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JP4014220B2 - ビス−スルホンアミドヒドロキシエチルアミノ レトロ ウイルスプロテアーゼインヒビター - Google Patents

ビス−スルホンアミドヒドロキシエチルアミノ レトロ ウイルスプロテアーゼインヒビター Download PDF

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JP4014220B2 JP52236296A JP52236296A JP4014220B2 JP 4014220 B2 JP4014220 B2 JP 4014220B2 JP 52236296 A JP52236296 A JP 52236296A JP 52236296 A JP52236296 A JP 52236296A JP 4014220 B2 JP4014220 B2 JP 4014220B2
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ジー．ディー．サール アンド カンパニー
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Description

関連出願
本出願は、１９９５年１月２０日付け米国特許出願Ｓｅｒｉａｌ Ｎｏ．０８／３７６，３３７の継続出願である。
発明の背景
１．発明の分野
本発明はレトロウイルスプロテアーゼインヒビターに関し、特にレトロウイルスプロテアーゼを阻害する新規化合物および組成物ならびに方法に関する。本発明は特に、ヒト免疫不全ウイルス（ＨＩＶ）プロテアーゼなどのレトロウイルスプロテアーゼを阻害するビス−スルホンアミド含有ヒドロキシエチルアミン プロテアーゼインヒビター化合物、組成物および方法、およびまたレトロウイルス感染、例えばＨＩＶ感染を処置するための化合物、組成物および方法に関する。本発明の主題はまた、このような化合物の製造方法、およびまたこの方法に有用な中間体化合物に関する。
２．関連技術
レトロウイルスの複製サイクル中に、ｇａｇおよびｇａｇ−ｐｏｌ遺伝子転写産物が蛋白質として翻訳される。これらの蛋白質は引続いて、ウイルスによりコードされるプロテアーゼ（またはプロテイナーゼ）による変化を受け、ウイルス酵素およびウイルスコアの構造蛋白質を生成する。最も通常的に、ｇａｇ前駆蛋白質はコア蛋白質に変化され、一方ｐｏｌ前駆蛋白質はウイルス酵素、例えば逆転写酵素およびレトロウイルスプロテアーゼに変換される。これら前駆蛋白質のレトロウイルスプロテアーゼによる正しい変換は感染性ビリオンの集合（ａｓｓｅｍｂｌｙ）に必要であることが証明されている。例えば、ＨＩＶのｐｏｌ遺伝子のプロテアーゼ領域におけるフレームシフト変異はｇａｇ前駆蛋白質の変換を防止することが証明されている。ＨＩＶプロテアーゼ活性部位におけるアスパラギン酸残基の部位指向変異により、ｇａｇ前駆蛋白質の変換が防止されることもまた証明されている。従って、レトロウイルスプロテアーゼの作用を抑制することによってウイルス複製を阻止しようとする試みがなされている。
レトロウイルスプロテアーゼ阻害には代表的に、遷移状態擬似体（ｔｒａｎｓｌｔｉｏｎ−ｓｔａｔｅ ｍｉｍｅｔｉｃ）が包含される。この場合に、レトロウイルスプロテアーゼはｇａｇ蛋白質およびｇａｇ−ｐｏｌ蛋白質と競合して、酵素に結合する（代表的には、可逆的様相で結合する）擬似化合物にさらされ、これによって構造蛋白質の特異的変換およびレトロウイルスプロテアーゼそれ自体の放出が抑制される。この方法で、レトロウイルス複製プロテアーゼを効果的に阻害することができる。
特にプロテアーゼを阻害する、例えばＨＩＶプロテアーゼを阻害する数種の化合物が提案されている。このような化合物には、ヒドロキシエチルアミンイソステル化合物（ｅｓｏｓｔｅｒｅｓ）および還元アミドイソステル化合物が包含される。例えばＥＰ０３４６８４７；ＥＰ０３４２５４１；ロバーツ（Ｒｏｂｅｒｔｓ）等による“Ｒａｔｉｏｎａｌ Ｄｅｓｉｇｎ ｏｆ Ｐｅｐｔｉｄｅ−Ｂａｓｅｄ Ｐｒｏｔｅｉｎａｓｅ Ｉｎｈｉｂｉｔｏｒｓ，”，Ｓｃｉｅｎｃｅ，２４８，３５８（１９９０）；およびエリクソン（Ｅｒｉｃｋｓｏｎ）等による“Ｄｅｓｉｇｎ Ａｃｔｉｖｉｔｙ，ａｎｄ ２．８Ａ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ ｏｆ ａ Ｃ２ Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ Ｉｎｈｉｂｉｔｏｒ Ｃｏｍｐｌｅｘｅｄ ｔｏ ＨＩＶ−１ Ｐｒｏｔｅａｓｅ”，Ｓｃｉｅｎｃｅ，２４９，５２７（１９９０）参照。レトロウイルスプロテアーゼインヒビターとして有用なスルホンアミド−含有、アミノスルホンアミド−含有および尿素−含有ヒドロキシエチルアミン化合物および中間体は、ＷＯ９４／０５６３９，ＷＯ９４／１０１３４，ＷＯ９４／０４４９３，ＷＯ９４／０４４９２，ＷＯ９３／２３３６８およびＷＯ９３／２３３７９に記載されている。
数種の化合物が蛋白質分解酵素レニンのインヒビターとして有用であることが知られている。例えば、Ｕ．Ｓ．Ｎｏ．４，５９９，１９８；Ｕ．Ｋ．２，１８４，７３０；Ｇ．Ｂ．２，２０９，７５２；ＥＰ０２６４７９５；Ｇ．Ｂ．２，２００，１１５およびＵ．Ｓ．ＳＩＲＨ７２５参照。これらの中で、Ｇ．Ｂ．２，２００，１１５、Ｇ．Ｂ．２，２０９，７５２；ＥＰ０２６４７９５；Ｕ．Ｓ．ＳＩＲＨ７２５およびＵ．Ｓ．４，５９９，１９８は尿素−含有ヒドロキシエチルアミン レニンインヒビターを開示している。ＥＰ４６８６４１はレニンインヒビターおよびこのインヒビターを製造するための中間体を開示しており、これらにはスルホンアミド−含有ヒドロキシエチルアミン化合物、例えば３−（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノ−シクロヘキシル−１−（フェニルスルホニル）アミノ−２（５）−ブタノールが包含される。Ｇ．Ｂ．２，２００，１１５はまた、スルファモイル−含有ヒドロキシエチルアミン レニンインヒビターを記載しており、またＥＰ０２６４７９５は或る種のスルホンアミド−含有ヒドロキシエチルアミン レニンインヒビターを記載している。しかしながら、レニンおよびＨＩＶプロテアーゼは両方共にアスパルチルプロテアーゼとして分類されているけれども、有効なレニンインヒビターである化合物が一般に、効果的なＨＩＶプロテアーゼインヒビターであると予測することはできないことも知られている。
発明の簡単な説明
本発明はウイルス抑制化合物および組成物に関する。さらに特に、本発明はレトロウイルスプロテアーゼ阻害化合物および組成物に、レトロウイルスプロテアーゼの阻害方法に、これらの化合物の製造方法に、およびこのような方法に有用な中間体に関する。本発明の主題化合物はビス−スルホンアミド−含有ヒドロキシエチルアミンインヒビター化合物であることを特徴とする化合物である。
発明の詳細な説明
本発明に従い、下記式で表わされるレトロウイルスプロテアーゼ阻害性化合物あるいはその医薬として許容される塩、プロドラッグまたはエステルが提供される：
Figure 0004014220
式中、
Ｒ1は、水素、−ＣＨ2ＳＯ2ＮＨ2、−ＣＨ2ＣＯ2ＣＨ3、−ＣＯ2ＣＨ3、−ＣＯＮＨ2、−ＣＨ2Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ3、−Ｃ（ＣＨ3）2（ＳＨ）、−Ｃ（ＣＨ3）2（ＳＣＨ3）、−Ｃ（ＣＨ3）2（Ｓ［Ｏ］ＣＨ3）、−Ｃ（ＣＨ3）2（Ｓ［Ｏ］2ＣＨ3）、アルキル、ハロアルキル、アルケニル、アルキニル シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロ、ヘテロシクロアルキル、アミノスルホニルアルキル、Ｎ−アルキルアミノスルホニルアルキル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノスルホニルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリールまたはヘテロアラルキル基、アスパラギン、リジン、アスパラギン酸、アスパラギン酸メチルエステル、メチオニンまたはそのスルホキシド（ＳＯ）またはスルホン（ＳＯ2）誘導体、Ｓ−メチルシステインまたはそのスルホキシド（ＳＯ）またはスルホン（ＳＯ2）誘導体、イソロイシン、アロ−イソロイシン、アラニン、ロイシン、ｔｅｒｔ−ロイシン、フェニルアラニン、オルニチン、ヒスチジン、ノルロイシン、グルタミン、スレオニン、アロ−スレオニン、セリン、Ｏ−アルキルセリン、ベータ−シアノアラニンまたはバリンのアミノ酸側鎖を表わし；
Ｒ2はアルキル、アリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アラルキル、ヘテロアリールまたはヘテロアラルキル基を表わし、これらの基は１個または２個以上のアルキル、ハロゲン、−ＮＯ2、−ＣＮ、−ＣＦ3、−ＯＲ9または−ＳＲ9基により置換されていてもよく、ここでＲ9は水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルまたはヘテロシクロ基を表わし；
Ｒ3は水素、アルキル、ハロアルキル、アルケニル、アルキニル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロ、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、チオアルキル、アルキルチオアルキルまたはアリールチオアルキル基あるいはその対応するスルホンまたはスルホキシド誘導体、アミノアルキルまたはＮ−モノ−またはＮ，Ｎ−ジ置換アミノアルキル基を表わし、この置換基はアルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロシクロまたはヘテロシクロアルキル基であり；
Ｒ4はアルキル、ハロアルキル、アルケニル、アルキニル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロ、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロアラルキル、アルコキシカルボニルアミノヘテロアリール、チオアルキル、アルキルチオアルキルまたはアリールチオアルキル基あるいはその対応するスルホンまたはスルホキシド誘導体、アミノアルキルまたはＮ−モノ−またはＮ，Ｎ−ジ置換アミノアルキル基を表わし、この置換基はアルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロシクロまたはヘテロシクロアルキル基、チオアルキル、アルキルチオアルキルまたはアリールチオアルキル基あるいはその対応するスルホンまたはスルホキシド誘導体であり；
Ｒ6は水素またはアルキル基を表わし；
Ｒ7はそれぞれ独立して、カルボキシ、アミジノまたはＮ−アルキルアミジノ基であるか、あるいはＲ1について定義されている基を表わすか；あるいはＲ7はＲ1およびＲ1およびＲ7が結合している炭素原子と一緒になって、シクロアルキルまたはヘテロシクロ基を表わし；
Ｒ8はそれぞれ独立して、水素またはアルキル基を表わし；
Ｒ10およびＲ11はそれぞれ独立して、水素、アルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロ、ヘテロシクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロアリールカルボニルアルキル、アリールカルボニルアルキル、チオアルキル、アルキルチオアルキルまたはアリールチオアルキル基あるいはその対応するスルホンまたはスルホキシド誘導体、アミノアルキルまたはＮ−モノ−またはＮ，Ｎ−ジ置換アミノアルキル基を表わし、この置換基はアルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロシクロまたはヘテロシクロアルキル基であり；あるいはＲ10およびＲ11は、これらが結合している窒素と一緒になってヘテロシクロ、ヘテロアリール、アラルキルヘテロアリール、アラルキルヘテロシクロ、ヘテロアラルキルヘテロアリールまたはヘテロアラルキルヘテロシクロ基を表わし；
ｘおよびｗはそれぞれ、０、１または２を表わし；
ｔは０〜６を表わし；そして
ＹはＯ、ＳまたはＮＨを表わす。
式Ｉ内に特に重要な化合物の一群は下記式ＩＩで表わされる化合物である：
Figure 0004014220
式中、
Ｒ1は水素、−ＣＨ2ＳＯ2ＮＨ2、−ＣＨ2ＣＯ2ＣＨ3、−ＣＯ2ＣＨ3、−ＣＯＮＨ2、−ＣＨ2Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ3、−Ｃ（ＣＨ3）2（ＳＨ）、−Ｃ（ＣＨ3）2（ＳＣＨ3）、−Ｃ（ＣＨ3）2（Ｓ［Ｏ］ＣＨ3）、−Ｃ（ＣＨ3）2（Ｓ［Ｏ］2ＣＨ3）、アルキル、ハロアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アミノスルホニルアルキル、Ｎ−アルキルアミノスルホニルアルキル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノスルホニルアルキルまたはヘテロアラルキル基、あるいはアスパラギン、リジン、アスパラギン酸、アスパラギン酸メチルエステル、メチオニンまたはそのスルホキシド（ＳＯ）またはスルホン（ＳＯ2）誘導体、Ｓ−メチルシステインまたはそのスルホキシド（ＳＯ）またはスルホン（ＳＯ2）誘導体、オルニチン、ロイシン、イソロイシン、ノルロイシン、アロ−イソロイシン、アラニン、フェニルアラニン、ヒスチジン、ｔｅｒｔ−ロイシン、グルタミン、スレオニン、アロ−スレオニン、セリン、Ｏ−アルキルセリン、ベータ−シアノアラニンまたはバリンのアミノ酸側鎖を表わし；
Ｒ2はアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリールまたはヘテロアラルキル基を表わし、これらの基は１個または２個以上のアルキル、ハロゲン、−ＮＯ2、−ＣＮ、−ＣＦ3、−ＯＲ9または−ＳＲ9基により置換されていてもよく、ここでＲ9は水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルまたはヘテロシクロ基を表わし；
Ｒ3は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロ、ヘテロシクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、チオアルキル、アルキルチオアルキルまたはアリールチオアルキル基あるいはその対応するスルホンまたはスルホキシド誘導体、アミノアルキル、またはＮ−モノ−またはＮ，Ｎ−ジ置換アミノアルキル基を表わし、この置換基はアルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロシクロまたはヘテロシクロアルキル基であり；
Ｒ4はアルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロ、ヘテロシクロアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、アルコキシカルボニルアミノヘテロアリール、アリール、アラルキル、アラルケニル、チオアルキル、アルキルチオアルキルまたはアリールチオアルキル基あるいはその対応するスルホンまたはスルホキシド誘導体、アミノアルキルまたはＮ−モノ−またはＮ，Ｎ−ジ置換アミノアルキル基を表わし、この置換基はアルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロシクロまたはヘテロシクロアルキル基、チオアルキル、アルキルチオアルキルまたはアリールチオアルキル基またはそのスルホンまたはスルホキシド誘導体であり；
Ｒ6は水素またはアルキル基を表わし；
Ｒ7はそれぞれ独立して、水素、−ＣＨ2ＳＯ2ＮＨ2、−ＣＨ2ＣＯ2ＣＨ3、−ＣＯ2ＣＨ3、−ＣＯＮＨ2、−ＣＨ2Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ3、−Ｃ（ＣＨ3）2（ＳＨ）、−Ｃ（ＣＨ3）2（ＳＣＨ3）、−Ｃ（ＣＨ3）2（Ｓ［Ｏ］ＣＨ3）、−Ｃ（ＣＨ3）2（Ｓ［Ｏ］2ＣＨ3）、カルボキシ、アミジノ、Ｎ−アルキルアミジノ、アルキル、アリールまたはアラルキル基を表わし；あるいはＲ7はＲ1およびＲ1およびＲ7が結合している炭素原子と一緒になって、シクロアルキルまたはヘテロシクロ基を表わし；
Ｒ8はそれぞれ独立して、水素またはアルキル基を表わし；
Ｒ10は水素、アルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクロ、ヘテロシクロアルキル、ヘテロアリールまたはヘテロアラルキル基を表わし；
Ｒ11は水素、アルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、シアノアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロ、ヘテロシクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロアリールカルボニルアルキル、アリールカルボニルアルキル、チオアルキル、アルキルチオアルキルまたはアリールチオアルキル基またはその対応するスルホンまたはスルホキシド誘導体、アミノアルキルまたはＮ−モノ−またはＮ，Ｎ−ジ置換アミノアルキル基を表わし；この置換基はアルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロシクロまたはヘテロシクロアルキル基であり；あるいはＲ10およびＲ11は、これらが結合している窒素と一緒になってヘテロシクロ、ヘテロアリール、アラルキルヘテロアリール、アラルキルヘテロシクロ、ヘテロアラルキルヘテロアリールまたはヘテロアラルキルヘテロシクロ基を表わし；
ｔは０〜４を表わし；そして
ＹはＯ、ＳまたはＮＨを表わす。
式ＩＩ内のさらに好ましい化合物の一群は下記の化合物からなる：
Ｒ1は水素、−ＣＨ2ＳＯ2ＮＨ2、−ＣＨ2ＣＯ2ＣＨ3、−ＣＯ2ＣＨ3、−ＣＯ2ＮＨ2、−ＣＨ2Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ3、−Ｃ（ＣＨ3）2（ＳＨ）、−Ｃ（ＣＨ3）2（ＳＣＨ3）、−Ｃ（ＣＨ3）2（Ｓ（Ｏ）ＣＨ3）、−Ｃ（ＣＨ3）2（Ｓ（Ｏ）2ＣＨ3）、アルキル、ハロアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アミノスルホニルアルキル、Ｎ−アルキルアミノスルホニルアルキル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノスルホニルアルキルまたはヘテロアラルキル基、あるいはアスパラギン、リジン、アスパラギン酸、アスパラギン酸メチルエステル、メチオニンまたはそのスルホキシド（ＳＯ）またはスルホン（ＳＯ2）誘導体、Ｓ−メチルシステインまたはそのスルホキシド（ＳＯ）またはスルホン（ＳＯ2）誘導体、オルニチン、ロイシン、イソロイシン、ノルロイシン、アロ−イソロイシン、アラニン、フェニルアラニン、ヒスチジン、ｔｅｒｔ−ロイシン、グルタミン、スレオニン、アロ−スレオニン、セリン、Ｏ−アルキルセリン、ベータ−シアノアラニンまたはバリンのアミノ酸側鎖を表わし；
Ｒ2はアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキルまたはヘテロアラルキル基を表わし、これらの基は１個または２個以上のアルキル、ハロゲン、−ＮＯ2、−ＣＮ、−ＣＦ3、−ＯＲ9または−ＳＲ9基により置換されていてもよく、ここでＲ9は水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルまたはヘテロシクロ基を表わし；
Ｒ3はアルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アミノアルキル、Ｎ−アルキルアミノアルキル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロ、ヘテロシクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、チオアルキル、アルキルチオアルキルまたはアリールチオアルキル基あるいはその対応するスルホンまたはスルホキシド誘導体を表わし；
Ｒ4はアルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロ、ヘテロシクロアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、アルコキシカルボニルアミノヘテロアリール、アリール、アラルキルまたはアラルケニル基を表わし；
Ｒ6は水素またはアルキル基を表わし；
Ｒ7はそれぞれ独立して、水素、−ＣＯ2ＣＨ3、−ＣＯＮＨ2、カルボキシ、アミジノ、Ｎ−アルキルアミジノ、アルキル、アリールまたはアラルキル基を表わし；あるいはＲ7はＲ1およびＲ1およびＲ7が結合している炭素原子と一緒になって、シクロアルキルまたはヘテロシクロ基を表わし；
Ｒ8はそれぞれ独立して、水素またはアルキル基を表わし；
Ｒ10は水素、アルキル、アラルキルまたはヘテロアラルキル基を表わし；
Ｒ11は水素、アルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アミノアルキル、Ｎ−アルキルアミノアルキル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロ、ヘテロシクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロアリールカルボニルアルキルまたはアリールカルボニルアルキル基を表わし；あるいはＲ10およびＲ11は、これらが結合している窒素と一緒になって、ヘテロシクロ、ヘテロアリール、アラルキルヘテロアリール、アラルキルヘテロシクロ、ヘテロアラルキルヘテロアリールまたはヘテロアラルキルヘテロシクロ基を表わし；
ｔは０〜４を表わし；そして
ＹはＯまたはＳを表わす。
式ＩＩ内の最高に重要な化合物は下記の化合物である：
Ｒ1は水素、−ＣＨ2Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ3、−Ｃ（ＣＨ3）2（ＳＣＨ3）、−Ｃ（ＣＨ3）2（Ｓ［Ｏ］ＣＨ3）、−Ｃ（ＣＨ3）2（Ｓ［Ｏ］2ＣＨ3）、メチル、エチル、イソプロピル、イソ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、プロペニルまたはプロパルギル基、あるいはアスパラギン、Ｓ−メチルシステイン、イソロイシン、アロ−イソロイシン、アラニン、ｔｅｒｔ−ロイシンまたはバリンのアミノ酸側鎖を表わし；
Ｒ2はＣＨ3ＳＣＨ2ＣＨ2−、イソ−ブチル、ｎ−ブチル、ベンジル、フルオロベンジル、ナフチルメチル、シクロヘキシルメチル、フェニルチオメチルまたはナフチルチオメチル基を表わし；
Ｒ3はイソアミル、イソ−ブチル、プロピル、ｎ−ブチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロヘキシルメチル、シクロペンチルメチル、シクロプロピルメチル、ピリジルメチルまたはベンジル基を表わし；
Ｒ4はメチル、フェニル、ピリジル、フリル、イミダゾリル、メチレンジオキシフェン−４−イル、メチレンジオキシフェン−５−イル、エチレンジオキシフェニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾピラニル、ベンズイミダゾリル、ベンゾフリル、２，３−ジヒドロベンゾフリル、ベンズオキサゾリル、オキサゾリル、チアゾリルまたはチオフェニル基を表わし、これらの基は１個または２個以上のメチル、メトキシ、フルオロ、クロロ、ヒドロキシ、アミノ、ニトロまたはメトキシカルボニルアミノ基により置換されていてもよく；
Ｒ6は水素またはメチル基を表わし；
Ｒ7はそれぞれ独立して、水素、−ＣＯ2ＣＨ3、−ＣＯＮＨ2またはメチル基を表わし；あるいはＲ7はＲ1およびＲ1およびＲ7が結合している炭素原子と一緒になって、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルまたはシクロヘキシル基を表わし；
Ｒ8はそれぞれ独立して、水素またはメチル基を表わし；
Ｒ10およびＲ11はそれぞれ独立して、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ピロリルエチル、ピペリジニルエチル、ピロリジニルエチル、モルホリニルエチル、チオモルホリニルエチル、ピリジルメチル、メチルアミノエチル、ジメチルアミノエチル、フェニル、ベンジルまたはジフェニルメチル基を表わし；あるいはＲ10およびＲ11は、これらが結合している窒素と一緒になって、ピペリジニル、モルホリニル、チオモルホリニルまたはそのスルホンまたはスルホキシド誘導体、ピペラジニル、ピロリジニルまたはピロリル基、あるいはＮ−（アルキル）ピペラジニル、Ｎ−（アラルキル）ピペラジニル、Ｎ−（ヘテロアラルキル）ピペラジニルまたはＮ−（ヘテロシクロアルキル）ピペラジニル基、例えばＮ−メチルピペラジニル、Ｎ−エチルピペラジニル、Ｎ−ベンジルピペラジニル、Ｎ−（ピリジルメチル）ピペラジニル、Ｎ−（テトラヒドロチエニルメチル）ピペラジニル、Ｎ−（チアゾリルメチル）ピペラジニル、Ｎ−（フリルメチル）ピペラジニル、Ｎ−（ベンズオキサゾリルメチル）ピペラジニル、Ｎ−（ピペリジニルエチル）ピペラジニル、Ｎ−（モルホリノエチル）ピペラジニル等を表わし；
ｔは０または１を表わし；そして
ＹはＯまたはＳを表わす。
−ＣＨ（ＯＨ）−基の炭素原子の絶対立体化学は好ましくは、（Ｒ）である。−ＣＨ（Ｒ1）−基の炭素原子の絶対立体化学は好ましくは、（Ｓ）である。−ＣＨ（Ｒ2）−基の炭素原子の絶対立体化学は好ましくは、（Ｓ）である。
本明細書で使用されているものとして、「アルキル」の用語は、単独でまたは組合わされて、好ましくは炭素原子１〜１０個、さらに好ましくは炭素原子１〜８個、最も好ましくは炭素原子１〜５個を含有する、直鎖状または分枝鎖状アルキル基を意味する。このような基の例には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソ−アミル、ヘキシル、オクチル等が包含される。「チオアルキル」の用語は、少なくとも１個の−ＳＨ基により置換されている上記定義のとおりのアルキル基を意味する。「アルキルチオアルキル」および「アリールチオアルキル」の用語は、少なくとも１個のアルキル−Ｓおよびアリール−Ｓ−によりそれぞれ置換されている上記定義のとおりのアルキル基を意味し、ここでアルキルおよびアリールは上記定義のとおりである。チオアルキル、アルキルチオアルキルおよびアリールチオアルキルの例には、−ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ3、−ＣＨ2ＣＨ2ＳＨ、−Ｃ（ＣＨ3）2ＳＨ、−Ｃ（ＣＨ3）2ＳＣＨ3、−（ＣＨ2）2ＳＣＨ3、−ＣＨ2Ｓ−フェニル等がある。このようなチオアルキルの対応するスルホキシドおよびスルホンには、−ＣＨ2Ｓ（Ｏ）ＣＨ2ＣＨ3、−Ｃ（ＣＨ3）2Ｓ（Ｏ）ＣＨ3、−Ｃ（ＣＨ3）2Ｓ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＨ2Ｓ（Ｏ）2ＣＨ2ＣＨ3、−Ｃ（ＣＨ3）2Ｓ（Ｏ）2ＣＨ3、−ＣＨ2Ｓ（Ｏ）−フェニル、−ＣＨ2Ｓ（Ｏ）2−フェニル、−Ｃ（ＣＨ3）2Ｓ（Ｏ）2ＣＨ3等がある。「アルケニル」の用語は、単独でまたは組合わされて、１個または２個以上の二重結合を有し、かつまた好ましくは炭素原子２〜１０個、さらに好ましくは炭素原子２〜８個、最も好ましくは炭素原子２〜５個を含有する直鎖状または分枝鎖状炭化水素基を意味する。適当なアルケニル基の例には、エテニル、プロペニル、２−メチルプロペニル、１，４−ブタジエニル等が包含される。「アルキニル」の用語は、単独でまたは組合わされて、１個または２個以上の三重結合を有し、かつまた好ましくは炭素原子２〜１０個、さらに好ましくは炭素原子２〜５個を含有する直鎖状または分枝鎖状炭化水素基を意味する。アルキニル基の例には、エチニル、プロピニル、（プロパルギル）、ブチニル等が包含される。「アルコキシ」の用語は、単独でまたは組合わされて、アルキルエーテル基を意味し、ここでアルキルの用語は上記定義のとおりである。適当なアルキルエーテル基の例には、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ等が包含される。「シクロアルキル」の用語は、単独でまたは組合わされて、飽和または部分的飽和の一環状、二環状または三環状アルキル基を意味し、これらの基において、各環部分は、好ましくは３〜８個の炭素原子環員、さらに好ましくは３〜７個の炭素原子環員、最も好ましくは５〜６個の炭素原子環員を含有しており、かつまたこれらの基はベンゾ縮合環系であることができ、この環系はアリールの定義に関してここで定義されているとおりに置換されていてもよい。このようなシクロアルキル基の例には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、オクタヒドロナフチル、２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデニル、アダマンチル等が包含される。本明細書で使用されているものとして、「二環状」および「三環状」の用語は、ナフチルおよびβ−カルボニリルなどの縮合環系およびビフェニル、フェニルピリジル、ナフチルおよびジフェニルピペラジニルなどの置換環系の両方を包含するものとする。「シクロアルキルアルキル」の用語は、上記定義のとおりのシクロアルキル基により置換されている上記定義のとおりのアルキル基を意味する。このようなシクロアルキルアルキル基の一例には、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、１−シクロペンチルエチル、１−シクロヘキシルエチル、−２−シクロペンチルエチル、２−シクロヘキシルエチル、シクロブチルプロピル、シクロペンチルプロピル、シクロヘキシルブチル等が包含される。「アリール」の用語は、単独でまたは組合わされて、フェニルまたはナフチル基を意味し、この基はアルキル、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、シアノ、ハロアルキル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、シクロアルキル、ヘテロシクロ、アルカノイルアミノ、アミド、アミジノ、アルコキシカルボニルアミノ、Ｎ−アルキルアミジノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、Ｎ−アルキルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミド、アラルコキシカルボニルアミノ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル等から選択される１個または２個以上の置換基により置換されていてもよい。アリール基の例には、フェニル、ｐ−トリル、４−メトキシフェニル、４−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）フェニル、３−メチル−４−メトキシフェニル、４−フルオロフェニル、４−クロロフェニル、３−ニトロフェニル、３−アミノフェニル、３−アセトアミドフェニル、４−アセトアミドフエニル、２−メチル−３−アセトアミドフェニル、２−メチル−３−アミノフェニル、３−メチル−４−アミノフェニル、２−アミノ−３−メチルフェニル、２，４−ジメチル−３−アミノフェニル、４−ヒドロキシフェニル、３−メチル−４−ヒドロキシフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、３−アミノ−１−ナフチル、２−メチル−３−アミノ−１−ナフチル、６−アミノ−２−ナフチル、４，６−ジメトキシ−２−ナフチル、ピペラジニルフェニルなどがある。「アラルキル」および「アラルコキシ」の用語は、単独でまたは組合わされて、その水素原子の少なくとも１個が上記定義のとおりのアリール基により置き換えられている上記定義のとおりのアルキルまたはアルコキシ基を意味し、例えばベンジル、ベンジルオキシ、２−フェニルエチル、ジベンジルメチル、ヒドロキシフェニルメチル、メチルフェニルメチル、ジフェニルメチル、ジフェニルメトキシ、４−メトキシフェニルメトキシなどを意味する。「アラルコキシカルボニル」の用語は、単独でまたは組合わされて、式アラルキル−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−で表わされる基を意味し、ここで「アラルキル」の用語は上記の意味を有する。アラルコキシカルボニル基の例には、ベンジルオキシカルボニルおよび４−メトキシフェニルメトキシカルボニルがある。「アリールオキシ」の用語は、式アリール−Ｏ−で表わされる基を意味し、アリールの用語は上記の意味を有する。「アルカノイル」の用語は、単独でまたは組合わされて、アルカンカルボン酸から誘導されるアシル基を意味し、この基の例には、アセチル、プロピオニル、ブチリル、バレリル、４−メチルバレリル等が包含される。「シクロアルキルカルボニル」の用語は、式シクロアルキル−Ｃ（Ｏ）−で表わされるアシル基を意味し（式中、「シクロアルキル」の用語は上記意味を有する）、例えばシクロプロピルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、アダマンチルカルボニル、１，２，３，４−テトラヒドロ−２−ナフトイル、２−アセトアミド−１，２，３，４−テトラヒドロ−２−ナフトイル、１−ヒドロキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−６−ナフトイルなどを意味する。