JP4251508B2 - 酸塩化物化合物の製造方法 - Google Patents
酸塩化物化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4251508B2 JP4251508B2 JP23644297A JP23644297A JP4251508B2 JP 4251508 B2 JP4251508 B2 JP 4251508B2 JP 23644297 A JP23644297 A JP 23644297A JP 23644297 A JP23644297 A JP 23644297A JP 4251508 B2 JP4251508 B2 JP 4251508B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- chloride
- acid
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D213/78—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms, with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/24—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D213/26—Radicals substituted by halogen atoms or nitro radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D213/61—Halogen atoms or nitro radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D213/62—Oxygen or sulfur atoms
- C07D213/63—One oxygen atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D213/78—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms, with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
- C07D213/81—Amides; Imides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、トリクロロメチルアジンからのアジニル酸塩化物化合物の製造方法に関する。この中で、トリクロロメチルアジンは、酸性触媒の存在下、反応経過中に減圧下に蒸留され得る酸塩化物を形成することが可能である酸で処理される。
【0002】
【従来の技術】
アジニル酸塩化物化合物は、農薬、医薬、もしくは液晶として有用である幅広い多様性の化合物の製造に適する中間体である。とりわけ、それらは、例えば欧州特許出願第EP 0 447 004 A号に記述される除草剤のピリジンカルボキサミドの製造で重要な中間体である。
【0003】
米国特許第3,875,226号は、トリクロロメチル化合物がルイス酸の存在下に二酸化イオウで処理されて酸塩化物化合物および塩化スルフィニルを形成する方法を開示する。
【0004】
しかしながら、この方法は技術的スケールでほとんど適用できない。なぜなら、二酸化イオウは通常の条件下で気体であり、かつ、冷却下におよび/もしくは高圧下に取り扱われなくてはならず、これらの条件は大スケールの製造で適用できない。
【0005】
欧州特許出願第EP 0 646 666 A号は、トリクロロメチルアジンを、塩素化炭化水素およびルイス酸の存在下に水で加水分解することを示唆する。
【0006】
しかしながら、この方法は供給速度および水の正確に等モルの供給に関して問題を引き起こす。水のいかなる過剰も所望の酸塩化物化合物の加水分解を引き起こすであろうし、従って収量を低下させるであろう。
【0007】
さらに、最近では塩素化炭化水素を使用することは環境的問題のため望まれず、また、従来技術の処置で使用される溶媒の量は多い。さらに、水/1,2-ジクロロエタンを使用する場合に必要とされる反応時間は非常に長い(24時間)。
【0008】
欧州特許第EP 0 091 022号は、トリクロロ酢酸およびルイス酸として五塩化アンチモンもしくは塩化鉄(III)を使用する5-トリクロロメチルイソキサゾールからのイソキサゾール-5-カルボン酸の製造を開示する。
【0009】
しかしながら、この方法が他のトリクロロメチラジンおよび他のカルボン酸に適用し得るであろうというヒントは存在しない。五塩化アンチモンを使用する反応は2時間以内に完了した一方、塩化鉄(III)は8時間かかった。この方法の欠点のひとつは、高価な五塩化アンチモンが有毒であり、そして従ってこの方法が技術的スケールで使用され得ないということである。さらに、五塩化アンチモンが塩化アジノイルの製造に使用される場合は低い収量のみが達成される。
【0010】
