらに、該ベンゼン誘導体を中間体とする、液晶材料として好適な諸物性を発現するジフルオロベンジルエーテル誘導体の簡便かつ効率的な製造方法を提供することに関する。
【0002】
【背景技術】
近年、コントラスト、表示容量、応答時間等の表示性能の良いアクティブマトリックス駆動方式、中でも薄膜トランジスタ(TFT)方式の液晶表示装置がテレビジョン、ビューファインダー、パーソナルコンピューター等の表示装置として盛んに使用されている。また、アクティブマトリックス方式の表示装置と比較して、大きな表示容量を持ちながら構造が比較的簡単で安価に製造できるSTN方式の表示装置もパーソナルコンピューター等の表示装置として多く採用されている。
これら分野における近年の開発傾向は、液晶表示装置の小型化、携帯化、低消費電力化および高速応答化を中心に推進され、液晶材料としては駆動電圧(すなわちしきい値電圧)が低く、粘度が低い液晶性化合物ならびに液晶組成物が要求されてきた。
【0003】
しきい値電圧(Vth)は、以下の式にて表されるように誘電率異方性値(△ε)の関数である(Mol.Cryst.Liq.Cryst.,12,57(1970))。
Vth=π(K/ε0Δε)1/2
(式中、Kは弾性定数、ε0は真空の誘電率である。)
式から判るように、Vthを小さくするには△εを大きくするか、またはKを小さくするかの2通りの手法が考えられる。しかし、既存の技術ではKのコントロールは困難であることから、△εの大きな液晶材料を使用して要求に対処しているのが現状であり、このような目的で△εの大きな液晶性化合物の開発が活発に行われてきた。
また、粘度は液晶分子の電場に対する応答速度を支配する要素であり、高速応答性を示す液晶組成物を調製するには粘性の低い液晶性化合物を多量に使用することが好ましい。
TFT方式の液晶表示装置に使用する低電圧駆動用の液晶材料として開発された化合物の代表として下記の化合物(7)および(8)(特開平2−233626号)を示すことができる。
【0004】
【化4】
【0005】
化合物(7)および化合物(8)はいずれも分子の末端に3,4,5−トリフルオロフェニル基を有し、低電圧駆動用の液晶材料として期待されるものである。しかし、駆動電圧の更なる低下の要求に対しては、化合物(7)(△ε=10)では誘電率異方性値が小さく、その達成が困難であり、一方化合物(8)(△ε=15)ではその大きな誘電率異方性値から低電圧駆動は可能なものの、分子中央にエステル基が存在するので粘度が高く、高速応答が困難である。
以上のように低消費電力化および高速応答化の要求を満足する化合物は未だ知られていない。
エステル基と同様に化合物の△εを増大させる結合基としてジフルオロメチレンオキシ基を有する化合物が知られている。
【0006】
【化5】
【0007】
化合物(9)(DE−19531165A1)および化合物(10)(WO96/11897)はいずれも結合基としてジフルオロメチレンオキシ基を有する液晶性化合物であり、2件の明細書中にはこれらの化合物が大きな△εを示すと共に比較的低粘性であり、低電圧駆動でかつ高速応答を可能とする液晶組成物の構成成分として有用であることが開示されている。
これらジフルオロベンジルエーテル誘導体の製造方法としては特許公報(DE−19531165A1、特開平5−255165号)に下記の製造方法が開示されている。
【0008】
【化6】
【0009】
(式中X’はフッ素または塩素原子を表し;L3およびL4はそれぞれ独立して水素原子またはフッ素原子を表し;Halはハロゲン原子を表し;R’はアルキル基を表す)
【0010】
【化7】
(式2)
【0011】
(式中 Phはフェニル基を表す)
Scheme 3 に示した製造ルートは、中間体(A)とフェノール誘導体とのエーテル化反応の後、アルキル化反応を実施するという、工程数の多いルートであることから、副生成物の生成が予想される。
Scheme 3 に示した方法で原料として使用する化合物(A)は、A.Haas等がその製造方法(Scheme 5 )を報告している(Chem. Ber., 121, 1329-1340(1988))。
【0012】
【化8】
【0013】
(式中Y’は水素原子、塩素原子、ニトロ基、トリフルオロメチル基、t−ブチル基を表す)
Scheme 5 の製造ルートは、ベンズアルデヒド誘導体(a)のカルボニル基をを四フッ化硫黄でフッ素化した後、光反応にて臭素化する方法である。フッ素化に用いる四フッ化硫黄は極めて反応性に富む気体であり、毒性が強いことから、その使用には特殊な反応設備が必要である。また、ベンジル位の臭素化を光反応(ラジカル反応)で行うので、置換基Y’が直鎖状のアルキル基あるいは1,4−シクロヘキシレン基である場合には、置換基Y’上のベンジル位が臭素化された副生成物が生成することが予想される。
また、Scheme 4 に示した製造ルートも、その中間体として使用するチオン−O−エステル誘導体自身も長い製造工程を必要とする上、さらにチオカルボニル基のフッ素化を必要とする等、簡便な方法とは言えない。
以上のように液晶材料として有用なジフルオロベンジルエーテル誘導体の製造方法ならびにその製造中間体として重要なベンゼン誘導体の簡便かつ効率的な製造方法は未だ知られておらず、今後液晶材料としてのジフルオロベンジルエーテル誘導体の開発と共にその簡便な製造方法への要求は高まるものと予想される。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、液晶材料として有用なジフルオロベンジルエーテル誘導体およびその簡便かつ効率的な製造方法を提供し、また、このジフルオロベンジルエーテル誘導体の原料でありそれ自身も液晶材料として好適な諸物性を発現し、医薬、農薬等の製造原料としても有用なベンゼン誘導体およびその簡便かつ効率的な製造方法を提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは前述した問題を解決すべく鋭意検討した結果、3,5−ジフルオロベンゼン誘導体に塩基を作用させて生じるカルボアニオンにジフルオロメタン誘導体を作用させることにより、ベンゼン環上の4位に容易にジフルオロハロメチル基を導入できることを見出した。
また、この反応で得られるベンゼン誘導体の物性を検討した結果、本化合物が電気光学材料として有用な特性、すなわち無色であり、電気光学用途に対して非常に好ましい温度範囲で液晶相を形成し、比較的低い粘度および中程度の正の誘電率異方性を有し、液晶組成物の成分として適した挙動を示すことを見出した。
さらに、このベンゼン誘導体に、通常のエーテル化の条件下において、フェノール誘導体を作用させることでジフルオロベンジルエーテル誘導体が高収率で得られることを見出し本発明を完成させるに至った。
