JP4149050B2

JP4149050B2 - 赤外線吸収フィルター

Info

Publication number: JP4149050B2
Application number: JP28374098A
Authority: JP
Inventors: 保代斉藤; 浩瀧本; 祐二大篭; 智美中野
Original assignee: Mitsui Chemicals Inc
Current assignee: Mitsui Chemicals Inc
Priority date: 1998-10-06
Filing date: 1998-10-06
Publication date: 2008-09-10
Anticipated expiration: 2018-10-06
Also published as: JP2000113712A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は近赤外光域で吸収を示す赤外線吸収フィルターに関し、近赤外線吸収性能、熱線吸収能、可視光線透過性能、耐光性に優れていることにより、赤外線を遮蔽するフィルター、具体的には、プラズマディスプレイパネル等、画像表示装置のフィルターなどに好適に使用することができる赤外線吸収フィルターである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、近赤外線吸収剤を含有した樹脂からなるプラスチック性近赤外線吸フィルターは、よく知られているものである。その用途としては、サングラス、溶接用眼鏡、ビルや飛行機の窓、あるいは情報読み取りのための光学読み取り装置等が挙げられる。
また、最近では、大型薄型の壁掛けテレビとして注目されているプラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」という）が、近赤外線を発生して、コードレスホン、近赤外線リモコンを使うビデオデッキ等、周辺にある電子機器に作用し誤動作を起こすことから、ＰＤＰ用フィルターとしても近赤外線を吸収する赤外吸収フィルターの要求がある。
【０００３】
この要求に対し、特公平２−４８８１号公報においては、ベンゼンジチオール系金属錯体を配合した熱可塑性樹脂からなる光学フィルターが提案されている。また、特公平６−３８１２５号公報においては、アントラキノン化合物あるいは、中心に金属原子を配位するナフタロシアニン系化合物のうちの少なくとも一種を含有する近赤外線吸収フィルムあるいは板が提案されている。特開平４−１７４４０２号公報においては、アルミニウム化合物を含有する合成樹脂組成物を更に重合、硬化させた赤外線吸収フィルターが提案されている。さらに、近年、プラズマディスプレー用フィルターとして、特開平９−２３０１３４においてはジチオール系金属錯体を特開平１０−７８５０９において、フタロシアニン色素を含有するプラズマディスプレー用フィルターが提案されている。しかし、これらのフィルターにおいては、耐光性が劣ることや可視光線透過性能に問題があり、実用的に十分でない。
また、特開昭６３−１１２５９２号公報には、アミノチオフェノレート系金属錯体色素として、下記一般式（II）で表される近赤外吸収色素が開示されており、その用途として赤外線吸収フィルター用色素の記載がある。
【０００４】
【化２】

【０００５】
（式中、Ｒは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン、アミノ基、置換アミノ基を示し、Ｄはイオウ、セレン、イミノ基を、またＥは水素原子またはアミノ基を示す。Ｒ′はアルキル基を示し、ｍは１または２を示す。）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記一般式（II）で表される近赤外吸収色素は、耐光性に劣るという問題があり、工業化製品として使用するには、より耐光性のすぐれた赤外吸収フィルターが求められている。
本発明の目的は、近赤外光域に大きな吸収を有し、化学的に安定で、近赤外線吸収性能、熱線吸収能、可視光線透過性能および耐光性に優れる、ＰＤＰ用フィルターに好適な、赤外線吸収フィルターを提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を鑑み、鋭意検討した結果、イオン性ではなく、中性の金属錯体を用いると、赤外線吸収フィルターの近赤外線吸収能、耐光性に優れることを見出し、本発明に到達した。すなわち、本発明の要旨は、下記一般式（Ｉ）
【０００８】
【化３】

【０００９】
（Ｘは、ＳまたはＳｅ、Ｍは、金属元素、金属酸化物または金属ハロゲン化物を表す。Ｒ¹〜Ｒ⁸は、それぞれ、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、置換アミノ基またはシアノ基を表わし、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰は、それぞれ、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいアラルキル基を表す。）で表される金属錯体を含むことを特徴とする赤外線吸収フィルターである。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
本明細書中、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｂｕはブチル基を、Ｐｒはプロピル基を、Ｈｅｘはヘキシル基を、Ｐｈはフェニル基を表し、ｉ−はイソをｎ−は直鎖、ｔ−はターシャリー、ｃ−はシクロ（環状）を表す。
一般式（Ｉ）において、
【００１１】
【化４】

