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JP4162720B2 - 半導体装置をカプセル化するシステムおよび方法 - Google Patents

半導体装置をカプセル化するシステムおよび方法 Download PDF

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JP4162720B2 JP53235398A JP53235398A JP4162720B2 JP 4162720 B2 JP4162720 B2 JP 4162720B2 JP 53235398 A JP53235398 A JP 53235398A JP 53235398 A JP53235398 A JP 53235398A JP 4162720 B2 JP4162720 B2 JP 4162720B2
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Description

発明の分野
本発明は、半導体装置をカプセル化するシステムおよび方法に関する。更に具体的に云うと、本発明は、ボール・グリッド・アレイ(BGA)パッケージを高い信頼性をもって経済的に成形するシステムおよび方法に関する。
発明の背景
BGAパッケージは、カッド・フラット・パック(QFP)のような従来のパッケージの、コスト面や、動力散逸問題、速度および入出力(I/O)ピン数における制限を克服することを保証する。これらの保証を遂行するのに重要なのが、既存の面実装技術および装置を用いて信頼性高くかつ経済的にBGAパッケージを成形するための電子産業界の能力である。一般に、BGAパッケージは、物理的な寸法では、同等の速度およびI/Oピン数の普通のパッケージよりも更に小さくて薄い。BGAパッケージをより高い速度とI/Oピン総数用途のために採用するときには、従来のパッケージング技術におけるワイヤ・スウィープのような大した問題でないことが重要になる。
さらに、マルチチップ・モジュール(MCM)のような構造相互緊密接続システムに向かう傾向が続いている。MCMとは、その中に2個以上のチップを有し、数個から100を超える高性能シリコンICを注文設計の基板構造と組み合わせているパッケージのことをいう。電子産業界は、高い歩留まりで低コストでプリント回路基板(PCB)上に標準のシングルチップ・モジュールを組み立てる経験を持っているから、自然と、BGAパッケージがMCMと共になって有効に作用する。それにもかかわらず、MCMに対してグラブ・トップ・カプセル化(glob top encapsulation)を用いる一般に普及しているやり方は、面実装技術の歩留まりやコスト面についての利点を損なっている。
発明の目的
本発明の第1の目的は、信頼性をもってBGAパッケージをカプセル化することにある。
本発明の別の目的は、信頼性をもってかつ経済的にMCM BGAパッケージをカプセル化することにある。
発明の概要
本発明は、トランスファー成形法を使用して様々なBGAパッケージをカプセル化するために、トップ・モールドと、キャビティ・プレートと、ボトム・モールドとを有する。
トップ・モールドは、少なくとも1つのスプルースと連通するための、ランナーのネットワークを特徴とする。キャビティ・プレートには、ボトム・モールドに面する側に、型締めされた時にその間に挟まれた基板上にモールドを形成するために、少なくとも1つのキャビティが有る。キャビティ・プレートのトップ・モールドに面する側には、ランナーから樹脂を受け入れるための少なくとも1つの円錐形流路がある。円錐形流路の先端は、ワイヤ・スウィープを最小限に抑えながら樹脂を導入するためのキャビティの中央に配置したサブマリン・ゲートに終端している。ランナーのネットワークと円錐形流路の組み合わせとによって、信頼性をもってかつ経済的に、様々なマトリックス内にBGAパッケージをカプセル化することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
第1A図は、キャビティ・ダウン・タイプのボール・グリッド・アレイ(BGA)パッケージの横断面図であり、成形済みの樹脂、あるいはカプセル化した樹脂を点線で示している。
第1B図は、キャビティ・アップ・タイプのボール・グリッド・アレイ(BAG)パッケージの別の横断面図であり、オーバーモールド樹脂も点線で示している。
第2図は、プラスチック・パッケージをカプセル化するための従来技術のゲート・プレート成形法である。
第3図は、プラスチック・パッケージをカプセル化するための別の従来技術の着脱可能キャビティ・プレート成形法である。
第4図は、プラスチック・パッケージのための成形樹脂を満たすための更にまた別の従来技術のグラビング法である。