ドイツ特許出願第DE 30 04 693号は、芳香族スルホン酸のトリクロロメチル芳香族炭化水素との反応による芳香族のハロゲン化スルホニルおよびハロゲン化ベンゾイルの同時製造方法を開示する。
【0011】
しかしながら、これらの生成物の分離は高度に洗練された蒸留技術を必要とする。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
解決されるべき問題は、溶媒が引き起こす環境的問題および長い反応時間を避ける、高収量でのアジニル酸塩化物の製造方法を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】
驚くべきことに、式I
【0014】
【化3】
【0015】
式中
Azは場合によっては置換されるアジニル基を表す、
のアジニル酸塩化物化合物が、式II
Az−CCl3 (II)
式中Azは与えられた意味を有する、
のトリクロロメチルアジンを、酸性触媒の存在下、減圧下に反応の間に蒸留され得る酸塩化物を形成する酸とともに加熱することを含む方法の助けを借りて、好ましくは、式IIの前述のトリクロロメチルアジンを、減圧下に酸性触媒の存在下、式III
R1−X−OH (III)
式中
R1はC1-6アルキル基もしくはC1-6ハロアルキル基を表し、そして
XはCOもしくはSO2を表す、
の酸とともに加熱することにより、高収量で容易に製造され得ることが見出された。
【0016】
従って、本発明の一目的は、塩化アジノイル化合物の製造の効率的な新規の方法を提供することである。
【0017】
本発明の別の態様は、(ヘテロ)アリールオキシアジニルカルボキサミドの調製のための、本発明の方法により得られる塩化アジノイルの使用である。
【0018】
本発明の他の目的および利点は以下の記述から当業者に明らかであろう。
【0019】
一般的な状況では、本明細書に別に述べられない限り、本明細書でAzに関して使用されるような、場合によっては置換されるアジニル基という用語は、最低1個の窒素原子をもつ6員ヘテロ環基、とりわけ、場合によっては1個もしくはそれ以上のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基好ましくはC1-6アルキル基、アルコキシ基好ましくはC1-6アルコキシ基、4-アルキルシクロヘキシル基好ましくは4-C1-6アルキルシクロヘキシル基、もしくはハロアルキル基好ましくはC1-6ハロアルキル基により置換されるピリジン基もしくはピリミジン基を指す。
【0020】
概して、ヘテロ芳香族基が好まれ、これは最低1個の電子吸引基により、とりわけ1個もしくはそれ以上のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基もしくはハロアルキル基により置換される。
【0021】
とりわけ好ましい態様において、Azは、式V
【0022】
【化4】
【0023】
式中
R2は水素原子もしくはハロゲン原子またはアルキル基もしくはハロアルキル基を表し、そして
Zはハロゲン原子を表す、
の、場合によっては置換されるピリジル基を表す。
【0024】
一般的に、本明細書に別に述べられない限り、基もしくは部分に関して本明細書で使用されるような、アルキルもしくはハロアルキルという用語は、直線のもしくは分枝の鎖状の基もしくは部分を指す。概して、そうした基は10個まで、とりわけ6個までの炭素原子を有する。適当に、アルキルもしくはハロアルキル部分は、1から6個までの炭素原子、好ましくは1から3個までの炭素原子を有する。好ましいアルキル部分はエチル基もしくはとりわけメチル基である。
【0025】
好ましいハロアルキル基は式-(CX2)n-Yのポリハロゲン化もしくはペルハロゲン化アルキル基である。式中nは1ないし10、好ましくは1ないし6、とりわけ1ないし3の整数であり、Xはフッ素もしくは塩素を表し、そしてYは水素もしくはXである。好ましいポリハロゲン化アルキル部分はペンタフルオロエチル基、ペンタクロロエチル基あるいはとりわけジフルオロ-もしくはトリフルオロメチル基、またはジクロロ-もしくはトリクロロメチル基である。
【0026】
場合によっては置換される部分は、置換されないこともあるか、もしくは1から最大限の可能な数までの置換基を有する。典型的には、0ないし2個の置換基が存在する。
【0027】
本発明の方法のさらに好ましい態様は、
(a)Azが、1個のハロゲン原子により置換され、かつ、場合によっては1個のアルキル基もしくはハロアルキル基により置換されたアジニル基、好ましくは式V
【0028】
【化5】
【0029】
式中R2は水素原子またはアルキル基もしくはハロアルキル基を表し、
また、
Zはハロゲン原子を表す、
の置換されたピリジル基、とりわけ6-ハロピリド-2-イル基を表す方法、
(b)R1が場合によっては1個もしくはそれ以上の塩素原子により置換されるメチル基を表す方法、
(c)酸性触媒が硫酸、塩化鉄(III)および塩化亜鉛から選択される方法、
(d)本質的に、式IIのトリクロロメチラジン、式IIIの酸および酸性触媒から成る反応混合物が加熱され、かつ、反応経過中に形成される式IV
R1−X−Cl (IV)
式中R1およびXは上に定義されるようである、