【００１２】
Ｘは、ＳまたはＳｅを表し、好ましくはＳが用いられる。
Ｍは、金属元素、金属酸化物または金属ハロゲン化物を表し、好ましくはＮｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｏ、Ｆｅ、ＴｉＯ、Ｓｎ、ＳｎＣｌ2 またはＣｕ、さらに好ましくはＮｉが用いられる。
【００１３】
Ｒ¹〜Ｒ⁸は、それぞれ、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、置換アミノ基またはシアノ基を表わし、好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、置換アミノ基またはシアン基を表し、さらに好ましくは、水素原子；メチル基、エチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基などの炭素数１〜５のアルキル基；アリール基、ベンジル基、フェネチル基などのアラルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜５のアルコキシ基；ニトロ基；塩素原子、臭素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；アミノ基；ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などの置換アミノ基；またはシアノ基が挙げられ、特に好ましくは、水素原子が用いられる。
具体的に、
【００１４】
【化５】

【００１５】
【化６】

【００１６】
等が挙げられる。
Ｒ⁹、Ｒ¹⁰はそれぞれ、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいアラルキル基を表し、好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、さらに好ましくは、水素原子；メチル基、エチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｃーヘキシル基などの炭素数１〜６のアルキル基；フェニル基、トシル基、トリメチルフェニル基などのアリール基；ベンジル基、フェネチル基などのアラルキル基が挙げられる。
前述のアルキル基に置換していてもよい基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ原子などが、また、前述のアリール基、アラルキル基、アルコキシ基に置換していてもよい基としてはアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基などが挙げられる。
本発明に用いられる金属錯体は、例えば次のようにして製造するすることができる。すなわち下記一般式（III)
【００１７】
【化７】