「アラルカノイル」の用語は、アリール置換アルカンカルボン酸から誘導されるアシル基、例えばフェニルアセチル、３−フェニルプロピオニル（ヒドロシンナモイル）、４−フェニルブチリル、（２−ナフチル）アセチル、４−クロロヒドロシンナモイル、４−アミノヒドロシンナモイル、４−メトキシヒドロシンナモイルなどを意味する。「アロイル」の用語は、アリールカルボン酸から誘導されるアシル基を意味し、ここで「アリール」は上記の意味を有する。このようなアロイル基の例には、置換および未置換のベンゾイルまたはナフトイル、例えばベンゾイル、４−クロロベンゾイル、４−カルボキシベンゾイル、４−（ベンジルオキシカルボニル）ベンゾイル、１−ナフトイル、２−ナフトイル、６−カルボキシ−２−ナフトイル、６−（ベンジルオキシカルボニル）−２−ナフトイル、３−ベンジルオキシ−２−ナフトイル、３−ヒドロキシ−２−ナフトイル、３−（ベンジルオキシホルムアミド）−２−ナフトイルなどが包含される。「ヘテロシクロ」の用語は、単独でまたは組合わされて、少なくとも１個の窒素、酸素または硫黄原子環員を含有する、好ましくは１〜４個の窒素、酸素または硫黄原子環員を含有する；さらに好ましくは０〜４個の窒素、０〜２個の酸素および０〜２個の硫黄原子環員を含有しており、ただし少なくとも１個のこのようなヘテロ原子を含有し；好ましくは各環に３〜８個の環員を有し、さらに好ましくは各環に３〜７個の環員を有し、最も好ましくは各環に５〜６個の環員を有する、飽和または部分的飽和の一環状、二環状または三環状ヘテロシクロ基を意味する。「ヘテロシクロ」は三級窒素環員のスルホン、スルホキシド、Ｎ−オキサイド、およびまた炭素環縮合したおよびベンゾ縮合した環系を包含するものとする。このようなヘテロシクロ基は１個または２個以上の炭素原子がハロゲン、アルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、オキソ、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、アミジノ、Ｎ−アルキルアミジノ、アルコキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノなどにより置換されていてもよく、そして（または）二級窒素原子（すなわち、−ＮＨ−）がヒドロキシ、アルキル、アラルコキシカルボニル、アルカノイル、ヘテロアラルキル、フェニルまたはフェニルアルキルにより置換されていてもよく、そして（または）三級窒素原子（すなわち、＝Ｎ−）がオキシドにより置換されていてもよい。「ヘテロシクロアルキル」は、その水素原子の少なくとも１個が上記定義のとおりのヘテロシクロ基により置き換えられている上記定義のとおりのアルキル基、例えばピロリジニルメチル、テトラヒドロチエニルメチル、ピリジルメチル等を意味する。「ヘテロアリール」の用語は、単独でまたは組合わされて、上記定義のとおりの芳香族ヘテロシクロ基を意味し、この基はアリールおよびヘテロシクロの定義に関連して上記に定義されているとおりに置換されていてもよい。このようなヘテロシクロおよびヘテロアリール基の例には、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニル、チアモルホリニル、ピロリル、イミダゾリル（例えば、イミダゾール−４−イル、１−ベンジルオキシカルボニルイミダゾール−４−イルなど）、ピラゾリル、ピリジル（例えば、２−（１−ピペリジニル）ピリジルおよび２−（４−ベンジルピペラジン−１−イル−１−ピリジニルなど）、ピラジニル、ピリミジニル、フリル、テトラヒドロフリル、チエニル、テトラヒドロチエニルおよびそのスルホキシドおよびスルホン誘導体、チアゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、インドリル（例えば、２−インドリルなど）、キノリニル（例えば、２−キノリニル、３−キノリニル、１−オキシド−２−キノリニルなど）、イソキノリニル（例えば、１−イソキノリニル、３−イソキノリニルなど）、テトラヒドロキノリニル（例えば、１，２，３，４−テトラヒドロ−２−キノリニルなど）、１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリニル（例えば、１，２，３，４−テトラヒドロ−１−オキソ−イソキノリニルなど）、キノオキサリニル、β−カルボリニル、２−ベンゾフランカルボニル、１−、２−、４−または５−ベンズイミダゾリル、メチレンジオキシフェン−４−イル、メチレンジオキシフェン−５−イル、エチレンジオキシフェニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾピラニル、ベンゾフリル、２，３−ジヒドロベンゾフリル、ベンズオキサゾリル、チオフェニルなどがある。「ヘテロ原子」の用語は、窒素、酸素または硫黄原子を意味する。「シクロアルキルアルコキシカルボニル」の用語は、式シクロアルキルアルキル−Ｏ−ＣＯＯＨ（式中、シクロアルキルアルキルは上記の意味を有する）で表わされるシクロアルキルアルコキシカルボン酸から誘導されるアシル基を意味する。「アリールオキシアルカノイル」の用語は、式アリール−Ｏ−アルカノイル（式中、アリールおよびアルカノイルは上記の意味を有する）で表わされるアシル基を意味する。「ヘテロシクロアルコキシカルボニル」の用語は、式ヘテロシクロアルキル−Ｏ−ＣＯＯＨ（式中、ヘテロシクロアルキルは上記定義のとおりである）から誘導されるアシル基を意味する。「ヘテロシクロアルカノイル」の用語は、ヘテロシクロアルキルカルボン酸から誘導されるアシル基であり、ここでヘテロシクロは上記の意味を有する。「ヘテロシクロアルコキシカルボニル」の用語は、ヘテロシクロアルキル−Ｏ−ＣＯＯＨ（式中、ヘテロシクロは上記の意味を有する）から誘導されるアシル基を意味する。「ヘテロアリールオキシカルボニル」の用語は、ヘテロアリール−Ｏ−ＣＯＯＨ（式中、ヘテロアリールは上記の意味を有する）で表わされるカルボン酸から誘導されるアシル基を意味する。
「アミノカルボニル」の用語は、単独でまたは組合わされて、アミノ置換カルボニル（カルバモイル）基を意味し、このアミノ基は、アルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル基などから選択される置換基を含有する一級、二級または三級のアミノ基であることができる。「アミノアルカノイル」の用語は、アミノ置換アルキルカルボン酸から誘導されるアシル基を意味し、ここでアミノ基はアルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル基などから選択される置換基を含有する一級、二級または三級のアミノ基であることができる。「ハロゲン」の用語は、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素を意味する。「ハロアルキル」の用語は、その水素原子の１個または２個以上がハロゲンにより置き換えられている、上記定義のとおりの意味を有するアルキル基を意味する。このようなハロアルキル基の例には、クロロメチル、１−ブロモエチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、１，１，１−トリフルオロエチルなどが包含される。「脱離性基」（Ｌ）の用語は一般に、アミノ、チオールまたはアルコール求核性基などの求核性基により容易に置き換えられる基を意味する。このような脱離性基は当業者に周知である。このような脱離性基の例には、これらに制限されないものとして、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシベンゾトリアゾール、ハライド、トリフレート、トシレートなどが包含される。好適な脱離性基は本明細書に適当なものとして挙げられている基である。「アミノ酸側鎖」の用語は、それが結合している炭素の立体化学を包含し、アミノ酸をグリシンから区別する天然産生アミノ酸に結合している側鎖基を意味する。一例として、アラニンのアミノ酸側鎖はメチルであり、ヒスチジンのアミノ酸側鎖はイミダゾリルメチルであり、そしてフェニルアラニンのアミノ酸側鎖はベンジルである。このような側鎖基の本発明による化合物への結合は、それが結合している炭素の天然産生立体化学を保有する。下記の例は、この定義を説明するものである：
Figure 0004014220
式Ｉで表わされる化合物の製造方法を以下で説明する。これは一般的製法を特定の立体化学を有する化合物の製造に関して示すものであり、ここではヒドロキシル基にかかわる絶対立体化学は、（Ｒ）として指定されていることに留意されるべきである。しかしながら、これらの方法は、反対の配置を有する化合物、例えばヒドロキシル基にかかわる絶対立体化学が（Ｓ）である化合物にも一般に適用することができる。さらに、ヒドロキシル基の（Ｒ）立体化学を有する化合物を使用して、（Ｓ）立体化学を有する化合物を製造することもできる。ヒドロキシル基の（Ｒ）立体化学を有する化合物は、周知の方法を使用して、（Ｓ）立体化学に変換することができる。例えば、このヒドロキシ基は、メシレートまたはトシレートなどの脱離性基に変換し、次いでこの脱離性基を、ハイドロオキサイド、ベンジルオキサイド（この場合には、引き続き脱ベンジル化する）などのオキサイドアニオンと反応させ、（Ｓ）立体化学を有するヒドロキシル基を生成させることができる。
式Ｉで表わされる化合物の製造
上記式Ｉで表わされる本発明の化合物は、下記の一般方法を使用して製造することができる。この方法を下記反応経路Ｉ〜ＩＩＩにより図解式に示す：
Figure 0004014220
Figure 0004014220
Figure 0004014220
式：
Figure 0004014220
式中、Ｐはアミノ保護基であり、そしてＲ2は上記定義のとおりである、
を有するアミノ酸のＮ−保護したクロロケトン誘導体を、適当な還元剤を使用して対応するアルコールに還元する。適当なアミノ保護基は当業者に周知であり、カルボベンゾキシ、ｔ−ブトキシカルボニルなどを包含する。好適アミノ保護基はカルボベンゾキシである。好適Ｎ−保護クロロケトンは、Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−フェニルアラニンクロロメチルケトンである。好適還元剤はホウ水素化ナトリウムである。この還元反応は、−１０℃〜約２５℃の温度、好ましくは約０℃において、例えばテトラヒドロフランなどの適当な溶媒系中で行う。別法として、対応するＮ−保護したブロモケトンも使用することができ、これは数種のキラルアルコールの生成に特に有用である。Ｎ−保護したクロロケトン化合物は、例えばＢａｃｈｅｍ，Ｉｎｃ．，Ｔｏｒｒａｎｃｅ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａなどから市販されている。別様には、このクロロケトン化合物は、Ｓ．Ｊ．ＦｉｔｔｋａｕによるＪ．Ｐｒａｋｔ．Ｃｈｅｍ．，３１５，１０３７（１９７３）に記載の方法により製造することができ、次いで当業者に周知の方法を使用してＮ−保護化する。
下記で説明するように、ハロアルコールを直接に使用することができ、あるいは好ましくは、次いで好ましくは室温において、適当な溶媒系中で適当な塩基と反応させ、式：
Figure 0004014220
式中、ＰおよびＲ2は上記定義のとおりである、
で表わされるＮ−保護アミノエポキシドを生成させる。このアミノエポキシドの製造に適する溶媒系には、エタノール、メタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが包含され、その混合物も包含される。還元されたクロロケトンからのエポキシドの製造に適する塩基には、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、カリウムｔ−ブトキシドなどが包含される。好適塩基は水酸化カリウムである。
別法として、保護したアミノエポキシドは、我々自身による審査中のＰＣＴ特許出願Ｓｅｒｉａｌ Ｎｏ．ＰＣＴ／ＵＳ９３／０４８０４（これを引用してここに組み入れる）などにおけるようにして製造することもでき、この方法はＬ−アミノ酸から出発して、これを適当な溶媒中で適当なアミノ保護基と反応させ、下記式で表わされるアミノ−保護したＬ−アミノ酸エステルを生成させる方法である：
Figure 0004014220
式中、Ｐ3はカルボキシル−保護基、例えばメチル、エチル、ベンジル、ｔｅｒｔ−ブチルなどを表わし；Ｒ2は上記定義のとおりであり；そしてＰ1およびＰ2は独立して、これらに制限されないものとして、アリールアルキル、置換アリールアルキル、シクロアルケニルアルキルおよび置換シクロアルケニルアルキル、アリル、置換アリル、アシル、アルコキシカルボニル、アラルコキシカルボニルおよびシリルを包含するアミノ保護基から選択される。アリールアルキルの例には、これらに制限されないものとして、ベンジル、オルト−メチルベンジル、トリチルおよびベンズヒドリルが包含され、これらの基はハロゲン、Ｃ1〜Ｃ8のアルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、ニトロ、アルキレン、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノおよびアシル、あるいはそれらの塩類、例えばホスホニウムおよびアンモニウム塩により置換されていてもよい。アリール基の例には、フェニル、ナフタレニル、インダニル、アントラセニル、ドウレニル（ｄｕｒｅｎｙｌ）、９−（９−フェニルフルオレニル）およびフェナンスレニル、Ｃ6〜Ｃ10のシクロアルキルを含有するシクロアルケニルアルキルまたは置換シクロアルケニルアルキル基が包含される。適当なアシル基には、カルボベンゾキシ、ｔ−ブトキシカルボニル、イソ−ブトキシカルボニル、ベンゾイル、置換ベンゾイル、ブチリル、アセチル、トリフルオロアセチル、トリクロロアセチル、フタロイルなどが包含される。
さらに、Ｐ1および（または）Ｐ2保護基は、これらが結合している窒素と一緒になって、ヘテロシクロ環、例えば１，２−ビス（メチレン）ベンゼン、フタルイミジル、スクシンイミジル、マレイミジルなどを形成することができ、これらのヘテロシクロ基はまた、隣接するアリールおよびシクロアルキル環を包含することができる。さらに、このヘテロシクロ基は、モノ−、ジ−またはトリ−置換されていてもよく、例えばニトロフタルイミジルであることができる。シリルの用語は、１個または２個以上のアルキル、アリールおよびアラルキル基により置換されていてもよいケイ素原子を意味する。
適当なシリル保護基は、これらに制限されないものとして、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリ−イソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ジメチルフェニルシリル、１，２−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン、１，２−ビス（ジメチルシリル）エタンおよびジフェニルメチルシリルを包含する。アミノ官能基をシリル化してモノ−またはビス−ジシリルアミンを生成させることによって、アミノアルコール、アミノ酸、アミノ酸エステルおよびアミノ酸アミドの誘導体を得ることができる。アミノ酸、アミノ酸エステルおよびアミノ酸アミドの場合に、そのカルボニル官能基の還元により所望のモノ−またはビス−シリルアミノアルコールが得られる。このアミノアルコールをシリル化すると、Ｎ，Ｎ，Ｏ−トリ−シリル誘導体を導くことができる。このシリルエーテル官能基からのシリル官能基の分離は、例えば分離した反応工程において、あるいはアミノアルデヒド反応剤の製造中にその場で、金属水酸化物またはフッ素化アンモニウム反応剤で処理することによって容易に達成することができる。適当なシリル化剤には、例えばトリメチルシリルクロライド、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルクロライド、フェニルジメチルシリルクロライド、ジフェニルメチルシリルクロライドまたはイミダゾールネまたはＤＭＦとのそれらの組合わせ生成物がある。アミン化合物のシリル化方法およびシリル保護基の分離方法は当業者にとって周知である。対応するアミノ酸、アミノ酸アミドまたはアミノ酸エステル化合物からのこれらのアミン誘導体の製造方法はまた、アミノ酸／アミノ酸エステルを包含する有機化学あるいはアミノアルコール化学の当業者にとって周知である。
好ましくは、Ｐ1およびＰ2は独立して、アラルキルおよび置換アラルキルから選択される。さらに好ましくは、Ｐ1およびＰ2はそれぞれ、ベンジルである。以下の例で説明するように、Ｐ、Ｐ1およびＰ2は窒素保護基として作用することができ、この基は後刻に、本発明の化合物の製造時点で分離することができ、あるいは最終インヒビター構造の一部を形成することもできる。一例として、ベンゾイル、ベンジルオキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ピリジルメトキシカルボニル、テトラヒドロフリルオキシカルボニル、テトラヒドロチオフェン−Ｓ，Ｓ−ジオキシデオキシカルボニル、ピリジルカルボニルなどは、望まれない反応を受けることから窒素を保護し、かつまた活性酵素インヒビターの構造の一部としての両方に使用することができる。
このアミノ−保護したＬ−アミノ酸エステル化合物を次いで、対応するアルコールに還元する。一例として、アミノ−保護したＬ−アミノ酸エステル化合物は、トルエンなどの適当な溶媒中で−７８℃において水素化ジイソブチルアルミニウムにより還元することができる。好適還元剤は水素化リチウムアルミニウム、ホウ水素化リチウム、ホウ水素化ナトリウム、ボラン、水素化リチウムトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルミニウム、ボラン／ＴＦＨ錯体を包含する。最も好適な還元剤は、トルエン中の水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤｉＢＡＬ−Ｈ）である。生成するアルコール化合物は次いで、例えばスヴァーン（Ｓｗｅｒｎ）酸化によって、式：
Figure 0004014220
式中Ｐ1、Ｐ2およびＲ2は上記定義のとおりである、
で表わされる対応するアルデヒド化合物に変換する。すなわち、このアルコール化合物のジクロロメタン溶液を、ジクロロメタン中のオキザリルクロライドおよびジクロロメタン中のＤＭＳＯの冷却した（−７５〜−６８℃）溶液に添加し、次いで３５分間撹拌する。
許容される酸化剤は、例えば三酸化硫黄−ピリジン錯体とＤＭＳＯ、オキザリルクロライドとＤＭＳＯ、アセチルクロライドまたは無水アセチルクロライドとＤＭＳＯ、トリフルオロアセチルクロライドまたは無水トリフルオロアセチルクロライドとＤＭＳＯ、メタンスルホニルクロライドとＤＭＳＯあるいはテトラヒドロチオフェン−Ｓ−オキサイド、トルエンスルホニルブロマイドとＤＭＳＯ、無水トリフルオロメタンスルホニル［トリフリックアンハイドライド（ｔｒｉｆｌｉｃ ａｎｈｙｄｒｉｄｅ）］とＤＭＳＯ、五塩化リンとＤＭＳＯ、ジメチルホスホリルクロライドとＤＭＳＯおよびイソブチルクロロホーメートとＤＭＳＯを包含する。この酸化条件は、リーツ（Ｒｅｅｔｚ）等より報告されており［Ａｎｇｅｗ Ｃｈｅｍ．，９９，１１８６頁（１９８７）］、Ａｎｇｅｗ Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．Ｅｎｇｌ．，２６，１１４１頁、１９８７）、−７８℃においてオキザリルクロライドとＤＭＳＯとを使用している。
本発明で説明されている好適酸化方法は、三酸化硫黄−ピリジン錯体とＤＭＳＯとを室温において使用する方法である。この方法は、精製する必要もなく、すなわちクロマトグラフイによりキログラムの中間体を精製する必要なく、従って大規模操作の危険を少なくして、使用することができる所望のキラル保護アミノアルデヒドを優れた収率で提供する。室温における反応はまた、低温反応器を使用する必要性を排除して、当該方法を商業的生産に対して適するものとする。
この反応は、窒素またはアルゴンなどの不活性雰囲気下に、あるいは通常の空気または乾燥空気中で、大気圧下にまたは正の圧力下に密封反応容器において行うことができる。窒素雰囲気が好ましい。別種のアミン塩基には、例えばトリブチルアミン、トリイソプロピルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリン、アザビシクロノナン、ジイソプロピルエチルアミン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、あるいはこれらの塩基の混合物が包含される。トリエチルアミンは好適塩基である。溶媒としては、純粋ＤＭＳＯの代りに、ＤＭＳＯと非プロトン性溶剤またはハロゲン化溶剤、例えばテトラヒドロフラン、酢酸エチル、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、エチレンジクロライドなどとの混合物が包含される。双極性中性補助溶剤は、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトアミド、テトラメチル尿素およびその環状類縁体、Ｎ−メチルピロリドン、スルホランなどを包含する。アルデヒド前駆化合物としては、Ｎ，Ｎ−ジベンジルフェニルアラニノールよりはむしろ、上記フェニルアラニノール誘導体を使用して、対応するＮ−モノ置換（Ｐ1またはＰ2のどちらか＝Ｈ）またはＮ，Ｎ−ジ置換アルデヒド化合物を提供することができる。
さらに、対応するアルキル、ベンジルまたはシクロアルケニル窒素保護フェニルアラニン、置換フェニルアラニンまたはフェニルアラニン誘導体のシクロアルキル類縁体のアミドまたはエステル誘導体の水素化物還元を行い、アルデヒド化合物を得ることができる。水素化物転移は、オッペンナウアー（Ｏｐｐｅｎａｕｅｒ）酸化に比較して、アルデヒド縮合が回避される条件におけるアルデヒド合成のもう一つの方法である。
この方法のアルデヒド化合物はまた、保護フェニルアラニンおよびフェニルアラニン類縁体あるいはそれらのアミドまたはエステル誘導体を、例えばエタノール中でＨＣｌとともにナトリウムアマルガムを使用するか、またはアンモニア中でリチウムまたはナトリウムまたはカリウムまたはカルシウムを使用する還元方法によって製造することもできる。この反応温度は、約−３５℃〜約４５℃、好ましくは約５℃〜約２５℃であることができる。液状アンモニアの場合に、好適温度は約−３３℃である。窒素保護したアルデヒド化合物を得るための２つの追加の方法は、対応するアルコールを触媒量の２，２，６，６−テトラメチル−１−ピリジルオキシ遊離基の存在下に漂白剤で酸化する方法を包含する。第二の方法では、アルコールのアルデヒドへの酸化を、Ｎ−メチルモルホリン−Ｎ−オキサイドの存在下における触媒量のテトラプロピルアンモニウム ペルルテネートにより行う。
別法では、上記の保護したフェニルアラニンまたはフェニルアラニン誘導体の酸クロライド誘導体を、硫黄またはチオールなどの追加の触媒調整剤を使用して、あるいは使用することなく、水素および触媒、例えば炭酸バリウムまたは硫酸バリウム上のＰｄにより還元することができる［ローゼンムンド（Ｒｏｓｅｎｍｕｎｄ）還元］。
スヴァーン酸化から生成されるアルデヒド化合物を次いで、ハロメチルリチウム反応剤と反応させる。この反応剤はアリキルリチウムまたはアリールリチウム化合物を式Ｘ1ＣＨ2Ｘ2（式中、Ｘ1およびＸ2は独立して、Ｉ、ＢｒまたはＣｌを表わす）により表わされるジハロメタンと反応させることによってその場で生成させることができる。例えば、ＴＨＦ中のアルデヒド化合物およびクロロヨウドメタンの溶液を、−７８℃に冷却させ、次いでヘキサン中のｎ−ブチルリチウムの溶液を添加する。生成する生成物は下記式で表わされる対応するアミノ保護エポキシドのジアステレオマーの混合物である：
Figure 0004014220
このジアステレオマーは、例えばクロマトグラフイにより分離することができ、あるいは別法として、引続く工程で、このジアステレオマー生成物を一度反応させてから分離することもできる。（Ｓ）立体化学を有する化合物の場合には、Ｌ−アミノ酸の代わりにＤ−アミノ酸を使用することができる。
キラルアミノアルデヒドへのクロロメチルリチウムまたはブロモメチルリチウムの付加は、格別にジアステレオ選択性（ｄｉａｓｔｅｒｅｏｓｅｌｅｃｔｉｖｅ）である。好ましくは、クロロメチルリチウムまたはブロモメチルリチウムは、ジハロメタンとｎ−ブチルリチウムとの反応からその場で生成させることができる。許容されるメチレン化性ハロメタン化合物には、クロロヨウドメタン、ブロモクロロメタン、ジブロモメタン、ジヨウドメタン、ブロモフルオロメタンなどが包含される。例えばホルムアルデヒドへの臭化水素の付加生成物のスルホネートエステルはまた、メチレン化剤である。好適溶媒はテトラヒドロフランであるが、トルエン、ジメトキシエタン、エチレンジクロライド、メチレンクロライドなどの別種の溶媒もまた、純粋溶媒としてまたは混合物として使用することができる。アセトニトリル、ＤＭＦ、Ｎ−メチルピロリドンなどの双極性中性溶剤も溶媒としてまたは溶媒混合物の一部として有用である。この反応は、窒素またはアルゴンなどの不活性雰囲気下に行うことができる。ｎ−ブチルリチウムの代わりに、メチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、フェニルリチウム、フェニルナトリウムなどの有機金属試薬を使用することもできる。この反応は、約−８０℃〜０℃、しかし好ましくは約−８０℃〜−２０℃の温度で行うことができる。最も好ましい反応温度は−４０℃〜−１５℃である。この試薬は一回で添加することができるが、或る条件で多回添加すると好ましい。この反応の好適圧力は大気圧であるが、正の圧力も或る条件では、例えば高湿度環境などの条件下で利用することができる。
本発明のエポキシド化合物への別の変換方法は、別種の帯電したメチレン化前駆化合物（ｍｅｔｈｙｌｅｎａｔｉｏｎ ｐｒｅｃｕｒｓｅｒ ｓｐｅｃｉｅｓ）の置換、引続くそれらの塩基による処置によって類縁アニオンを生成させることを包含する。これらの前駆化合物には、トリメチルスルホオキソニウムトシレートまたはトリフレート、テトラメチルアンモニウムハライド、メチルジフェニルスルホオキソニウムハライドが包含され、ここでハライドはクロライド、ブロマイドまたはヨウダイドである。
本発明のアルデヒド化合物のそれらのエポキシド誘導体への変換はまた、多工程で行うこともできる。一例として、例えばブチルまたはアリールリチウム試薬から生成されたチオアニソールのアニオンを保護したアミノアルデヒドに付加し、生成する保護したアミノスルフィドアルコールを周知の酸化剤、例えば過酸化水素、次亜塩素酸ｔｅｒｔ−ブチル、漂白剤または過ヨウ素酸ナトリウムにより酸化して、スルホキシドを得る。このスルホキシドを、有機または無機塩基の存在下に、例えばメチルヨウダイドまたはブロマイド、メチルトシレート、メチルメシレート、メチルトリフレート、エチルブロマイド、イソプロピルブロマイド、ベンジルクロライドなどによりアルキル化する。別法として、保護したアミノスルフィドアルコールを、例えば上記アルキル化剤によりアルキル化して、スルホニウム塩を生成させ、引続いてｔｅｒｔ−アミンまたは鉱物塩基により目的エポキシドに変換することができる。
所望のエポキシド化合物は、最も好ましい条件を使用して、少なくとも約８５：１５比（Ｓ：Ｒ）の比率でジアステレオ選択的に生成された。この生成物はクロマトグラフイにより精製して、ジアステレオマーとして、かつまたエナンチオマーとして純粋な生成物を得ることができるが、精製することなく直接使用して、レトロウイルスプロテアーゼインヒビターを生成させるとさらに好ましい。前記方法は光学異性体の混合物およびまた分割された化合物に適用することができる。特定の光学異性体が望まれる場合には、出発物質、例えばＬ−フェニルアラニン、Ｄ−フェニルアラニン、Ｌ−フェニルアラニノール、Ｄ−フェニルアラニノール、Ｄ−ヘキサヒドロフェニルアラニノールなどの選択によって、選別することができ、あるいは分割は中間時点でまたは最終段階で分割を行うこともできる。１または２当量のカンファスルホン酸、クエン酸、樟脳酸、２−メトキシフェニル酢酸などのキラル助剤を使用して、本発明の化合物の塩、エステルまたはアミドを生成することができる。これらの化合物または誘導体は結晶化させることができ、あるいは当業者に周知のキラルまたは非キラルのどちらかのカラムを使用して、クロマトグラフイにより分離することができる。
このアミノエポキシドを次いで、適当な溶媒系中で、等量のまたは好ましくは過剰量の式Ｒ3ＮＨ2（式中、Ｒ3は水素であるか、または上記定義のとおりである）で表わされる所望のアミンと反応させる。この反応は広い温度範囲で、例えば約１０℃〜約１００℃において行うことができる。しかしながら、必須ではないが、溶媒が還流を始める温度において行うと好ましい。適当な溶媒系は、プロトン放出性、プロトン非放出性および双極性の中性有機溶剤を包含し、例えばこの溶媒はメタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、およびトルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドおよびまたその混合物が包含される。好適溶媒はイソプロパノールである。式Ｒ3ＮＨ2に相当するアミンの例には、ベンジルアミン、イソブチルアミン、ｎ−ブチルアミン、イソペンチルアミン、イソアミルアミン、シクロヘキサンメチルアミン、ナフチレンメチルアミンなどが包含される。生成する生成物は３−（Ｎ−保護アミノ）−３−（Ｒ2）−１−（ＮＨＲ3）−プロパン−２−オール誘導体（この化合物を以下でアミノアルコールと称する）であり、この化合物は下記式で表わすことができる：
Figure 0004014220
各式中、Ｐ、Ｐ1、Ｐ2、Ｒ2およびＲ3は上記定義のとおりである。別法では、アミノアルコールの代わりに、ハロアルコールを使用することができる。
上記定義のとおりのアミノアルコールを次いで、適当な溶媒中で酸捕獲剤の存在下に、スルホニルクロライド（Ｒ4ＳＯ2Ｃｌ）または無水スルホニルと反応させる。この反応を行うことができる適当な溶媒は、メチレンクロライド、テトラヒドロフランを包含する。適当な酸捕獲剤は、トリエチルアミン、ピリジンを包含する。好適スルホニルクロライドは、メタンスルホニルクロライドおよびベンゼンスルホニルクロライドである。生成するスルホンアミド誘導体は、使用されたエポキシドに応じて、下記式で表わすことができる：
Figure 0004014220
各式中、Ｐ、Ｐ1、Ｐ2、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は上記定義のとおりである。これらの中間体は本発明のインヒビター化合物の製造に有用であり、またレトロウイルスプロテアーゼの活性インヒビターでもある。
式Ｒ4ＳＯ2Ｘで表わされるスルホニルクロライドは、適当なグリニヤル試薬またはアルキルリチウム試薬とスルフリルクロライドまたは二酸化硫黄との反応、および引続くハロゲン、好ましくは塩素による酸化によって製造することができる。また、チオールを水の存在下に注意深く制御した条件において塩素を用いてスルホニルクロライドに酸化することもできる。さらにまた、スルホン酸化合物を、ＰＣｌ5などの試薬を用いてスルホニルハライド化合物に、およびまた適当な脱水剤を用いて無水物に変換することができる。このスルホン酸化合物は、当業者に周知の方法を用いて製造することができる。このようなスルホン酸化合物はまた、市販されている。スルホニルクロライドの代わりに、スルフィニルハライド（Ｒ4ＳＯＸ）またはスルフェニルハライド（Ｒ4ＳＸ）を使用して、−ＳＯ2−基が−ＳＯ−または−Ｓ−基によりそれぞれ置き換えられている化合物を製造することができる。
別法として、式Ｒ4ＳＯ2Ｘで表わされるスルホニルハライドは、芳香族化合物のクロロスルホン化について周知の方法、例えば適当な反応条件下にクロロスルホン酸または三酸化硫黄／Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド錯体との反応によって製造することができる。ウォルフ（Ｗｏｌｆ）等によるＺ．Ｃｈｅｍ．，７：２０，１９６７，８：１１１，１９６８；カルベルソン（Ｃｕｌｂｅｒｔｓｏｎ）等によるＪ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，９９２頁（１９６８）およびＥＰ２５４５７７参照。
スルホンアミド誘導体を製造した後に、そのアミノ保護基ＰまたはＰ1およびＰ2アミノ保護基を分子の残りの部分に影響を及ぼさない条件下に分離する。これらの方法は当業者に周知であり、酸加水分解、水素添加分解などを包含する。好適方法は、適当な溶媒系、例えばアルコール、酢酸など、あるいはその混合物中で炭素上パラジウムを使用する水素添加分解による保護基の分離、例えばカルボベンゾキシ基の分離を包含する。保護基がｔ−ブトキシカルボニル基である場合に、この基は適当な溶媒、例えばジオキサンまたはメチレンクロライド中で無機または有機酸、例えばＨＣｌまたは三フッ化酢酸を使用して分離することができる。生成する生成物はアミン塩誘導体である。この塩を中性にした後に、このアミンを次いで、式：
Figure 0004014220
式中、ｔ、Ｒ1、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ10およびＲ11は上記定義のとおりである、
で表わされるカルボン酸、チオカルボン酸またはその対応する誘導体と反応させ、式：
Figure 0004014220
式中、ｔ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ10およびＲ11は上記定義のとおりである、
を有する本発明の抗ウイルス化合物を生成させる。この場合に好適な保護基はベンジルオキシカルボニル基またはｔ−ブトキシカルボニル基である。