の酸塩化物が減圧下に蒸留される方法、
(e)式IIのトリクロロメチラジン1モルが式IIIの酸0.4ないし1.2モルで処理される方法、
(f)XがSO2を表し、かつ、酸性触媒が水の5重量%より小さな含量をもつ硫酸である方法、
(g)式IIのトリクロロメチル芳香族炭化水素1モルが酸性触媒0.01ないし0.10モルの存在下に式IIIの酸で処理される方法、
の方法である。
【0030】
当該反応は周囲温度と反応混合物の還流温度との間の温度で、好ましくは上昇された温度で、とりわけ還流温度で、好ましくは75と160℃との間、とりわけ85と130℃との間で実施される。
【0031】
本発明の別の態様は、
式VI
【0032】
【化6】
【0033】
式中
Azは場合よっては1個のアルキル基もしくはハロアルキル基により置換されるアジニル基、好ましくは場合によっては置換されるピリジル基を表し、
Arは場合によっては置換されるアリール基もしくはヘテロアリール基、好ましくは最低1個のハロゲン原子またはハロアルキル基もしくはハロアルコキシ基により置換されるフェニル基、とりわけピリジン-2,6-ジイル基、とりわけ3-トリフルオロメチルフェニル基を表し、
R3は水素原子もしくはアルキル基、好ましくは水素原子を表し、そして
R4は場合によっては置換されるアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基もしくはシクロアルキル基、好ましくは最低1個のハロゲン原子またはハロアルキル基もしくはハロアルコキシ基により置換されるフェニル基、とりわけ4-フルオロフェニル基を表す、
の(ヘテロ)アリールオキシヘテロアリールカルボキサミドの製造のための式Iの化合物の使用であって、その中で
(a)上記のいずれかに従う式IIのモノハロゲン化アジニルトリクロロメタンから製造される式Iのモノハロゲン化塩化アジノイルが、
(b)場合によっては不活性溶媒および/もしくは塩基の存在下に、式VII
HNR3R4 (VII)
式中R3およびR4は上に定義されるようである、
のアミンと反応され、
(c)得られるモノハロゲン化アジニルカルボキサミドが、塩基の存在下に、式VIII
Ar−OH (VIII)
式中Arは上記の意味を有する、
の芳香族もしくはヘテロ芳香族のヒドロキシル化合物と反応され、とりわけ、後述する特徴もしくは態様の1ないし10のいずれかにより得られる式Iのハロゲン化アジニル酸塩化物がさらなる精製なしに式VIIのアミンと反応される。
【0034】
概して、当該反応は、反応の間に形成される式IVの化合物の蒸留を容易するため減圧下に実施される。最も好ましくは、反応は20と400mbarのと間、とりわけ25と250mbarとの間の圧で実施される。
【0035】
本発明の方法のとりわけ好ましい態様においては、好ましくは式中Azが置換されたピリジン基とりわけニトラピリンである式IIのトリクロロメチルアジン1当量が、0.05ないし0.15当量の触媒、とりわけ塩化鉄(III)と混合され、そして80ないし150℃、とりわけ110ないし130℃に加熱される。その後、式中XがCOを表す式IIIの酸、とりわけクロロ酢酸、ジクロロ酢酸もしくはトリクロロ酢酸0.8ないし1.2当量がこの反応混合物に供給され、これが減圧に保たれる。式IVの対応する酸塩化物は反応が完了するまで蒸留される。
【0036】
この好ましい反応条件下で、当該反応は概して1ないし5、とりわけ1.5ないし4時間以内に完了する。
【0037】
本発明の方法の別のとりわけ好ましい態様においては、好ましくは式中Azが置換されたピリジン基とりわけニトラピリンである式IIのトリクロロメチルアジン1当量が、0.01ないし0.05当量の触媒、とりわけ硫酸と混合され、そして80ないし150℃、とりわけ110ないし130℃に加熱される。その後、式中XがSO2である式IIIの酸、とりわけメタンスルホン酸0.2ないし0.8等量がこの反応混合物に供給され、これが減圧に保たれる。対応するアルカン塩化スルホニルは反応が完了するまで蒸留される。
【0038】
当該反応が式IIのヘテロ環トリクロロメチルアジンおよび式IIIのアルカンスルホン酸の等モル量で実施される場合、達成可能な収量を低下させかつ精製処置の間に困難を引き起こすタール様の副生成物が得られうる。従って、トリクロロメチルアジンの過剰量を使用することが有利であり得る。なぜなら、これはこれらの副生成物の形成を避けるからである。
【0039】
この発明のとりわけ好ましい態様においては、ニトラピリン1ないし4等量の過剰量が硫酸(96ないし99重量%)0.01ないし0.05モルの存在下にメタンスルホン酸1モルと反応される。
【0040】
この好ましい反応条件下では、当該反応は概して0.25ないし5、とりわけ0.3ないし3時間以内に完了する。
【0041】
残存する塩化アジノイルはさらなる精製なしに所望の最終生成物の製造の中間体として使用され得る。例えば結晶化もしくは蒸留のような標準的処置を使用して、とりわけ減圧下、とりわけ1と100mbarとの間の圧での蒸留により、それらを精製することもまた可能である。
【0042】