すなわち本発明は、
(1) 一般式(1)
【0016】
【化9】
【0017】
(式中、R1は水素原子または炭素数1〜15のアルキル基を表し、このアルキル基中の相隣接しない1個以上のメチレン基は酸素原子、硫黄原子、または−CH=CH−で置換されていてもよく、またこのアルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく;A1、A2およびA3はそれぞれ独立して、環を構成する1個以上のメチレン基が酸素原子または硫黄原子で置換されていてもよいトランス−1,4−シクロヘキシレン基、または環上の1個以上の水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい1,4−フェニレン基を表し;Z1、Z2およびZ3はそれぞれ独立して単結合、−CH2CH2−、−(CH2)4−、−CH2O−または−OCH2−を表し;l、mおよびnはそれぞれ独立して0または1を表し;Xは水素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す)で表されるベンゼン誘導体に塩基を作用させ、得られるカルボアニオンに一般式(2)(式中、Y1およびY2はそれぞれ独立してフッ素原子以外のハロゲン原子を表す)で表されるジフルオロメタン誘導体を作用させることを特徴とする、一般式(3)
(式中、R1、A1、A2、A3、Z1、Z2、Z3、l、m、n、およびY1は上記と同一の意味を表す)で表されるベンゼン誘導体の製造方法(Scheme 1)。
【0018】
(2)一般式(2)においてY1およびY2が共に臭素原子である化合物を用いた1項に記載の製造方法。
(3)塩基としてアルキルリチウムを用いる2項に記載の製造方法。
(4)塩基としてn−ブチルリチウムを用いる3項に記載の製造方法。
(5)一般式(4)
【0019】
【化10】
【0020】
(式中、R1、A1、A2、A3、Z1、Z2、Z3、l、mおよびnは上記と同一の意味を表し;Y3は臭素原子またはヨウ素原子を表す)で表されるベンゼン誘導体。
(6)一般式(4)で表される化合物を少なくとも1種類含有することを特徴とする2成分以上よりなる液晶組成物。
(7)一般式(3)(式中、R1、A1、A2、A3、Z1、Z2、Z3、Y1、l、mおよびnは上記と同一の意味を表す)で表されるベンゼン誘導体に、塩基の存在下、一般式(5)
【0021】
【化11】
【0022】
(式中、R2はハロゲン原子、シアノ基、または炭素数1〜15のアルキル基を表し、このアルキル基中の相隣接しない1個以上のメチレン基は酸素原子、硫黄原子、または−CH=CH−で置換されていてもよく、またこのアルキル基中の1個以上の水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよく;A4は環上の1個以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい1,4−フェニレン基を表し;Z4は単結合、−CH2CH2−、−(CH2)4−、−CH2O−または−OCH2−を表し;L1、およびL2はそれぞれ独立して水素原子またはハロゲン原子を表し、oは0または1である)で表されるフェノール誘導体を作用させることを特徴とする、一般式(6)(式中、R1、R2、A1、A2、A3、A4、Z1、Z2、Z3、Z4、L1、L2、l、m、nおよびoは上記と同一の意味を表す)で表されるジフルオロベンジルエーテル誘導体の製造方法(Scheme 2)。
【0023】
【発明の実施の形態】
原料として一般式(1)で表されるベンゼン誘導体を用い、Scheme 1 に示した方法で好適に製造できる一般式(3)で表されるベンゼン誘導体として、具体的には下記の一般式群(3−1)〜(3−4)で表される化合物を例示できる。
【0024】
【化12】
【0025】
(式中、R1、A1、A2、A3、Z1、Z2、Z3、およびY1は上記と同一の意味を表す)
原料としてベンゼン誘導体(3)を用い Scheme 2に示した方法で好適に製造できる一般式(6)で表されるジフルオロベンジルエーテル誘導体として、具体的には次の一般式群(6−1)〜(6−5)で表される化合物を例示できる。
【0026】
【化13】
【0027】
(式中、R1、A1、A2、A3、A4、Z1、Z2、Z3、Z4、L1、L2、およびR2は上記と同一の意味を表す)
ベンゼン誘導体(3)において、R1は水素原子、または炭素数1〜15のアルキル基を表し、このアルキル基中の相隣接しない1個以上のメチレン基は酸素原子、硫黄原子、または−CH=CH−で置換されていてもよく、またこのアルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく;A1、A2およびA3はそれぞれ独立して、環を構成する1以上のメチレン基が酸素原子または硫黄原子で置換されていてもよいトランス−1,4−シクロヘキシレン基、または環上の1個以上の水素原子がフッ素原子で置換されていても良い1,4−フェニレン基を表し;Z1、Z2およびZ3はそれぞれ独立して単結合、−CH2CH2−、−(CH2)4−、−CH2O−または−OCH2−を表し;l、mおよびnはそれぞれ独立して0または1を表し、Y1は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。
【0028】
R1の具体例として、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルキルチオ基、アルキルチオアルキル基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケニルチオ基を示すことができる。
より具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、プロポキシプロピル基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、メチルチオメチル基、エチルチオメチル基、プロピルチオメチル基、ブチルチオメチル基、メチルチオエチル基、エチルチオエチル基、プロピルチオエチル基、メチルチオプロピル基、エチルチオプロピル基、プロピルチオプロピル基、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、1−ペンテニル基、3−ブテニル基、3−ペンテニル基、アリルオキシ基、アリルチオ基等を示すことができる。