別法では、反応経路ＩＩＩに示されているように、カプリング順序を逆にすることができる。エポキシド開環からの保護したアミノアルコールはさらに、新しく導入されたアミノ基の部位で、最初の保護基Ｐが分離される場合に、分離されない保護基Ｐ′によりさらに保護することができる。ＰおよびＰ′の適当な組合わせは、当業者が選択することができる。適当な選択の一つは、ＰがＣｂｚであり、かつまたＰ′がＢｏｃである場合である。式：
Figure 0004014220
で表わされる生成する化合物を残りの合成方法に付し、式：
Figure 0004014220
で表わされる化合物を生成させ、次いで新しい保護基Ｐ′を選択的に分離し、次いで脱保護化し、生成するアミンを反応させて、上記スルホンアミド誘導体を生成させる。この選択的脱保護およびスルホンアミドへの変換は、所望により、合成の終了時点で、または適当な中間段階で行うことができる。
保護したＳ−アセチルチオアルキルカルボン酸化合物を使用して、本発明のスルホンアミドアルキルカルボン酸出発物質を製造することができる。この保護したＳ−アセチルチオアルキルカルボン酸化合物は、塩素の存在下に酸化して、対応するスルホニルクロライド化合物を生成させることができる。このスルホニルクロライド化合物を次いで、プロトン捕獲剤の存在下にＲ10Ｒ11ＮＨと反応させ、対応する保護したアミノスルホニルアルキルカルボン酸化合物を生成させる。保護基の分離後に、このカルボン酸化合物を使用して、本発明の化合物を製造することができる。基Ｒ1、Ｒ7、Ｒ10およびＲ11に存在する反応性基、例えばアルコール、チオール、一級アミン、二級アミンなどの基は保護されるべきであり、また必要に応じて、脱保護基化しなければならない。この総合反応順序は下記のとおりに示すことができる：
Figure 0004014220
式中、Ｒ1、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ10、Ｒ11およびＰ3は上記定義のとおりである。
この方法はまた、不斉中心を有する出発物質の不斉合成に使用することもできる。
保護したＳ−アセチルチオアルキルカルボン酸化合物は、標準方法を用いて対応する置換Ｓ−アセチルチオアルキルカルボン酸化合物から容易に製造することができ：
Figure 0004014220
あるいは対応する置換チオール化合物を標準条件下に無水酢酸、アセチルクロライドなどによりアセチル化することによって容易に製造することができる：
Figure 0004014220
このような置換チオール化合物は市販の出発物質から、当業者に周知の標準方法および反応剤を用いて容易に製造することができる。一例として、カルボニルはチオカルボニルに容易に変換することができ、このチオカルボニルはチオールに還元するか、または求核性基と反応させて置換チオールを生成させることができる。別法として、脱離性基、例えば塩素原子、臭素原子、トシレート、メシレートなどを有するカルボン酸またはエステルを、スルフィドアニオンと反応させるか、ベンジルチオールと反応させ、次いで脱ベンジル化するか、チオシアニドと反応させ、次いで脱シアン化するかなどによって、チオールを生成させることができ、あるいはチオアセテートアニオンと反応させて、アセチルチオ誘導体を生成させることができる。さらに、このアセテート上のスルフィドアニオンを二重結合含有カルボン酸または保護したカルボン酸にミカエル（Ｍｉｃｈａｅｌ）付加することによって、所望のチオアルキルカルボン酸を得ることができる。キラル中心を有する置換チオアルキルカルボン酸は、標準合成方法を用いて糖から製造することができ、あるいは当該カルボン酸を分割剤を使用して分割するか、または分割用クロマトグラフイカラムにより製造することができる。
本発明のチオカルボニル化合物は当業者に周知の方法、例えばカルボニル化合物を、市販物質であるローソン（Ｌａｗｅｓｓｏｎ）の試薬（２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド）で処理することによって容易に製造することができる。五硫化リンもまた使用することができ、あるいは本発明のアミン化合物を塩基の存在下に、予め生成したチオカルボニル反応剤、例えばチオカルボニルクロライドで処理することもできる。
スルホニルハライドの代わりに、スルフィニルハライド（ＲＳＯＣｌ）およびスルフェニルハライド（ＲＳＣｌ）を使用して、−ＳＯ2−部分の代わりに−ＳＯ−または−Ｓ−をそれぞれ有する化合物を製造することができる。
Ｒ6を有する式で表わされる化合物を製造しようとする場合に、この化合物は前記方法に従い製造することができ、保護したアミンまたはスルホンアミドアミン：
Figure 0004014220
にスルホンアミド−カルボン酸誘導体
Figure 0004014220
をカプリングする前に、アルキル化または還元的アミノ化する。一例として、このアミノ基は室温でシアノホウ水素化ナトリウムおよび相当するアルデヒドまたはケトンによりアルキル化することができる。アミノアルコール中間体化合物のＲ3が水素である場合には、Ｒ3がアルキルであるか、またはαＣが少なくとも１個の水素を含有するその他の置換基である本発明のインヒビター化合物は、アミノアルコールとアミンとの反応の最終生成物の還元的アミノ化によって、あるいは本発明のインヒビター化合物を製造するための合成法いずれか別の段階における還元的アミノ化によって製造することができる。
抗ウイルス化合物および誘導体ならびに中間体について前記した一般式の意図する均等物質は別段の点ではそれに対応し、同一の一般的性質を有する化合物、例えばその互変異性体および各種Ｒ基の１個または２個が本明細書で規定されている置換基の単純な置き換えによる別の基である化合物、例えばＲが示されている基よりも高級のアルキル基である化合物である。さらに、置換基が水素であると指示されているか、または水素であることができる場合には、この位置に存在する水素以外の置換基、例えばヒドロカルビル基またはハロゲン、ヒドロキシ、アミノなどの官能性基の正確な化学的性質は、総合的活性および（または）合成方法に有害に作用しないかぎり制限はない。
前記化学反応は一般に、本発明の化合物の製造にそれらの最も広い適用範囲をもって説明されている。場合により、これらの反応は開示範囲内に包含される各化合物に対して説明されているとおりに適用することができない。このようなことが生じる化合物は当業者により容易に確認することができるものと見做される。このような場合はいずれも、当業者に周知の慣用の変法によって、例えば干渉性基を適当に保護することにより、別の慣用の反応剤に変えることにより、反応条件を慣用的に修正することによる等により順次行うことができ、あるいは本明細書に記載されている反応以外の反応を本発明の対応する化合物の製造に適用することができる。全部の製造方法において、出発物質はいずれも公知であるか、または公知の出発物質から容易に製造することができる。
追加の考案を必要とすることなく、当業者は前記説明を使用して、本発明を最高に充分な程度まで利用することができるものと信じられる。従って、下記の好適な特定の態様は単に説明しようとするものであって、本説明の残りの部分を如何なる点でも制限しようとするものではない。
反応剤はいずれも、精製することなく手入したまま使用した。プロトンおよび炭素ＮＭＲスペクトルはいずれも、バリアン（Ｖａｒｉａｎ）ＶＸＲ−３００またはＶＸＲ−４００核磁気共鳴スペクトル分析装置で得た。
以下の例は、特にＨＩＶプロテアーゼを阻害する本発明のインヒビター化合物およびこのインヒビター化合物の製造に有用な中間体の製造を例示するものである。さらに、これらの中間体はまた、レトロウイルスプロテアーゼを阻害することができる。
例１
Figure 0004014220
３Ｓ−アミノ−１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−４−フェニル−２Ｒ−ブタノールの製造
工程Ａ：Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３（Ｓ）−アミノ−１−クロロ−４−フェニル−２（Ｓ）−ブタノール
メタノール８００ｍｌおよびテトラヒドロフラン８００ｍｌの混合物中のＮ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−フェニルアラニンクロロメチルケトン（７５ｇ、０．２モル）の溶液に、ホウ水素化ナトリウム（１３．１７ｇ、０．３４８モル、１．５４当量）を１００分かけて添加した。この溶液を室温で２時間撹拌し、次いで減圧で濃縮した。この残留物を酢酸エチル１０００ｍｌ中に溶解し、次いで１Ｎ ＫＨＳＯ4、飽和水性ＮａＨＣＯ3、飽和水性ＮａＣｌにより洗浄し、無水ＭｇＳＯ4上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮して、油状物を得た。この粗製生成物を６０℃でヘキサン１０００ｍｌ中に溶解し、室温まで冷却させた。これにより生成された結晶を濾過により分離し、大量のヘキサンで洗浄した。この固形物を次いで、熱い酢酸エチルおよびヘキサンから再結晶させ、Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３（Ｓ）−アミノ−１−クロロ−４−フェニル−２（Ｓ）−ブタノール３２．３ｇ，４３％を得た、融点：１５０〜１５１℃、ＦＡＢ ＭＳ：ＭＬｉ+＝３４０。
工程Ｂ：３（Ｓ）−［Ｎ−（ベンジルオキシカルボニル）アミノ］−１，２（Ｓ）−エポキシ−４−フェニルブタン
無水エタノール９７０ｍｌ中の水酸化カリウム（６．５２ｇ、０．１１６モル、１．２当量）の溶液を、Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３（Ｓ）−アミノ−１−クロロ−４−フェニル−２（Ｓ）−ブタノール（３２．３ｇ、０．０９７モル）で処理した。この溶液を室温で１５分間撹拌し、次いで減圧で濃縮し、白色固形物を得た。この固形物をジクロロメタン中に溶解し、次いで水で洗浄し、無水ＭｇＳＯ4上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮し、白色固形物を得た。この固形物をヘキサンおよび酢酸エチルから結晶化させ、３（Ｓ）−［Ｎ−（ベンジルオキシカルボニル）アミノ］−１，２（Ｓ）−エポキシ−４−フェニルブタン２２．３ｇ，７７％を得た、融点：１０２〜１０３℃、ＦＡＢ ＭＳ：ＭＨ+＝２９８。
工程Ｃ：Ｎ−［３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−４−フェニル］−Ｎ−イソブチルアミン
イソプロピルアルコール６５０ｍｌ中のＮ−ベンジルカルボニル−３（Ｓ）−アミノ−１，２（Ｓ）−エポキシ−４−フェニルブタン（５０．０ｇ、０．１６８モル）およびイソブチルアミン（２４６ｇ、３．２４モル、２０当量）の溶液を、１．２５時間加熱還流させた。この溶液を室温まで冷却させ、減圧で濃縮し、次いで撹拌されているヘキサン１リットル中に注ぎ入れると、溶液から生成物が結晶化した。この生成物を濾過により分離し、次いで空気乾燥させ、Ｎ−［３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−４−フェニル］−Ｎ−イソブチルアミン５７．５６ｇ，９２％を得た、融点：１０８．０〜１０９．５℃、ＭＨ＋ｍ／ｚ＝３７１。
工程Ｄ：フェニルメチル［２（Ｒ）−ヒドロキシ−３−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］カルバメート
工程Ｃからのアミン（９３６．５ｍｇ、２．５３ミリモル）およびトリエチルアミン（２．８８．５ｍｇ、２．８５ミリモル）をジクロロメタン２０ｍｌ中に溶解し、次いで４−メトキシベンゼンスルホニルクロライド（４６１ｍｇ、２．６１ミリモル）で処理した。この溶液を室温で１６時間撹拌し、次いで減圧で濃縮した。この残留物を酢酸エチル中に溶解し、この溶液を次いで、１Ｎ ＫＨＳＯ4、飽和水性ＮａＨＣＯ3、ブラインで洗浄し、無水ＭｇＳＯ4上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮し、清明な油状物１．２３４ｇを得た。この油状物をエーテルとヘキサンとの混合物から結晶化させた、７２９．３ｍｇ、５６．５％、融点：９５〜９９℃、ＦＡＢ ＭＳ：ＭＨ+＝５１１。
工程Ｅ：３Ｓ−アミノ−１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−４−フェニル−２Ｒ−ブタノール
メタノール１０ｍｌ中の工程Ｄからのフェニルメチル［２（Ｒ）−ヒドロキシ−３−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］カルバメート（６７１．１ｍｇ、１．３１ミリモル）の溶液を、室温で４０ｐｓｉｇにおいて１５時間、炭素上１０％パラジウム５０ｍｇ上で水素添加した。触媒を珪藻土に通す濾過により分離し、濾液を濃縮し、白色泡状物を得た、４７４．５ｍｇ、９６％、ＦＡＢ ＭＳ：ＭＨ+＝３７７。
例２
Figure 0004014220
ベンジルＤ−（−）−Ｓ−アセチル−β−メルカプトイソブチレートの製造
Ｎ2導入口、磁気撹拌棒および添加ロートを備えた２５０ｍｌ丸底フラスコに、Ｄ−（−）−Ｓ−アセチル−β−メルカプトイソブチル酸１４ｇおよび乾燥トルエン１２５ｍｌを加え、次いで０℃に冷却させた。この撹拌溶液に、ＤＢＵ １３．６ｇ（１．０当量）を２０分間かけて滴下して添加し、次いでベンジルブロマイド１５．３ｇ（１．０５当量）を約５分間かけて添加した。この反応混合物を一夜かけて室温に温めた。この反応混合物を減圧で濃縮し、次いで酢酸エチル／飽和水性重炭酸塩とに分配した。この有機相をブラインで洗浄し、乾燥させ、減圧で濃縮し、ベンジルＤ−（−）−Ｓ−アセチル−β−メルカプトイソブチレート２０．６ｇ（９５％）を得た。この生成物は次の工程で使用するのに適していた。
例３
Figure 0004014220
ベンジル ３−クロロスルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオネートの製造
５００ｍｌ丸底フラスコに、１０％エタノール性四塩化炭素２００ｍｌ中の例２からの粗製生成物２０．６ｇを導入した。この溶液を０℃に冷却させ、次いで塩素ガスを９０分間泡立てて通した。この反応混合物を減圧で濃縮し、淡黄色のベンジル ３−クロロスルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオネート２２．５ｇを得た。この生成物はさらに精製することなく使用するのに適していた。
例４
Figure 0004014220
３−（１−モルホリノスルホニル）−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸の製造
工程Ａ：ベンジル ３−（１−モルホリノスルホニル）−２（Ｒ）−メチルプロピオネート
磁気撹拌棒およびＮ2導入口を備えた１００ｍｌ丸底フラスコに、ＣＨ2Ｃｌ2１０ｍｌ中の例３からのベンジル ３−クロロスルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオネート１．１ｇを導入した。この溶液を０℃に冷却させ、次いでＣＨ2Ｃｌ2１５ｍｌ中のＮＥｔ3 ０．６７ｍｌ（１．２当量）およびモルホリン０．３６ｍｌ（１．０５当量）と混合した。この反応混合物を０℃で３時間撹拌した。この反応混合物を減圧で濃縮し、この残留物を酢酸エチル／Ｈ2Ｏに分配した。この有機相をブラインで洗浄し、乾燥させ、次いで減圧で濃縮し、ベンジル ３−（１−モルホリノスルホニル）−２（Ｒ）−メチルプロピオネートの白色結晶固形物１０ｇ（７７％）を得た。
工程Ｂ：３−（１−モルホリノスルホニル）−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸
１００ｍｌフィッシャー／ポーター（Ｆｉｓｈｅｒ／Ｐｏｒｔｅｒ）容器に、ＭｅＯＨ １５ｍｌ中のベンジル ３−（１−モルホリノスルホニル）−２（Ｒ）−メチルプロピオネート１．０ｇおよび触媒量の１０％Ｐｄ−Ｃを導入し、一夜にわたり４０ｐｓｉで水素添加した。翌日に、この反応混合物をセライトに通して濾過し、次いで減圧で濃縮し、３−（１−モルホリノスルホニル）−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸７５０ｍｇを得た。ＨＲＭＳ：Ｃ8Ｈ15ＮＯ5Ｓについて計算して、計算値：２３８．０７４８；実測値：２３８．０７６０。
例５
Figure 0004014220
Ｎ 1 −［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−（１−モルホリノスルホニル）−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミドの製造
磁気撹拌棒を備えた５０ｍｌ丸底フラスコに、ＤＭＦ ５ｍｌ中の例４からの３−（１−モルホリノスルホニル）−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸１２５ｍｇを導入した。この溶液を０℃に冷却させ、次いでＨＯＢＴ １０７ｍｇ（１．５当量）を、次いでＥＤＣ １１２ｍｇ（１．１当量）を添加した。３０分後に、ＤＭＦ ２ｍｌ中の例１からのアミン２００ｍｇ（０．９３当量）を添加し、この反応混合物を室温で一夜にわたり撹拌した。この反応混合物を減圧で濃縮し、この残留物を酢酸エチル中に取り、次いで飽和水性重炭酸塩、５％水性クエン酸、ブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾燥させ、次いで濃縮し、Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−（１−モルホリノスルホニル）−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミド２０７ｍｇ（６７％）を得た。この生成物をフラッシュクロマトグラフイ（酢酸エチル／ヘキサン）によりさらに精製した。ＨＲＭＳ：Ｃ29Ｈ43Ｎ3Ｏ8Ｓ2について計算して、計算値：６２６．２５７０；実測値：６２６．２５８４。
例６
Figure 0004014220
３−（４−メチルピペリジン−１−イルスルホニル）−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸の製造
工程Ａ：ベンジル３−［（４−メチルピペリジン−１−イル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオネート
磁気撹拌棒を備えた１００ｍｌ丸底フラスコに、Ｎ−メチル−ピペラジン０．４２ｍｌ（１．０５当量）、ＮＥｔ3 １ｍｌおよびＣＨ2Ｃｌ2 ２０ｍｌを導入した。この溶液を０℃に冷却させ、次いでＣＨ2Ｃｌ2 ５ｍｌ中の例３からのベンジル ３−クロロスルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオネート１．０ｇを添加した。１時間後に、この反応混合物を減圧で濃縮した。この残留物をＥＡ／Ｈ2Ｏに分配し、この有機相を飽和水性重炭酸塩、ブラインで洗浄し、乾燥させ、次いで減圧で濃縮し、ベンジル３−［（４−メチルピペリジン−１−イル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオネートを得た。この生成物はさらに精製することなく使用した。
工程Ｂ：３−［（４−メチルピペリジン−１−イル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸
１００ｍｌフィッシャー／ポーター（Ｆｉｓｈｅｒ／Ｐｏｔｅｒ）容器に、ＭｅＯＨ １５ｍｌ中のベンジル３−［（４−メチルピペリジン−１−イル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオネートを触媒量の１０％Ｐｄ−Ｃとともに導入した。５０ｐｓｉで４８時間水素添加し、セライトに通して濾過し、次いで減圧で濃縮した後に、３−［（４−メチルピペリジン−１−イル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸を吸水性泡状物として得た。この生成物はさらに精製することなく使用するのに適していた。
例７
Figure 0004014220
Ｎ 1 −［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（４−メチルピペリジン−１−イル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミドの製造
磁気撹拌棒およびＮ2導入口を備えた１００ｍｌ丸底フラスコに、ＤＭＦ ５ｍｌ中の例６からの３−［（４−メチルピペリジン−１−イル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸７９ｍｇを導入した。この溶液を０℃に冷却させ、次いでＨＯＢｔ ５５ｍｇ（１．５当量）を添加し、次いでＥＤＣ ６１ｍｇ（１．１５当量）を添加した。３０分後に、ＤＭＦ １ｍｌ中の例１からのアミン化合物１１０ｍｇの溶液を添加し、この反応混合物を室温で撹拌した。この反応混合物をＨ2Ｏ中に注ぎ入れ、次いで生成物を酢酸エチルにより抽出した。この有機相を飽和水性重炭酸塩、ブラインで洗浄し、乾燥させ、次いで減圧で濃縮し、粗製生成物を得た。フラッシュクロマトグラフイ（ＣＨ2Ｃｌ2／ＭｅＯＨ）により精製し、Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（４−メチルピペリジン−１−イル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミド１００ｍｇ（５７％）を得た。
例８
Figure 0004014220
３−アミノスルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸の製造
工程Ａ：ベンジル ３−アミノスルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオネート
磁気撹拌棒を備えた１００ｍｌ丸底フラスコに、ＣＨ2Ｃｌ2 １５ｍｌ中のベンジル ３−クロロスルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオネート１．２２ｇを導入し、次いで−７８℃に冷却させた。この溶液に、−７８℃で液体アンモニア１０ｍｌを添加した。２０分後に、この反応混合物を室温まで温め、減圧で濃縮し、白色固形物を得た。この固形物を酢酸エチル中でスラリー形成し、次いで濾過して無機塩を分離し、次いで減圧で濃縮し、ベンジル ３−アミノスルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオネート１．０８ｇを清明な黄色油状物として得た。この粗製生成物はさらに精製することなく使用した。
工程Ｂ：３−アミノスルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸
１００ｍｌフィッシャー／ポーター（Ｆｉｓｈｅｒ／Ｐｏｔｅｒ）容器に、ＭｅＯＨ ３５ｍｌ中の粗製ベンジル３−アミノスルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオネート１．１ｇを触媒量の１０％Ｐｄ−Ｃとともに導入した。この混合物を５０ｐｓｉで２４時間水素添加し、セライトに通して濾過し、次いで減圧で濃縮し、３−アミノスルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸７００ｍｇを清明な油状物として得た。この粗製酸生成物はさらに精製することなく使用した。
例９
Figure 0004014220
Ｎ 1 −［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−アミノスルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミドの製造
磁気撹拌棒およびＮ2導入口を備えた２５ｍｌ丸底フラスコに、ＤＭＦ ２ｍｌ中の例８からの３−アミノスルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸７０ｍｇを導入した。この溶液を０℃に冷却させ、次いでＨＯＢｔ ７４ｍｇ（１．５当量）およびＥＤＣ ８０ｍｇ（１．１５当量）を添加した。１５分後に、ＤＭＦ ２ｍｌ中の例１からのアミン１４７ｍｇの溶液を添加した。この反応混合物を室温で２０時間撹拌し、次いで酢酸エチルと飽和水性重炭酸塩とに分配した。この有機相をブラインで洗浄し、乾燥させ、次いで減圧で濃縮し、粗製油状物１６０ｍｇを得た。この粗製生成物を酢酸エチル中に溶解し、１０％水性ＫＨＳＯ4で洗浄し、次いで減圧で濃縮し、粗製生成物８０ｍｇを得た。シリカゲル上でフラッシュクロマトグラフイ（ＭｅＯＨ／酢酸エチル）により精製し、Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−アミノスルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミド３５ｍｇを得た。ＨＲＭＳ：Ｃ24Ｈ36Ｎ3Ｏ7Ｓ2に対して計算して、計算値：５５６．２１５１；実測値：５５６．２１９８。
例１０
Figure 0004014220
３−［（ジメチルアミノ）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸の製造
工程Ａ：ベンジル ３−［（ジメチルアミノ）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオネート
磁気撹拌棒を備えた１００ｍｌ丸底フラスコに、ＣＨ2Ｃｌ2 ２５ｍｌ中の例３からのベンジル ３−クロロスルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオネート１．７ｇを導入した。この溶液を−７８℃に冷却させ、無水ジメチルアミン１５ｍｌをゆっくり添加した。３０分後に、この反応混合物を減圧で濃縮し、この残留物をＥＡ／Ｈ2Ｏに分配した。この有機相を乾燥させ、減圧で濃縮し、ベンジル ３−［（ジメチルアミノ）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオネート１．４ｇを清明なコハク色油状物として得た。この生成物は次の工程で直接に使用した。
工程Ｂ：３−［（ジメチルアミノ）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸
１００ｍｌフィッシャー／ポーター（Ｆｉｓｈｅｒ／Ｐｏｔｅｒ）容器に、酢酸３０ｍｌ中のベンジル３−［（ジメチルアミノ）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオネート１．４ｇを触媒量の１０％Ｐｄ−Ｃとともに導入した。この反応混合物を、５０ｐｓｉで２４時間水素添加し、セライトに通して濾過し、次いで減圧で濃縮し、３−［（ジメチルアミノ）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸９００ｍｇを得た。この生成物はさらに精製することなく使用した。
例１１
Figure 0004014220
Ｎ 1 −［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（ジメチルアミノ）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミドの製造
磁気撹拌棒を備えた５０ｍｌ丸底フラスコに、ＤＭＦ ２ｍｌ中の例１０からの３−［（ジメチルアミノ）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸１２６ｍｇを導入した。この溶液を０℃に冷却させ、次いでＨＯＢｔ １１０ｍｇ（１．５当量）を添加し、次いでＥＤＣ １２４ｍｇ（１．１５当量）を添加した。３０分後に、ＤＭＦ ３ｍｌ中の例１からのアミン２３６ｍｇを添加した。この反応混合物を室温で一夜にわたり撹拌した。この反応混合物を酢酸エチルと飽和水性重炭酸塩とに分配した。この有機相をブラインで洗浄し、乾燥させ、次いで減圧で濃縮し、粗製生成物２２０ｍｇを得た。シリカゲルにおいてフラッシュクロマトグラフイ（３％ＭｅＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2）に付し、Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（ジメチルアミノ）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミド８４ｍｇ（２５％）を得た。ＨＰＬＣは９９．２％純粋を示した。ＨＲＭＳ：Ｃ27Ｈ41Ｎ3Ｏ7Ｓ2に対して計算して、計算値（Ｍ＋Ｌｉ）：５９０．２５４６；実測値（ｍ＋Ｌｉ）：５９０．２５９９。
例１２
Figure 0004014220
３−［（１−ピペリジニル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸の製造
工程Ａ：ベンジル ３−［（１−ピペリジニル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオネート
磁気撹拌棒を備えた１００ｍｌ丸底フラスコに、ＣＨ2Ｃｌ2 ２５ｍｌ中の例３からのベンジル ３−クロロスルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオネート１ｇを導入した。この溶液を０℃に冷却させ、次いでピペリジン４ｍｌをゆっくり添加した。この反応混合物を１時間撹拌し、次いで減圧で濃縮した。この残留物を詐酸エチル／水に分配した。この有機相をブラインで洗浄し、乾燥させ、次いで減圧で濃縮し、ベンジル ３−（１−ピペリジニル）スルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオネート１ｇを得た。この生成物はさらに精製することなく使用するのに適していた。
工程Ｂ：３−（１−ピペリジニル）スルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸
１００ｍｌフィッシャー／ポーター（Ｆｉｓｈｅｒ／Ｐｏｔｅｒ）容器に、ＭｅＯＨ ３０ｍｌ中のベンジル３−（１−ピペリジニル）スルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオネート１ｇおよび触媒量の１０％Ｐｄ−Ｃを導入した。この反応混合物を５０ｐｓｉで３時間水素添加した。セライトに通して濾過し、次いで減圧で濃縮した後に、３−［（１−ピペリジニル）スルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸を定量収率で分離した。
例１３
Figure 0004014220
Ｎ 1 −［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−（１−ピペリジニル）スルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミドの製造
磁気撹拌棒を備えた５０ｍｌ丸底フラスコに、ＤＭＦ ３ｍｌ中の３−（１−ピペリジニル）スルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸１００ｍｇを導入した。この溶液を０℃に冷却させ、次いでＨＯＢｔ ７５ｍｇ（１．５当量）を添加し、次いでＥＤＣ ８２ｍｇ（１．１５当量）を添加した。３０分後に、ＤＭＦ ｍｌ中の例１からのアミン１７２ｍｇを添加した。この反応混合物を室温で２０時間撹拌し、次いで酢酸エチルと飽和水性重炭酸塩とに分配した。この有機相をブラインで洗浄し、乾燥させ、次いで減圧で濃縮し、粗製生成物１８０ｍｇを得た。フラッシュクロマトグラフイに付し、Ｎ1−［１−［Ｎ−（２＿メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（１−ピペリジニル）スルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミド６０ｍｇを得た。ＨＲＭＳ：Ｃ30Ｈ45Ｎ3Ｏ7Ｓ2Ｏに対して計算して、計算値：６２４．２７７７；実測値：６２４．２７５３。
例１４
Figure 0004014220
３−［Ｎ−（ベンジル）−Ｎ−（ジフェニルメチル）アミノスルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸の製造
工程Ａ：メチル ３−［Ｎ−（ジフェニルメチル）アミノスルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオネート
磁気撹拌棒を備えた１００ｍｌ丸底フラスコに、アミドジフェニルメタン１ｇ、ＣＨ2Ｃｌ2 ２０ｍｌ中のトリエチルアミン２ｍｌを導入した。この反応混合物を０℃に冷却させ、次いでメチル ３−クロロスルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオネート１ｇをゆっくり添加した。この反応混合物を１時間撹拌し、次いで減圧で濃縮した。この残留物を酢酸エチルと水とに分配した。この有機相をブラインで洗浄し、乾燥させ、次いで減圧で濃縮した。Ｅｔ2Ｏ／ヘキサンとすり混ぜ、メチル ３−［Ｎ−（ジフェニルメチル）アミノスルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオネート１．１５ｇを白色固形物として得た。ＨＲＭＳ（Ｍ＋Ｌｉ）：計算値：３５４．１３５１；実測値：３５４．１５６９。
工程Ｂ：３−［Ｎ−（ベンジル）」Ｎ−（ジフェニルメチル）アミノスルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオネート
磁気撹拌棒およびＮ2導入口を備えた１００ｍｌ丸底フラスコに、ＤＭＦ ２０ｍｌ中のメチル ３−［Ｎ−（ジフェニルメチル）アミノスルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオネート１．１１ｇ、Ｋ2ＣＯ3 ４４７ｍｇ、ベンジルブロマイド３４７ｍｌを導入した。この反応混合物を一夜にわたり撹拌し、減圧で濃縮し、次いで酢酸エチルと水とに分配した。この有機相をブラインで洗浄し、乾燥させ、次いで減圧で清明な油状物１．２ｇに濃縮した。シリカゲルにおけるフラッシュクロマトグラフイに付し（３０％酢酸エチル／ヘキサン）、メチル ３−［Ｎ−（ベンジル）−Ｎ−（ジフェニルメチル）アミノスルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオネート７３０ｍｇを得た。ＨＲＭＳ（Ｍ＋Ｌｉ）：計算値：４４４．１８２１；実測値：４４４．１８６５。
工程Ｃ：３−［Ｎ−（ベンジル）−Ｎ−（ジフェニルメチル）アミノスルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸
磁気撹拌棒を備えた５０ｍｌ丸底フラスコに、５０％水性ＴＨＦ中のメチル ３−［Ｎ−（ベンジル）−Ｎ−（ジフェニルメチル）アミノスルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオネート３２０ｍｇおよびＬｉＯＨ １２０ｍｇ（４当量）を導入した。５分後に、ＭｅＯＨ ２ｍｌを添加し、均質溶液を得た。１時間後に、この反応混合物を酢酸エチルと５％水性ＫＨＳＯ4とに分配した。この有機相をブラインで洗浄し、乾燥させ、次いで減圧で濃縮し、３−［Ｎ−（ベンジル）−Ｎ−（ジフェニルメチル）アミノスルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸２５０ｍｇを清明な半固形物として得た。ＨＲＭＳ（Ｍ＋Ｌｉ）：計算値：４３０．１６６４；実測値：４３０．１６９８。
例１５
Figure 0004014220
Ｎ 1 −［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［Ｎ−（ベンジル）−Ｎ−（ジフェニルメチル）アミノスルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミドの製造
磁気撹拌棒を備えた５０ｍｌ丸底フラスコに、ＤＭＦ ４ｍｌ中の３−［Ｎ−（ベンジル）−Ｎ−（ジフェニルメチル）アミノスルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸２４０ｍｇを導入した。この溶液を０℃に冷却させ、次いでＨＯＢｔ １００ｍｇを添加し、次いでＥＤＣ １１０ｍｇを添加した。３０分後に、ＤＭＦ ３０ｍｌ中の例１からのアミン２０５ｍｇを添加した。室温で２０時間後に、この反応混合物を酢酸エチルと飽和水性重炭酸塩とに分配した。この有機相を５％水性クエン酸、ブラインで洗浄し、乾燥させ、次いで減圧で濃縮し、泡状物４３０ｍｇを得た。シリカゲルにおけるフラッシュクロマトグラフイに付し（４０％酢酸エチル／ヘキサン）、Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［Ｎ−（ベンジル）−Ｎ−（ジフェニルメチル）アミノスルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミド３５０ｍｇを得た。ＨＲＭＳ（Ｍ＋Ｌｉ）：計算値：８１８．３４８５；実測値：８１８．３５５０。
例１６
Figure 0004014220
Ｎ 1 −［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［Ｎ−（ベンジル）アミノスルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミドの製造
１００ｍｌフィッシャー／ポーター（Ｆｉｓｈｅｒ／Ｐｏｔｅｒ）容器に、ＭｅＯＨ ２５ｍｌ中のＮ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［Ｎ−（ベンジル）−Ｎ−（ジフェニルメチル）アミノスルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミド３４０ｍｇおよび触媒量の１０％Ｐｄ−Ｃを導入した。この反応混合物を５０ｐｓｉで２時間水素添加した。セライトに通して濾過した後に、この残留物をシリカゲルにおいてフラッシュクロマトグラフイに付し（１００％Ｈ−＞１００％ＥＡ）、Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［Ｎ−（ベンジル）アミノスルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミド１７０ｍｇを得た。ＨＲＭＳ（Ｍ＋Ｌｉ）：計算値：６５２．２７０３；実測値：６５２．２７４７。
例１７
Figure 0004014220
Ｎ−［３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−４−フェニルブチル］−Ｎ−イソアミルアミンの製造
工程Ａ：
メタノール８０７ｍｌとテトラヒドロフラン８０７ｍｌとの混合物中のＮ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−フェニルアラニンクロロメチルケトン７５．０ｇ（０．２２６モル）の溶液に、−２℃において１００分間かけて、固形ホウ水素化ナトリウム１３．１７ｇ（０．３４８モル）を添加した。溶媒を４０℃において減圧で分離し、この残留物を酢酸エチル（約１リットル）中に溶解した。この溶液を１Ｍ硫酸水素カリウム、飽和重炭酸ナトリウム、次いで飽和塩化ナトリウム溶液で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次いで濾過した後に、この溶液を減圧で分離した。生成する油状物にヘキサン（約１リットル）を添加し、この混合物を渦巻き状に撹拌しながら６０℃に温めた。室温まで冷却させた後に、この固形物を採取し、次いでヘキサン２リットルで洗浄した。生成する固形物を熱い酢酸エチルおよびヘキサンから再結晶させ、Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３（Ｓ）−アミノ−１−クロロ−４−フェニル−２（Ｓ）−ブタノール３２．３ｇ（収率：４３％）を得た、融点：１５０〜１５１℃およびＭ＋Ｌｉ＝３４０。
工程Ｂ
無水エタノール９６８ｍｌ中の水酸化カリウム６．５２ｇ（０．１１６モル、１．２当量）の溶液に、室温において、Ｎ−ＣＢＺ−３（Ｓ）−アミノ−１−クロロ−４−フェニル−２（Ｓ）−ブタノール３２．３ｇ（０．０９７モル）を添加した。１５分間撹拌した後に、溶媒を減圧下に分離し、この固形物をメチレンクロライドに溶解した。水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで蒸留した後に、白色固形物２７．９ｇを得た。熱い酢酸エチルおよびヘキサンから再結晶させ、Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３（Ｓ）−アミノ−１，２（Ｓ）−エポキシ−４−フェニルブタン２２．３ｇ（収率：７７％）を得た、融点：１０２〜１０３℃およびＭＨ+＝２９８。
工程Ｃ：
イソプロピルアルコール１０ｍｌ中のＮ−ベンジルオキシカルボニル−３（Ｓ）−アミノ−１，２（Ｓ）−エポキシ−４−フェニルブタン（１．００ｇ、３．３６ミリモル）およびイソアミルアミン（４．９０ｇ、６７．２ミリモル、２０当量）の溶液を、１．５時間加熱還流させた。この溶液を室温まで冷却させ、減圧で濃縮し、次いで撹拌されているヘキサン１００ｍｌ中に注ぎ入れると、溶液から生成物が結晶化した。この生成物を濾過により分離し、空気乾燥させ、Ｎ＝［３（Ｓ）−フェニルメチルカルバモイル）アミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−４−フェニルブチル］−Ｎ−［（３−メチルブチル）アミン１．１８ｇ（９５％）を得た、融点：１０８．０〜１０９．５℃、ＭＨ+ｍ／ｚ＝３７１。
例１８
Figure 0004014220
Ｎ，Ｎ−ジベンジル−３（Ｓ）−アミノ−１，２（Ｓ）−エポキシ−４−フェニルブタンの製造
工程Ａ：
水（５００ｍｌ）中のＬ−フェニルアラニン（５０．０ｇ、０．３０２モル）、水酸化ナトリウム（２４．２ｇ、０．６０５モル）および炭酸カリウム（８３．６ｇ、０．６０５モル）の溶液を９７℃に加熱した。次いでベンジルブロマイド（１０８．５ｍｌ、０．９１２モル）をゆっくり添加した（添加時間〜２５分）。この混合物を次いで、９７℃で３０分間撹拌した。この溶液を室温まで冷却させ、次いでトルエンにより抽出した（２×２５０ｍｌ）。有機層を集め、次いで水、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮し、油状生成物を得た。この粗製生成物は次いで、精製することなく次の工程で使用した。
工程Ｂ：
上記工程の粗製ベンジル化生成物をトルエン（７５０ｍｌ）中に溶解し、−５５℃に冷却させた。トルエン中のＤＩＢＡＬ−Ｈの１．５Ｍ溶液（４４３．９ｍｌ、０．６６６モル）を、温度が−５５°〜−５０℃に維持されるような速度で添加した（添加時間−１時間）。この混合物を−５５℃で２０分間撹拌した。この反応を−５５℃においてメタノール（３７ｍｌ）をゆっくり添加することによって静止させた。この冷たい溶液を次いで、冷たい（５℃）１．５Ｎ ＨＣｌ溶液（１．８リットル）中に注ぎ入れた。沈殿した固形物（約１３８ｇ）を濾別し、トルエンで洗浄した。この固形物質をトルエン（４００ｍｌ）と水（１００ｍｌ）との混合物中に懸濁した。この混合物を５℃に冷却し、２．５Ｎ ＮａＯＨ（１８６ｍｌ）で処理し、次いで室温で固形物が溶解されるまで撹拌した。このトルエン層を水性相から分離し、水およびブラインで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで７５ｍｌ（８９ｇ）の容積まで濃縮した。この残留物に酢酸エチル（２５ｍｌ）およびヘキサン（２５ｍｌ）を添加すると、アルコール生成物が結晶化を始めた。３０分後に、追加のヘキサン５０ｍｌを添加して、引続く結晶化を促進させた。この固形物を濾別し、ヘキサン５０ｍｌで洗浄し、生成物約３５ｇを得た。この生成物の第二の収穫を母液の再濾過によって分離することができた。これらの固形物を集め、酢酸エチル（２０ｍｌ）およびヘキサン（３０ｍｌ）から再結晶させ、２回の収穫により、約４０ｇ（Ｌ−フェニルアラニンから４０％）の分析的に純粋なアルコール生成物を得た。母液を集め、濃縮した（３４ｇ）。この残留物を酢酸エチルおよびヘキサンで処理し、僅かに不純な固形生成物をさらに７ｇ（〜７％収率）得た。この母液からの回収はさらに最適化することができるものと見做される。
別法として、このアルコール化合物をＬ−フェニルアラニノールから製造した。Ｌ−フェニルアラニノール（１７６．６ｇ、１．１６８モル）を水７１０ｍｌ中の炭酸カリウム（４８４．６ｇ、３．５０６モル）の撹拌溶液に添加した。この混合物を窒素雰囲気下に６５℃に加熱した。３Ａエタノール（３０５ｍｌ）中のベンジルブロマイド（４００ｇ、２．３３９モル）の溶液を、温度が６０〜６８℃に維持されるような速度で添加した。この二相溶液を６５℃で５５分間撹拌し、次いで激しく撹拌しながら１０℃に冷却させた。油状生成物は小型粒状に固化した。この生成物を水道水２．０リットルで稀釈し、次いで５分間撹拌して、無機副生成物を溶解させた。この生成物を減圧における濾過によって分離し、ｐＨが７になるまで、水で洗浄した。得られた粗製生成物を空気乾燥させ、半乾燥した固形物（４０７ｇ）を得た。この生成物を酢酸エチル／ヘプタン（容積により１：１０）１．１リットルから再結晶させた。この生成物を濾過により採取し（−８℃において）、冷たい（−１０℃）酢酸エチル／ヘプタン（容積により１：１０）１．６リットルで洗浄し、次いで空気乾燥させ、β−Ｓ−２−［ビス（フェニルメチル）アミノ］ベンゼン−プロパノール３３９ｇ（収率８８％）を得た、融点：７１．５〜７３．０℃。必要に応じて、母液から追加の生成物を得ることができる。別の分析学的特徴は上記で製造された化合物と同一であった。
工程Ｃ：
ジクロロメタン（２４０ｍｌ）中のオキザリルクロライド（８．４ｍｌ、０．０９６モル）の溶液を−７４℃に冷却させた。ジクロロメタン（５０ｍｌ）中のＤＭＳＯ（１２．０ｍｌ、０．１５５モル）の溶液を次いで、温度が−７４℃に維持されるような速度でゆっくり添加した（添加時間−１．２５時間）。この混合物を５分間撹拌し、次いでジクロロメタン１００ｍｌ中のアルコール化合物（０．０７４モル）の溶液を添加した（添加時間〜２０分間、温度−７５℃〜−６８℃）。この溶液を−７８℃で３５分間撹拌した。次いで、トリエチルアミン（４１．２ｍｌ、０．２９５モル）を１０分間かけて添加した（温度−７８〜−６８℃）。これによりアンモニウム塩が沈殿した。この冷たい混合物を３０分間撹拌し、次いで水（２２５ｍｌ）を添加した。このジクロロメタン層を水性相から分離し、次いで水、ブラインにより洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮した。この残留物を酢酸エチルおよびヘキサンで稀釈し、次いで濾過して、アンモニウム塩をさらに分離した。この濾液を濃縮し、所望のアルデヒド生成物を得た。このアルデヒドはさらに精製することなく次の工程に移した。
スヴァーン（Ｓｗｅｒｎ）酸化にかかわる刊行物には、−７０℃よりも高い温度が報告されている。別のスヴァーン変法およびスヴァーン酸化の代わりの方法を使用することもできる。
別法として、このアルデヒド化合物を下記のとおりにして製造した。
（２００ｇ、０．６０４モル）をトリエチルアミン（３００ｍｌ、２．１５モル）中に溶解した。この混合物を１２℃に冷却させ、ＤＭＳＯ（１．６リットル９中の三酸化硫黄／ピリジン錯体（３８０ｇ、２．３９モル）の溶液を、温度が８〜１７℃に維持されるような速度で添加した（添加時間〜１．０時間）。この溶液を室温で窒素雰囲気下に１．５時間撹拌した。この時点で、反応はＴＬＣ分析（３３％酢酸エチル／ヘキサン、シリカゲル）により完了していた。この反応混合物を氷水で冷却させ、次いで冷水（１０〜１５℃）１．６リットルにより４５分間かけて冷却させた。生成した溶液を酢酸エチル（２．０リットル）により抽出し、５％クエン酸（２．０リットル）およびブライン（２．２リットル）で洗浄し、ＭｇＳＯ4（２８０ｇ）上で乾燥させ、次いで濾過した。溶媒を３５〜４０℃で回転蒸発器において除去し、次いで減圧乾燥させ、αＳ−［ビス−（フェニルメチル）アミノ］ベンゼンプロパンアルデヒド１９８．８ｇを淡黄色油状物として得た（９９．９％）。得られた粗製生成物は、精製することなく次の工程で直接に使用するにの充分に純粋であった。この化合物の分析データは刊行物と一致した。［α］D２５＝−９２．９°（ｃ １．８７、ＣＨ2Ｃｌ2）；1Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ，２．９４および３．１５（ＡＢＸ−システム、２Ｈ，ＪAB＝１３．９Ｈｚ，ＪAX＝７．３ＨｚおよびＪBX＝６．２Ｈｚ）、３．５６（ｔ，１Ｈ，７．１Ｈｚ）、３．６９および３．８２（ＡＢ−システム、４Ｈ，ＪAB＝１３．７Ｈｚ）、７．２５（ｍ，１５Ｈ）および９．７２（ｓ，１Ｈ）；ＨＲＭＳ：（Ｍ＋１）Ｃ23Ｈ24ＮＯに対する計算値：３３０．４５０、実測値：３３０．１８３６。分析値：Ｃ23Ｈ23ＯＮに対する計算値：Ｃ，８３．８６；Ｈ，７．０４；Ｎ，４．２５。実測値：Ｃ，８３．６４；Ｈ，７．４２；Ｎ，４．１９。ＨＰＬＣ：キラル固定相：（Ｓ，Ｓ）ピルクル−ヴェルク（Ｐｉｒｋｌｅ−Ｗｈｅｌｋ）−Ｏ１カラム（２５０×４．６ｍｍＩ．Ｄ．）、移動相：ヘキサン／イソプロパノール（９９．５：０．５，ｖ／ｖ）、流動速度：１．５ｍｌ／分、２１０ｎｍにおけるＵＶ検出器により検出。所望のＳ−異性体の保有時間：８．７５分、Ｒ−異性体の保有時間：１０．６２分。
工程Ｄ：
テトラヒドロフラン（１．８リットル）中のαＳ−［ビス−（フェニルメチル）アミノ］ベンゼン−プロパンアルデヒド（１９１．７ｇ、０．５８モル）およびクロロヨウドメタン（５６．４ｍｌ、０．７７モル）の溶液を、ステンレス鋼反応器内で窒素雰囲気下に−３０〜−３５℃に冷却させた（−７０℃などのさらに低い温度でも良好に実施されるが、大規模操業では、温度が暖かいほど良好に行うことができる）。ヘキサン中のｎ−ブチルリチウムの溶液（１．６Ｍ、３６５ｍｌ、０．５８モル）を、温度が−２５℃以下に維持されるような速度で添加した。添加後に、この混合物を−３０〜−３５℃で１０分間撹拌した。反応剤の追加添加は次のとおりに行った：（１）追加のクロロヨウドメタン（１７ｍｌ）を添加し、次いでｎ−ブチルリチウム（１１０ｍｌ）を＜−２５℃で添加した。添加後に、この混合物を−３０〜−３５℃で１０分間撹拌した。この操作をもう一度反復した。（２）追加のクロロヨウドメタン（８．５ｍｌ、０．１１モル）を添加し、次いでｎ−ブチルリチウム（５５ｍｌ、０．０８８モル）を＜−２５℃で添加した。添加後に、この混合物を−３０〜−３５℃で１０分間撹拌した。この操作は５回反復した。（３）追加のクロロヨウドメタン（８．５ｍｌ、０．１１モル）を添加し、次いでｎ−ブチルリチウム（３７ｍｌ、０．０５９モル）を＜−２５℃で添加した。添加後に、この混合物を−３０〜−３５℃で１０分間撹拌した。この操作はもう一度反復した。外部からの冷却を止め、この混合物を４〜１６時間かけて室温まで温めた。この時点で、ＴＬＣ（シリカゲル、２０％酢酸エチル／ヘキサン）は、反応が完了したことを示した。この反応混合物を１０℃に冷却させ、次いで２３℃以下の温度を維持しながら１６％塩化アンモニウム溶液１４５２ｇ（この溶液は水１２２０ｍｌ中に塩化アンモニウム２３２ｇを溶解することによって製造した）により冷却させた。この混合物を１０分間撹拌し、有機層と水性層とを分離した。この水性相を酢酸エチル（２×５００ｍｌ）により抽出した。この酢酸エチル層をテトラヒドロフラン層と一緒に合わせた。この集められた溶液を硫酸マグネシウム（２２０ｇ）上で乾燥させ、濾過し、次いで６５℃で回転蒸発器において濃縮した。この褐色油状残留物を減圧（０．８バール）で７０℃において１時間乾燥させ、粗製生成物２２２．８ｇを得た。（この粗製生成物の重量は＞１００％であった。この生成物はシリカゲル上で比較的不安定であることから、この粗製生成物は通常、精製することなく次の工程に直接に使用される）。この粗製混合物のジアステレオマー比をプロトンＮＭＲにより測定した：（２Ｓ）／（２Ｒ）：８６：１４。少量および主要量のエポキシドジアステレオマーの特徴を、この混合物においてｔｌｃ分析（シリカゲル、１０％酢酸エチル／ヘキサン）により測定した、それぞれＲｆ＝０．２９ ＆ ０．３２。これらのジアステレオマーそれぞれの分析試料をシリカゲルクロマトグラフイ（３％酢酸エチル／ヘキサン）による精製によって得た。この試料の特徴は下記のとおりであった：
Ｎ，Ｎ，αＳ−トリス（フェニルメチル）−２Ｓ−オキシランメタンアミン
1Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ，２．４９および２．５１（ＡＢ−システム、１Ｈ，ＪAB＝２．８２）、２．７６および２．７７（ＡＢ−システム、１Ｈ，ＪAB＝４．０３）、２．８３（ｍ，２Ｈ）、２．９９＆３．０３（ＡＢ−システム、１Ｈ，ＪAB＝１０．１）、３．１５（ｍ，１Ｈ）、３．７３＆３．８４（ＡＢ−システム、４Ｈ，ＪAB＝１４．００）、７．２１（ｍ，１５Ｈ）；13Ｃ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ，１３９．５５、１２９．４５、１２８．４２、１２８．１４、１２８．０９、１２６．８４、１２５．９７、６０．３２、５４．２３、５２．１３、４５．９９、３３．７６；ＨＲＭＳ：（Ｍ＋１）Ｃ24Ｈ26ＮＯ（Ｍ＋１）に対する計算値：３４４．４７７、実測値：３４４．２００３。
Ｎ，Ｎ，αＳ−トリス（フェニルメチル）−２Ｒ−オキシランメタンアミン
1Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ，２．２０（ｍ，１Ｈ）、２．５９（ｍ，１Ｈ）、２．７５（ｍ，２Ｈ）、２．９７（ｍ，１Ｈ）、３．１４（ｍ，１Ｈ）、３．８５（ＡＢ−システム、４Ｈ）、７．２５（ｍ，１５Ｈ）。ＨＰＬＣ：キラル固定相：ピルクル−ヴェルク（Ｐｉｒｋｌｅ−Ｗｈｅｌｋ）−Ｏ１カラム（２５０×４．６ｍｍ Ｉ．Ｄ．）、移動相：ヘキサン／イソプロパノール（９９．５：０．５，ｖ／ｖ）、流動速度：１．５ｍｌ／分、２１０ｎｍにおけるＵＶ検出器により検出。（８）の保有時間：９．３８分、（４）のエナンチオマーの保有時間：１３．７５分。
別法として、テトラヒドロフラン（２８５ｍｌ）中の上記粗製アルデヒド０．０７４モルおよびクロロヨウドメタン（７．０ｍｌ、０．０９６モル）の溶液を、窒素雰囲気下に−７８℃に冷却させた。ヘキサン中のｎ−ブチルリチウムの１．６Ｍ溶液（２５ｍｌ、０．０４０モル）を次いで、温度が−７５℃に維持されるような速度で添加した（添加時間〜１５分間）。この１回目の添加後に、追加のクロロヨウドメタン（１．６ｍｌ、０．０２２モル）を再び添加し、次いでｎ−ブチルリチウム（２３ｍｌ、０．０３７モル）を、温度を−７５℃に維持しながら添加した。この混合物を１５分間撹拌した。反応剤、クロロヨウドメタン（０．７０ｍｌ、０．０１０モル）およびｎ−ブチルリチウム（５ｍｌ、０．００８モル）を＜−７５℃で４５分かけてさらに４回添加した。冷却浴を取り除き、この溶液を１．５時間かけて２２℃に温めた。この混合物を飽和水性塩化アンモニウム溶液３００ｍｌ中に注ぎ入れた。このテトラヒドロフラン層は分離した。この水性相を酢酸エチル（１×３００ｍｌ）により抽出した。有機層を集め、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮し、褐色油状物（２７．４ｇ）を得た。この生成物は、精製することなく次の工程で使用することができた。所望のジアステレオマーは引続く工程で再結晶により精製することができる。生成物はまた、クロマトグラフイにより精製することができる。
別法として、テトラヒドロフラン（１．８リットル）中のαＳ−［ビス（フェニルメチル）アミノ］ベンゼン−プロパンアルデヒド（１７８．８４ｇ、０．５４モル）およびブロモクロロメタン（４６ｍｌ、０．７１モル）の溶液を、ステンレス鋼反応器内で窒素雰囲気下に−３０〜−３５℃に冷却させた（−７０℃などのさらに低い温度でも良好に実施されるが、大規模操業では、温度が暖かいほど容易に達成される）。ヘキサン中のｎ−ブチルリチウムの溶液（１．６Ｍ、３．４０ｍｌ、０．５４モル）を次いで、温度が−２５℃以下に維持されるような速度で添加した。添加後に、この混合物を−３０〜−３５℃で１０分間撹拌した。反応剤の追加添加は次のとおりに行った：（１）追加のブロモクロロメタン（１４ｍｌ）を添加し、次いでｎ−ブチルリチウム（１０２ｍｌ）を＜−２５℃で添加した。添加後に、この混合物を−３０〜−３５℃で１０分間撹拌した。この操作をもう一度反復した。（２）追加のブロモクロロメタン（７ｍｌ、０．１１モル）を添加し、次いでｎ−ブチルリチウム（５１ｍｌ、０．０８２モル）を＜−２５℃で添加した。添加後に、この混合物を−３０〜−３５℃で１０分間撹拌した。この操作は５回反復した。（３）追加のブロモクロロメタン（７ｍｌ、０．１１モル）を添加し、次いでｎ−ブチルリチウム（５１ｍｌ、０．０８２モル）を＜−２５℃で添加した。添加後に、この混合物を−３０〜−３５℃で１０分間撹拌した。この操作はもう一度反復した。外部からの冷却を止め、この混合物を４〜１６時間かけて室温まで温めた。この時点で、ＴＬＣ（シリカゲル、２０％酢酸エチル／ヘキサン）は、反応が完了したことを示した。この反応混合物を１０℃に冷却させ、次いで２３℃以下の温度を維持しながら１６％塩化アンモニウム溶液１４５２ｇ（この溶液は水１２２０ｍｌ中に塩化アンモニウム２３２ｇを溶解することによって製造した）により冷却させた。この混合物を１０分間撹拌し、有機層と水性層とを分離した。この水性相を酢酸エチル（２×５００ｍｌ）により抽出した。この酢酸エチル層をテトラヒドロフラン層と一緒に合わせた。この集められた溶液を硫酸マグネシウム（２２０ｇ）上で乾燥させ、濾過し、次いで回転蒸発器において６５℃で濃縮した。この褐色油状残留物を減圧（０．８バール）で７０℃において１時間乾燥させ、粗製生成物２２２．８ｇを得た。
例１９
Figure 0004014220
Ｎ−［［３Ｓ−（フェニルメチルカルバモイル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−４−フェニル］−１−［（２−メチルプロピル）アミノ−２−（１，１−ジメチルエトキシ］カルボニル］ブタンの製造
無水テトラヒドロフラン６７ｍｌ中のＮ−［［３Ｓ−（フェニルメチルカルバモイル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−４−フェニルブチル］−Ｎ−（２−メチルプロピル）アミン７．５１ｇ（２０．３ミリモル）の溶液に、トリエチルアミン２．２５ｇ（２２．３ミリモル）を添加した。０℃に冷却した後に、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネート４．４ｇ（２０．３ミリモル）を添加し、次いで室温で２１時間撹拌を継続した。揮発性物質を減圧で除去し、酢酸エチルを添加し、次いで５％クエン酸、飽和重炭酸ナトリウム、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮し、粗製生成物９．６ｇを得た。３０％酢酸エチル／ヘキサンを用いてシリカゲルにおいてクロマトグラフイに付し、純粋なＮ−［［３Ｓ−（フェニルメチルカルバモイル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−４−フェニル］−１−［（２−メチルプロピル）アミノ−２−（１，１−ジメチルエトキシ］カルボニル］ブタン８．２ｇを得た、質量スペクトルｍ／ｅ＝４７７（Ｍ＋Ｌｉ）。
例２０
Figure 0004014220
フェニルメチル ［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［（３−メチルブチル）（メチルスルホニル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］カルバメートの製造
ジクロロメタン（２０ｍｌ）中のＮ−［３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−４−フェニルブチル］−Ｎ−イソアミルアミン（２．０ｇ、５．２ミリモル）およびトリエチルアミン（７２３μｌ、５．５ミリモル）の溶液に、メタンスルホニルクロライド（４００μｌ、５．２ミリモル）を添加した。この反応混合物を室温で２時間撹拌し、次いでこのジクロロメタン溶液を約５ｍｌに濃縮し、次いでシリカゲルカラム（１００ｇｍ）に適用した。このカラムを１％エタノールおよび１％メタノールを含有するクロロホルムにより溶離した。フェニルメチル ［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［（３−メチルブチル）（メチルスルホニル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］カルバメートを白色固形物として得た、分析値：Ｃ24Ｈ34Ｎ2Ｏ5Ｓに対する計算値：Ｃ，６２．３１；Ｈ，７．４１；Ｎ，６．０６。実測値：Ｃ，６２．１７；Ｈ，７．５５；Ｎ，５．９７。
例２１
Figure 0004014220
フェニルメチル ［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［（３−メチルブチル）（フェニルスルホニル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］カルバメートの製造
Ｎ−［３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−４−フェニルブチル］−Ｎ−イソアミルアミン（１．４７ｇｍ、３．８ミリモル）、トリエチルアミン（５２８μｌ、３．８ミリモル）およびベンゼンスルホニルクロライド（４８３μｌ、３．８ミリモル）を反応させることにより、フェニルメチル ［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［（３−メチルブチル）（フェニルスルホニル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］カルバメートが得られる。シリカゲルにおいてカラムクロマトグラフイに付し、１％エタノールを含有するクロロホルムにより溶離して、純粋な生成物を得た。分析値：Ｃ29Ｈ36Ｎ2Ｏ5Ｓに対する計算値：Ｃ，６６．３９；Ｈ，６．９２；Ｎ，５．３４。実測値：Ｃ，６６．３７；Ｈ，６．９３；Ｎ，５．２６。
例２２
Figure 0004014220
フェニルメチル ［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［（３−メチルブチル）（ｎ−プロパンスルホニル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］カルバメートの製造
ジクロロメタン（１０ｍｌ）中のＮ−［３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−４−フェニルブチル］−Ｎ−イソアミルアミン（１９２ｍｇ、０．５ミリモル）およびトリエチルアミン（１３９μｌ、１．０ミリモル）の溶液に、トリメチルシリルクロライド（６３μｌ、０．５ミリモル）を添加した。この反応混合物を室温で１時間撹拌し、氷浴で０℃に冷却させ、次いでｎ−プロパンスルホニルクロライド（５６μｌ、０．５ミリモル）を滴下して添加した。この反応混合物を室温で１．５時間撹拌し、次いで酢酸エチル（５０ｍｌ）で稀釈し、次いで１Ｎ ＨＣｌ、水、飽和重炭酸ナトリウム溶液および飽和塩化ナトリウム溶液で順次洗浄した（各２５ｍｌ）。この有機溶液を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで油状物に濃縮した。この油状物をメタノール（１０ｍｌ）とともに１６時間撹拌し、濃縮し、次いでこの残留物を、シリカゲル（５０ｇｍ）においてクロマトグラフイに付し、ヘキサン中１０％酢酸エチル（４５０ｍｌ）により、次いで１：１酢酸エチルル／ヘキサンにより溶離した。フェニルメチル ［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［（３−メチルブチル）（ｎ−プロパンスルホニル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］カルバメートを酢酸エチル／ヘキサンから再結晶させ、白色固形物を得た。分析値：Ｃ26Ｈ38Ｎ2Ｏ5Ｓに対する計算値：Ｃ，６３．６４；Ｈ，７．８１；Ｎ，５．７１。実測値：Ｃ，６３．０９；Ｈ，７．７４；Ｎ，５．６４。
例２３
Figure 0004014220
フェニルメチル ［２Ｓ−ヒドロキシ−３−［（３−メチルブチル）（メチルスルホニル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］カルバメートの製造
ジクロロメタン（８ｍｌ）中のＮ−［３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２（Ｓ）−ヒドロキシ−４−フェニルブチル］−Ｎ−イソアミルアミン（１９２ｍｇ、０．５ミリモル）およびトリエチルアミン（１３９μｌ、０．５５ミリモル）の溶液に、メタンスルホニルクロライド（３９μｌ、０．５５ミリモル）を滴下して添加した。この反応混合物を室温で１６時間撹拌し、次いでこのジクロロメタン溶液をシリカゲルカラム（５０ｇｍ）に適用した。このカラムを２．５％メタノール含有ジクロロメタンにより溶離した。フェニルメチル ［２Ｓ−ヒドロキシ−３−［（３−メチルブチル）（メチルスルホニル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］カルバメートを白色固形物として得た。分析値：Ｃ24Ｈ34Ｎ2Ｏ5Ｓ ◇ ０．２Ｈ2Ｏに対する計算値：Ｃ，６１．８３；Ｈ，７．４４；Ｎ，６．０１。実測値：Ｃ，６１．６２；Ｈ，７．４０；Ｎ，５．９９。
例２４
前記例１〜２３の方法に従い、表１Ａに記載の化合物を製造した：
Figure 0004014220
Figure 0004014220
Figure 0004014220
例２５
Figure 0004014220
カルバミン酸，［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（４−ジメチルアミノフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−，フェニルメチルエステルの製造
ピリジン１ｍｌ中のカルバミン酸，［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（４−フルオロフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−，フェニルメチルエステル１００ｍｇ（０．１９ミリモル）の溶液に、トリエチルアミン５３μｌおよび４０％水性ジメチルアミン１２０μｌ（ｐ．９５ミリモル）を添加した。１００℃で２４時間加熱した後に、この溶液を冷却させ、酢酸エチルを添加し、次いで５％クエン酸、飽和重炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮した。生成する固形物を酢酸エチル／ヘキサンから再結晶させ、所望の生成物１０ｍｇを得た；質量スペクトルｍ／ｅ＝５４０（Ｍ＋Ｈ）。
例２６
Figure 0004014220
１−アミノ−２Ｒ−ヒドロキシ−３−［（フェニルスルホニル）（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロパンの製造