この新規の方法は、安価な、容易に入手可能な抽出物を使用して、技術的スケールおよび高収量でアジニル酸塩化物の産生を実施することを可能にする。さらに、この新規の処置で試薬として使用される式IIIの酸は、反応の間に形成される対応する酸塩化物への水の添加により再生利用され得る。かように、少量の試薬のみが新規の処置に必要とされる。
【0043】
【実施例】
本発明のさらなる理解を容易にするために、以下の例証的実施例が呈示される。本発明は記述されたもしくは例証された特定の態様に制限されない。
【0044】
実施例1
2-クロロ-6-ピリジン塩化カルボニルの製造
[式Iの化合物においてAz=2-クロロ-6-ピリジニル]
200mmolのニトラピリン(2-クロロ-6-トリクロロメチルピリジン)と与えられた量の触媒との混合物を90と130℃との間の温度に加熱する。有機酸200mmolを減圧下に混合物に供給した。当該反応により形成される有機酸塩化物を反応時間の間蒸留した。反応はGC分析によりモニターした。生成物は、慣習的な操作(work up)および減圧下の蒸留により無色結晶として得られ、かつ、以下の物理的特性を示す:
融点 74〜75℃、沸点 80℃/2.6Pa
1H-NMR(DMSO,300MHz):δ(ppm)=8.11(m、2H、3-、5-CH)、7.80(m、1H、4-CH)
13C-NMR(DMSO):δ(ppm)=164.7(q、COCl)、150.2(q、6-C)、148.8(q、2-C)、141.0(t、4-C)、127.9(t、3-C)、124.0(t、5-C)
実験の結果は以下の表に与えられ、表中、以下の略語が使用されている:
CPA 6-クロロピリジル-2-カルボン酸 AA 酢酸
DCAA ジクロロ酢酸 CAA クロロ酢酸
TCAA トリクロロ酢酸 PA プロピオン酸
【0045】
【表1】
【0046】
実施例2
2-クロロ-6-ピリジン塩化カルボニルの製造
[式Iの化合物においてAz=2-クロロ-6-ピリジニル]
与えられた量のニトラピリン(NP、2-クロロ-6-トリクロロメチルピリジン)と0.005モルの触媒との混合物を125と140℃との間の温度に加熱する。メタンスルホン酸0.1モルを減圧下に混合物に供給した。当該反応により形成されるメタン塩化スルホニルを0.5ないし2時間の間蒸留した。反応はGC分析によりモニターした。生成物は過剰に使用されている反応されないNPと所望の生成物との混合物として得られる。この混合物はさらなる精製なしに除草剤のピリジンカルボキサミドの製造に使用され得る。生成物は蒸留により無色結晶として得られ、また、以下の物理的特性を示す:
融点 74〜75℃、沸点 80℃/2.6Pa
1H-NMR(DMSO,300MHz):δ(ppm)=8.11(m、2H、3-、5-CH)、7.80(m、1H、4-CH)
13C-NMR(DMSO):δ(ppm)=164.7(q、COCl)、150.2(q、6-C)、148.8(q、2-C)、141.0(t、4-C)、127.9(t、3-C)、124.0(t、5-C)
実験の結果は以下の表に与えられ、表中、収量はNPおよび生成物から成る得られた混合物から決定されている:
【0047】
【表2】
【0048】
比較実施例
2-クロロ-6-ピリジン塩化カルボニルの製造
200mmolのニトラピリンと10mmolの五塩化アンチモンの混合物を120℃に加熱する。トリクロロ酢酸200mmolを周囲圧下に混合物に供給した。当該反応により形成された塩化トリクロロアセチルを15時間の間蒸留した。反応はGC分析によりモニターした。GCは9%の生成物および4%の6-クロロピリド-2-イルカルボン酸を示した。
【0049】
使用実施例
6-(3-トリフルオロメチルフェノキシ)-ピリド-2-イルカルボキサミドN-(4-フルオロフェニル)の製造
実施例2e)により得られた粗生成物をトルエン(200ml)で希釈し、そして65℃で4-フルオロアニリン(250mmol)に添加する。その後、混合物を1時間100℃に加熱する。混合物をその後20℃に冷却し、希塩酸で洗浄しそしてストリッピングして、本質的に6-クロロピリド-2-イルカルボキサミドN-(4-フルオロフェニル)および反応されないニトラピリンから成る油を与える。反応されないニトラピリンを減圧下に蒸留する。得られた粗生成物(49.5g、87%)をトルエン(200ml)で希釈し、そしてさらなる精製なしに炭酸カリウム(210mmol)、3-トリフルオロメチルフェノール(200mmol)およびジメチルアセタミド(120ml)の混合物に添加する。トルエンを蒸留し、そして反応混合物を160℃に4時間加熱する。溶媒を蒸留し、そして残渣をトルエンで希釈する。混合物を炭酸水素ナトリウムで洗浄し、乾燥しそして濃縮する。残渣をメタノールから再結晶して、表題の化合物(58.2g、85%)、融点105〜107℃、を与える。
【0050】
なお、本発明の主要な特徴もしくは態様を以下に挙げる。
【0051】
1.式I
【0052】
【化7】
【0053】
式中、
Azは場合によっては置換されるアジニル基を表す、
のアジニル酸塩化物化合物の製造方法であって、式II
Az−CCl3 (II)
式中Azは上記の意味を有する、