第5図は、グラビング成形法を使用したことからマトリックスBGA基板の反りが生じ、その後に続く、基板を適正なダイ・サイズへトリミングすることが実質的に不可能になった状態を示す図である。
第6図は、独特のランナー及び円錐形流路システムを使用してBGAマトリックス基板を成形し、優れた結果を達成することができるようになる本発明の平面図である。
第7図は、第6図のA−A線に沿った本発明の横断面図である。
発明の実施例の説明
BGAパッケージをカプセル化する方法および装置を以下の説明に説明する。これから述べる説明には、本発明を充分に理解して貰えるように、スプルース、ランナー、モールドプレートなどのような多数の特有の詳細な記述が挙げられているが、本発明はこれらの具体的な詳細な記述がなくても実施することができることは当業者にとって明らかであろう。樹脂加熱、転送ならびにトランスファーモールドの型締め操作に伴うような周知の部分は、本発明が判りにくくならないように、図示していない。
第1A,1B図は、最も普通の構造の単純化した2つのBGAパッケージの断面図である。
第1A図において、BGAパッケージはキャビティ・ダウン形態で示してある。この種の典型的なBGAパッケージは、米国特許第5,583,378号によって教示されるものである。BGAパッケージ1は、ヒートシンク4に取り付けた一体型のチップ(IC)2を包含する。第1A図には詳細に示さないが、チップ2は基板6に結合されている。ここで、チップが基板6にワイヤ・ボンディングあるいはTABリーディングによって結合してあることは了解されたい。ハンダ・ボール8のアレイが、BGAパッケージ1の下面に取り付けられている。点線とチップ2の間の領域は、樹脂でカプセル化しようとしているボリューム10を表しており、本発明の重要な点である。一般に普及している産業界のやり方は、チップを保護するために、ダム・アンド・フィル・カプセル化プロセスを使用する。最初に、矩形のダムを、高粘度封入剤を使用してダイスまわりにオプションで分配する。それから、回転ポンプが低粘度封入剤を使用してダム内に螺旋形のフィルを分配する。たとえば、CAM/ALOT液体分配システムを参照していただきたい。
第1B図を参照して、ここには、BGAパッケージ11がキャビティ・アップ形態で示してある。パッケージ11は基板16の上側に取り付けたIC12を含んでおり、ハンダ・ボール18のアレイが基板16の下側に取り付けられている。第1A図のBGAパッケージ1と同様に、ICを基板にどのように接合するかの詳細は省略してある。ボリューム20はカプセル化樹脂を表している。パッケージ11は、MotorolaおよびCitizenによって開発されたプラスチックBGA構造を例示したものであり、オーバー・プラスチック・モールデッド・パッド・アレイ・キャリアー(Over Molded Plastic Pad Array Carrier)と呼ばれる。
第2図〜第4図は、プラスチックBGA構造をカプセル化するのに使用された従来の成形方法を概略的に示している。
第2図には、プラスチック・パッケージをカプセル化するゲート・プレート成形法が示されている。パッケージ20は、キャビティ21(図示せず)に接続したゲート22で横方向に成形される。この方法は、Dusan Sllepcevicに発行された米国特許第4,442,056号に詳しく記載されている。
第3図において、プラスチック・パッケージをカプセル化するための、少なくとも1つのキャビティ21を含む着脱可能なキャビティ・プレート30および横方向ゲート32が、同じくDDusan Sllepcevicに発行された米国特許第4,392,597号に教示されている。
最後に、第4図はBGAパッケージをカプセル化する最も普及している方法、すなわち、グラブ・トップ法を示している。たとえば、Marrs外に発行された米国特許第5,355,283号の第6図を参照されたい。グラブ・トップ・カプセル化は、気泡を樹脂内に閉じ込めるのを防ぐためにエポキシ樹脂を層状に分配することによってBGAダイスを満たす。
プラスチック・パッケージをカプセル化する従来方法には、既存の面実装技術や装置では容易に制御することのできない多くの制限がある。まず、キャビティへの封入剤の横方向導入は、しばしば、高I/Oピン総数BGAパッケージにおいてワイヤ・スウィープ問題を引き起こす。第2に、テストのやり方が標準性を欠いているというMCMの状況では、ワイヤ・スウィープにより引き起こされる電気的な問題が、このような進んだBGAパッケージの信頼性を損なう可能性がある。第3に、グラブ・トップ法は、時間がかかり、品質管理問題を招きやすい。グラブ・トップ法を使用することによってBGAマトリックス基板をカプセル化する結果が第5図に示してあり、ここでは、封入剤と基板の熱膨張係数における不一致により基板の反り42が厳しいものとなっている。このことは、引き続いて基板を個々のBGAダイスへトリミングすることを困難にし、ほとんど不可能にする。