一般式(3)におけるA1、A2およびA3の具体例として、下記の式(r−1)〜(r−16)で表される基を示すことができる。
【0029】
【化14】
【0030】
ジフルオロベンジルエーテル誘導体(6)において、R1、A1、A2、A3、Z1、Z2、Z3、l、m、およびnは上記と同一の意味を表し、R2はハロゲン原子、シアノ基、または炭素数1〜15までのアルキル基を表し、このアルキル基中の相隣接しない1個以上のメチレン基は酸素原子、硫黄原子、または−CH=CH−で置換されていてもよく、またこのアルキル基中の1個以上の水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよく;A4は環上の1個以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい1,4−フェニレン基を表し;Z4は単結合、−CH2CH2−、−(CH2)4−、−CH2O−または−OCH2−をを表し;L1およびL2はそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し;oは0または1を表す。
【0031】
R2の具体例として、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシアルキル基、アルキルチオアルキル基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケニルチオ基、ハロゲン置換アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン置換アルコキシアルキル基、ハロゲン置換アルケニル基を示すことができる。
より具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、プロポキシプロピル基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、メチルチオメチル基、エチルチオメチル基、プロピルチオメチル基、ブチルチオメチル基、メチルチオエチル基、エチルチオエチル基、プロピルチオエチル基、メチルチオプロピル基、エチルチオプロピル基、プロピルチオプロピル基、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、1−ペンテニル基、3−ブテニル基、3−ペンテニル基、アリルオキシ基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ジフルオロクロロメチル基、2、2、2−トリフルオロエチル基、2−フルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、5−フルオロペンチル基、3−クロロプロピル基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、ジフルオロクロロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、1,1,2,2−テトラフルオロエトキシ基、ヘプタフルオロプロポキシ基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロプロポキシ基、トリフルオロメトキシメチル基、2−フルオロエテニル基、2,2−ジフルオロエテニル基、1,2,2−トリフルオロエテニル基、3−フルオロ−1−ブテニル基、4−フルオロ−1−ブテニル基を示すことができる。
A4の具体例として、上記の式(r−10)〜(r−16)で表される基を示すことができる。
【0032】
本発明のベンゼン誘導体(3)の製造法で原料として使用するベンゼン誘導体(1)は、以下に示す方法にて容易に製造できる。
一般式(1)においてn=1であり、A3がトランス−1,4−シクロヘキシレン基、Z3が単結合、Xが水素原子である化合物(1−1)は、以下の方法で容易に製造できる。すなわち、3,5−ジフルオロブロモベンゼンから調製したGrignard試薬(14)をシクロヘキサノン誘導体(13)に作用させてアルコール体(15)とした後、塩酸、硫酸等の鉱酸、p−トルエンスルホン酸等の有機酸あるいは非水系の酸性イオン交換樹脂等を作用させて脱水し、パラジウム炭素、ラネーニッケル等水素還元用触媒の存在下、接触水素添加反応を実施することで製造できる。
【0033】
【化15】
【0034】
(式中、R1、A1、A2、Z1、Z2、lおよびmは上記と同一の意味を表す。)
一般式(1)においてn=1であり、A3がフッ素原子が置換していても良い1,4−フェニレン基、Z3が単結合、Xが水素原子である化合物(1−2)は、以下の方法で容易に製造できる。すなわち、鈴木章等の文献(有機合成化学協会誌、第46巻第9号、848(1988))記載の方法に従い、前記Grignard試薬(14)にほう酸トリアルキルを作用させ、次いでその加水分解により調製できるボロン酸誘導体(17)を、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)等の触媒の存在下、ハロゲン置換ベンゼン誘導体(16)に作用させることで製造できる。
【0035】
【化16】
【0036】
(式中、R1、A1、A2、Z1、Z2、lおよびmは上記と同一の意味を表し、L5、L6およびL7はそれぞれ独立して水素原子またはフッ素原子を表す。)
一般式(1)において、n=1であり、Z3が−CH2CH2−、Xが水素原子である化合物(1−3)は、以下の方法で容易に製造できる。すなわち、アセトアルデヒド誘導体(18)にGrignard試薬(14)を作用させ、生成するアルコール体(19)を、酸触媒の存在下で脱水し、次いで接触水素添加することで製造できる。
【0037】
【化17】
【0038】
(式中、R1、A1、A2、A3、Z1、Z2、lおよびmは上記と同一の意味を表す。)
一般式(1)において、m=1であり、Z2が−CH2O−、Xが水素原子である化合物(1−4)は、以下の方法で容易に製造できる。すなわち、対応するアルコール体を臭素化して(O.Kamm et al., Org. Synth., I, 25(1941), J.G.Calzada ey al., Org. Synth., 54, 63(1974))得られるアルキルブロミド(20)に、DMF等の非プロトン性極性溶媒中、アルカリ金属水酸化物あるいはアルカリ金属水素化物等の塩基の存在下、アルコールあるいはフェノール誘導体(21)を作用させることでエーテル結合を有する化合物(1−4)が製造できる。
【0039】
【化18】
【0040】
(上記一般式においてR1、A1、A2、A3、Z1、Z3、lおよびnは上記と同一の意味を表す。)