のトリクロロメチルアジンを、酸性触媒の存在下、減圧下に、反応の間に留去され得る酸塩化物を形成する酸とともに加熱することを含む方法。
【0054】
2.前述の酸が、式III
R1−X−OH (III)
式中
R'はC1-6アルキル基もしくはC1-6ハロアルキル基を表し、また、
XはCOもしくはSO2を表す、
の化合物である、前記1の方法。
【0055】
3.Azが1個のハロゲン原子により置換され、および場合によっては1個のアルキル基もしくはハロアルキル基により置換されたアジニル基を表す、前記1の方法。
【0056】
4.酸性触媒が硫酸、塩化鉄(III)および塩化亜鉛から選択される、前記1の方法。
【0057】
5.Azが式V
【0058】
【化8】
【0059】
式中
R2は水素原子またはアルキル基もしくはハロアルキル基を表し、また、
Zはハロゲン原子を表す、
の置換されたピリジル基を表す、前記1の方法。
【0060】
6.Azが6-ハロピリド-2-イル基である、前記5の方法。
【0061】
7.式IIのトリクロロメチルアジン1モルが式IIIの酸0.4ないし1.2モルで処理される、前記5の方法。
【0062】
8.式IIのトリクロロメチル芳香族炭化水素1モルが、酸性触媒0.01ないし0.10モルの存在下に式IIIの酸で処理される、前記5の方法。
【0063】
9.(a)前記1ないし8のいずれかにより式IIのモノハロゲン化アジニルトリクロロメタンから製造される式Iのモノハロゲン化アジニル酸塩化物が、
(b)式VII
HNR3R4 (VII)
のアミンと、場合によっては不活性溶媒および/もしくは塩基の存在下に反応され、そして
(c)得られるモノハロゲン化アジニルカルボキサミドが、塩基の存在下で、式VIII
Ar−OH (VIII)
式中Arは下記の意味を有する、
の芳香族もしくはヘテロ芳香族のヒドロキシル化合物と反応される、
ことを特徴とする、式VI
【0064】
【化9】
【0065】
式中、Azは上記の意味を有し、また、
Arは場合によっては置換されるアリール基もしくはヘテロアリール基を表し、R3は水素原子もしくはアルキル基を表し、そして
R4は場合によっては置換されるアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基もしくはシクロアルキル基を表す、
の(ヘテロ)アリールオキシヘテロアリールカルボキサミドの製造のための式Iの化合物の使用。
【0066】
10.式Iのハロゲン化アジニル酸塩化物がさらなる精製なしに式VIIのアミンと反応される、前記3の使用。
Claims (2)
- 式I
Azは1個もしくはそれ以上のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、C 1-6 アルキル基、C 1-6 アルコキシ基、4−C 1-6 アルキルシクロヘキシル基またはC 1-6 ハロアルキル基により置換されていてもよいピリジン基を表す、
のアジニル酸塩化物の製造方法であって、式II
Az−CCl3 (II)
式中、Azは上記の意味を有する、
のトリクロロメチルアジンを、酸性触媒の存在下、減圧下に、反応の間に留去され得る酸塩化物を形成する、式III
R 1 −X−OH (III)
式中
R ' はC 1-6 アルキル基もしくはC 1-6 ハロアルキル基を表し、また、
XはCOもしくはSO 2 を表す、
酸とともに加熱する工程を含んでなる上記方法。 - 式I
Azは1個もしくはそれ以上のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、C 1-6 アルキル基、C 1-6 アルコキシ基、4−C 1-6 アルキルシクロヘキシル基またはC 1-6 ハロアルキル基により置換されていてもよいピリジン基を表す、
のアジニル酸塩化物の式VI
Arは置換されていてもよいアリールまたはヘテロアリール基を表し、
R 3 は水素原子もしくはアルキル基を表し、そして
R 4 は置換されていてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基もしくはシクロアルキル基を表す、
の(ヘテロ)アリールオキシヘテロアリールカルボキサミドの製造のための使用であって、
(a)式II
Az−CCl 3 (II)
式中、Azは上記の意味を有する、
のモノハロゲン化アジニルトリクロロメタンから製造される式Iのモノハロゲン化アジニル酸塩化物を、
(b)式VII
HNR3R4 (VII)
式中、R 3 及びR 4 は上記の意味を有する、
のアミンと、場合によっては不活性溶媒および/もしくは塩基の存在下に反応させ、そして
(c)こうして得られるモノハロゲン化アジニルカルボキサミドを、塩基の存在下、式VIII
Ar−OH (VIII)
式中、Arは置換されていてもよいアリール基もしくはヘテロアリール基を表す、
の芳香族もしくはヘテロ芳香族ヒドロキシル化合物と反応させる、
ことを特徴とする、上記使用。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP96113531 | 1996-08-23 | ||
EP96117863 | 1996-11-07 | ||