第6図及び第7図は、プラスチック・パッケージをカプセル化するための本発明の平面図及び側面図である。
本発明は、ギャング・ポット・モールドに対するトランスファー成形技術ならびに着脱可能キャビティ・プレート成形技術においての、出願人/譲受人のノウハウを組み合わせている。トランスファー成形は射出成形とは異なっており、特に、半導体装置をカプセル化するためのトランスファー成形における熱硬化性樹脂あるいは封入剤の排他性に関して異なっていることは、当業者であれば理解できよう。射出成形装置は、対照的に、熱可塑性物質材料を加工するのに適している。
第6図及び第7図に関すれば、本発明50は、トップ・モールド53、着脱可能なキャビティ・プレート55、および、BGA構造を包含するプラスチック・パッケージのマトリックスを含んでいる基板66を型締めするためのボトム・モールド57を特徴とする。トップ・モールド・ベース51およびボトム・モールド・ベース59が通常必要とされ、本発明と一緒になって加工作業することということは、当業者であれば理解できよう。モールド・ベース51,59は、樹脂パレットまたはストリップ(図示せず)を加熱するために、ポットによって発生する熱を保持する働きをする。
ここで再び第6図を参照すると、本発明のトップ・モールド53は、その下面に、プランジャ52によって圧縮された加熱樹脂を受け入れ、振り分けるための少なくとも1つのスプルース54あるいはカルを含む。その上にBGAパッケージ60のマトリックスを取り入れる基板66に関しては、本発明50のような複数プランジャまたはギャング・ポット・モールドが推奨される。本発明の好適な実施例においては、スプルース54はBGAパッケージの中央部分を通じてランナー56のネットワークに接続されている。ランナー56は、樹脂をトップ・モールド下方にあるそれぞれのキャビティへ流入させる。ランナー56を相互接続させたときに、ランナー内の樹脂の流れが平衡することになる。
第7図には、トップ・モールド53とボトム・モールド57との間に配置した着脱可能なキャビティ・プレート55の横断面図が示してある。トップ・モールド53に面していて、それと同一平面になっている表面には、ランナーから樹脂の流れを受け入れる少なくとも1つの円錐形流路58がある。円錐形流路58の狭い端は、BGAパッケージのための少なくとも1つのキャビティ60と連通するサブマリン・ゲートで終わっていると好ましい。第7図を再度参照すると、基板66は、キャビティ・プレート55とボトム・モールド57との間で型締めされる。キャビティに関する円錐形流路の位置決めが本発明の特徴の1つである。横方向ではなくてキャビティの中央部分から樹脂を導入することにより、キャビティ内の樹脂の流れが確実に滑らかになる。実際、樹脂の流れは、ワイヤ・ボンディングまたはTABリードの末広がりと同じ方向にある。こうすると、ワイヤ・スウィープの生じる機会がほとんど起こらなくなる。さらに、キャビティ内における樹脂流の粘度の増大と関連した付随的な問題も最小限に抑えられる。全体的に、本発明は、従来のキャビティ成形法あるいはプレート成形法の欠点をもたらさずに、トランスファー成形技術のすべての利点を電子産業界に提供するものである。
BGA基板をカプセル化するプロセスは次の通りである。第7図に示すプランジャ52はポット62内を上方へ移動し、加熱樹脂をスプルース54に流入させ、そして、ランナー56および円錐形流路58を通してキャビティ60へ流入させる。プランジャ52がランナーのネットワークからの背圧を検出したその時が、樹脂が完全にキャビティ内を完全に満たされたことを示す。封入剤に対する適切な硬化時間が経過すると、本発明の型締め操作は終了する。着脱可能なキャビティ・プレート55の形態が、ランナーをキャビティから滑らかに分離するのを容易にするので、BGA基板をカプセル化する際のサイクル時間を短縮するようになる。
第6図及び第7図ではマトリックスBGA基板のカプセル化を示しているけれども、本発明は、BGA構造の配置がランダム状態になっているかも知れないカスタム・メイドのMCM BGA基板をカプセル化するのにも簡単に用いられる。したがって、本発明は融通性があって、種々の基板を創り出すことができる。
本発明を特に第1図〜第7図に関してBGAパッケージを強調しながらプラスチック・パッケージをカプセル化する方法および装置について説明してきたが、添付図面はほんの例示であって、発明の限定として採用したものではないことは了解されたい。それに加えて、本発明の方法および装置が半導体装置のパッケージングを必要とする多くの用途において有用であることは明白である。ここに記載したような発明の精神、範囲から逸脱することなく、当業者であれば、多くの修正、変更をなし得ると考えられる。たとえば、本発明は、そのままの要領で、他の基板、たとえば、セラミック、TABなどに適用することができる。