一般式(1)において、Z1、Z2あるいはZ3の位置に−CH=CH−または−(CH2)4−を導入した化合物は、米国特許USP5,468,421号および米国特許USP5,641,432号記載の方法に準じて製造できる。
【0041】
本発明のベンゼン誘導体(3)の製造法で使用する塩基としては、3,5−ジフルオロベンゼン誘導体(1)のベンゼン環の4位にカルボアニオンを発生させられるものであれば何れでも使用が可能であり、例えばアルカリ金属、アルカリ金属の水素化物、アルキルリチウム、アルカリ金属アルコラートが例示できる。中でも入手が容易で、安全に取り扱いができ、3,5−ジフルオロベンゼン環上の4位に高選択的にカルボアニオンを発生させられる、アルキルリチウムが好ましく、特にn−ブチルリチウムが好適である。
また、この反応において塩基の使用量は、一般式(1)においてXが水素原子である化合物の場合、化合物(1)の0.9〜1.5等量が好ましく、さらに高い選択性を保持しながら転化率を向上させる目的にて1.1〜1.3等量が特に好ましい。
一般式(1)において、Xが塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である化合物の場合、塩基の使用量は化合物(1)の1.8〜2.5等量が好ましく、特に2.1〜2.3等量が好ましい。
【0042】
本発明のベンゼン誘導体(3)の製造法において使用するジフルオロメタン誘導体(2)は、Y1およびY2がフッ素原子以外のいずれのハロゲン原子であるものも使用できる。
ジフルオロメタン誘導体(2)のなかで、ジブロモジフルオロメタン(Y1=Y2=Br)およびブロモクロロジフルオロメタン(Y1=Cl、Y2=Br)はHaszeldine R.N.等の報告(J. Chem. Soc., 1952, 4259)に記載の方法で製造が可能であり、またジクロロジフルオロメタン(Y1=Y2=Cl)はHanne, A.L.等の報告(Org. React., 1944, 2, 64)に記載の方法で製造できる。
尚、複数の試薬メーカーから市販されており、室温付近に沸点(bp.25℃)を有し、取り扱いが容易なジブロモジフルオロメタン(Y1=Y2=Br)が好適である。また、その使用量は、化合物(1)に対し1.5〜2.3等量が好ましいが、副生物である3、5−ジフルオロ−4−ハロベンゼン誘導体の生成を抑制し、且つ反応の転化率を向上させるには1.8〜2.1等量が好ましい。
【0043】
本発明のベンゼン誘導体(3)の製造法で用いる反応溶媒としては、反応に不活性なものであれば何でも使用でき、ベンゼン、トルエン等の芳香族化合物、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素、ジエチルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等の脂肪族エーテル化合物、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル化合物がれいじできる。中でも、脂肪族エーテル化合物および環状エーテル化合物は一般式(1)で表される化合物に対する溶解度が大きいので好適である。またその使用量は、一般式(1)で表される化合物に対して、重量で、5〜20倍量が好ましい。
本発明のベンゼン誘導体(3)の製造法における反応温度は、3、5−ジフルオロベンゼン誘導体(1)の4位に高選択的にジフルオロハロメチル基を導入するには、塩基を作用させる反応において−40℃以下が好ましく、さらに好ましくは−74〜−60℃が好適である。またカルボアニオンにジフルオロジハロメタンを作用させる反応においては副生成物である3、5−ジフルオロ−4−ハロベンゼンの生成を抑制する目的にて−30℃以下が好ましく、さらに好ましくは−74〜−60℃が好適である。
【0044】
本発明のベンゼン誘導体(3)の製造法における反応時間は、塩基を作用させる反応段階においては反応を完全に進行させる目的にて塩基添加後0.5〜4時間放置し熟成させることが好ましく、またジフルオロメタン誘導体を作用させる反応においても同様にジフルオロメタン誘導体添加後、0.5〜4時間熟成させることが好ましく、反応全体としては1時間ないし8時間が好ましい。
なお、本発明のベンゼン誘導体(3)の製造法(Scheme1)においては、3,5−ジフルオロ−4−ハロベンゼン誘導体(11)等の副生成物が若干(35重量%以下)生成する。
【0045】
【化19】
【0046】
(式中、R1、A1、A2、A3、Z1、Z2、Z3、l、m、およびnは上記と同一の意味を表し、X”は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。)
本発明のベンゼン誘導体(3)の製造において、反応液から目的物を分離・精製する方法は、通常の有機合成で使用されている手法による。すなわち、反応液に水および抽出用の有機溶媒を加えてよく撹拌し、分取した有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウム等の乾燥剤で乾燥した後、減圧下有機溶媒を除去することで、濃縮残査として純度60%以上の目的物を得ることができる。この濃縮残査をシリカゲルクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより、純度80%以上の目的物が得られ、さらに再結晶により純度95%以上の目的物が得られる。
なお、以下に述べる本発明のジフルオロベンジルエーテル誘導体(6)の製造法においては、上記ベンゼン誘導体(3)の製造において得られる反応液を精製することなく、純度60%程度の濃縮残査をそのまま使用することができる。
本発明のジフルオロベンジルエーテル誘導体(6)の製造で使用するフェノール誘導体(5)は、R.L.Kidwell等の方法(Org. Synth., V, 918(1973))に従い、ブロモベンゼン誘導体(22)から調製したGrignard試薬にホウ酸トリアルキルを作用させてボロン酸エステル誘導体を調製し、これを過酢酸等の過酸化物で酸化することにより製造することができる。
【0047】
【化20】
【0048】
(式中、R2、A4、Z4、L1、L2およびoは上記と同一の意味を表し、R3はアルキル基を表す。)
また、このフェノール誘導体(5)は以下に示す既知の方法によっても製造することができる。
1)ハロゲン置換誘導体の触媒存在下における加水分解による方法(特開昭62-11716号)。
2)アシル、ケトン誘導体のBaeyer Villiger酸化による方法(J. Fluorine Chem., (1994), 67,(1), 41)。