【００１８】
（式中、Ｒ¹〜Ｒ¹⁰およびＸは、一般式（Ｉ）と同じである。）で表される化合物を溶媒に溶かし、金属カリウムまたは水酸化カリウムを添加してイオン化させた後、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｏ、Ｆｅ、ＴｉＯ、Ｓｎ、ＳｎＣｌ2 又は、Ｃｕなどの金属元素、金属酸化物または金属ハロゲン化物の錯体などと反応させることにより、深い青色の色素として一般式（Ｉ）で表される化合物が合成できる。
反応させる錯体の具体例としては、具体例としては、ＮｉＣｌ₂、ＮｉＣｌ₂・６Ｈ₂Ｏ、Ｎｉ（ＯＣＯＣＨ₃）₂、ＮｉＳＯ₄、ＰｄＣｌ₂、ＰｄＳＯ₄、ＰｔＣｌ₄、Ｎａ₂ＰｔＣｌ₆・６Ｈ₂Ｏ、Ｋ₂ＰｔＣｌ₆・６Ｈ₂Ｏ、ＣｏＣｌ₂、Ｃｏ（ＯＣＯＣＨ₃）₂、Ｃｏ（ＯＣＯＣＨ₃）₂・４Ｈ₂Ｏ、ＣｏＳＯ₄、、ＦｅＣｌ₃、ＦｅＳＯ₄、Ｆｅ₂（ＳＯ₄）₃、ＴｉＣｌ₃、ＴｉＣｌ₄、Ｔｉ（ＳＯ₄）₂、Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ₃）₂、Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ₃）₄、Ｓｎ（ＯＭｅ）₄、Ｓｎ（ＯＥｔ）₄、ＳｎＣｌ₂、ＳｎＣｌ₂・２Ｈ₂Ｏ、ＳｎＣｌ₄、ＳｎＳＯ₄、Ｔｉ（ＯＭｅ）₄、Ｔｉ（ＯＥｔ）₄、ＣｕＣｌ₂、Ｃｕ（ＯＣＯＣＨ₃）₂、ＣｕＳＯ₄、ＣｕＳＯ₄・４Ｈ₂Ｏ等が挙げられる。
【００１９】
上記の反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン（以下「ＴＨＦ」という）、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、オクタノール等のアルコール類、１，２，３−トリクロロプロパン、テトラクロルエチレン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、シクロヘキサン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、スクアラン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル尿素等のアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド類、アセトニトリル、プロパンニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、エナント酸メチル、リノール酸メチル、ステアリン酸メチル等のエステル類が用いられる。これらの溶媒の中で、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒が好ましい。
【００２０】
また、反応温度は、室温もしくは、０℃〜５０℃で円滑に実施できる。
このようにして得られる本発明に用いる金属錯体は、近赤外領域に強い吸収を示し、通常ブルーの色調を示す。
本発明の赤外線吸収フィルターの製造方法としては、透明基板に金属錯体を含む塗工液をコーティングする方法、金属錯体を配合したフィルムなどを透明基板として用いる方法などが挙られる。
次に、透明基板に金属錯体を含む塗工液を塗布して赤外線吸収フィルターを製造する方法について説明する。
【００２１】
本発明の赤外線吸収フィルターを構成する透明基板としては、実質的に透明であって、吸収、散乱が大きくない基板であればよく、特に制限はない。その具体的な例としては、ガラス、ポリオレフィン系樹脂、非晶質ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂等が挙げられる。これらの中では、特に非晶質ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂が好ましい。
【００２２】
これらの樹脂は、フェノール系、燐系などの酸化防止剤、ハロゲン系、燐酸系等の難燃剤、耐熱老化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等の公知の添加剤を配合することができる。
透明基板は、これらの樹脂を、射出成形、Ｔダイ成形、カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤に溶解させてキャスティングする方法などなどの成形方法を用い、フィルム状に成形したものが用いられる。フィルム状に成形された樹脂は延伸されていても未延伸でもよい。また、異なる材料からなるフィルムが積層されていても良い
透明基材の厚みは、目的に応じて通常１０μｍ〜５ｍｍの範囲から選択される。
【００２３】
更に、透明基材は、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理等の従来公知の方法による表面処理や、アンカーコート剤やプライマー等のコーティングを施してもよい。
金属錯体を含む塗工液は、金属錯体をバインダー樹脂とともに溶剤中に溶解させることにより、調製することができる。このとき溶剤に溶解される金属錯体およびバインダー樹脂などの全固形分の濃度は、通常５〜５０重量％である。また、全固形分に対する金属錯体の濃度は、通常１〜８０重量％、好ましくは２〜７０重量％である。
また、金属錯体を必要に応じて分散剤を用いて、粒径を通常０．１〜３μｍに微粒子化し、バインダーとともに、溶剤に分散させて調整することもできる。このとき溶剤に分散される金属錯体化合物、分散剤、バインダー等の固形分の濃度は、５〜５０重量％である。また、全固形分に対する金属錯体化合物の濃度は、通常１〜８０重量％、好ましくは５〜７０重量％である。
【００２４】
分散剤としては、ポリビニルブチラール樹脂、フェノキシ樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、石油樹脂、硬化ロジン、ロジンエステル、マレイン化ロジン、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。その使用量は、金属錯体化合物に対して、通常０〜１００重量％、好ましくは０〜７０重量％である。
バインダーとしては、ポリメチルメタクレート樹脂、ポリエチルアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、エチレンービニルアルコール共重合体樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。その使用量は、金属錯体化合物に対して、１０〜２００重量％、好ましくは３０〜１００重量％である。
【００２５】
溶媒としては、１，２，３−トリクロロプロパン、テトラクロルエチレン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、オクタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、エナント酸メチル、リノール酸メチル、ステアリン酸メチル等のエステル類シクロヘキサン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、スクアラン等の芳香族炭化水素類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル尿素等のアミド類、テトラヒドロフラン（以下「ＴＨＦ」という）、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類あるいはこれらの混合物を用いることができる。
【００２６】
また、金属錯体を含む塗工液には、他の近赤外線吸収剤を添加してもよい。他の近赤外線吸収剤としては、有機物質であるニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、スクワリリウム系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、トリアリルメタン系化合物、インモニウム系化合物、ジインモニウム系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物、あるいは、無機物であるカーボンブラックや、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、周期律表４Ａ、５Ａまたは６Ａ族に属する金属の酸化物、もしくは炭化物、またはホウ化物などが挙げられる。
【００２７】
金属錯体を含む塗工液の透明基材へのコーティングは、ディッピング法、フローコート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフコート法等の公知の塗工方法で行われる。
金属錯体を含む層は、乾燥後の膜厚が、通常０．１〜３０μｍ、好ましくは０．５〜１０μｍとなるように塗布される。
【００２８】
本発明の赤外線吸収フィルターは、必要に応じて、電磁波カット層、表面への蛍光灯などの外光の写り込みを防止する反射防止層、ぎらつき防止（ノングレア）層を設け、ＰＤＰ用フィルターとして使用することができる。
電磁波カット層は、金属酸化物等の蒸着あるいはスパッタリング方法等が利用できる。通常は酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）が一般的であるが、誘導体層と金属層を基材上に交互にスパッタリング等で積層させることで１０００ｎｍ以上の光をカットすることもできる。誘電体層としては酸化インジウム、酸化亜鉛などの透明な金属酸化物等であり、金属層としては銀あるいは銀−パラジウム合金が一般的であり、通常、誘電体層より３層、５層、７層あるいは１１層程度積層する。基材としては、本発明の赤外線吸収フィルターをそのまま利用しても良いし、樹脂フィルムあるいはガラス上に蒸着あるいはスパッタリングして電磁波カット層を設けた後に、本発明の赤外線吸収フィルターと貼り合わせても良い。
【００２９】
反射防止層は、表面の反射を抑えてフィルターの透過率を向上させるために、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等で単層あるいは多層に積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂などの屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させる方法等がある。また、反射防止処理を施したフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。
【００３０】
また、ノングレア層も設けることもできる。ノングレア層は、フィルターの視野角を広げる目的で、透過光を散乱させるために、シリカ、メラミン、アクリル等の微粉体をインキ化して、表面にコーティングする方法などを用いることができる。インキの硬化は、熱硬化あるいは光硬化を用いることができる。また、ノングレア処理したフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。更に必要であれば、ハードコート層を設けることもできる。
更に、この赤外線吸収フィルターは単独はもちろん透明のガラスや他の透明樹脂板等と貼り合わせた積層体として用いることができる。
本発明により得られる赤外線吸収フィルターは、ＰＤＰ用フィルターはもちろん、ディスプレイ用フィルター、熱線遮断フィルム、サングラス、保護眼鏡、リモコン受光器など幅広い用途に使用することができる。
【００３１】
【実施例】
以下に、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれにより何ら制限されるものではない。
【００３２】
実施例１
エタノール約８０ｍｌにＫＯＨ１．７８ｇ（０．０１８ｍｏｌ）を溶かし、その溶液にｏ−アミノベンゼンチオール２．００ｇ（０．０１６ｍｏｌ）を室温で、攪拌しながら加え、リガンド溶液とした。
一方、エタノール２０ｍｌにニッケル（II）クロリド・６水和物１．９２ｇ（０．００８ｍｏｌ）を溶解させ、上記リガンド溶液に攪拌しながら、滴下したところ溶液は、濃紺に変化した。
その後、濾過、Ｈ₂Ｏ、エタノールによる洗浄、アセトン不溶物除去、乾燥により、式（IV）で示されるビス（２−フェニルアミノベンゼンチオール）ニッケル錯体を単離した（収量１．７２１ｇ；収率７０．５％）。この錯体は、ＭＥＫメチルエチルケトン（以下「ＭＥＫ」と略記する場合もある）中で、近赤外領域である８１５ｎｍにε＝３５４００の強い吸収を示した。
【００３３】
【化８】