Claims (14)

  1. 複数の半導体装置をカプセル化するシステムであって、
    複数の半導体装置が形成された基板を支えるためのボトム・モールドと、
    ランナーが中に形成されたトップ・モールドと、
    前記ボトム・モールドと前記トップ・モールドとの間に着脱可能に配置したキャビティ・プレートであって、前記ボトム・モールドと前記キャビティ・プレートとの間に前記基板が配置されるキャビティ・プレートと
    を含み、
    前記キャビティ・プレートは、
    前記複数の半導体装置の1つを受け入れるキャビティと、
    前記トップ・モールドと面する平面に前記ランナーから樹脂の流れを受け入れる流路であって、前記キャビティの実質的に中央から前記キャビティ内へ前記樹脂を導入する流路と
    を含み、
    前記キャビティと前記流路とは当該流路の一端において連通し、
    前記樹脂は、前記ランナーおよび前記流路の前記一端を通って前記キャビティ内へ放出されて、前記中央から前記キャビティの周辺に向かって前記複数の半導体装置上に広がり、当該複数の半導体装置をカプセル化してワイヤ・スウィープを抑える、システム。
  2. 前記トップ・モールドは、
    前記ランナーに接続されるポットであって、前記樹脂を中に含む中空を有するポットと、
    前記ランナーに接続されるプランジャであって、前記樹脂を輸送して前記ランナー内へ与えるべく前記中空内に配置されるプランジャと
    をさらに含む、請求項1に記載のシステム
  3. 前記ポットと前記ランナーとを相互接続するスプルースであって、前記樹脂の流れを輸送中に前記ランナーに向けるスプルースをさらに含む、請求項2に記載のシステム
  4. 前記流路は円錐形状を有し、前記一端は前記円錐形状の狭い端である、請求項1に記載のシステム
  5. 前記流路の前記一端は、前記流路の前記一端から前記キャビティ内へ前記樹脂を放出するべく接続されるサブマリン・ゲートをさらに含む、請求項1に記載のシステム
  6. 前記樹脂は、熱硬化性樹脂および熱可塑性樹脂のうちの1つである、請求項1に記載のシステム
  7. 前記複数の半導体装置はボールグリッドアレイである、請求項1に記載のシステム
  8. 複数の半導体装置をカプセル化するための方法であって、
    ボトム・モールド上に、複数の半導体装置が形成された基板を支持することと、
    ランナーが中に形成されたトップ・モールドを与えることと、
    前記ボトム・モールドと前記トップ・モールドとの間にキャビティ・プレートを着脱可能に配置して、前記基板を前記キャビティ・プレートと前記ボトム・モールドとの間に配置することと
    を含み、
    前記キャビティ・プレートは、
    前記複数の半導体装置の1つを受け入れるキャビティと、
    前記トップ・モールドと面する平面に前記ランナーから樹脂の流れを受け入れる流路であって、前記キャビティの実質的に中央から前記キャビティ内へ前記樹脂を導入する流路と
    を含み、
    前記キャビティと前記流路とは当該流路の一端において連通し、
    前記樹脂は、前記ランナーおよび前記流路の前記一端を通って前記キャビティ内へ放出されて、前記中央から前記キャビティの周辺に向かって前記複数の半導体装置上に広がり、当該複数の半導体装置をカプセル化してワイヤ・スウィープを抑える、方法
  9. 前記ランナーに、前記樹脂を中に含む中空を有するポットを接続することと、
    前記ポットに、前記樹脂を輸送して前記ランナー内へ与えるべく前記中空内に配置されるプランジャを接続することと
    を含む、請求項8に記載の方法
  10. 前記ポットと前記ランナーとを相互接続するスプルースであって、前記樹脂の流れを輸送中に前記ランナーに向けるスプルースを与えることをさらに含む、請求項9に記載の方法
  11. 前記流路は円錐形状を有し、前記一端は前記円錐形状の狭い端である、請求項8に記載の方法
  12. 前記流路の前記一端に、前記流路の前記一端から前記キャビティ内へ前記樹脂を放出するべくサブマリン・ゲートを接続することをさらに含む、請求項8に記載の方法
  13. 前記樹脂は、熱硬化性樹脂および熱可塑性樹脂のうちの1つである、請求項8に記載の方法
  14. 前記複数の半導体装置はボールグリッドアレイである、請求項8に記載の方法
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