3)ジアゾニウム塩の加水分解による方法(特開平3-246244号)。
4)フェノール誘導体へのフッ素置換による方法(特開昭62-207229号、特開平2-34335号)。
一般式(5)においてR2がハロゲン置換アルコキシ基である化合物は、DE−19531165A1に記載の方法に準じて製造することができる。
【0049】
本発明のジフルオロベンジルエーテル誘導体(6)の製造法で使用する塩基としては、アルカリ金属、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属水素化物、アルカリ金属アルコラート等が使用できるが、取り扱いが容易な水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩が好ましい。また水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物も安全に取り扱いの出来る油性のものが市販されており、好適に使用できる。
また、この化反応において塩基の使用量は、使用する塩基によって異なるが、ベンゼン誘導体(3)に対して1〜2等量使用することが好ましい。塩基としてアルカリ金属水酸化物またはアルカリ金属水素化物を使用する場合には1.1〜1.3等量が好ましく、アルカリ金属の炭酸塩を使用する場合には1.5〜2等量の使用が好ましい。また、このエーテル化反応においては触媒量のヨウ化カリウムの存在により反応が加速されるので、ベンゼン誘導体(3)に対して0.03〜0.1等量のヨウ化カリウムを添加することが好ましい。
このエ−テル化反応においては、ベンゼン誘導体(3)に対して等量以上のフェノール誘導体(5)を使用すれば、問題なくジフルオロベンジルエーテル誘導体(6)が得られるが、反応液から目的物の分離・精製を容易にする目的で、1.1〜1.2等量が好適である。
【0050】
本発明のジフルオロベンジルエーテル誘導体(6)の製造法で使用する溶媒としては、反応に不活性なものであれば何れも使用できるが、ベンゼン、トルエン等の芳香族化合物、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素、メチル−t−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等の脂肪族エーテル化合物、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル化合物、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、ヘキサメチルホスホリックトリアミド(HMPA)、N−メチル−2−ピロリジノン等非プロトン性極性溶媒がいずれもを使用できる。なかでも、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)が好適である。
また、この反応における反応溶媒の使用量は、反応液の撹拌が良好に行え、反応が安全にかつ安定に実施できる量であれば支障がないが、具体的にはベンゼン誘導体(3)に対して重量で3〜10倍量が好適である。
【0051】
本発明のジフルオロベンジルエーテル誘導体(6)の製造法の反応温度は、ベンゼン誘導体(3)の構造にもよるが、室温から溶媒の沸点までの間とすることができるが、60〜130℃が好適である。この反応における反応時間は、ベンゼン誘導体(3)の構造と量、使用する塩基の種類にもよるが、1〜4時間が好ましい。具体的には、塩基としてアルカリ金属水酸化物あるいはアルカリ金属の炭酸塩を使用する場合は、ベンゼン誘導体(3)、フェノール誘導体(5)、塩基および溶媒を混合し、前記反応温度で1〜3時間反応させることが好ましく、塩基としてアルカリ金属水素化物を使用する場合は、フェノール誘導体(5)と塩基とを上記溶媒中室温〜60℃の温度にて0.5〜1時間反応させた後、ベンゼン誘導体(3)を添加し60〜130℃にてさらに1〜3時間反応させることが好ましい。
【0052】
本発明のジフルオロベンジルエーテル誘導体(6)の製造法において反応液から目的物を分離・精製する方法は、通常の有機合成で使用される手法による。すなわち、反応液に水および抽出用の有機溶媒を加えてよく撹拌し、分取した有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウム等の乾燥剤で乾燥した後、減圧下有機溶媒を除去することで、濃縮残査として純度90%以上の目的物を得ることができる。この濃縮残査をシリカゲルクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより、純度95%以上の目的物が得られ、さらに再結晶により純度99%以上の目的物が得られる。
本発明のジフルオロベンジルエーテル誘導体(6)の製造法においては、Scheme 1 で得られたベンゼン誘導体(3)を精製することなく、3,5−ジフルオロ−4−ハロベンゼン誘導体(11)との混合物のままでしようすることが可能である。この場合、ジフルオロハロメチル基を有するベンゼン誘導体(3)のみが反応し、目的とするジフルオロベンジルエーテル誘導体(6)と3,5−ジフルオロ−4−ハロベンゼン誘導体(11)との混合物が得られる。両者は再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィーあるいは蒸留等既知の分離方法を用いて容易に分離可能であり、純度80〜95%以上の目的物を得ることができる。さらに、再結晶により純度99%以上の目的物を得ることができる。
また、ジフルオロベンジルエーテル誘導体(6)と3,5−ジフルオロ−4−ハロベンゼン誘導体(11)との混合物は、パラジウム−炭素等の触媒存在下に接触水素化反応に付すことにより、3,5−ジフルオロ−4−ハロベンゼン誘導体(11)のみを化合物(1’)に還元することができる。
【0053】
【化21】
【0054】
(式中、R1、A1、A2、A3、Z1、Z2、Z3、l、m、およびnは上記と同一の意味を表す。)
また、ジフルオロベンジルエーテル誘導体(6)と化合物(1’)との混合物は再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィーあるいは蒸留等既知の分離方法を用いて容易に分離可能であり、純度80〜95%以上の目的物を得ることができ、さらに再結晶により純度99%以上の目的物を得ることができる。なお、回収された化合物(1’)は一般式(1)で表される化合物と同様に、Scheme 1 の反応(ジフルオロハロメチル化)に使用することが可能である。