DE96117863.9 | 1996-11-07 | ||
DE96113531.6 | 1996-11-07 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10212276A JPH10212276A (ja) | 1998-08-11 |
JP4251508B2 true JP4251508B2 (ja) | 2009-04-08 |
Family
ID=26142143
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23644297A Expired - Fee Related JP4251508B2 (ja) | 1996-08-23 | 1997-08-19 | 酸塩化物化合物の製造方法 |
Country Status (24)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0826672B1 (ja) |
JP (1) | JP4251508B2 (ja) |
KR (1) | KR100495349B1 (ja) |
CN (1) | CN1188397C (ja) |
AR (1) | AR008308A1 (ja) |
AT (1) | ATE297896T1 (ja) |
AU (2) | AU3524897A (ja) |
BR (1) | BR9704485A (ja) |
CA (1) | CA2213584A1 (ja) |
CZ (1) | CZ294098B6 (ja) |
DE (1) | DE69733521T2 (ja) |
DK (1) | DK0826672T3 (ja) |
EE (1) | EE04549B1 (ja) |
ES (1) | ES2243970T3 (ja) |
GE (1) | GEP20001914B (ja) |
HU (1) | HUP9701426A1 (ja) |
IL (1) | IL121588A (ja) |
MD (1) | MD1811C2 (ja) |
NZ (1) | NZ328593A (ja) |
RU (1) | RU2207336C2 (ja) |
SK (1) | SK283406B6 (ja) |
TR (1) | TR199700846A2 (ja) |
TW (1) | TW430655B (ja) |
UA (1) | UA51641C2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DK1948609T3 (da) * | 2005-11-07 | 2010-06-07 | Basf Se | Fremgangsmåde til fremstilling af pyridylcarboxylsyreamider og estere |
US8455684B2 (en) * | 2009-03-17 | 2013-06-04 | Teijin Aramid B.V. | Method for converting aromatic aldehydes to aromatic acyl halides |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1921767A (en) * | 1929-05-20 | 1933-08-08 | Dow Chemical Co | Method of making acid halides |
US1965556A (en) * | 1930-03-06 | 1934-07-03 | Dow Chemical Co | Method for the preparation of acid halides |
US2856425A (en) * | 1956-04-06 | 1958-10-14 | Du Pont | Production of aromatic acid halides |
US3875226A (en) * | 1969-10-17 | 1975-04-01 | Dow Chemical Co | Preparation of acid halides |
DE3004693A1 (de) * | 1980-02-08 | 1981-08-13 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von aromatischen sulfonsaeurehalogeniden |
IL68187A0 (en) * | 1982-04-01 | 1983-06-15 | Basf Ag | 5-trichloromethylisoxazole,its preparation and its use for the preparation of 5-isoxazolecarboxylic acid |
GB9005965D0 (en) * | 1990-03-16 | 1990-05-09 | Shell Int Research | Herbicidal carboxamide derivatives |