工程Ａ：
イソプロピルアルコール６５０ｍｌ中のＮ−ベンジルオキシカルボニル−３Ｓ−アミノ−１，２−Ｓ−エポキシ−４−フェニルブタン（５０ｇ、０．１６８モル）およびイソブチルアミン（２４６ｇ、３．２４モル）の溶液を、１．２５時間還流させた。この溶液を室温まで冷却させ、減圧で濃縮し、次いで撹拌されているヘキサン１リットル中に注ぎ入れた。これにより生成物が溶液から結晶化した。この結晶を採取し、空気乾燥させ、Ｎ−［３Ｓ−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２Ｒ−ヒドロキシ−４−フェニル］−Ｎ−イソブチルアミン５７．６ｇを得た、融点：１０８〜１０９．５Ｃ、質量スペクトルｍ／ｅ＝３７１（Ｍ＋Ｈ）。
工程Ｂ：
メチレンクロライド２０ｍｌ中の工程Ａからのアミン（０．９４ｇ、２．５ミリモル）およびトリエチルアミン（２８８ｍｇ、２．８５ミリモル）を、ベンゼンスルホニルクロライド４６１ｍｇ（２．６１ミリモル）で処理した。この溶液を室温で１６時間撹拌し、濃縮し、酢酸エチルに溶解し、次いで１Ｎ硫酸水素カリウム、飽和重炭酸ナトリウム、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮し、清明な油状物を得た。これをジエチルエーテルおよびヘキサンから再結晶させ、カルバミン酸，［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［フェニルスルホニル）（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−，フェニルメチルエステル０．７３ｇを得た、融点：９５〜９９Ｃ、質量スペクトルｍ／ｅ＝５１１（Ｍ＋Ｈ）。
工程Ｃ：
メタノール２０ｍｌ中のカルバミン酸，［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［（フェニルスルホニル）（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−，フェニルメチルエステル５００ｍｇの溶液を、炭素上１０％パラジウム触媒２５０ｍｇの存在の下に４０ｐｓｉｇで３時間水素添加し、触媒を濾過により除去し、次いでこの溶液を濃縮し、［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［（フェニルスルホニル）（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミン３５２ｍｇを得た、質量スペクトルｍ／ｅ＝３７７（Ｍ＋Ｈ）。この生成物は、精製することなく次の工程で直接に使用した。
例２７
Figure 0004014220
１−アミノ−２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（４−ヒドロキシフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロパンの製造
工程Ａ：
無水ＤＭＦ３．８ｍｌ中のカルバミン酸，［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（４−フルオロフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−フェニルメチルエステル０．９８ｇ（１．８５ミリモル）の溶液を、ＤＭＦ２ｍｌ中の８０％水素化ナトリウム２２ｍｇ（７．４ミリモル）に添加した。この混合物に、ベンジルアルコール０．４０ｇ（３．７ミリモル）を添加した。２時間後に、この溶液を０ Ｃに冷却し、水を添加し、次いで酢酸エチルを添加した。この有機層を５％クエン酸、飽和重炭酸ナトリウムおよびブラインで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮し、粗製生成物０．９０ｇを得た。これを、３％メタノール／メチレンクロライドを用いて塩基性アルミナにおいてクロマトグラフイに付し、２Ｒ−ヒドロキシ−３−［（２−メチルプロピル）（４−ヒドロキシフェニル）スルホニル］アミノ−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミン、環状カルバメート０．７０ｇを得た、質量スペクトルｍ／ｅ＝５０９（Ｍ＋Ｈ）。
工程Ｂ：
エタノール１５ｍｌ中の工程Ａからの環状カルバメート０．６５ｇ（１．２８ミリモル）の溶液に、２．５Ｎ水酸化ナトリウム溶液２．６ｍｌ（６．４ミリモル）を添加した。１時間還流させた後に、水４ｍｌを添加し、この溶液をさらに８時間還流させた。揮発性物質を除去し、酢酸エチルを添加し、次いで水、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮し、粗製２Ｒ−ヒドロキシ−３−［（２−メチルプロピル）（４−ヒドロキシフェニル）スルホニル］アミノ−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミン５５０ｍｇを得た。
工程Ｃ：
エタノール１０ｍｌ中の粗製２Ｒ−ヒドロキシ−３−［（２−メチルプロピル）（４−ベンジルオキシフェニル）スルホニル］アミノ−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミンの溶液を、炭素上１０％パラジウム触媒５００ｍｇの存在下に水素の５０ｐｓｉｇにおいて２時間水素添加した。触媒を濾過により除去し、次いで溶媒を減圧で分離し、２Ｒ−ヒドロキシ−３−［（２−メチルプロピル）（４−ヒドロキシフェニル）スルホニル］アミノ−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミン３３０ｍｇを得た、質量スペクトルｍ／ｅ＝３９３（Ｍ＋Ｈ）。
例２８
Figure 0004014220
２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（４−アミノフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミンの製造
工程Ａ：カルバミン酸，２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（４−ニトロフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−，フェニルメチルエステルの製造
無水メチレンクロライド５０ｍｌ中のＮ−［３Ｓ−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２Ｒ−ヒドロキシ−４−フェニル］−Ｎ−イソブチルアミン４．０ｇ（１０．８ミリモル）の溶液に、トリエチルアミン４．５ｍｌ（３．２７ｇ、３２．４ミリモル）を添加した。この溶液を０℃に冷却させ、次いで４−ニトロベンゼンスルホニルクロライド２．６３ｇ（１１．９ミリモル）を添加し、０℃で３０分間撹拌し、次いで室温で１時間撹拌した。酢酸エチルを添加し、５％クエン酸、飽和重炭酸ナトリウム、ブラインで洗浄し、乾燥させ、次いで濃縮し、粗製生成物５．９ｇを得た。この生成物を酢酸エチル／ヘキサンから再結晶させ、純粋なカルバミン酸，［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（４−ニトロフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−，フェニルメチルエステル４．７ｇを得た、ｍ／ｅ＝５５６（Ｍ＋Ｈ）。
工程Ｂ：２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（４−アミノフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミンの製造
酢酸エチル２０ｍｌ中のカルバミン酸，２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（４−ニトロフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−，フェニルメチルエステル３．０ｇ（５．４ミリモル）の溶液を、炭素上１０％パラジウム触媒１．５ｇ上で水素の３５ｐｓｉｇの下に３．５時間水素添加した。触媒を濾過により除去し、この溶液を濃縮し、所望の２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（４−アミノフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミン２．０５ｇを得た、ｍ／ｅ＝３９２（Ｍ＋Ｈ）。
例２９
Figure 0004014220
カルバミン酸，２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（４−アミノフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−，３−フラニルメチルエステルの製造
無水アセトニトリル２ｍｌ中の３−（ヒドロキシメチル）フラン１０４ｍｇ（１．０６ミリモル）の溶液に、ピリジン０．２６ｍｌ（０．２５ｇ、３．１８ミリモル）を、次いでＮ，Ｎ′−ジスクシンイミジルカーボネート２７７ｍｇ（１．０６ミリモル）を、窒素雰囲気下に室温で添加した。４５分後に、２Ｒ−ヒドロキシ−３−［（２−メチルプロピル）（４−アミノフェニル）スルホニル］アミノ−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミン４１５ｍｇ（１．０６ミリモル）を添加した。室温で７２時間撹拌した後に、酢酸エチルを添加し、５％クエン酸、飽和重炭酸ナトリウムおよびブラインで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮し、粗製生成物５５０ｍｇを得た。この生成物をシリカゲルにおいて５０％酢酸エチル／ヘキサンを溶離剤として使用するクロマトグラフイに付し、白色泡状物２３０ｍｇを得た。この生成物は所望の２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（４−アミノフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルカルバミン酸 ３−フラニルメチルエステルであるものと同定された、ｍ／ｅ＝５２２（Ｍ＋Ｌｉ）。
例３０
Figure 0004014220
ベンズアミド，Ｎ−［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（４−アミノフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−２−メチルの製造
無水メチレンクロライド３ｍｌ中の２Ｒ−ヒドロキシ−３−［（２−メチルプロピル）（４−アミノフェニル）スルホニル］アミノ−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミン３９１ｍｇ（１ミリモル）の溶液に、トリエチルアミン０．４２ｍｌ（３ミリモル）を添加し、次いで室温でオルト−トルオイルクロライド０．１２ｍｌ（０．９ミリモル）を添加した。室温で１５時間後に、酢酸エチルを添加し、５％クエン酸、飽和重炭酸ナトリウム、ブラインで洗浄し、乾燥させ、濾過し、次いで濃縮し、粗製生成物４２０ｍｇを得た。この生成物をシリカゲル４０ｇにおいて５０％酢酸エチル／ヘキサンを使用するクロマトグラフイに付し、純粋なベンズアミド、Ｎ−［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（４−アミノフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−２−メチル３６８ｍｇを得た、ｍ／ｅ＝５１６（Ｍ＋Ｌｉ）。
例３１
Figure 0004014220
ベンズアミド，Ｎ−［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（４−アミノフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−３−ヒドロキシ−２−メチルの製造
工程Ａ：３−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸の製造
一ッ頚１００ｍｌ丸底フラスコ（磁気撹拌）に、３−アミノ−２−メチル安息香酸１．０グラム（６．６ｍＭ）を導入した。このフラスコに、水４．３ｍｌ中の濃硫酸２．３ｍｌの温かい混合物を添加し、生成するスラリーを氷浴中で１５℃以下に冷却させ、次いで氷６．６グラムを添加した。添加期間中、反応温度を０〜５℃に維持しながら、この反応混合物の表面に氷水６．６リットル中の亜硝酸ナトリウム０．６グラム（８．６ｍＭ）の溶液を添加して処理した。０〜５℃で３０分間撹拌した後に、数個の尿素結晶を添加し、過剰の亜硝酸塩を分解させた。この反応混合物を次いで、水２００ｍｌ中の硝酸銅（ＩＩ）２３．８ｇ（１０２．３ｍＭ）の室温溶液中に注ぎ入れ、激しく撹拌しながら、この反応混合物を酸化銅（Ｉ）０．９ｇ（６．０ｍＭ）で処理した。この反応混合物は泡立ち、次いでトルコ青色から濃緑色に色が変化した。反応混合物を３０分間撹拌した。この反応混合物をジエチルエーテルで抽出し（３回）、有機抽出液を集めた。この有機抽出液を元の容積の約１／４まで濃縮し、次いで１Ｎ水酸化ナトリウム溶液２５ｍｌにより抽出した。層を分離させ、濃赤色の水性層を１Ｎ塩酸溶液によりｐＨ＝２に酸性にした。この酸性水性層を次いで、ジエチルエーテルにより抽出し（３回）、このエーテル抽出液を集め、乾燥させ（ＭｇＳＯ4）、次いで濃縮し、帯赤色油状物を得た。シリカゲルにおいて０〜７％メタノール／メチレンクロライド勾配を用いるフラッシュクロマトグラフイにより精製し、黄色固形物０．３９ｇ（３６％）を得た。
工程Ｂ：ベンズアミド，Ｎ−［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（４−アミノフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−３−ヒドロキシ−２−メチルの製造
無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド６ｍｌ中の３−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸１７５ｍｇ（１．１５ミリモル）およびＮ−ヒドロキシベンゾトリアゾール２０３ｍｇ（１．５ミリモル）の溶液に、０℃において、ＥＤＣ ２００ｍｇ（１．１５ミリモル）を添加した。０℃で２０分間活性化し、次いで室温で１時間後に、２Ｒ−ヒドロキシ−３−［（２−メチルプロピル）（４−アミノフェニル）スルホニル］アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミン３９２ｍｇ（１．０ミリモル）を添加した。室温で１５時間後に、酢酸エチルを添加し、５％クエン酸、飽和重炭酸ナトリウム、ブラインで洗浄し、乾燥させ、濾過し、次いで濃縮し、粗製生成物５９０ｍｇを得た。この生成物をシリカゲルにおいて５０〜８０％酢酸エチル／メチレンクロライドを溶離剤として使用するクロマトグラフイに付し、純粋なベンズアミド，Ｎ−［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（４−アミノフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−３−ヒドロキシ−２−メチル２５５ｍｇを得た、ｍ／ｅ＝５２６（Ｍ＋Ｈ）。
例３２
Figure 0004014220
カルバミン酸，２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（２−アミノベゾチアゾール−６−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−，フェニルメチルエステルの製造
カルバミン酸，２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（４−アミノフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−，フェニルメチルエステル０．３０ｇ（０．５７１ミリモル）を、無水硫酸銅（１．２０ｇ）およびチオシアン酸カリウム（１．５０ｇ）の充分に混合した粉末に添加し、次いで乾燥メタノール（６ｍｌ）を加え、生成する黒−褐色懸濁液を２時間加熱還流させた。この反応混合物を濾過し、この濾液を水（５ｍｌ）で稀釈し、次いで加熱還流させた。この反応混合物にエタノールを添加し、冷却させ、次いで濾過した。この濾液を濃縮し、得られた残留物をクロマトグラフイに付し（酢酸エチル：ヘキサン ８０：２０）、所望の化合物０．２６ｇ（７８％）を固形物として得た。
例３３
Figure 0004014220
カルバミン酸，２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（ベンゾチアゾール−６−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−，フェニルメチルエステルの製造
カルバミン酸，２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（２−アミノベンゾチアゾール−６−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル−，フェニルメチルエステル（０．２５ｇ、０．４２９ミリモル）を、ジオキサン（５ｍｌ）中の亜硝酸イソアミル（０．１１６ｍｌ、０．８５８ミリモル）の溶液に添加し、この混合物を８５℃で加熱した。窒素の発生が止った後に、この反応混合物を濃縮し、この残留物をクロマトグラフイ（ヘキサン：酢酸エチル ５：３）により精製し、所望の生成物０．１３０ｇ（５３％）を固形物として得た。
例３４
Figure 0004014220
２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（３−アミノフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミンの製造
工程Ａ：カルバミン酸，［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［（３−ニトロフェニルスルホニル）（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル−，フェニルメチルエステルの製造
無水メチレンクロライド１５ｍｌ中のＮ−［３Ｓ−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２Ｒ−ヒドロキシ−４−フェニル］−Ｎ−イソブチルアミン１．１ｇ（３．０ミリモル）の溶液に、トリエチルアミン１．３ｍｌ（０．９４ｇ、９．３ミリモル）を添加した。この溶液を０℃に冷却させ、次いで３−ニトロベンゼンスルホニルクロライド０．６７ｇ（３．０ミリモル）を添加し、０℃で３０分間、次いで室温で１時間撹拌した。酢酸エチルを添加し、５％クエン酸、飽和重炭酸ナトリウム、ブラインで洗浄し、乾燥させ、次いで濃縮し、粗製生成物１．７４ｇを得た。この生成物を酢酸エチル／ヘキサンから再結晶させ、純粋なカルバミン酸，［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［（３−ニトロフェニルスルホニル）（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルー，フェニルメチルエステル１．４０ｇを得た、ｍ／ｅ＝５６２（Ｍ＋Ｌｉ）。
工程Ｂ：２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（３−アミノフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミンの製造
１：１メタノール／テトラヒドロフラン４０ｍｌ中のカルバミン酸，［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［（３−ニトロフェニルスルホニル）（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルー，フェニルメチルエステル１．３３ｇ（２．５ミリモル）の溶液を、炭素上１０％パラジウム触媒上において水素の４０ｐｓｉｇの下に１．５時間水素添加した。触媒を濾過により分離し、この溶液を濃縮し、所望の［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（３−アミノフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミン０．８７ｇを得た。
例３５
Figure 0004014220
ベンズアミド，Ｎ−［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（３−アミノフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−３−ヒドロキシ−２−メチルの製造
無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌ中の３−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸１３４ｍｇ（０．８８ミリモル）およびＮ−ヒドロキシベンゾトリアゾール１５５ｍｇ（１．１５ミリモル）の溶液に、０℃においてＥＤＣ １６７ｍｇ（０．８８ミリモル）を添加した。０℃で２０分間活性化させ、次いで室温で１時間後に、２Ｒ−ヒドロキシ−３−［（２−メチルプロピル）（３−アミノフェニル）スルホニル］アミノ−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミン３００ｍｇ（１．０ミリモル）を添加した。室温で１５時間後に、酢酸エチルを添加し、５％クエン酸、飽和重炭酸ナトリウム、ブラインで洗浄し、乾燥させ、濾過し、次いで濃縮し、粗製生成物３３０ｍｇを得た。この生成物をシリカゲルにおいて３０〜７０％酢酸エチル／メチレンクロライドを溶離剤として使用するクロマトグラフイに付し、純粋なベンズアミド，Ｎ−［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（３−アミノフェニル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−３−ヒドロキシ−２−メチル２３０ｍｇを得た。
例３６
Figure 0004014220
カルバミン酸，２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（２−アミノベンゾチアゾール−５−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−，フェニルメチルエステル；およびカルバミン酸，２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（２−アミノベンゾチアゾール−７−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル−，フェニルメチルエステルの製造
２Ｒ−ヒドロキシ−３−［（３−アミノフェニルスルホニル）（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルカルバミン酸フェニルメチルエスチル０．３６ｇ（０．６８５ミリモル）を、無水硫酸銅（１．４４ｇ）およびチオシアン酸カリウム（１．８０ｇ）の充分に混合した粉末に添加し、次いで乾燥メタノール（１０ｍｌ）を加え、生成する黒−褐色懸濁液を２時間加熱還流させた。この反応混合物を濾過し、この濾液を水（５ｍｌ）で稀釈し、次いで加熱還流させた。この反応混合物にエタノールを添加し、冷却させ、次いで濾過した。この濾液を濃縮し、得られた残留物をクロマトグラフイに付し（酢酸エチル：ヘキサン １：１）、７−異性体０．１８ｇ（４５％）を固形物として得た。このカラムをさらに溶離し（酢酸エチル：ヘキサン ３：２）、５−異性体０．８０ｇ（２０％）を固形物として得た。
例３７
Figure 0004014220
２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（２，３−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミンの製造
工程Ａ：５−（２，３−ジヒドロベンゾフラニル）スルホニルクロライドの製造
無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３．３５ｇの溶液に、０℃において窒素雰囲気下に、スルフリルクロライド６．１８ｇを添加すると、固形物が生成された。１５分間撹拌した後に、２，３−ジヒドロベンゾフラン４．６９ｇを添加し、この混合物を１００℃で２時間加熱した。この反応混合物を冷却させ、氷水中に注ぎ入れ、メチレンクロライドにより抽出し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮し、粗製生成物を得た。この生成物を酢酸エチルから再結晶させ、５−（２，３−ジヒドロベンゾフラニル）スルホニルクロライド２．４５ｇを得た。
工程Ｂ：カルバミン酸，２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（２，３−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル−，フェニルメチルエステルの製造
無水メチレンクロライド２０ｍｌ中のＮ−［３Ｓ−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２Ｒ−ヒドロキシ−４−フェニル］−Ｎ−イソブチルアミン１．１１ｇ（３．０ミリモル）の溶液に、トリエチルアミン１．３ｍｌ（０．９４ｇ、９．３ミリモル）を添加した。この溶液を０℃に冷却させ、次いで５−（２，３−ジヒドロベンゾフラニル）スルホニルクロライド０．６６ｇを添加し、０℃で１５分間、次いで室温で２時間撹拌した。酢酸エチルを添加し、５％クエン酸、飽和重炭酸ナトリウム、ブラインで洗浄し、乾燥させ、次いで濃縮し、粗製生成物１．６２ｇを得た。この生成物をジエチルエーテルから再結晶させ、純粋なカルバミン酸，［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（２，３−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル−，フェニルメチルエステル１．１７ｇを得た。
工程Ｃ：［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（２，３−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミンの製造
テトラヒドロフラン３０ｍｌ中のカルバミン酸，［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（２，３−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル−，フェニルメチルエステル２．８６ｇの溶液を、炭素上１０％パラジウム０．９９ｇにおいて水素の５０ｐｓｉｇの下に１６時間水素添加した。触媒を濾過により分離し、この濾液を濃縮し、所望の［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（２，３−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミン１．９９ｇを得た。
例３８
Figure 0004014220
２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］＝１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミンの製造
工程Ａ：５−クロロスルホニル−１，３−ベンゾジオキソールの製造
方法１：
無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４．２５ｇの溶液に、０℃において窒素雰囲気下に、スルフリルクロライド７．８４ｇを添加すると、固形物が生成された。１５分間撹拌した後に、１，３−ベゾジオキソール６．４５ｇを添加し、この混合物を１００℃で２時間加熱した。この反応混合物を冷却させ、氷水中に注ぎ入れ、メチレンクロライドにより抽出し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮し、粗製生成物７．３２ｇを黒色油状物として得た。この生成物をシリカゲルにおいて２０％メチレンクロライド／ヘキサンを用いるクロマトグラフイに付し、（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニルクロライド１．９ｇを得た。
方法２：
磁気撹拌機、冷却コンデンサー、加熱マントルおよび均圧滴下ロートを備えた２２リットル丸底フラスコに、三酸化硫黄ＤＭＦ錯体（２７７８ｇ、１８．１モル）を導入した。ジクロロエタン（４リッシル）を次いで添加し、撹拌を開始した。次いで１，３−ベンゾジオキソール（１９０５ｇ、１５．６モル）を５分間かけて滴下ロートにより添加した。温度を次いで７５℃に高め、２２時間維持した（ＮＭＲは、９時間後に反応がなされたことを示した）。この反応混合物を２６°に冷却させ、次いでオキザリルクロライド（２２９０ｇ、１８．１モル）を、温度が４０℃以下に維持されるような速度で添加した（１．５時間）。この混合物を６７℃に５時間加熱し、次いで氷浴を用いて１６℃に冷却させた。この反応を、温度が２０℃以下に維持されるような速度で水により停止させた。水の添加が完了した後に、この混合物を１０分間撹拌した。層を分離させ、この有機層を水（５リットル）で２回、再洗浄した。この有機層を硫酸マグネシウム（５００ｇ）で乾燥させ、次いでこの乾燥剤を除去した。溶媒を５０℃で減圧下に分離した。生成する温かい液体を冷却させると、固形物が生成し始めた。１時間後に、この固形物をヘキサン（４００ｍｌ）で洗浄し、濾過し、次いで乾燥させ、所望のスルホニルクロライド（２８２３ｇ）を得た。ヘキサン洗浄液を濃縮し、生成する固形物をヘキサン４００ｍｌで洗浄し、追加のスルホニルクロライド（４６４ｇ）を得た。総収量は３２８７ｇであった（１，３−ベンゾジオキソールに基づき９５．５％）。
方法３：
１，４−ベンゾジオキサン−６−スルホニルクロライドをＥＰ５８３９６０（引用してここに組み入れる）に記載の方法に従い製造した。
工程Ｂ：カルバミン酸，２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル−，フェニルメチルエステルの製造
無水メチレンクロライド４０ｍｌ中のＮ−［３Ｓ−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２Ｒ−ヒドロキシ−４−フェニル］−Ｎ−イソブチルアミン３．１９ｇ（８．６ミリモル）の溶液に、トリエチルアミン０．８７ｇを添加した。この溶液を０℃に冷却させ、次いで（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニルクロライド１．９０ｇを添加し、０℃で１５分間、次いで室温で１７時間撹拌した。酢酸エチルを添加し、５％クエン酸、飽和重炭酸ナトリウム、ブラインで洗浄し、乾燥させ、次いで濃縮し、粗製生成物を得た。この生成物をジエチルエーテル／ヘキサンから再結晶させ、純粋なカルバミン酸，２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル−，フェニルメチルエステル４．７７ｇを得た。
工程Ｃ：２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミンの製造
テトラヒドロフラン４５ｍｌ中のカルバミン酸，２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル−，フェニルメチルエステル４．１１ｇの溶液を、炭素上１０％パラジウム１．１ｇにおいて水素の５０ｐｓｉｇの下に１６時間水素添加した。触媒を濾過により分離し、この濾液を濃縮し、所望の２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（１，３−ベゾジオキソール−５−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミン１．８２ｇを得た。
例３９
Figure 0004014220
ベンゾチアゾール−６−スルホニルクロライドの製造
工程Ａ：Ｎ−（４−スルホンアミドフェニル）チオ尿素の製造
スルファニルアミド（８６ｇ、０．５モル）、チオシアン酸アンモニウム（７６．０ｇ、０．５モル）および稀塩酸（１．５Ｎ、１リットル）の混合物を、機械的に撹拌し、２時間加熱還流させた。水約２００ｍｌを留去し、次いでこの反応混合物を濃縮し、固形物を得た。この固形物を濾別し、冷水で洗浄し、次いで空気乾燥させ、所望の生成物６７．５ｇ（５９％）を白色粉末として得た。
工程Ｂ：２−アミノ−６−スルホンアミドベンゾチアゾールの製造
クロロホルム（２００ｍｌ）中の臭素（４３．２０ｇ、０．２７モル）を、クロロホルム（８００ｍｌ）中のＮ−（４−スルホンアミドフェニル）−チオ尿素（２７．７２、０．１２０モル）の懸濁液に１時間かけて添加した。添加後に、この反応混合物を４．５時間加熱還流させた。クロロホルムを減圧で除去し、この残留物を追加量のクロロホルムを用いて繰り返し蒸留した。得られた固形物を水（６００ｍｌ）で、次いで水酸化アンモニウムで（塩基性にする）処理し、次いで１時間加熱還流した。この冷却した反応混合物を濾過し、水で洗浄し、次いで空気乾燥させ、所望の生成物２２．０ｇ（８０％）を白色粉末として得た。
工程Ｃ：ベンゾチアゾール−６−スルホン酸の製造
ジオキサン（３００ｍｌ）中の２−アミノ−６−スルホンアミド−ベンゾチアゾール（１０．０ｇ、４３．６７ミリモル）の懸濁液を、加熱還流させた。この反応混合物に、亜硝酸イソアミル（２４ｍｌ）を２回に分けて添加した。激しいガスの発生が見られ（この反応は予防として背後を遮蔽して行った）、２時間後に、赤色沈殿が反応容器に沈着した。この反応混合物を熱いまま濾過し、次いでこの固形物をジオキサンで洗浄し、次いで乾燥させた。この固形物をメタノール−水から再結晶させた。少量の沈殿が２日後に生成された。この沈殿を濾別し、この母液を減圧で濃縮し、純粋な生成物の淡赤−オレンジ色の固形物（８．０ｇ、８５％）を得た。
工程Ｄ：６−クロロスルホニルベンゾチアゾールの製造
ジクロロエタン（１５ｍｌ）中のベンゾチアゾール−６−スルホン酸（０．６０ｇ、２．７９ミリモル）の懸濁液に、チオニルクロライド（４ｍｌ）を添加し、この反応混合物を加熱還流させ、次いでこの反応混合物にジメチルホルムアミド（５ｍｌ）を添加し、清明な溶液を生成させた。１．５時間還流させた後に、溶媒を減圧で除去し、次いで過剰量のＨＣｌおよびチオニルクロライドをジクロロエタンとともに蒸発させることによって除去した。
例４０
Figure 0004014220
カルバミン酸，２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（ベンゾチアゾール−６−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル−，フェニルメチルエステルの製造
酢酸エチル（１００ｍｌ）中の粗製ベンゾチアゾール−６−スルホニルクロライドを、Ｎ−［３Ｓ−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２Ｒ−ヒドロキシ−４−フェニル］−Ｎ−イソブチルアミン（１．０３ｇ、２．７８ミリモル）に添加し、次いでＮ−メチルモルホリン（４ｍｌ）に添加した。室温で１８時間撹拌した後に、この反応混合物を酢酸エチル（１００ｍｌ）で稀釈し、クエン酸（５％、１００ｍｌ）、重炭酸ナトリウム（飽和、１００ｍｌ）およびブライン（１００ｍｌ）で洗浄し、乾燥させ（ＭｇＳＯ4）、次いで減圧で濃縮した。この残留物をクロマトグラフイに付し（シリカゲル、酢酸エチル：ヘキサン １：１）、所望の生成物０．３４０ｇ（２３％）を得た。
例４１
Figure 0004014220
５−クロロスルホニル−２−カルボメトキシアミノベンズイミダゾールの製造
クロロスルホン酸（３５．００ｍｌ）中の２−カルボメトキシアミノ−ベンズイミダゾール（５．０ｇ、０．０２６モル）の溶液を、０℃で３０分間、次いで室温で３時間撹拌した。生成する暗色の反応混合物を氷−水混合物（２００ｍｌ）中に注意して注ぎ入れ、次いで室温で３０分間撹拌した。生成する沈殿を濾別し、冷水（５００ｍｌ）で充分に洗浄した。この固形物を、デシケーター内においてＮａＯＨパレット上で高減圧下に一夜かけて乾燥させ、所望の化合物（５．９ｇ、７８％）を灰色粉末として得た。１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）３．８９（ｓ，３Ｈ）、７．５５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．６５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．８８（ｓ，１Ｈ）。
例４２
Figure 0004014220
カルバミン酸，２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（２−カルボメトキシアミノ−ベンズイミダゾール−５−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル−，フェニルメチルエステルの製造
ジクロロメタン（７０ｍｌ）中のＮ−［３Ｓ−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２Ｒ−ヒドロキシ−４−フェニルブチル］−Ｎ−イソブチルアミン（５．０ｇ、１３．５ミリモル）の冷たい溶液に、トリエチルアミン（５．９５ｇ、５４．０ミリモル）を添加し、次いで５−クロロスルホニル−２−カルボメトキシアミノベンズイミダゾール（４．２９ｇ、１４．８５ミリモル）を少しづつ添加した。この反応混合物を０℃で３０分間、次いで室温で２．５時間撹拌した。ＴＬＣ（ＥｔＯＡｃ）がアミノアルコールの反応の完了を示した時点で、この混合物を冷却させ、次いで濾過した。この濾液を濃縮した。この残留物をＥｔＯＡｃ（２００ｍｌ）中に溶解し、冷５％クエン酸（３×５０ｍｌ）、飽和重炭酸ナトリウム（３×５０ｍｌ）、水（３×１００ｍｌ）で洗浄し、次いで乾燥させた（Ｎａ2ＳＯ4）。ＥｔＯＡｃを減圧で除去し、この残留物を減圧で乾燥させた。このようにして得られた残留物をメタノールとすり混ぜ、冷却させ、濾過し、ＭｅＯＨ−ＥｔＯＡｃ（１：１、ｖ／ｖ）で洗浄し、次いでデシケーター内で乾燥させ、所望のスルホンアミド（６．０２ｇ、７２％）を明るい褐色の粉末として得た。ＦＡＢＭＳ：ｍ／ｚ ６３０（Ｍ＋Ｌｉ）；ＨＲＭＳ：Ｃ31Ｈ38Ｎ5Ｏ7Ｓ（Ｍ＋Ｈ）に対する計算値：６２４．２４９２。実測値：６２４．２４８８。
例４３
Figure 0004014220
５−クロロスルホニルベンズイミダゾロンの製造
三酸化硫黄／Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド錯体（１３．７ｇ、８９．５ミリモル）および１，２−ジクロロエタン（４０ｍｌ）を、窒素雰囲気下で２５０ｍｌ、三ッ頚フラスコに導入した。このスラリーを室温で撹拌し、次いで室温で、２−ヒドロキシベンズイミダゾール（１０ｇ、７４．６ミリモル）を固形物として少しづつ添加した。このスラリーを８５℃にゆっくし加熱し、次いで８５℃に１６時間維持した。この加熱期間中に、フラスコの底部に濃厚なガム状ペーストが生成された。この反応混合物を室温まで冷却させ、次いでチオニルクロライド（１０．６５ｇ、８９．５ミリモル）を滴下して添加した。この反応混合物を８５℃にゆっくし加熱し、次いで８５℃に５時間維持した。この結果として、ガム状ペーストは細かい粉末にゆっくり変化した。この不均質な反応混合物を次いで、室温まで冷却させ、次いでジクロロメタン２００ｍｌで稀釈した。この有機溶液に、水（１００ｍｌ）を添加し、この水性層に生成された固形物を濾過により採取し、次いで過剰の水およびアセトニトリルにより洗浄し、固形物３．９ｇを得た。この固形物は所望のスルホニルクロライド生成物と若干の対応するスルホン酸との両方を含有していた。この粗製生成物はさらに精製することなく使用した。
例４４
Figure 0004014220
カルバミン酸，２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（ベンズイミダゾロン−５−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル−，フェニルメチルエステルの製造
Ｎ−［３Ｓ−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２Ｒ−ヒドロキシ−４−フェニルブチル］−Ｎ−イソブチルアミン（１ｇ、２．７ミリモル）をジクロロメタン１０ｍｌ中の溶解し、次いで５℃に冷却させた。この混合物にトリエチルアミン（１．０４ｇ、１０．８ミリモル）を添加した。この冷却した混合物に、例４３からの粗製５−クロロスルホニル−ベンズイミダゾロン（０．６ｇ、２．７ミリモル）を固形物として少しづつ添加した。生成する不均質の反応混合物を５℃で１時間撹拌し、次いで室温まで温め、室温で１６時間撹拌した。ジクロロメタンを分離し、この残留物を酢酸エチル１００ｍｌ中に溶解した。この有機溶液を、５％クエン酸（２×５０ｍｌ）、５％重炭酸ナトリウム（２×５０ｍｌ）およびブライン（２×５０ｍｌ）で洗浄し、次いで硫酸マグネシウム上で乾燥させた。この硫酸マグネシウムを濾別し、ジクロロメタンで洗浄した。溶媒を減圧で除去し、次いで濃縮残留物をシリカゲルにおいてフラッシュカラムクロマトグラフイに付し、ジクロロメタン中３％メタノールにより溶離することによって精製し、純粋な生成物の白色固形物０．４９ｇ（収率３３．５％）を生成した。
例４５
Figure 0004014220
Ｎ 1 −［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（３，４−メチレンジオキシフェニルスルホニル）アミノ］−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（４−ベンジルピペリジン−１−イル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミドの製造
工程Ａ：ベンジル ３−（４−ベンジルピペリジン−１−イル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオネートの製造
磁気撹拌棒およびＮ2導入口を備えた１００ｍｌ丸底フラスコに、ＣＨ2Ｃｌ2２５ｍｌ中のベンジル３−クロロスルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオネート２．５ｇを導入した。この溶液を０℃に冷却させ、次いで４−ベンジルピペラジン１．５７ｍｌ（１．０当量）を添加し、次いでＮＥｔ3１．２６ｍｌを添加した。この反応混合物を１時間撹拌し、次いで減圧で濃縮し、次いで酢酸エチルと飽和水性重炭酸ナトリウムとに分配した。この有機相を集め、ブラインで洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥させ、次いで減圧で濃縮し、粗製生成物３．４ｇを得た。フラッシュクロマトグラフイ（８０：２０酢酸エチル／ヘキサン）に付し、純粋な生成物３．０ｇを生成した。
工程Ｂ：ベンジル ３−（４−ベンジルピペリジン−１−イルスルホニル）−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸の製造
磁気撹拌棒およびＮ2導入口を備えた１００ｍｌ丸底フラスコに、５０％水性メタノール２０ｍｌ中のＬｉＯＨ １．２ｇ（４当量）をベンジル ３−（４−ベンジルピペリジン−１−イルスルホニル）−２（Ｒ）−メチルプロピオネート３．０ｇとともに導入した。２時間後に、ＨＰＬＣ分析は、出発物質が存在しないことを示した。この反応混合物を半分の容積に濃縮し、次いでＥｔ2ＯおよびＨ2Ｏに分配した。この水性層をｐＨ５に酸性にし、次いで酢酸エチル２×７５ｍｌにより抽出した。この有機層を集め、減圧で濃縮し、白色固形物５５０ｍｇ（２５％）を生成した。
工程Ｃ：Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（３，４−メチレンジオキシフェニルスルホニル）アミノ］−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（４−ベンジルピペリジン−１−イル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロプリオン（proprion）アミド−ＨＣｌの製造
磁気撹拌棒およびＮ2導入口を備えた１００ｍｌ丸底フラスコに、ＤＭＦ ３ｍｌ中の３−（４−ベンジルピペリジン−１−イルスルホニル）−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸３７５ｍｇ（１．１５当量）を導入した。この溶液を０℃に冷却させ、次いでＨｏＢｔ ２００ｍｇ（１．５当量）を添加し、次いでＥＤＣ ２２０ｍｇ（１．１５当量）を添加した。０℃で２０分後に、ＤＭＦ ５ｍｌ中の２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミン５１２ｍｇの溶液を添加し、次いでこの反応混合物を室温で２０時間撹拌した。この反応混合物を減圧で濃縮し、次いで酢酸エチルと飽和水性重炭酸ナトリウムとに分配した。この有機相を集め、乾燥させ、次いで濃縮し、粗製生成物を得た。フラッシュクロマトグラフイ（１００％酢酸エチル）に付し、純粋な生成物３６０ｍｇを生成した。ｍ／ｅ＝７３５（Ｍ＋Ｌｉ）。この遊離アミンをアセトニトリル１０ｍｌ中に取り、濃ＨＣｌ ２当量で処理した。１０分後に、この溶液を減圧で濃縮し、ジエチルエーテルとすり混ぜ、純粋なＮ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（３，４−メチレンジオキシフェニルスルホニル）アミノ］−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（４−ベンジルピペリジン−１−イル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロプリオンアミド−ＨＣｌ３２５ｍｇを得た。
例４６
Figure 0004014220
Ｎ−［３（Ｓ）−［Ｎ，Ｎ−ビス（フェニルメチル）アミノ］−２（Ｒ）−ヒドロキシ−４−フェニルブチル］−Ｎ−イソブチルアミン・シュウ酸塩の製造
工程Ａ：Ｎ−［３（Ｓ）−［Ｎ，Ｎ−ビス（フェニルメチル）アミノ］−２（Ｒ）−ヒドロキシ−４−フェニルブチル］−Ｎ−イソブチルアミンの製造
イソプロパノール（２．７リットル）（または酢酸エチル）中の粗製Ｎ，Ｎ−ジベンジル−３（Ｓ）−アミノ−１，２（Ｓ）−エポキシ−４−フェニルブタン（３８８．５ｇ、１．１３モル）の溶液に、イソブチルアミン（１．７ｋｇｍ、２３．１モル）を２分かけて添加した。温度は２５℃から３０℃まで上昇した。この溶液を８２℃に加熱し、次いでこの温度で１．５時間撹拌した。この温かい溶液を減圧で６５℃において濃縮した。この褐色油状残留物を３リットルフラスコに移し、減圧（０．８ｍｍＨｇ）で１６時間乾燥させ、３Ｓ−［Ｎ，Ｎ−ビス（フェニルメチル）アミノ−４−フェニルブタン−２Ｒ−オール４５０ｇを粗製油状物として得た。この生成物は精製することなく次の工程で直接に使用した。所望の主要ジアステレオマー生成物の分析試料は、少量の粗製生成物をシリカゲルクロマトグラフイ（４０％酢酸エチル／ヘキサン）により精製することによって得た。Ｔｌｃ分析：シリカゲル、４０％酢酸エチル／ヘキサン：Ｒｆ＝０．２８；ＨＰＬＣ分析：超球形（ｕｌｔｒａｓｈｅｒｅ）ＣＤＳカラム、２５％トリエチルアミノ−／リン酸塩緩衝剤、ｐＨ３−アセトニトリル、流速：１ｍｌ／分、ＵＶ検出計；保有時間：７．４９分；ＨＲＭＳ：Ｃ28Ｈ27Ｎ2Ｏ（Ｍ＋１）に対する計算値：４１７．６１６、計算値：４１７．２８８７。
少量ジアステレオマー生成物、３（Ｓ）−［Ｎ，Ｎ−ビス（フェニルメチル）アミノ］−１−（２−メチルプロピル）アミノ−４−フェニルブタン−２Ｓ−オールの分析試料をまた、少量の粗製生成物をシリカゲルクロマトグラフイ（４０％酢酸エチル／ヘキサン）により精製することによって得た。
工程Ｂ：Ｎ−［３（Ｓ）−［Ｎ，Ｎ−ビス（フェニルメチル）アミノ］−２（Ｒ）−ヒドロキシ−４−フェニルブチル］−Ｎ−イソブチルアミン・シュウ酸塩の製造
磁気撹拌機および滴下ロートを備えた５０００ｍｌ丸底フラスコにシュウ酸２水和物（１１９ｇ、０．９４モル）を導入した。メタノール（１０００ｍｌ）を添加し、この混合物を、溶解が完了するまで撹拌した。酢酸エチル中の粗製３（Ｓ）−［Ｎ，Ｎ−ビス（フェニルメチル）アミノ］−１−（２−メチルプロピル）アミノ−４−フェニルブタノ−２（Ｒ）−オールの溶液（１８００ｍｌ、０．２１２ｇアミノアルコール異性体／ｍｌ、０．９４２８モル）の溶液を、２０分間かけて添加した。この混合物を１８時間撹拌し、この固形生成物を４００Ｇで６部づつ遠心分離することによって分離した。これら各部を酢酸エチル１２５ｍｌで洗浄した。この塩を次いで、採取し、１トールにおいて一夜にわたり乾燥させ、生成物３３６．３ｇを生成した（総アミノアルコールに基づき７１％）。ＨＰＬＣ／ＭＳ［電気スプレイ（ｅｌｅｃｔｒｏｓｐｒａｙ）］は、所望の生成物と一致した（ｍ／ｚ＝４１７［Ｍ＋Ｈ］+）。
例４７
Figure 0004014220
１−［Ｎ−［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］−Ｎ−（２−メチルプロピル）アミノ］−３（Ｓ）−［ビス（フェニルメチル）アミノ］−４−フェニル−２（Ｒ）−ブタノールの製造
磁気撹拌機を備えた５０００ｍｌ三ッ頚フラスコに、Ｎ−［３（Ｓ）−［Ｎ，Ｎ−ビス（フェニルメチル）アミノ］−２（Ｒ）−ヒドロキシ−４−フェニルブチル］−Ｎ−イソブチルアミン・シュウ酸塩（３５４．７ｇ、０．７モル）および１，４−ジオキサン（２０００ｍｌ）を導入した。次いで、水（２５０ｍｌ）中の炭酸カリウム（２４１．９ｇ、１．７５モル）の溶液を添加した。生成した不均質の混合物を室温で２時間撹拌し、次いで１，４−ジオキサン（２５０ｍｌ）中に溶解した１，３−ベンゾジオキソール−５−スルホニルクロライド（１６２．２ｇ、０．７３５モル）を１５分かけて添加した。この反応混合物を室温で１８時間撹拌した。この反応器に、酢酸エチル（１０００ｍｌ）および水（５００ｍｌ）を導入し、さらに１時間撹拌を継続した。この水性層を分離し、酢酸エチル（２００ｍｌ）によりさらに抽出した。酢酸エチル層を集め、２５％ブライン溶液（５００ｍｌ）で洗浄し、次いで無水硫酸マグネシウム上で乾燥させた。濾過し、この硫酸マグネシウムを酢酸エチル（２００ｍｌ）で洗浄した後に、濾液中の溶剤を減圧で除去し、所望のスルホンアミド化合物を粘性の黄色泡状油状物として得た（４４０．２ｇ、収率１０５％）。ＨＰＬＣ／ＭＳ（電気スプレイ）（ｍ／ｚ＝６０１［Ｍ＋Ｈ］+］。
例４８
Figure 0004014220
１−［Ｎ−［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］−Ｎ−（２−メチルプロピル）アミノ］−３（Ｓ）−アミノ−４−フェニル−２（Ｒ）−ブタノール・メタンスルホン酸塩の製造
粗製１−［Ｎ−［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］−Ｎ−（２−メチルプロピル）アミノ］−３（Ｓ）−［ビス（フェニルメチル）アミノ］−４−フェニル−２（Ｒ）−ブタノール（６．２ｇ、０．０１０モル）をメタノール（４０ｍｌ）中に溶解した。この溶液に次いで、メタンスルホン酸（０．９６９ｇ、０．０１０モル）および水（５ｍｌ）を添加した。この混合物を、炭素上２０％Ｐｄ（ＯＨ）2（２５５ｍｇ、５０％水含有量）を含有する５００ｍｌパール（Ｐａｒｒ）水素添加ボトル内に入れた。このボトルを水素発生機内に入れ、窒素で５回および水素で５回、浄化した。反応は３５℃で６３ＰＳＩ水素圧の下に１８時間進行させた。追加の触媒（１２５ｍｇ）を添加し、浄化後に、水素添加をさらに２０時間継続した。この混合物をセライトに通して濾過し、メタノール（２×１０ｍｌ）で洗浄した。メタノールのほぼ１／３を減圧で除去した。残留メタノールは８０トールにおけるトルエンとの共沸蒸留によって除去した。トルエンを、１５ｍｌ、１０ｍｌ、１０ｍｌおよび１０ｍｌづつ添加した。この混合物から生成物は晶出した。この結晶を濾別し、次いでトルエン各１０ｍｌで２回洗浄した。この固形物を室温で１トールにおいて６時間乾燥させ、アミン塩（４．５ｇ、８４％）を得た。ＨＰＬＣ／ＭＳ（電気スプレイ）は所望の生成物と一致した（ｍ／ｚ＝４２１［Ｍ＋Ｈ］+）。
例４９
Figure 0004014220
Ｎ 1 −［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（３，４−メチレンジオキシフェニルスルホニル）アミノ］−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（４−（３−ピリジルメチル）ピペリジン−１−イル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロプリオンアミドの製造
工程Ａ：ベンジル ３−（４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルピペリジン−１−イルスルホニル）−２（Ｒ）−メチルプロピオネートの製造
磁気撹拌棒およびＮ2導入口を備えた１００ｍｌ丸底フラスコに、ＣＨ2Ｃｌ2 ５０ｍｌ中のベンジル３−クロロスルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオネート５．２ｇを導入した。このフラスコを０℃に冷却させ、次いでＮ−Ｂｏｃ−ピペラジン３．５ｇおよびＮＥｔ3 ２．９ｍｌ（１．１当量）を添加した。この反応混合物を０℃で３０分間撹拌し、減圧で濃縮し、次いで酢酸エチル／水に分配した。有機相を集め、５％水性クエン酸、飽和水性重炭酸ナトリウム、ブラインで洗浄し、次いで減圧で濃縮し、黄色液体を得た。シリカゲルにおけるフラッシュクロマトグラフイ（３０％酢酸エチル／ヘキサン）に付すことによって精製し、生成物７．２ｇ（９０％）を清明な油状物として得た。
工程Ｂ：３−（４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルピペリジン−１−イルスルホニル）−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸の製造
磁気撹拌棒を備えた３００ｍｌフィッシャー ポーター容器に、ベンジル ３−（４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルピペリジン−１−イルスルホニル）−２（Ｒ）−メチルプロピオネート７．２ｇ、１０％Ｐｄ−Ｃ ６００ｍｇおよびＭｅＯＨ １００ｍｌを導入した。この容器に、５０ｐｓｉＨ2を吹き込み、室温で２時間撹拌した。この反応混合物をセライトに通して濾過し、次いで減圧で濃縮し、白色固形物５．２５ｇ（９３％）を得た。この遊離酸はさらに精製することなく使用した。
工程Ｃ：Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（３，４−メチレンジオキシフェニルスルホニル）アミノ］−２（Ｒ）−ヒドロキシ−２（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルピペリジン−１−イル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロプリオンアミドの製造
磁気撹拌棒およびＮ2導入口を備えた２５０ｍｌ丸底フラスコに、ＤＭＦ １００ｍｌ中の３−（４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルピペリジン−１−イルスルホニル）−２（Ｒ）−メチルプロピオン酸４．９ｇ（１．０当量）を導入した。この溶液を０℃に冷却させ、次いでＨｏＢｔ ２．４ｇ（１．２当量）を添加し、次いでＥＤＣ ２．８ｇ（１．０当量）を添加した。０℃で２０分後に、ＤＭＦ５０ｍｌ中の２Ｒ−ヒドロキシ−３−［［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］（２−メチルプロピル）アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミン６．９ｇ（１．１当量）の溶液を添加し、次いでこの反応混合物を室温で２０時間撹拌した。この反応混合物を減圧で濃縮し、次いで酢酸エチルと飽和水性重炭酸塩とに分配した。有機相を集め、５％水性クエン酸、ブラインで洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥させ、次いで濃縮し、粗製生成物１２．８ｇを得た。シリカゲルにおけるフラッシュクロマトグラフイ（５０〜１００％酢酸エチル／ヘキサン）に付し、純粋な生成物１０．６ｇ（９８％）を生成した。
工程Ｄ：Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（３，４−メチレンジオキシフェニルスルホニル）アミノ］−２（Ｒ）−ヒドロキシ−２（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［１−ピペリジン−１−イルスルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロプリオンアミドの製造
磁気撹拌棒およびＮ2導入口を備えた１００ｍｌ丸底フラスコに、４Ｎ ＨＣｌ−ジオキサン１０ｍｌ中のＮ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（３，４−メチレンジオキシフェニルスルホニル）アミノ］−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルピペリジン−１−イル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロプリオンアミド１．０ｇを導入した。１時間撹拌した後に、この反応混合物を減圧で濃縮し、次いで酢酸エチルと１０％水性炭酸カリウムとに分配した。この有機相を集め、乾燥させ、次いで濃縮し、得られた粗製白色泡状物をジエチルエーテルとすり混ぜ、次いでさらに精製することなく使用した。
工程Ｅ：Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（３，４−メチレンジオキシフェニルスルホニル）アミノ］−２−（Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（４−（３−ピリジルメチル）ピペリジン−１−イル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロプリオンアミドの製造
磁気撹拌棒およびＮ2導入口を備えた１００ｍｌ丸底フラスコに、ＤＭＦ １００ｍｌ中の工程Ｄからの粗製アミン４５０ｍｇ、炭酸カリウム１００ｍｇ（〜３当量）および３−ピコイルクロライドＨＣｌ １１５ｍｇ（〜１当量）を導入した。この反応混合物を、室温で一夜にわたり撹拌し、次いで酢酸エチルと飽和水性重炭酸ナトリウムとに分配した。この有機相を集め、乾燥させ、濃縮し、粗製生成物４８０ｍｇを得た。３％ＭｅＯＨ／ＥＡを用い、次いで１００％ＴＨＦを用いるフラッシュクロマトグラフイに付し、純粋なＮ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（３，４−メチレンジオキシフェニルスルホニル）アミノ］−２−（Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（４−（３−ピリジルメチル）ピペリジン−１−イル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロプリオンアミド２００ｍｇを生成した、ｍ／ｅ＝７２９（Ｍ＋Ｈ）。
例５０
Figure 0004014220
Ｎ−［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［Ｎ 1 −（２−メチルプロピル）−Ｎ 1 −［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−２Ｓ−メチル−３−［（Ｎ 2 −メチル−Ｎ 2 −フェニルアミノ）スルホニル］プロパンアミドの製造
工程Ａ：ベンジル ３−（Ｓ−アセチル）−２Ｓ−メチルプロピオネートの製造
トルエン（２００ｍｌ）中の３−（Ｓ−アセチル）−２Ｓ−メチルプロピオン酸（１３．６ｇ、１００ミリモル）およびＤＢＵ（１５．２ｇ、１００ミリモル）の溶液に、ベンジルクロライド（１６．５ｇ、９６．５ミリモル）を添加した。この反応混合物を室温で１８時間撹拌し、トルエン（２００ｍｌ）で稀釈し、１Ｎ ＨＣｌ（２００ｍｌ）、重炭酸ナトリウム（２００ｍｌ）およびブライン（２００ｍｌ）で順次洗浄し、乾燥させ、濾過し、次いで濃縮し、ベンジル ３−（Ｓ−アセチル）−２Ｓ−メチルプロピオネート２１ｇを得た。
工程Ｂ：ベンジル ３−（クロロスルホニル）−２Ｓ−メチルプロピオネートの製造
エタノール−クロロホルム（１０：９０、１００ｍｌ）中のベンジル ３−（Ｓ−アセチル）−２Ｓ−メチルプロピオネート（１０．０ｇ）の冷たい（氷水）溶液中に、濃黄色が消失するまで、塩素を泡立てて通した。この反応混合物を３０分間撹拌し、次いで室温まで温め、濃縮し、次いで減圧で乾燥させ、ベンジル３−（クロロスルホニル）−２Ｓ−メチルプロピオネート１０ｇ（９０％）を無色油状物として得た。
工程Ｃ：ベンジル ３−［（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）スルホニル］−２Ｓ−メチルプロピオネートの製造
ジクロロメタン（３０ｍｌ）中のＮ−メチルアニリン（１．２９ｇ、１１．９８ミリモル）およびベンジル ３−（クロロスルホニル）−２Ｓ−メチルプロピオネート（３．０ｇ、１０．８５ミリモル）の冷たい（氷水）溶液中に、トリエチルアミン（１．７ｍｌ）を添加した。この反応混合物を１８時間撹拌し、ジクロロメタン（１００ｍｌ）で稀釈し、ＨＣｌ（１Ｎ １００ｍｌ）、重炭酸ナトリウム（１００ｍｌ）およびブライン（１００ｍｌ）で順次洗浄し、乾燥させ（ＭｇＳＯ4）、濾過し、次いで濃縮し、ベンジル ３−［（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）スルホニル］−２Ｓ−メチルプロピオネート３．５ｇ（９３％）を得た。
工程Ｄ：３−［（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）スルホニル］−２Ｓ−メチルプロピオン酸の製造
メタノール（２０ｍｌ）中のベンジル ３−［（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）スルホニル］−２Ｓ−メチルプロピオネート（３．５０ｇ、１０．９０ミリモル）およびパラジウム／カーボン触媒（３００ｍｇ）の混合物を、室温で１６時間、水素添加分解に付した。触媒を濾別し、この濾液を濃縮し、３−［（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）スルホニル］−２Ｓ−メチルプロピオン酸２．５ｇを得た。
工程Ｅ：Ｎ−［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［Ｎ1−（２−メチルプロピル）−Ｎ1−［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−２Ｓ−メチル−３−［（Ｎ2−メチル−Ｎ2−フェニルアミノ）スルホニル］プロパンアミドの製造
ＤＭＦ中の３−［（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）スルホニル］−２Ｓ−メチルプロピオン酸（０．７０１ｇ、２．７２７６ミリモル）、ＨＯＢＴ（０．４１ｇ、３．０３７ミリモル）およびＥＤＣ（０．５８ｇ、３．０３７ミリモル）の混合物を室温で１時間撹拌し、次いでこの反応混合物にＮ−［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［Ｎ1−（２−メチルプロピル）−Ｎ1−［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミン（１．５０ｇ、３．５７１４ミリモル）を添加し、次いで室温で１８時間撹拌した。この反応混合物を濃縮した。生成する残留物をジクロロメタン（２００ｍｌ）中に溶解し、クエン酸（１Ｎ １００ｍｌ）、重炭酸ナトリウム（１００ｍｌ）、ブライン（１００ｍｌ）で順次洗浄し、乾燥させ（ＭｇＳＯ4）、濾過し、次いで濃縮した。得られた残留物をシリカゲルにおいてフラッシュカラムクロマトグラフイに付し、酢酸エチル：ヘキサン（３：１）により溶離することによって精製し、純粋なＮ−［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［Ｎ1−（２−メチルプロピル）−Ｎ1−［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−２Ｓ−メチル−３−［（Ｎ2−メチル−Ｎ2−フェニルアミノ）スルホニル］プロパンアミド０．９０ｇ（５０％）を得た；Ｃ32Ｈ41Ｎ3Ｏ8Ｓ2に対するＦＡＢ−ＭＳ：実測値：ｍ／ｚ＝６５９。
例５１
Figure 0004014220
Ｎ−［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［Ｎ 1 −（２−メチルプロピル）−Ｎ 1 −［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−２Ｓ−メチル−３−［（Ｎ 2 −メチル−Ｎ 2 −ベンジルアミノ）スルホニル］プロパンアミドの製造
工程Ａ：ベンジル ３−［（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアミノ）スルホニル］−２Ｓ−メチルプロピオネートの製造
ジクロロメタン（３０ｍｌ）中のＮ−メチル−ベンジルアミン（１．４５ｇ、１１．９８ミリモル）およびベンジル ３−（クロロスルホニル）−２Ｓ−メチルプロピオネート（３．０ｇ、１０．８５ミリモル）の冷たい（氷水）溶液中に、トリエチルアミン（１．７ｍｌ）を添加した。この反応混合物を１８時間撹拌し、ジクロロメタン（１００ｍｌ）で稀釈し、ＨＣｌ（１Ｎ １００ｍｌ）、重炭酸ナトリウム（１００ｍｌ）、ブライン（１００ｍｌ）で順次洗浄し、乾燥させ（ＭｇＳＯ4）、濾過し、次いで濃縮し、ベンジル ３−［（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアミノ）スルホニル］−２Ｓ−メチルプロピオネート３．８０ｇ（９７％）を得た。
工程Ｂ：３−［（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアミノ）スルホニル］−２Ｓ−メチルプロピオン酸の製造
メタノール（２０ｍｌ）中のベンジル ３−［（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアミノ）スルホニル］−２Ｓ−メチルプロピオネート（３．８０ｇ、１０．９０ミリモル）およびパラジウム／カーボン（３００ｍｇ）触媒の混合物を、１６時間、水素添加分解に付した。触媒を濾別し、この濾液を濃縮し、３−［（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアミノ）スルホニル］−２Ｓ−メチルプロピオン酸３．２ｇ（定量的収率）を得た。
工程Ｃ：Ｎ−［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［Ｎ1−（２−メチルプロピル）−Ｎ1−［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−２Ｓ−メチル−３−［（Ｎ2−メチル−Ｎ2−ベンジルアミノ）スルホニル］プロパンアミドの製造
ＤＭＦ中の３−［（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアミノ）スルホニル］−２Ｓ−メチルプロピオン酸（０．７４４ｇ、２．７４５４ミリモル）、ＨＯＢＴ（０．４１ｇ、３．０３７ミリモル）およびＥＤＣ（０．５８ｇ、３．０３７ミリモル）の混合物を室温で１時間撹拌し、次いでこの反応混合物にＮ−［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［Ｎ1−（２−メチルプロピル）−Ｎ1−［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピルアミン（１．５０ｇ、３．５７１４ミリモル）を添加し、次いで室温で１８時間撹拌した。この反応混合物を濃縮した。生成する残留物をジクロロメタン（２００ｍｌ）中に溶解し、クエン酸（１Ｎ １００ｍｌ）、重炭酸ナトリウム（１００ｍｌ）およびブライン（１００ｍｌ）で順次洗浄し、乾燥させ（ＭｇＳＯ4）、濾過し、次いで濃縮した。得られた残留物をシリカゲルにおいてフラッシュカラムクロマトグラフイに付し、酢酸エチル：ヘキサン（３：１）により溶離することによって精製し、純粋なＮ−［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［Ｎ1−（２−メチルプロピル）−Ｎ1−［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−２Ｓ−メチル−３−［（Ｎ2−メチル−Ｎ2−ベンジルアミノ）スルホニル］プロパンアミド１．１ｇ（５９％）を得た；Ｃ33Ｈ43Ｎ3Ｏ8Ｓ2に対するＦＡＢ−ＭＳ：ｍ／ｚ＝６７３。
例５２
前記例の方法に従い、表２〜１５に記載の化合物を製造することができる。
Figure 0004014220
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例５３
本発明の化合物は効果的なＨＩＶプロテアーゼインヒビターである。以下に記載する酵素試験法を使用して、本明細書の例に記載の化合物はＨＩＶ酵素を阻害した。本発明の好適化合物およびそれらのＩＣ50計算値（５０％阻害濃度、すなわちインヒビター化合物が酵素活性を５０％減少させる濃度）を表１６に示す。この酵素法を以下で説明する。基質は２−Ｉｌｅ−Ｎｌｅ−Ｐｈｅ（ｐ−ＮＯ2）−Ｇｌｎ−ＡｒｇＮＨ2である。陽性対照はＭＶＴ−１０１である［ミラー（Ｍｉｌｌｅｒ）等によるＳｃｉｅｎｃｅ，２４６，１１４９（１９８９）］。試験条件は以下のとおりである：
試験緩衝剤：２０ｍＭリン酸ナトリウム、ｐＨ６．４
２０％グリセロール
１ｍＭ ＥＤＴＡ
１ｍＭ ＤＴＴ
０．１％ ＣＨＡＰＳ
上記基質をＤＭＳＯ中に溶解し、次いで試験緩衝剤により１０倍に稀釈する。この試験の最終基質濃度は８０μＭである。
ＨＩＶプロテアーゼは、試験緩衝剤により、１０，７８０の分子量に基づき１２．３ノナモルの最終酵素濃度に稀釈する。
ＤＭＳＯの最終濃度は１４％であり、そしてグリセロールの最終濃度は１８％である。試験化合物はＤＭＳＯ中に溶解し、１０ｘ試験濃度にＤＭＳＯで稀釈する：酵素調製物１０μｌを添加し、材料を混合し、次いでこの混合物を周辺温度で１５分間インキュベートする。酵素反応は基質４０μｌの添加により開始させる。蛍光の増加を室温で４時点（０分、８分、１６分および２４分）で測定する。各試験は重複ウエル（ｄｕｐｌｉｃａｔｅ ｗｅｌｌｓ）で行う。
前記例で使用されている反応剤および（または）操作の代わりに、一般的にまたは具体的に記載されている反応剤および（または）操作を用いて、前記例を反復して同様の成果をあげることができる。
例５４
種々の化合物の効果を、前記酵素試験法（ｅｎｚｙｍｅ ａｓｓａｙ）およびＣＥＭ細胞試験法（ＣＥＭ ｃｌｌ ａｓｓａｙ）で測定した。
急性感染させた細胞のＨＩＶ抑制試験は、ポールス（Ｐａｕｗｌｅｓ）等により報告された［Ｊ．Ｖｉｒｏｌ．Ｍｅｔｈｏｄｓ，２０，３０９〜３２１（１９８８）］、基本的に自動式のテトラゾリウム−ベース比色試験法（ａｕｔｏｍａｔｅｄ ｔｅｔｒａｚｏｌｉｕｍ ｂａｓｅｄ ｃｏｌｏｒｉｍｅｔｒｉｃ ａｓｓａｙ）である。試験は９６−ウェル組織培養プレートで行った。ＣＥＭ細胞、ＣＤ４+セルラインを、１０％ウシ胎児血清が補給されているＲＰＭＩ−１６４０培地［ギブコ（Ｇｉｂｃｏ）］で増殖させ、次いでポリブレン（２μｇ／ｍｌ）で処理した。１×１０4細胞を含有する培地８０μｌ容量を組織培養プレートの各ウエルに分配した。各ウエルに、組織培養培地に溶解した試験化合物（または対照として試験化合物を含有していない培地）１００μｌ容積を加え、所望の最終濃度を得た。この細胞を次いで、３７℃で１時間インキュベートした。ＨＩＶ−１の凍結培養物を培養培地により５×１０4ＴＣＩＤ50／ｍｌ（ＴＣＩＤ50＝組織培養中の細胞の５０％を感染させるウイルスの用量）の濃度にまで稀釈し、このウイルス試料（ウイルス１０００ＴＣＩＤ50含有）２０μｌ容積を、試験化合物を含有するウエルおよび培地のみを含有するウエル（感染した対照細胞）に加えた。数個のウエルにはウイルスを含有していない培養培地（未感染対照細胞）を入れた。同様に、試験化合物の固有の毒性を、数個の試験化合物含有ウエルにウイルスを含有していない培養培地を加えることによって測定した。要約して、これらの組織培養プレートは下記の実験を包含していた：
Figure 0004014220
実験２および４では、試験化合物の最終濃度は、１、１０、１００および５００μｇ／ｍｌであった。陽性医薬対照としては、アジドチミジン（ＡＺＴ）またはジデオキシイノシン（ｄｄＩ）のどちらかを包含した。試験化合物はＤＭＳＯ中に溶解し、次いでそれぞれの場合に、最終ＤＭＳＯ濃度が１．５％を越えないようにして、組織培養培地で稀釈した。対照ウエルの全部にＤＭＳＯを対応する濃度で加えた。
ウイルスを加えた後に、細胞を加湿した５％ＣＯ2雰囲気において３７℃で７日間インキュベートした。試験化合物は、所望により、０日、２日および５日目に添加することができる。７日目のインキュベーション後に、各ウエルの細胞を再懸濁し、各細胞懸濁液の試料１００μｌを検定用に取り出した。３−（４，５−ジメチルチアゾール−２−イル）−２，５−ジフェニルテトラゾリウムブロマイド（ＭＴＴ）の５ｍｇ／ｍｌ溶液２０μｌ容積を、各細胞懸濁液１００μｌに添加し、細胞を５％ＣＯ2雰囲気において２７℃で４時間インキュベートした。このインキュベート期間中に、ＭＴＴは生きている細胞により代謝的に還元され、細胞で着色したホルマザン生成物の生成をもたらす。各試料に０．０１Ｎ ＨＣｌ中の１０％ドデシル硫酸ナトリウム１００μｌを添加して、細胞を溶解させ、次いで試料を一夜にわたりインキュベートした。各試料について、モレキュラー デバイス マイクロプレート リーダー（Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｄｅｖｉｃｅｓ ｍｉｃｒｏｐｌａｔｅ ｒｅａｄｅｒ）を用いて、５９０ｎｍにおける吸光値を測定した。各組のウエルにかかわる吸光値を、ウイルス感染対照、未感染対照細胞応答および試験化合物を比較し、細胞毒性および抗ウイルス効力により評価した。選択された化合物の結果を表１６に示す。
Figure 0004014220
Figure 0004014220
Figure 0004014220
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本発明の化合物は有効な抗ウイルス化合物であり、特に上記したようにレトロウイルスに対して有効である。従って、本発明の主題の化合物は効果的なＨＩＶプロテアーゼ インヒビターである。本発明の主題の化合物はまた、その他のレトロウイルス、例えば別種のＨＩＶ、例えばＨＩＶ−２、ヒトＴ−細胞白血病ウイルス、呼吸器系シンシチアルウイルス（ｒａｓｐｉｒａｔｏｒｙ ｓｙｎｃｉｔｉａｌ ｖｉｒｕｓ）、サル免疫不全ウイルス、ネコ白血病ウイルス、ネコ免疫不全ウイルス、ヘパドナウイルス（ｈｅｐａｄｎａｖｉｒｕｓ）、サイトメガロウイルスおよびピコルナウイルス（ｐｉｃｏｒｎａｖｉｒｕｓ）を抑制するものと見做される。従って、本発明の主題の化合物はレトロウイルス感染の処置および（または）予防に有効である。
本発明の主題の化合物はまた、溶液中におけるレトロウイルスの増殖の防止に有効である。ヒトおよび動物の両方の細胞培養物、例えばＴ−白血球培養物は種々の周知の目的に、例えばカリブレーターおよびコントロールを包含する研究および診断法に利用される。細胞培養物の増殖前および増殖中ならびに保存前および保存中に、本発明の主題の化合物を細胞培地に有効濃度で添加して、当該細胞培養物中に不注意に、または知らぬ間に存在することがあるレトロウイルスの望ましくない、または予想外の複製を防止することができる。ウイルスは細胞培養物中に元から存在することがあり、例えばＨＩＶは、血液中で検出できる以前から、あるいはウイルスにさらされることによって、ヒトＴ−白血球に存在することが知られている。本発明の主題の化合物のこの使用は、研究者または医師が知らぬ間にまたは不注意の結果として、潜在的に致死性のレトロウイルスにさらされるのを防止する。
本発明の化合物は１個または２個以上の不斉炭素原子を有することができ、従って光学異性体の形態で、またはそのラセミ体または非ラセミ体混合物の形態で存在することができる。この光学異性体は、ラセミ体混合物を慣用の方法によって、例えば光学活性の酸または塩基で処理することによりジアステレオイソマー塩を形成することにより分割することによって得ることができる。適当な酸の例には、酒石酸、ジアセチル酒石酸、ジベンゾイル酒石酸、ジトルオイル酒石酸およびカンファースルホン酸があり、次いでこのジアステレオイソマーの混合物を結晶化し、これらの塩から光学活性塩基を遊離させることによって分離することができる。光学異性体の別の分離方法は、エナンチオマーの分離が最大にされるように最適に選択されたキラルクロマトグラフイカラムを使用することを包含する。さらにもう一つの利用できる方法は、式Ｉで表わされる化合物を活性化した形態で光学的に純粋な酸と、または光学的に純粋なイソシアネートと反応させることによって共有ジアステレオイソマー分子を合成することを包含する。この合成されたジアステレオイソマーは、クロマトグラフイ、蒸留、結晶化または昇華などの慣用の手段によって分離し、次いで加水分解してエナンチオマー的に純粋な化合物を遊離させることができる。式Ｉで表わされる光学活性化合物はまた、光学活性出発物質を使用して得ることもできる。これらの異性体は遊離の酸、遊離塩基、エステルまたは塩の形態であることができる。
本発明の化合物は、無機酸または有機酸から誘導される塩の形態で使用することができる。これらの塩には、これらに制限されないものとして、下記の塩が包含される：酢酸塩、アジピン酸塩、アルギン酸塩、クエン酸塩、アスパラギン酸塩、安息香酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、重硫酸塩、ブチル酸塩、樟脳酸塩、カンファスルホン酸塩、ジグルコン酸塩、シクロペンタンプロピオン酸塩、ドデシル硫酸塩、エタンスルホン酸塩、グルコヘプタン酸塩、グリセロリン酸塩、ヘミ−硫酸塩、ヘプタン酸塩、ヘキサン酸塩、フマール酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、２−ヒドロキシ−エタンスルホン酸塩、乳酸塩、マレイン酸塩、メタンスルホン酸塩、ニコチン酸塩、２−ナフタレンスルホン酸塩、シュウ酸塩、パルモ酸塩、ピクチン酸塩、過硫酸塩、３−フェニルプロピオン酸塩、ピクリン酸塩、ピバリン酸塩、プロピオン酸塩、コハク酸塩、酒石酸塩、チオシアン酸塩、トシル酸塩、メシル酸塩およびウンデカン酸塩。また、塩基性窒素含有基は、低級アルキルハライド、例えばメチル、エチル、プロピル、およびブチル クロライド、ブロマイドおよびヨウダイド；ジアルキル硫酸、例えばジメチル、ジエチル、ジブチル、およびジアミル硫酸；長鎖ハライド、例えばデシル、ラウリル、ミリスチルおよびステリル クロライド、ブロマイドおよびヨウダイド；アラルキルハライド、例えばベンジルおよびフェネチル ブロマイドなどの反応剤により四級化することができる。これによって、水溶性または油溶性あるいはまた分散性の生成物が得られる。
医薬として許容される酸付加塩の形成に使用することができる酸の例には、塩酸、硫酸およびリン酸などの無機酸およびまたシュウ酸、マレイン酸、コハク酸およびクエン酸などの有機酸が包含される。その他の例には、アルカリ金属またはアルカリ土類金属、例えばナトリウム、カリウム、カルシウムまたはマグネシウムとの塩あるいは有機塩基との塩が包含される。
本発明の化合物はまた、プロドラッグおよび式Ｉのエステルの形態で使用することもできる。本明細書で使用するものとして、「プロドラッグ」の用語は、対象に投与されると代謝プロセスまたは化学プロセスにより化学的に変換されて、式Ｉで表わされる化合物またはその塩を生成する式Ｉで表わされる誘導体を意味する。バンドナード（Ｈ．Ｂｕｎｄｇｎａｒｄ）による“Ｄｒｕｇｅ ｏｆ ｔｈｅ Ｆｕｔｕｒｅ”，１６：４４３〜４５８（１９９１）；およびバンドナード（Ｈ．Ｂｕｎｄｇｎａｒｄ）による“Ｄｅｓｉｇｎ ｏｆ Ｐｒｏｄｒｕｇｓ”，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ，Ａｍｓｔｅｒｄａｍ，１９８５参照（両刊行物を引用してここに組み入れる）。
単次または分割用量でホストに投与される総一日薬用量は、例えば０．００１〜１０ｍｇ／体重ｋｇ／日であり、さらに通常、０．０１〜１ｍｇである。用量単位製剤は、一日薬用量を用意するために、多回投与の一部分に相当する量を含有することができる。
単次用量を得るために担体材料と組合わせることができる活性成分の量は、処置されるホストおよび特定の投与方法に応じて変わる。
病気の症状を処置するための本発明の化合物および（または）製剤による投与量計画は、患者の種、年齢、体重、性別、食餌および医療状態、病気の重篤度、投与経路、薬理学的考慮、例えば使用される特定の化合物の活性、効力、薬理学的動態および毒学上の挙動、医薬放出系が利用されるか否か、およびまた化合物が組合わせ医薬の一部として投与されるか否か、を包含する種々の因子に応じて選択する。従って、実際に使用される投与量計画は広く変えることができ、従って上記の好適投与量計画から逸脱することもできる。
本発明の化合物は、用量単位製剤として経口投与、非経口投与、吸入による投与、直腸投与または局所投与することができ、この用量単位製剤は所望により、慣用の無毒性で医薬上で許容される担体、助剤およびベヒクルを含有する。局所投与はまた、経皮貼布剤またはイオン泳動性用具などの経皮投与の使用を包含する。本明細書で使用されているものとして、非経口の用語は、皮下注射、血管内注射、筋肉内注射、胸骨内注射または潅流技術を包含する。
注射用製剤、例えば無菌注射用水性または油性懸濁液は、適当な分散剤または湿潤剤および懸濁剤を使用する公知の技術に従い調合することができる。無菌注射用製剤はまた、無毒性の非経口投与として許容される稀釈剤または溶剤中の無菌注射溶液または懸濁液であることができ、例えば１，３−ブタンジオール溶液であることができる。使用できる許容されるベヒクルおよび溶剤の例には水、リンゲル（Ｒｉｎｇｅｒ）溶液、および等張塩化ナトリウム溶液がある。さらに、無菌の不揮発性油は溶剤または懸濁媒質として慣用である。この目的には、合成モノ−またはジグリセライド類を包含する全ての温和な不揮発性油を使用することができる。さらにまた、オレイン酸などの脂肪酸も注射製剤における使用が見出される。
医薬の直腸投与用座薬は、医薬を適当な無刺激性賦形剤、例えば常温では固形であるが、直腸温度では液体であり、従って直腸で融解して医薬を放出するカカオ脂およびポリエチレングリコール類と混合することによって調製することができる。
経口投与用の固形剤型は、カプセル剤、錠剤、丸剤、粉末および顆粒を包含することができる。これらの固形用量形態では、活性化合物が少なくとも１種の不活性稀釈剤、例えばショ糖、乳糖または澱粉と混合される。このような剤型はまた、常用成分として、不活性稀釈剤以外の追加の物質、例えばステアリン酸マグネシウムなどの滑剤を含有することができる。カプセル剤、錠剤、および丸剤の場合に、この剤型はまた、緩衝剤を含有することができる。錠剤およびピルはまた、腸溶被膜を用いて調製することができる。
経口投与用の液状剤型は、医薬上で許容されるエマルジョン、溶液、懸濁液、シロップ、およびエレキシルを包含することができ、これらは当技術で慣用の不活性稀釈剤、例えば水を含有する。このような製剤はまた、助剤、例えば湿潤剤、乳化剤および懸濁剤、ならびに甘味料、風味付与物質および香付与物質を含有することができる。
本発明の化合物は単独の薬剤として投与することができるが、これらの化合物はまた、１種または２種以上の免疫調節薬、抗ウイルス薬またはその他の抗感染薬と組合わせて使用することもできる。例えば、本発明の化合物は、ＡＺＴ、ＤＤＩ、ＤＯＣと組合わせて、またはＮ−ブチル−１−デオキシノジリマイシンまたはそのプロドラッグと組合わせて、ＡＩＤＳの予防および（または）処置用に投与することができる。組合わせて投与する場合に、この治療剤は同時に、または相違する時点で投与される分離した製剤として調合することができ、あるいはこの治療剤は、単一の製剤として投与することもできる。
前記記載は本発明を説明するものであって、本発明を開示されている化合物に制限するものと解釈されるべきではない。変更および修正は当業者にとって自明であり、請求の範囲に規定されている発明の範囲および精神の範囲内にあるものとする。
前記記載から、当業者は本発明の基本的特徴を容易に認識することができ、かつまたその範囲および精神から逸脱することなく、各種用途および条件に適合させるために、本発明の種々の変更および修正をなすことができる。

Claims (16)

  1. 下記式で表わされる化合物又はその医薬として許容される塩：
    Figure 0004014220
    式中、
    Ｒ1は水素、アルキル、アルケニル、又はアルキニル基を表わし；
    Ｒ2 はアリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アラルキル、ヘテロアリール又はヘテロアラルキル基を表わし、これらの基は１個又は２個以上のアルキル、ハロゲン、−ＮＯ2、−ＣＮ、−ＣＦ3、
    −ＯＲ9又はＳＲ9基により置換されていてもよく、ここでＲ9は水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル又はヘテロシクロ基を表わし；
    Ｒ3は水素、アルキル、アルケニル、又はアルキニル基であり；
    Ｒ4 はシクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロ、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、又はヘテロアラルキル基であり；
    Ｒ6は水素又はアルキル基を表わし；
    Ｒ 7 及びＲ8はそれぞれ独立して、水素又はアルキル基を表わし；
    Ｒ10及びＲ11はそれぞれ独立して、水素、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロ、ヘテロシクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、又はヘテロアラルキル基であり；あるいはＲ10及びＲ11は、これらが結合している窒素と一緒になって、ヘテロシクロ、ヘテロアリール、アラルキルヘテロアリール、アラルキルヘテロシクロ、ヘテロアラルキルヘテロアリール又はヘテロアラルキルヘテロシクロ基を表わし；
    そして
    ここでアルキルは、単独又は組合わされて、炭素原子１〜１０個を有する直鎖状又は分枝鎖状炭化水素基であり、アルケニルは、単独又は組合わされて、１個又は２個以上の二重結合を有し、かつまた炭素原子２〜１０個を有する直鎖状又は分枝鎖状炭化水素基を意味し；アルキニルは、単独又は組合わされて、１個又は２個以上の三重結合を有し、かつまた炭素原子２〜１０個を有する直鎖状炭化水素基を意味し；シクロアルキルは、単独又は組合わされて、飽和又は部分的不飽和の一環状、二環状又は三環状の炭化水素環であり、この環はそれぞれの環で炭素原子３〜８個を有するベンゾ縮合されていてもよく；アリールは、単独又は組合わされて、フェニル又はナフチル基を意味し、この基はアルキル、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、シアノ、ハロアルキル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、シクロアルキル、ヘテロシクロ、アルカノイルアミノ、アミド、アミジノ、アルコキシカルボニルアミノ、Ｎ−アルキルアミジノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、Ｎ−アルキルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミド、又はアラルコキシカルボニルアミノ基により置換されていてもよく；ヘテロシクロは、単独又は組合わされて、それぞれの環に３個〜８個の原子を含む飽和又は部分的不飽和の一環状、二環状又は三環状のヘテロ環状基であり、この環は１個又は２個以上に窒素、酸素又は硫黄ヘテロ原子を含有しており、この環はその１個又は２個以上の炭素原子上に、置換基としてハロゲン、アルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、オキソ アリール、アラルキル ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、アミジノ、Ｎ−アルキルアミジノ、アルコキシカルボニルアミノ及びアルキルスルホニルアミノ基を有していてもよく、あるいは第二窒素原子上に、置換基としてヒドロキシ、アルキル、アラルコキシカルボニル、アルカノイル、ヘテロアラルキル、フェニル又はフェニルアルキル基を有していてもよく、あるいは第三窒素原子上に、置換基としてオキシド基を有していてもよく；そしてヘテロアリールは、単独又は組合わされて、芳香族ヘテロ環状基を意味し、この基はヘテロシクロの定義に関する上記定義のとおりの置換基を有していてもよい。
  2. 下記式で表わされる化合物又はその医薬として許容される塩である、請求項１に記載の化合物：
    Figure 0004014220
    式中、Ｒ1は水素、アルキル、アルケニル、又ははアルキニル基を表わし；
    Ｒ2 はシクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール又はヘテロアラルキル基を表わし、これらの基は１個又は２個以上のアルキル、ハロゲン、−ＮＯ2、−ＣＮ、−ＣＦ3、
    −ＯＲ9又はＳＲ9基により置換されていてもよく、ここでＲ9は水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル又はヘテロシクロ基を表わし；
    Ｒ3は水素、アルキル、アルケニル、又はアルキニル基を表わし；
    Ｒ4 はシクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロ、ヘテロシクロアルキル、ヘテロアリール、アリール、アラルキル、アラルケニル、又はヘテロアラルキル基を表わし；
    Ｒ6は水素又はアルキル基を表わし；
    Ｒ 10は水素、アルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクロ、ヘテロシクロアルキル、ヘテロアリール又はヘテロアラルキル基を表わし；及び
    Ｒ11は水素、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロ、ヘテロシクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、又はヘテロアラルキル基であり；あるいはＲ10及びＲ11は、これらが結合している窒素と一緒になって、ヘテロシクロ、ヘテロアリール、アラルキルヘテロアリール、アラルキルヘテロシクロ、ヘテロアラルキルヘテロアリール又はヘテロアラルキルヘテロシクロ基を表わす。
  3. Ｒ1は水素、アルキル、アルケニル、又はアルキニル基を表わし；
    Ｒ2 はシクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアラルキル基を表わし、これらの基は１個又は２個以上のアルキル、ハロゲン、−ＮＯ2、−ＣＮ、−ＣＦ3、−ＯＲ9又はＳＲ9基により置換されていてもよく、ここでＲ9は水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル又はヘテロシクロ基を表わし；
    Ｒ3はアルキル、アルケニル、又はアルキニル基を表わし；
    Ｒ4 はシクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロ、ヘテロシクロアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、アリール、アラルキル又はアラルケニル基を表わし；
    Ｒ6は水素を表わし；
    Ｒ 10は水素、アルキル、アラルキル又はヘテロアラルキル基を表わし；及び
    Ｒ11は水素、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロ、ヘテロシクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、又はヘテロアラルキル基を表わし；あるいはＲ10及びＲ11は、これらが結合している窒素と一緒になって、ヘテロシクロ、ヘテロアリール、アラルキルヘテロアリール、アラルキルヘテロシクロ、ヘテロアラルキルヘテロアリール又はヘテロアラルキルヘテロシクロ基を表わす；
    である化合物又はその医薬として許容される塩である、請求項２に記載の化合物。
  4. Ｒ1は水素、アルキル、アルケニル、又はアルキニル基を表わし；
    Ｒ2 はシクロアルキルアルキル、アラルキル又はヘテロアラルキル基を表わし、これらの基は１個又は２個以上のハロゲン、−ＯＲ9又はＳＲ9基により置換されていてもよく、ここでＲ9は水素、アルキル又はアリール基を表わし；
    Ｒ3はアルキル、アルケニル、又はアルキニル基を表わし；
    Ｒ4 はヘテロシクロ、ヘテロアリール、アリール、アラルキル又はアラルケニル基を表わし；
    Ｒ6は水素を表わし；
    Ｒ 10は水素、アルキル又はアラルキル基を表わし、及び
    Ｒ11は水素、アルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル基を表わし；あるいはＲ10及びＲ11は、これらが結合している窒素と一緒になって、ヘテロシクロ、ヘテロアリール、ヘテロアラルキルヘテロアリール又はヘテロアラルキルヘテロシクロ基を表わす、
    化合物又はその医薬として許容される塩である、請求項３に記載の化合物。
  5. Ｒ1は水素、メチル、エチル、イソプロピル、イソ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、プロペニル、又はプロパルギル基を表わし；
    Ｒ2 はベンジル、フルオロベンジル、ヒドロキシベンジル、メトキシベンジル、チアゾリルメチル、フェニルチオメチル、ナフチルチオメチル、ナフチルメチル又はシクロヘキシルメチル基を表わし；
    Ｒ3はメチル、イソアミル、イソ−ブチル、ｎ−ブチル、プロピル、２−メチルブチル、プロペニル、又はプロパルギル基を表わし；
    Ｒ4 はベンジル、フェニルエテニル、フェニル、ナフチル、ピリジル、チエニル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、イミダゾリル、２，３−ジヒドロベンゾフラニル、１，３−ベンゾジオキソリル、フリル、１，４−ベンゾジオキサニル、ベンズイミダゾリル、ベンズイミダゾロニル、オキサゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズイソオキサゾリル又はピペリラジニルフェニル基、あるいは１個又は２個以上のメチル、メトキシ、エトキシ、メチルスルホニル、
    −ＣＦ3、フルオロ、クロロ、ヒドロキシ、メトキシカルボニル、カルボキシ、アミノ、ジメチルアミノ又はニトロ基により置換されているフェニル又はピリジル基を表わし；
    Ｒ6は水素基を表わし；
    Ｒ10は水素、メチル、エチル又はベンジル基を表わし；及び
    Ｒ11は水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、シクロヘキシルメチル、フェニル、アミジノフェニル、ピリジル、アミジノピリジル、ベンジル、ヒドロキシベンジル、メトキシベンジル、ジメトキシベンジル、アミノベンジル、アミジノベンジル、ジフェニルメチル、ピリジルメチル、イミダゾリルメチル、（２，３−ジヒドロベンズオキサゾリル）メチル、テトラヒドロフラニルメチル、ピロリジニルエチル、ピペリジニルエチル、モルホリニルエチル、ピペラジニルエチル、Ｎ−メチルピペラジニルエチル、Ｎ−ベンジルピペラジニルエチル、（Ｎ−メチルアミノチアゾリル）メチル、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノチアゾリル）メチル、チアゾリルメチル又は（イソプロピルチアゾリル）メチル基を表わし；あるいはＲ10及びＲ11は、これらが結合している窒素と一緒になって、ピペリジニル、モルホリニル、ピペラジニル、Ｎ−メチルピペラジニル、ピロリジニル、アミジノピロリジニル、（Ｎ−メチルアミジノ）ピロリジニル、ピロリル、アミジノピロリル、（Ｎ−メチルアミジノ）ピロリル、Ｎ−ベンジルピペラジニル、Ｎ−（ピリジルメチル）ピペラジニル、Ｎ−［（Ｎ−メチルアミノチアゾリル）メチル］ピペラジニル、Ｎ−［（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノチアゾリル）メチル］ピペラジニル、Ｎ−（チアゾリルメチル）ピペラジニル又はＮ−［（イソプロピルチアゾリル）メチル］ピペラジニル基を表わす、
    化合物又はその医薬として許容される塩である、請求項４に記載の化合物。
  6. Ｒ1は水素、メチル、エチル、イソプロピル、プロピル、又はｔｅｒｔ−ブチル基を表わし；
    Ｒ2はベンジル、フルオロベンジル、フェニルチオメチル、ナフチルチオメチル又はシクロヘキシルメチル基を表わし；
    Ｒ3はイソアミル、又はイソ−ブチル基を表わし；
    Ｒ4はフェニル、ナフチル、ピリジル、チエニル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、２，３−ジヒドロベンゾフラニル、１，３−ベンゾジオキソリル、フリル、１，４−ベンゾジオキサニル、ベンズイミダゾリル、ベンズイミダゾロニル又はベンズオキサゾリル基、あるいは１個又は２個以上のメチル、メトキシ、エトキシ、フルオロ、クロロ又はアミノ基により置換されているフェニル基を表わし；
    Ｒ6は水素基を表わし；
    Ｒ 10は水素、メチル、エチル又はベンジル基を表わし；及び
    Ｒ11は水素、メチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニル、ベンジル、ヒドロキシベンジル、メトキシベンジル、ジメトキシベンジル、アミノベンジル、ピリジルメチル、イミダゾリルメチル、（２，３−ジヒドロベンズオキサゾリル）メチル、ピロリジニルエチル、ピペリジニルエチル、モルホリニルエチル、ピペラジニルエチル、Ｎ−メチルピペラジニルエチル、Ｎ−ベンジルピペラジニルエチル又はチアゾリルメチル基を表わし；あるいはＲ10及びＲ11は、これらが結合している窒素と一緒になって、ピペリジニル、モルホリニル、ピペラジニル、Ｎ−メチルピペラジニル、ピロリジニル、ピロリル、Ｎ−ベンジルピペラジニル、Ｎ−（ピリジルメチル）ピペラジニル又はＮ−（チアゾリルメチル）ピペラジニル基を表わす、
    化合物又はその医薬として許容される塩である、請求項５に記載の化合物。
  7. Ｒ1は水素又はアルキル基を表わし；
    Ｒ2はシクロアルキルアルキル又はアラルキル基を表わし、これらの基は１個又は２個以上のハロゲン、−ＯＲ9又はＳＲ9基により置換されていてもよく、ここでＲ9はアリール基を表わし；
    Ｒ3はアルキル基を表わし；
    Ｒ4はヘテロシクロ、ヘテロアリール又はアリール基を表わし、これらの基は１個又は２個以上のアルキル、アルコキシ、ハロ、アミノ又はアルコキシカルボニルアミノ基により置換されていてもよく；
    Ｒ6は水素基を表わし；
    Ｒ 10は水素、アルキル又はアラルキル基を表わし；及び
    Ｒ11は水素、アルキル、アラルキル、ヘテロアラルキル又はヘテロシクロアルキル基を表わし；あるいはＲ10及びＲ11は、これらが結合している窒素と一緒になって、ヘテロシクロ基を表わし、この基はその第二窒素環原子がアルキル、アラルキル又はヘテロアラルキル基により置換されていてもよい、