また、3,5−ジフルオロ−4−ハロベンゼン誘導体(11)は、N,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒中、ヨウ化第1銅等の触媒存在下、シアン化銅を作用させることにより、液晶材料として有用な3,5−ジフルオロ−4−シアノベンゼン誘導体(12)(例えば特開平1−131144号)へ変換することができる。
【0055】
【化22】
【0056】
(式中、R1、A1、A2、A3、Z1、Z2、Z3、l、m、およびnは上記と同一の意味を表す。)
このように、本発明の方法においては、副生成物も有効利用が可能である。
【0057】
【実施例】
以下実施例により本発明をより詳細に説明する。以下の実施例においてCrは結晶、Smはスメクチック相、Nはネマチック相、Isoは等方相を表し、相転位温度の単位は℃である。また1H−NMRおよび19F−NMRのデータ表示においてsは一重線、dは二重線、tは三重線、Jはカップリング定数(Hz)を表す。またMSスペクトルのデータ表示においてはM+は分子イオンピークを表し、()内の数値は各フラグメントイオンピークの強度を表す。
【0058】
実施例1
1−ブロモジフルオロメチル−2、6−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゼン(一般式(3)においてR1がn−プロピル基、l=1、m=n=0、A1がトランス−1,4−シクロヘキシレン基、Z1が単結合、Y1が臭素原子である化合物(化合物番号10))の製造
【0059】
撹拌機、温度計、滴下ロートおよび窒素導入管を備えたフラスコ中、窒素雰囲気下、2,6−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゼン140g(0.59mol)をテトラヒドロフラン(以下THFと省略する)1000mlに溶解し、冷媒にて−65℃以下まで冷却後、同温度を維持しながらn−ブチルリチウムヘキサン溶液(1.55M)455ml(0.71mol)を滴下した。滴下終了後さらに2時間−60℃以下を保ちながら撹拌し、次いでジブロモジフルオロメタン246.3g(1.18mol)をTHF150mlに溶解した溶液を−45℃以下を保ちながら滴下し、滴下終了後さらに2時間同温度にて撹拌した。反応液を室温に戻し、水1000mlを添加した後、トルエン1000mlで生成物を抽出した。抽出層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去して、224gの反応物を得た。得られた反応物はシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒ヘプタン)にて精製して、177gのカラム処理物を得た。尚、得られた処理物をガスクロマトグラフィー(GC)で分析したところ目的物(66%)と2、6−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ブロモベンゼン(32%)およびその他の不純物の混合物であった。 尚、目的物の2,6−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゼンからの収率は53.6%であった。
上記のカラム処理物25gをエタノールから数回再結晶し目的とする1−ブロモジフルオロメチル−2,6−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゼン(室温で油状)を11.3g得た。このものの各種スペクトルデータはその構造を強く支持した。
【0060】
1H−NMR(δppm):0.5−2.2(m,16H),2.42(m,1H),6.7−6.9(bd,2H).
19F−NMR:−40.3(m,2F),−111.2(m,2F).
GC−MS :348(M+−F, 2.8),322(6.7),288(88.2),225(5.9),202(38.9),189(100),176(97.2),163(72.2),133(16.9),81(16.9),69(38.9),55(57.6),41(50.7).
【0061】
実施例2
トランス−2−(3,5−ジフルオロ−4−ブロモジフルオロメチルフェニル)−5−プロピル−1,3−ジオキサン(一般式(3)においてR1がn−プロピル基、l=1、m=n=0、A1がトランス−1、3−ジオキサン−2,5−ジイル基、Z1が単結合、Y1が臭素原子である化合物(化合物番号151)の製造
【0062】
撹拌機、温度計、滴下ロートおよび窒素導入管を備えたフラスコ中、窒素雰囲気下、特表平4−503678号記載の方法に準じて合成したトランス−2−(3,5−ジフルオロフェニル)−5−プロピル−1,3−ジオキサン20.3g(83.2mmol)をTHF80mlに溶解し、冷媒にて−65℃以下まで冷却後、同温度を維持しながらn−ブチルリチウムヘキサン溶液(1.61M)65.5ml(104.8mmol)を滴下した。滴下終了後さらに2時間−60℃以下を保ちながら撹拌し、次いでジブロモジフルオロメタン35.2g(166.4mmol)をTHF25mlに溶解した溶液を−45℃以下を保ちながら滴下し、滴下終了後さらに2時間同温度にて撹拌した。反応液を室温に戻し、水200mlを添加した後、トルエン300mlで生成物を抽出した。抽出層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で溶媒を留去して、33.9gの反応物を得た。得られた反応物をGCで分析したところ目的物(84.9%)とトランス−2−(3,5−ジフルオロ−4−ブロモフェニル)−5−プロピル−1,3−ジオキサン(15.1%)との混合物であった。得られた反応物はシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘプタン/トルエン=1/1)にて精製し、21.8gのカラム処理物(目的物99.3%)を得た。
尚、目的物のトランス−2−(3,5−ジフルオロフェニル)−5−プロピル−1,3−ジオキサンからの収率は58.6%であった。
上記の処理物をエタノールから再結晶して、目的とするトランス−2−(3,5−ジフルオロ−4−ブロモジフルオロメチルフェニル)−5−プロピル−1,3−ジオキサン(室温で油状)を18.1g得た。このものの各種スペクトルデータはその構造を強く支持した。
【0063】
1H−NMR(δppm):0.8−1.7(m,7H),1.9−2.4(m,1H),3.51(t,J=11.5Hz,2H),4.0−4.4(m,2H),5.34(s,1H),7.0−7.3(m,2H).