US5166352A (en) * | 1991-09-12 | 1992-11-24 | Dowelanco | Pyridinecarboxylic acid chlorides from (trichloromethyl)pyridines |
ZA947672B (en) * | 1993-10-05 | 1995-06-29 | Shell Internationale Researchm | Process for the preparation of acid chloride compounds. |
JPH07291891A (ja) * | 1994-04-28 | 1995-11-07 | Tokuyama Corp | カルボン酸クロライドの製造方法 |
-
1997
- 1997-08-15 CZ CZ19972609A patent/CZ294098B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1997-08-19 JP JP23644297A patent/JP4251508B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1997-08-20 IL IL12158897A patent/IL121588A/en not_active IP Right Cessation
- 1997-08-20 SK SK1127-97A patent/SK283406B6/sk unknown
- 1997-08-21 DK DK97306380T patent/DK0826672T3/da active
- 1997-08-21 ES ES97306380T patent/ES2243970T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-21 DE DE69733521T patent/DE69733521T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-21 CA CA002213584A patent/CA2213584A1/en not_active Abandoned
- 1997-08-21 AT AT97306380T patent/ATE297896T1/de active
- 1997-08-21 EP EP97306380A patent/EP0826672B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-22 RU RU97114455/04A patent/RU2207336C2/ru not_active IP Right Cessation
- 1997-08-22 HU HU9701426A patent/HUP9701426A1/hu unknown
- 1997-08-22 BR BR9704485A patent/BR9704485A/pt not_active Application Discontinuation
- 1997-08-22 MD MD97-0270A patent/MD1811C2/ro not_active IP Right Cessation
- 1997-08-22 UA UA97084347A patent/UA51641C2/uk unknown
- 1997-08-22 CN CNB971178356A patent/CN1188397C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-22 TR TR97/00846A patent/TR199700846A2/xx unknown
- 1997-08-22 NZ NZ328593A patent/NZ328593A/xx unknown
- 1997-08-22 EE EE9700203A patent/EE04549B1/xx not_active IP Right Cessation
- 1997-08-22 KR KR1019970040082A patent/KR100495349B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1997-08-22 AU AU35248/97A patent/AU3524897A/en not_active Abandoned
- 1997-08-22 AR ARP970103834A patent/AR008308A1/es unknown
- 1997-08-25 GE GEAP19973856A patent/GEP20001914B/en unknown
- 1997-11-11 TW TW086116823A patent/TW430655B/zh not_active IP Right Cessation
-
2001
- 2001-08-16 AU AU59908/01A patent/AU765659B2/en not_active Ceased
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20170126939A (ko) | 3-클로로-2-비닐페닐설포네이트의 제조 방법 | |