    化合物又はその医薬として許容される塩である、請求項３に記載の化合物。
  8. Ｒ1は水素、メチル、エチル、イソプロピル又はプロピル基を表わし；
    Ｒ2はベンジル、フルオロベンジル、フェニルチオメチル、ナフチルチオメチル又はシクロヘキシルメチル基を表わし；
    Ｒ3はイソアミル、又はイソ−ブチル基を表わし；
    Ｒ4はフェニル、ナフチル、ベンゾチアゾリル、２，３−ジヒドロベンゾフラニル、１，３−ベンゾジオキソリル、１，４−ベンゾジオキサニル、ベンズイミダゾリル、ベンズイミダゾロニル又はベンズオキサゾリル基、あるいは１個又は２個以上のメチル、メトキシ、エトキシ、フルオロ、クロロ、アミノ又はメトキシカルボニルアミノ基により置換されているフェニル基を表わし；
    Ｒ6は水素基を表わし；
    Ｒ 10は水素、メチル、エチル又はベンジル基を表わし；及び
    Ｒ11は水素、メチル、ベンジル、ピリジルメチル、ピロリジニルエチル、ピペリジニルエチル、モルホリニルエチル、ピペラジニルエチル又はチアゾリルメチル基を表わし；あるいはＲ10及びＲ11は、これらが結合している窒素と一緒になって、ピペリジニル、モルホリニル、ピペラジニル、Ｎ−メチルピペラジニル、ピロリジニル、ピロリル、Ｎ−ベンジルピペラジニル、Ｎ−（ピリジルメチル）ピペラジニル又はＮ−（チアゾリルメチル）ピペラジニル基を表わす、
    化合物又はその医薬として許容される塩である、請求項７に記載の化合物。
  9. Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−（１−モルホリノスルホニル）−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミド；
    Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（４−メチルピペリジン−１−イル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミド；
    Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−アミノスルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミド；
    Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（ジメチルアミノ）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミド；
    Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−（１−ピペリジニル）スルホニル−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミド；
    Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［Ｎ−（ベンジル）−Ｎ−（ジフェニルメチル）アミノスルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミド；
    Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［Ｎ−（ベンジル）アミノスルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミド；
    Ｎ−［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［Ｎ1−（２−メチルプロピル）−Ｎ1−［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−２Ｓ−メチル−３−［（Ｎ2−メチル−Ｎ2−ベンジルアミノ）スルホニル］プロパンアミド；
    Ｎ−［２Ｒ−ヒドロキシ−３−［Ｎ1−（２−メチルプロピル）−Ｎ1−［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アミノ］−１Ｓ−（フェニルメチル）プロピル］−２Ｓ−メチル−３−［（Ｎ2−メチル−Ｎ2−フェニルアミノ）スルホニル］プロパンアミド；
    Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３Ｓ−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（４−メチルピペラジン−１−イル）スルホニル］−２Ｒ−メチルプロピオンアミド；
    Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３Ｓ−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（ピペラジン−１−イル）スルホニル］−２Ｒ−メチルプロピオンアミド；
    Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３Ｓ−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（４−ベンジルピペラジン−１−イル）スルホニル］−２Ｒ−メチルプロピオンアミド；
    Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３Ｓ−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［［４−（３−ピリジルメチル）ピペラジン−１−イル］スルホニル］−２Ｒ−メチルプロピオンアミド；
    Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３Ｓ−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［［４−（２−ピリジルメチル）ピペラジン−１−イル］スルホニル］−２Ｒ−メチルプロピオンアミド；
    Ｎ 1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３Ｓ−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（ジメチルアミノ）スルホニル］−２Ｒ−メチルプロピオンアミド；
    Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３Ｓ−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（１−モルホリニル）スルホニル］−２Ｒ−メチルプロピオンアミド；
    Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３Ｓ−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（１−ピロリジニル）スルホニル］−２Ｒ−メチルプロピオンアミド；又は
    Ｎ1−［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アミノ］−２Ｒ−ヒドロキシ−３Ｓ−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（１−ピペリジニル）スルホニル］−２Ｒ−メチルプロピオンアミド；
    Ｎ 1 −［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−（１−モルホリノスルホニル）−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミド；
    Ｎ 1 −［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（１−メチルピペラジン−１−イル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミド；
    Ｎ 1 −［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−（４−メトキシフェニルスルホニル）アミノ］−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［（１−ピペリジニル）スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミド；又は
    Ｎ 1 −［１−［Ｎ−（２−メチルプロピル）−Ｎ−［（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アミノ］−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３（Ｓ）−（フェニルメチル）プロプ−３−イル］−３−［［４−（４−ピリジルメチル）ピペラジン−１−イル］スルホニル］−２（Ｒ）−メチルプロピオンアミドである、
    請求項１に記載の化合物又はその医薬として許容される塩。
  10. 請求項１に記載の化合物又はその医薬として許容される塩及び医薬上で許容される担体を含有する医薬組成物。
  11. 請求項１に記載の化合物又はその医薬として許容される塩の有効量を含有するレトロウイルスプロテアーゼを阻害するための医薬組成物。
  12. 上記レトロウイルスプロテアーゼがＨＩＶプロテアーゼである、請求項１１に記載の組成物。
  13. レトロウイルス感染の処置のための請求項１０の組成物。
  14. 上記レトロウイルス感染がＨＩＶ感染である、請求項１３に記載の組成物。
  15. 請求項１に記載の化合物又はその医薬として許容される塩の有効量を含有するレトロウイルスの複製を防止するための医薬組成物。
  16. 上記レトロウイルスがＨＩＶ−１又はＨＩＶ−２である、請求項１５に記載の組成物。
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Families Citing this family (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040122000A1 (en) 1981-01-07 2004-06-24 Vertex Pharmaceuticals Incorporated. Inhibitors of aspartyl protease
EP1586558A3 (en) 1995-01-20 2005-10-26 G.D. Searle LLC. Bis-sulfonamide hydroxyethylamino retroviral protease inhinitors
US6140505A (en) * 1995-03-10 2000-10-31 G. D. Searle & Co. Synthesis of benzo fused heterocyclic sulfonyl chlorides
JP2000515488A (ja) * 1995-11-15 2000-11-21 ジー．ディー．サール アンド カンパニー 置換スルホニルアルカノイルアミノヒドロキシエチルアミノスルホンアミド レトロウイルスプロテアーゼ阻害剤
DE19730602A1 (de) * 1997-07-17 1999-01-21 Clariant Gmbh 3-Acetoxy-2-methylbenzoesäurechlorid und ein Verfahren zu seiner Herstellung
EP1095022A1 (en) 1998-07-08 2001-05-02 G.D. Searle & Co. Retroviral protease inhibitors
TWI260322B (en) * 1999-02-12 2006-08-21 Vertex Pharma Inhibitors of aspartyl protease
ATE311391T1 (de) * 1999-02-12 2005-12-15 Vertex Pharma Aspartyl-protease-inhibitoren
AR031520A1 (es) * 1999-06-11 2003-09-24 Vertex Pharma Un compuesto inhibidor de aspartilo proteasa, una composicion que lo comprende y un metodo para tratar un paciente con dicha composicion
US6846813B2 (en) * 2000-06-30 2005-01-25 Pharmacia & Upjohn Company Compounds to treat alzheimer's disease
US6506786B2 (en) * 2001-02-13 2003-01-14 Pharmacor Inc. HIV protease inhibitors based on amino acid derivatives
DE60215623T2 (de) 2001-02-14 2007-08-30 Tibotec Pharmaceuticals Ltd. Breitspektrum 2-(substituierte-amino)-benzothiazol-sulfonamide hiv protease inhibitoren
IL158092A0 (en) * 2001-04-09 2004-03-28 Tibotec Pharm Ltd Broadspectrum 2- (substituted-amino)-benzoxazole sulfonamide hiv protease inhibitors
MXPA03010258A (es) 2001-05-11 2005-03-07 Tibotec Pharm Ltd 2-amino-benzoxazol sulfonamidas, inhibidores de amplio espectro de la vih proteasa.
MXPA04005428A (es) 2001-12-06 2004-12-06 Elan Pharm Inc Hidroxietilaminas substituidas.
US7763641B2 (en) 2001-12-21 2010-07-27 Tibotec Pharmaceuticals Ltd. Broadspectrum heterocyclic substituted phenyl containing sulfonamide HIV protease inhibitors
EP1466896A4 (en) * 2001-12-28 2005-01-26 Ajinomoto Kk PROCESS FOR PRODUCING A CRYSTAL OF A BENZENESULFONAMIDE DERIVATIVE, AND A NEW CRYSTAL OF AN INTERMEDIATE PRODUCT OF SAID DERIVATIVE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
MY142238A (en) * 2002-03-12 2010-11-15 Tibotec Pharm Ltd Broadspectrum substituted benzimidazole sulfonamide hiv protease inhibitors
AR039887A1 (es) * 2002-05-17 2005-03-09 Tibotec Pharm Ltd Inhibidores de la proteasa de hiv de benzisoxazol sulfonamida sustituida de amplio espectro, composiciones y combinaciones farmaceuticas, y uso de dichos inhibidores para la elaboracion de un medicamento para tratar condiciones asociadas con hiv y otros retrovirus patogenos
EP1546153A1 (en) * 2002-08-14 2005-06-29 Tibotec Pharmaceuticals Ltd. Broadspectrum substituted oxindole sulfonamide hiv protease inhibitors
EP1534693A2 (en) * 2002-09-06 2005-06-01 Elan Pharmaceuticals, Inc. 1, 3-diamino-2-hydroxypropane prodrug derivatives
JP2006514614A (ja) * 2002-10-24 2006-05-11 ステリックス リミテッド １１β−ヒドロキシステロイドデヒドロゲナーゼ１型および２型のインヒビター
GB0224830D0 (en) * 2002-10-24 2002-12-04 Sterix Ltd Compound
EP1572173B1 (en) 2002-12-13 2010-04-28 Warner-Lambert Company LLC Alpha-2-delta ligand to treat lower urinary tract symptoms
JP4818124B2 (ja) 2003-12-23 2011-11-16 テイボテク・フアーマシユーチカルズ・リミテツド （３Ｒ，３ａＳ，６ａＲ）−ヘキサヒドロフロ〔２，３−ｂ〕フラン−３−イル（１Ｓ，１Ｒ）−３−〔〔（４−アミノフェニル）スルホニル〕（イソブチル）アミノ〕−１−ベンジル−２−ヒドロキシプロピルカルバマートの製造方法
MXPA06007211A (es) 2003-12-23 2006-08-18 Tibotec Pharm Ltd Procedimiento para la preparacion de (3r, 3as, 6ar)-hexahidrofuro [2, 3-b]furan-3- il(1s, 2r)-3 -[[(4-amonofenil) sulfonil] (isobutil) amino]-1 -bencil-2- hidroxipropilcarbamato.
JP2007518788A (ja) 2004-01-22 2007-07-12 ファイザー・インク バソプレッシンのアンタゴニスト活性を阻害するトリアゾール誘導体
EP1742932A1 (en) * 2004-04-28 2007-01-17 Pfizer Limited 3-heterocyclyl-4-phenyl-triazole derivatives as inhibitors of the vasopressin v1a receptor
US7388008B2 (en) * 2004-08-02 2008-06-17 Ambrilia Biopharma Inc. Lysine based compounds
ES2539527T3 (es) * 2005-04-27 2015-07-01 Taimed Biologics, Inc. Método para mejorar la farmacocinética de los inhibidores de las proteasas y de los precursores de los inhibidores de las proteasas
ES2452718T3 (es) * 2005-11-30 2014-04-02 Taimed Biologics, Inc. Profármacos a base de lisina de inhibidores de la aspartil proteasa y procesos para su preparación
US8110678B2 (en) 2006-05-11 2012-02-07 University Of South Florida Antibiotic-bound poly(caprolactone) polymer
WO2008078200A2 (en) 2006-09-21 2008-07-03 Ambrilia Biopharma Inc. Protease inhibitors
EP2344453B1 (en) 2008-10-09 2016-12-28 The U.S.A. As Represented By The Secretary, Department Of Health And Human Services Activators of human pyruvate kinase
EP2417123A2 (en) 2009-04-06 2012-02-15 Agios Pharmaceuticals, Inc. Therapeutic compositions and related methods of use
WO2010129596A1 (en) 2009-05-04 2010-11-11 Agios Pharmaceuticals, Inc. Pmk2 modulators for use in the treatment of cancer
EP3708169A1 (en) 2009-06-29 2020-09-16 Agios Pharmaceuticals, Inc. 2,3-dihydrobenzo[b][1,4]dioxine-6-sulfonamide derivatives having an anticancer activity
ES2618630T3 (es) 2009-06-29 2017-06-21 Agios Pharmaceuticals, Inc. Composiciones terapéuticas y métodos de uso relacionados
CA2797694A1 (en) 2010-04-29 2011-11-03 The United States Of America, As Represented By The Secretary, Departmen T Of Health And Human Services Activators of human pyruvate kinase
WO2012083246A1 (en) 2010-12-17 2012-06-21 Agios Pharmaceuticals, Inc. Novel n- (4- (azetidine - 1 - carbonyl) phenyl) - (hetero - ) arylsulfonamide derivatives as pyruvate kinase m2 (pmk2) modulators
CA2822432C (en) 2010-12-21 2019-09-24 Agios Pharmaceuticals, Inc. Bicyclic pkm2 activators
TWI549947B (zh) 2010-12-29 2016-09-21 阿吉歐斯製藥公司 治療化合物及組成物
ME03074B (me) 2011-05-03 2019-01-20 Agios Pharmaceuticals Inc Akтivatori piruvat kinaze za upotrebu u terapiji
CN104387299B (zh) * 2014-10-23 2016-08-17 凯莱英医药集团（天津）股份有限公司 4-氨基-n-[(2r, 3s)-3-氨基-2-羟基-4-苯丁基]-n-异丁基苯磺酰胺的制备方法
CA2989111C (en) 2015-06-11 2023-10-03 Agios Pharmaceuticals, Inc. Methods of using pyruvate kinase activators
CN115028597B (zh) * 2022-04-29 2024-03-26 闽都创新实验室 一种tempo连续脱氢环化制备苯并恶唑类衍生物的方法和应用

Family Cites Families (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5142056A (en) * 1989-05-23 1992-08-25 Abbott Laboratories Retroviral protease inhibiting compounds
DE3377497D1 (en) * 1982-09-15 1988-09-01 Haessle Ab Enzyme inhibitors
US4668770A (en) * 1982-12-27 1987-05-26 Merck & Co., Inc. Renin inhibitory tripeptides
EP0114993B1 (en) * 1982-12-27 1990-05-16 Merck & Co. Inc. Renin inhibitory tripeptides
EP0316965A3 (en) * 1983-02-07 1989-08-09 Aktiebolaget Hässle Enzyme inhibitors
JPS59227851A (ja) * 1983-06-09 1984-12-21 Sankyo Co Ltd レニン阻害作用を有するペプチド類
US4514391A (en) * 1983-07-21 1985-04-30 E. R. Squibb & Sons, Inc. Hydroxy substituted peptide compounds
US4477441A (en) * 1983-09-14 1984-10-16 Merck & Co., Inc. Renin inhibitors containing a C-terminal disulfide cycle
US4645759A (en) * 1984-06-22 1987-02-24 Abbott Laboratories Renin inhibiting compounds
US4616088A (en) * 1984-10-29 1986-10-07 E. R. Squibb & Sons, Inc. Amino acid ester and amide renin inhibitor
US4599198A (en) * 1985-08-02 1986-07-08 Pfizer Inc. Intermediates in polypeptide synthesis
US4668769A (en) * 1985-08-02 1987-05-26 Hoover Dennis J Oxa- and azahomocyclostatine polypeptides
CA1282549C (en) * 1985-11-12 1991-04-02 Eric M. Gordon Aminocarbonyl renin inhibitors
US4757050A (en) * 1985-12-23 1988-07-12 E. R. Squibb Sons, Inc. Ureido renin inhibitors
CA1297631C (en) * 1985-12-23 1992-03-17 Sesha I. Natarajan Ureido renin inhibitors
US4880938A (en) * 1986-06-16 1989-11-14 Merck & Co., Inc. Amino acid analogs
DE3635907A1 (de) * 1986-10-22 1988-04-28 Merck Patent Gmbh Hydroxy-aminosaeurederivate
CH676988A5 (ja) * 1987-01-21 1991-03-28 Sandoz Ag
USH725H (en) * 1987-02-26 1990-01-02 E. R. Squibb & Sons, Inc. Ureido amino and imino acids, compositions and methods for use
GB8707412D0 (en) * 1987-03-27 1987-04-29 Fujisawa Pharmaceutical Co Peptide compounds
DE3830825A1 (de) * 1987-09-15 1989-03-23 Sandoz Ag Hydrophile reninhemmer, ihre herstellung und verwendung
IL89900A0 (en) * 1988-04-12 1989-12-15 Merck & Co Inc Hiv protease inhibitors useful for the treatment of aids and pharmaceutical compositions containing them
US4977277A (en) * 1988-05-09 1990-12-11 Abbott Laboratories Functionalized peptidyl aminodiols and -triols 4-amino-5-cyclohexyl-3-hydroxy-1,2-oxopentane and derivatives thereof
IL90218A0 (en) * 1988-05-13 1989-12-15 Abbott Lab Retroviral protease inhibitors
CA1340588C (en) * 1988-06-13 1999-06-08 Balraj Krishan Handa Amino acid derivatives
IL91307A0 (en) * 1988-08-24 1990-03-19 Merck & Co Inc Hiv protease inhibitors and pharmaceutical compositions for the treatment of aids containing them
CA2012306A1 (en) * 1989-03-28 1990-09-28 Werner Neidhart Amino acid derivatives
JP2701932B2 (ja) * 1989-04-10 1998-01-21 サントリー株式会社 タンパク質分解酵素阻害剤
DE3912829A1 (de) * 1989-04-19 1990-10-25 Bayer Ag Verwendung von renininhibitorischen peptiden als mittel gegen retroviren
CA2078436A1 (en) 1990-03-16 1991-09-17 H. Richard Vermehren Gummer roll apparatus
TW225540B (ja) * 1990-06-28 1994-06-21 Shionogi & Co
EP0538366A1 (en) 1990-07-06 1993-04-28 Smithkline Beecham Corporation Retroviral protease inhibitors
ATE155477T1 (de) * 1991-11-11 1997-08-15 Symbicom Ab Gangliosideanaloge
AU3139493A (en) * 1991-11-15 1993-06-15 Trustees Of Princeton University, The Totipotent hematopoietic stem cell receptors and their ligands
WO1993023368A1 (en) * 1992-05-20 1993-11-25 G.D. Searle & Co. Urea-containing hydroxyethylamine compounds as retroviral protease inhibitors
DE69329996T2 (de) * 1992-05-21 2001-09-06 Monsanto Co., St. Louis Inhibitoren retroviraler proteasen
AU669223B2 (en) * 1992-08-25 1996-05-30 G.D. Searle & Co. Sulfonylalkanoylamino hydroxyethylamino sulfonamides useful as retroviral protease inhibitors
DK0656886T3 (da) * 1992-08-25 1998-02-02 Searle & Co N-(Alkanoylamino-2-hydroxypropyl)-sulfonamider til anvendelse som inhibitorer af retrovirale proteaser
ES2177868T3 (es) * 1992-08-25 2002-12-16 Searle & Co Hidroxietilaminosulfonamidas de alfa- y beta-aminoacidos utiles como inhibidores de proteasas retroviricas.
IS2334B (is) * 1992-09-08 2008-02-15 Vertex Pharmaceuticals Inc., (A Massachusetts Corporation) Aspartyl próteasi hemjari af nýjum flokki súlfonamíða
EP1586558A3 (en) * 1995-01-20 2005-10-26 G.D. Searle LLC. Bis-sulfonamide hydroxyethylamino retroviral protease inhinitors

Also Published As

Publication number Publication date
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