19F−NMR:−41.3(m,2F),−109.9(m,2F).
GC−MS :371(M+−Br,87.5),191(10.4),163(48.9),83(21.9),70(33.3),55(100),42(77.1),29(26.9).
【0064】
実施例1および2に示した方法に準じて以下のベンゼン誘導体(化合物番号1〜9、11〜150、152〜302)が容易に製造できる。
【0065】
【化23】
【0066】
【化24】
【0067】
【化25】
【0068】
【化26】
【0069】
【化27】
【0070】
【化28】
【0071】
【化29】
【0072】
【化30】
【0073】
【化31】
【0074】
【化32】
【0075】
【化33】
【0076】
【化34】
【0077】
【化35】
【0078】
【化36】
【0079】
【化37】
【0080】
【化38】
【0081】
【化39】
【0082】
【化40】
【0083】
【化41】
【0084】
【化42】
【0085】
【化43】
【0086】
【化44】
【0087】
【化45】
【0088】
【化46】
【0089】
【化47】
【0090】
【化48】
【0091】
【化49】
【0092】
【化50】
【0093】
【化51】
【0094】
【化52】
【0095】
【化53】
【0096】
【化54】
【0097】
【化55】
【0098】
【化56】
【0099】
実施例3
α、α−ジフルオロ−2,6−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンジル=3,4,5−トリフルオロフェニル=エーテル(一般式(6)においてR1がn−プロピル基、l=1、m=n=o=0、A1がトランス−1、4−シクロヘキシレン基、Z1が単結合、L1、L2、およびR2が共にフッ素原子である化合物(化合物番号527))の製造方法
【0100】
撹拌機、温度計、冷却管および窒素導入管を備えたフラスコ中、窒素雰囲気下、実施例1で製造した1−ブロモジフルオロメチル−2,6−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゼン10.0g(27.2mmol)、3,4,5−トリフルオロフェノール4.2g(28.6mmol)、炭酸カリウム7.5g(54.5mmol)、ヨウ化カリウム0.2g(1.4mmol)およびN,N−ジメチルホルムアミド50mlを混合し、120℃まで加熱し、1.5時間撹拌した。反応液を室温まで冷却後、水100mlを添加した後、トルエン200mlで生成物抽出した。抽出層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去して反応物11.3gを得た。得られた反応物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘプタン)にて精製し、10.1gのカラム処理物(目的物98%)を得た。
上記の処理物をヘプタンから再結晶して、目的とするα、α−ジフルオロ−2、6−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンジル=3,4,5−トリフルオロフェニル=エーテル9.0gを得た。尚、このものの1−ブロモジフルオロメチル−2,6−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゼンからの収率は76.2%であった。また、化合物の各種スペクトルデータはその構造を強く支持した。
【0101】
相転移温度(℃): Cr 40.7 Iso
1H−NMR(δppm) :0.8−2.1(m,16H),2.5(m,1H),6.5−7.1(m,4H).
19F−NMR :−66.06(m,2F),−111.95(m,2F),−133.08(m,2F),−163.85(m,1F).
GC−MS :287(100),189(6.5),176(4.3),163(26.6),55(3.4),41(4.0).
【0102】
参考例
実施例1において反応物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して得られたカラム処理物(1−ブロモジフルオロメチル−2,6−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゼン(66重量%)と2,6−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ブロモベンゼン32重量%とを含有する)を使用して、以下に示す操作により、目的とするα、α−ジフルオロ−2,6−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンジル=3,4,5−トリフルオロフェニル=エーテルを製造した。
【0103】
撹拌機、温度計、冷却管および窒素導入管を備えたフラスコ中、窒素雰囲気下、実施例1のカラム処理物(1−ブロモジフルオロメチル−2,6−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゼン25.0g(44.9mmol)相当量)、3,4,5−トリフルオロフェノール7.3g(49.4mmol)、炭酸カリウム12.4g(89.9mmol)、ヨウ化カリウム0.5g(2.2mmol)およびN、N−ジメチルホルムアミド150mlを混合し、120℃まで加熱し、1.5時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、水300mlを添加した後、トルエン400mlで生成物抽出した。抽出層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去して、反応物28.0gを得た。得られた反応物をトルエン100mlおよびエタノール50mlの混合液に溶解し、5%−パラジウム炭素触媒2.2gおよびトリエチルアミン3.1g(30.3mmol)を添加し、オートクレーブ中、水素圧2Kg/cm2の条件下、室温で8時間撹拌した。濾過により触媒を除去した後、反応液に水150mlを添加し、トルエン200mlで生成物を抽出した。抽出層を1M塩酸水溶液100mlで洗浄後、水150ml、飽和炭酸ナトリウム水溶液100mlおよび水150mlで順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧下留去、濃縮し反応物25.5gを得た。
得られた反応物はシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘプタン)にてRf=0.74の成分(4.9g)およびRF=0.46の成分(19.3g)をそれぞれを得た。
上記のRF=0.46の成分をヘプタンから再結晶することにより目的とするα、α−ジフルオロ−2,6−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンジル=3,4,5−トリフルオロフェニル=エーテル16.9gを得た。この方法では、使用した3,4,5−トリフルオロフェノールからの収率は78.8%、さらに実施例1において使用した2,6−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゼンからの収率は46.9%であった。
尚、上記のRf=0.74の成分は2,6−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゼンであった。したがって、実施例1における副成生物から回収が可能であることから、本発明の方法は効率的な製造方法であることがわかる。
【0104】
実施例4
α,α−ジフルオロ−2、6−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピル−1,3−ジオキサン−2−イル)ベンジル=3,4,5−トリフルオロフェニル=エーテル(一般式(6)においてR1がn−プロピル基、l=1、m=n=o=0、A1がトランス−1,3−ジオキサンジイル基、Z1が単結合、L1、L2、およびR2が共にフッ素原子である化合物(化合物番号583))の製造。
【0105】
撹拌機、温度計、冷却管および窒素導入管を備えたフラスコ中、窒素雰囲気下、DMF20ml中に水素化ナトリウム(60%油性)1.4g(35.6mmol)を懸濁させ、攪拌しながら3,4,5−トリフルオロフェノ−ル4.4g(29.6mmol)のDMF溶液20mlを室温にて滴下した。滴下後1時間室温にて攪拌後、実施例2で得られたトランス−2−(3,5−ジフルオロ−4−ブロモジフルオロメチルフェニル)−5−プロピル−1,3−ジオキサン10.0g(26.9mmol)のDMF溶液50mlを滴下し、60℃まで加熱し、4時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、水100mlを添加し、生成物をトルエン200mlで抽出した。抽出層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去して、反応物11.6gを得た。得られた反応物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘプタン/トルエン=3/2)にて精製後、さらにエタノールから再結晶して、目的とするα,α−ジフルオロ−2、6−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピル−1,3−ジオキサン−2−イル)ベンジル=3,4,5−トリフルオロフェニル=エーテル7.7gを得た。尚、トランス−2−(3,5−ジフルオロ−4−ブロモジフルオロメチルフェニル)−5−プロピル−1,3−ジオキサンからの収率は65.9%であった。また、このものの各種スペクトルデータはその構造を強く支持した。
【0106】
相転位点(℃): Cr 41.6 Iso
1H−NMR(δppm):0.8−2.6(m,7H)、1.8−2.4(m,1H),3.4−3.7(m、2H)、4.1−4.5(m、2H)、5.36(s、1H)、6.8−7.4(m、2H).
19F−NMR:−62.1(m,2F),−110.5(m,2F),−132.9(m,2F),−163.6(m,1F).
GC−MS :291(M+−C6H2F3O,100),191(23.4),163(70.2),83(24.3),55(91.7),41(46.8),29(22.3).
【0107】
実施例3および4に示した方法に準じて下記のジフルオロベンジルエーテル誘導体(化合物番号501〜526、528〜582、584〜668)が容易に製造できる。
【0108】
【化57】
【0109】
【化58】
【0110】
【化59】
【0111】
【化60】
【0112】
【化61】
【0113】
【化62】
【0114】
【化63】
【0115】
【化64】
【0116】
【化65】
【0117】
【化66】
【0118】
【化67】
【0119】
【化68】
【0120】
【化69】
【0121】
【化70】
【0122】
【化71】
【0123】
【化72】
【0124】
【化73】
【0125】
【化74】
【0126】
【化75】
【0127】
【化76】
【0128】
【化77】
【0129】
【発明の効果】
従来法と比較し本発明の方法を用いることで電気光学材料その他の分野で有用であるベンゼン誘導体を簡便かつ効率的に製造することができる。また本発明の方法で得られるベンゼン誘導体を塩基の存在下フェノール誘導体と作用させることにより液晶材料として期待されるジフルオロベンジルエーテルが簡便かつ効率的に製造できる。
Claims (7)
- 一般式(1)
(式中、R1、A1、A2、A3、Z1、Z2、Z3、l、m、n、およびY1は上記と同一の意味を表す)で表されるベンゼン誘導体の製造方法。 - 一般式(2)において、Y1およびY2が共に臭素原子である化合物を用いることを特徴とする請求項1に記載のベンゼン誘導体の製造方法。
- 塩基としてアルキルリチウムを用いることを特徴とする請求項2に記載のベンゼン誘導体の製造方法。
- 塩基としてn−ブチルリチウムを用いることを特徴とする請求項3に記載のベンゼン誘導体の製造方法。
- 一般式(4)で表される化合物を少なくとも1種類含有することを特徴とする2成分以上よりなる液晶組成物。
- 一般式(3)(式中、R1、A1、A2、A3、Z1、Z2、Z3、Y1、l、mおよびnは上記と同一の意味を表す)で表されるベンゼン誘導体に、塩基の存在下、一般式(5)
(式中、R1、R2、A1、A2、A3、A4、Z1、Z2、Z3、Z4、L1、L2、l、m、nおよびoは上記と同一の意味を表す)で表されるジフルオロベンジルエーテル誘導体の製造方法。
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