【００３４】
更に、耐光性を評価するため、得られたビス（２−フェニルアミノベンゼンチオール）ニッケル錯体の５重量％メチルエチルケトン溶液０．６ｇに、ポリメチルメタクリレート樹脂（商品名；ダイヤナールＢＲ−８０：三菱レイヨン株式会社製品）のメチルエチルケトン／トルエン（＝１／１）溶液（樹脂濃度２０重量％）を３．０ｇ添加し、超音波洗浄機にて、完全に溶解させた後、この塗工液を、バーコータ＃２４でＯＨＰフィルムに塗工し、近赤外吸収フィルムを得た。塗布膜厚は、６μｍであった。
このフィルムの近赤外吸収を、日立分光光度計Ｕ−３５００で測定したところ、λｍａｘは、８２５ｎｍであった。
更にこのフィルムに、キセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、２００時間照射し、８２５ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、照射後の強度は、照射前の強度の６４．４％であり、耐光性が高いことを確認した。
【００３５】
実施例２
実施例１で得られた金属錯体色素の０．５重量％メチルエチルケトン溶液、０．８重量部に、ポリメチルメタクリレート樹脂（三菱レイヨン株式会社製品ダイヤナールＢＲ−８０）のＭＥＫ／トルエン（＝１／１）溶液（２０重量％溶液）１重量部、トルエン０．２重量部を添加した塗工液を、５０μｍの厚みのポリエチレンテレフタレートフィルムに、厚み２μｍになるようコーティングした。
【００３６】
上記フィルムに、表面固有抵抗５Ω／□の銀・インジウム酸化錫（ＩＴＯ）の多層蒸着フィルムを貼り合わせた。
更に、厚み４ｍｍのポリカーボネート板と貼り合わせた後、両面にフッ素系樹脂からなる反射防止剤を１００ｎｍの厚みにコーティングして、プラズマディスプレイパネル用フィルターを得た。
得られたプラズマディスプレイパネル用フィルターは、８００〜８８０ｎｍの光線透過率が２０％以下で、更に可視光線透過率が６５％以上であった。特に４００〜５００ｎｍの透過率が７５％以上と高く、黄色味が少ないため、ディスプレイ前面に設置した場合に、画質を悪化させず、フィルターとして良好であった。
【００３７】
比較例１
エタノール約２０ｍｌにＫＯＨ０．００４ｍｏｌを溶かし、その溶液にｏ−アミノベンゼンチオール０．５０ｇ（０．００４ｍｏｌ）のエタノール溶液１０ｍｌを攪拌しながら加え、リガンド溶液とした。
一方、エタノール１０ｍｌにニッケル（II）クロリド・６水和物０．４８ｇ（０．００２ｍｏｌ）を溶解させ、上記リガンド溶液に攪拌しながら、滴下したところ溶液は、濃紺〜濃緑に変化した。
この状態で、約１時間攪拌した後、エタノール１０ｍｌにテトラブチルアンモニウムブロミド０．００２ｍｏｌを溶解した溶液を加え、さらに１時間攪拌した。
生成した沈殿を濾別し、エタノールで洗浄し、乾燥すると収量０．６１ｇ（収率５６％）で式（Ｖ）で示されるテトラブチルアンモニウムビス（アミノベンゼンチオール）ニッケレートが得られた。この錯体は、メタノール溶液中で、８０７ｎｍにε＝２４０００の吸収を示した。
【００３８】
【化９】

【００３９】
得られた色素を実施例１と同様の方法でフィルム化したところ、λｍａｘは、８２４ｎｍであった。
更にキセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、２００時間照射し、８２４ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、照射後の強度は、照射前の強度の５０．８％であった。
【００４０】
比較例２
近赤外線吸収色素として知られているフタロシアニン色素（日本触媒社製ＩＲ−３）の１重量％ＭＥＫ／トルエン（＝１／１）溶液０．８重量部に、ポリメチルメタクリレート樹脂（三菱レイヨン株式会社製品ダイヤナールＢＲ−８０）のＭＥＫ／トルエン（＝１／１）溶液（２０重量％溶液）１重量部、ＭＥＫ０．１重量部、トルエン０．１重量部を添加した塗工液を、５０μｍの厚みのポリエチレンテレフタレートフィルムに、厚み２μｍになるようコーティングした。
実施例２と同様に、上記フィルムに銀・ＩＴＯ多層蒸着フィルムを貼り合わせ、更にポリカーボネート板と貼り合わせた後、両面に反射防止剤をコーティングし、プラズマディスプレイパネル用フィルターを得た。
得られたプラズマディスプレイパネル用フィルターは、８００〜８８０ｎｍの光線透過率が２０％以下であったが、可視光線透過率は４５％以上、４００〜５００ｎｍの透過率は５８％以下であり、ディスプレイ前面に設置した場合に、画面が暗くなり、フィルターとしては好ましくなかった。
【００４１】
【発明の効果】
本発明によれば、近赤外領域に強い吸収を示すニッケル金属錯体を含む近赤外線吸収層を設けたことを特徴とする赤外線吸収フィルターで、近赤外線吸収性能、熱線吸収能、可視光線透過性能および耐光性に優れる近赤外線吸収フィルターを提供する。

Claims

下記一般式（Ｉ）

（Ｘは、ＳまたはＳｅ、Ｍは、金属元素、金属酸化物または金属ハロゲン化物を表す。Ｒ¹〜Ｒ⁸は、それぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、置換アミノ基またはシアノ基を表わし、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰は、それぞれ、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいアラルキル基を表す。）で表される金属錯体を含むことを特徴とする赤外線吸収フィルター。
Ｍが、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｏ、Ｆｅ、ＴｉＯ、Ｓｎ、ＳｎＣｌ₂またはＣｕである請求項１に記載の赤外線吸収フィルター。
請求項１または２に記載の赤外線吸収フィルターを用いた、プラズマディスプレイパネル用フィルター。
電磁波カット層を有する請求項３に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
反射防止層を有する請求項３または４に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
ぎらつき防止（ノングレア）層を有する請求項３ないし５のいずれか１項に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。