JP4251508B2 (ja) | 酸塩化物化合物の製造方法 | |
KR100585407B1 (ko) | 피리딘-2,3-디카복실레이트 화합물의 제조를 위한 방법 및중간체 | |
JP2771994B2 (ja) | プロペン酸誘導体の製造法 | |
JP5619761B2 (ja) | 2−[(1−シアノプロピル)カルバモイル]−5−クロロメチルニコチン酸及びイミダゾリノン系除草剤の製造におけるその使用 | |
EP0899262B1 (en) | Process for the preparation of heteroarylcarboxylic amides and esters | |
EP2982673B1 (en) | Process for manufacturing 5-chloromethyl-2,3-dicarboxylic anhydride | |
US5017705A (en) | Production of 3,5,6-trichloropyridin-2 ol and novel intermediates thereof | |
US6320053B1 (en) | Preparation of heteroarylcarboxamides | |
JPH0770037A (ja) | シアノアシルシクロプロパン化合物の製造方法とそれに用いる2−シアノアシル−4−ブタノリド化合物 | |
JPH04270248A (ja) | ベンジルフェニルケトン誘導体 | |
US4379938A (en) | Process for producing 2,3,5-trichloropyridine | |
US5066825A (en) | Process for preparing a naphthalene derivative | |
WO2000075112A1 (fr) | Nouveaux derives de n-(2,2,2-trifluoroethyl)-4-methoxy-6-[(substitue ou non substitue) m-cyanophenoxy]-2-pyridinecaroxamide, leur procede de production et herbicides afferents | |
MXPA97006422A (en) | Process for preparation of acid chloride compounds | |
US6706917B1 (en) | Preparing method of 2-phenylalkanoic acid derivatives | |
KR100290535B1 (ko) | 2-페닐알칸산의제조방법 | |
WO2021193786A1 (ja) | 6-(フルオロアルキル)-3,4-ジヒドロ-2h-ピラン-5-カルボン酸エステル誘導体、および当該誘導体の製造方法、並びに2-(フルオロアルキル)ニコチン酸エステル誘導体の製造方法、および2-(フルオロアルキル)ニコチン酸誘導体の製造方法 | |
CN115210220A (zh) | 用于制备5-氯-3-烷基硫烷基-吡啶-2-甲酸酰胺和甲酸酯的方法 | |
JPH0713041B2 (ja) | ハロゲノニトロベンゼン誘導体とその製造方法 | |
JPS6137271B2 (ja) | ||
KR20000052892A (ko) | 나프티리딘 화합물의 제조 방법 및 신규 중간 생성물 | |
KR20040007446A (ko) | 시아노티오아세트아미드 유도체 및 이의 제조 방법 | |
JPWO2002076962A1 (ja) | 3−オキソ−2−(2−チアゾリル)プロパンニトリルの製造方法および中間体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040818 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20080509 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080513 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080811 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080814 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081111 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090113 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090116 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120130 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |