JP4083102B2 - 多層皮膜被覆工具及びその被覆方法 - Google Patents
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Description
特許文献1は、硬質炭素系潤滑膜と耐摩耗皮膜の密着強度を改善するためにSi中間層を形成することが開示されている。しかし、Siを含む中間層は強度が低く、2層間の密着強度が不十分である。
特許文献2も同様、中間層として、周期律表第4a、5a、6a、3b族元素及びC以外の4b続元素の元素群から選ばれた元素の炭化物を用いているが、2層間の密着強度が不十分であり、切削工具の耐摩耗性を大幅に改善するには至ってはいない。
特許文献3は、高硬度皮膜の下地層と、2硫化モリブデン等の固体潤滑性を有する皮膜が提案されている。しかし、2硫化モリブデンに添加元素を加えた程度では、過酷な切削環境においては2層間の密着強度、表面平滑性が十分ではなく、摩擦抵抗が高く耐摩耗性の改善はなされてはいない。
特許文献4は、耐摩耗性被膜と硬質炭素膜とが交互に積層された切削工具が開示されているが、2層間の密着強度改善に対して、大幅な耐摩耗性の改善がなされてはいない。
特許文献5にも、基体と非晶質カーボン層の間に、密着性の改善を目的として界面層と称するTiN、Ti(CN)、(TiAl)Nが用いられているが、大幅な耐摩耗性の改善が成されてはいない。
本発明の被覆方法は、スパッタリング法、アークイオンプレーティング法(以下、AIP法と言う。)の何れかの方法を用いて被覆するか、両者の方法を同時に用いて被覆するかにより、該A層と該B層とを同一真空容器内で被覆することである。上記の様な構成を採用することで、切削加工の高能率化に有効である切削工具を提供することを可能にし、技術課題を解決するに至った。
A層は、Ti、Cr、Al、Si、Nbのうちの少なくとも1種又は2種以上より選択された元素と、非金属元素として、NとC、O、Bのうち1種又は2種以上より選択された元素から構成され、N、C、O、Bを原子%で100としたときに、Nを60原子%以上含有する必要がある。これらにより構成されるA層は、高硬度で耐摩耗性に優れ、本発明のB層との密着性にも優れるからである。A層のN含有量が60原子%未満の場合、皮膜硬度が十分に得られず、耐摩耗性が得られないばかりでなく、B層との密着強度も低下する。A層は、結晶構造がfcc構造を主体とすることが極めて重要である。これはB層との密着強度を高めるためである。更にB層との密着強度を高めるための手段として、該A層の表面から深さ方向に500nm未満の領域における結晶粒径の平均値が、2nm以上、14nm以下であることが本発明において最も重要な手段となる。上記結晶粒径の制御が、B層との界面において、明瞭な界面を形成し難い構造を形成し、密着強度を著しく改善することを可能にした。また、B層の膜厚は、20nm以上、500nm未満の値が好ましい。この理由は、膜厚が20nm未満では、B層の持つ低摩擦効果が十分ではなく、500nmを越えると、界面破壊もしくは剥離に起因した剥離異常摩耗が発生しやすくなるためである。上記構成を採用することで、A層とB層との界面に中間層を用いなくても、極めて優れた密着強度を得ることができ、極めて長い切削寿命を得ることができる。
B層は、硬質炭素膜からなる場合又は非晶質の硬質炭素膜からなる場合に耐溶着性に優れる。更に、Ti、Cr、Al、Si、Mo、Wより選択される1種以上の元素を含有した酸化物、硼化物、硫化物及び窒化硼素から選択される少なくとも1種以上から構成される皮膜である場合にも潤滑性を有し、耐溶着性に優れる。
B層の表面から20nm以内の範囲に、2原子%以上の酸素を含有する場合、そうでないものに比べて、溶着量が少なく、耐溶着性に優れる。20nm以内の範囲が好ましいとした理由は、20nmを超えて大きい場合、耐溶着性が劣化する傾向にあったためである。また、2原子%未満の酸素含有量は、酸素を含有しないものと大きく性能は変わらなかった。上記の理由から、B層の酸素含有の範囲と含有量を上記数値に設定した。
A層は、Alを含有し、Al含有量が金属成分のみの原子%で50%以上、90%未満とする。Al含有量が50%未満の場合、並びに90%以上の場合は、皮膜硬度が低下する傾向にあり適切ではない。また、B層との密着強度も低下する傾向にあり、上記の範囲とする。
基材温度が525℃となるよう加熱及び排気を行い、Arを真空容器内に導入しこれをイオン化して、Arイオンによる被覆基材のクリーニングを行った。反応ガスを真空容器内に導入し、各種合金ターゲット表面にアーク放電を発生させ、負のバイアス電圧を印加して基材に被覆処理を行った。この時のバイアス電圧は−40Vに設定し、所定の膜厚に達した後、A層の最表層の結晶粒径を2nm以上、14nm以下に制御するるための処理を実施した。処理方法としては複数の方法から選択することができる。第1の方法は、A層の被覆終了5分前に、バイアス電圧をパルス状に変化させて、−500V、+20Vのバイアス電圧を印加することにより、結晶粒径を上記範囲に制御することである。第2の方法は、Bを8原子%添加したターゲットを用いることである。第3の方法は、上記のパルス状バイアス電圧に加えて、N2ガスとO2ガスとを、80対20の割合で同時に真空容器内に導入することにより、O2を硬質皮膜内へ添加しながら結晶粒径を制御することである。第4の方法は、O2ガスの代わりに、COガス、CO2ガスを導入することによって、硬質皮膜内への酸素の添加が可能であり、結晶粒径の制御することである。本実施例では、第1の方法を採用した。C2H2ガス、CH4ガス、CO2ガス、CO、O2ガスを真空容器内に導入する場合は、被覆蒸発源とは独立した別の蒸発源でアーク放電を行いながら、被覆することによりガスのイオン化及び反応性が向上し、C、O等の通常の物理的蒸着法による被覆装置ではイオン化が困難であるガス成分を、安定して硬質皮膜内へ添加できることが可能となり、組織構造の制御を容易に行うことができた。前記ガス添加方法としては、硬質皮膜内におけるC、O濃度を調整するために、C、O含有ガスを真空容器内へ導入しながら、被覆用のアーク放電蒸発源とは独立した別のアーク放電蒸発源でCr系、Ti系金属を蒸発させ、その蒸発量を調整させながら、ガス添加量を調整した。この時、被覆用アーク放電蒸発源とは独立した別のアーク放電蒸発源の前面に遮蔽板を設け、ガスイオン化用の蒸発源から被覆されないように配慮した。前記ガスのイオン化の方法は極めてイオン化率が高いため、上記ガスに限定せずとも、Ar、N2などのイオン化にも有効である。
表1〜表3に示す組成の定量分析は、エネルギー分散型X線分光法、オージェ電子分光法及び電子線エネルギーロス分光法を用い、総合的に決定した。表1〜表3に示す組成の表示は金属成分、非金属成分を夫々合わせて100となる様に原子%で表記したが、ここでは金属成分と比金属成分の原子比が1:1であることを意味するものではない。A層及びB層の結晶構造の解析は、X線回折法を用いて行った。結晶粒子径の測定は、例えば硬質皮膜断面を透過型電子顕微鏡によりランダムに選択した視野の断面写真より実測した。図2に結晶粒子径を測定するための1つの方法を模式図により示す。
図1はB層(1)とA層(2)の境界面(4)を示し、本発明の結晶粒子径は、境界面(4)に接するA層(2)の結晶粒子の幅(3)を示し、境界面方向に1μmの領域で測定した場合の平均値である。B層をA層の直上面に被覆した場合、表面から膜厚方向に20nm以内の領域における酸素含有量の決定にはオージェ電子分光法を用いて深さ方向に定量分析を行った。表1中の被覆方法とは、各層の被覆方法を夫々記載したものであり、アークイオンプレーティング法をAIP法として示した。連続処理とは、A層から連続してB層を被覆する処理のことである。
(ドリル切削条件1)
工具:2枚刃ドリル、外径6mm
被覆基材:超硬合金製
切削方法:止まり穴加工
被削材:SCM440(HRC30)
穴深さ:32mm
切削速度:70m/min
送り:0.5mm/rev
切削油:なし、乾式エアーブロー
(ドリル切削条件2)
工具:2枚刃ドリル、外径6mm
被覆基材:超硬合金製
切削方法:止まり穴加工
被削材:SCM440(HRC30)
穴深さ:32mm
切削速度:150m/min
送り:0.3mm/rev
切削油:水溶性エマルションタイプ使用、外部給油による
(エンドミル切削条件)
工具:4枚刃エンドミル、外径8mm
被覆基材:超硬合金製
切削方法:側面ダウンカット
被削材:Ti−6Al−4V(HRC30)
突き出し長さ:25mm
切削速度:400m/min
送り:0.07mm/刃
切込み:軸方向12mm、径方向0.2mm
切削油:水溶性エマルションタイプ使用、外部給油による。
本発明例1は、基材と接する耐摩耗皮膜がAlTiN皮膜で、その上にA層とB層である硬質炭素膜を被覆した場合を示すが、従来例に比べて切削寿命が長い。本発明例2から本発明例4は、A層が窒酸化膜又は硼窒化膜の場合の事例を示すが、従来例に比べて切削寿命が長い。本発明例5から本発明例15は、基材と接する耐摩耗皮膜が窒酸化膜又は硼窒化膜の場合の事例を示すが、特に切削寿命が長い。一方、比較例18は、耐摩耗皮膜の最表面にA層を0.8μ被覆した場合であるが、B層の効果が確認されなかった。比較例19、比較例21は、A層が、VTiN、ZrTiNの場合の事例を示すが、皮膜硬度が低い上に、B層との密着強度が悪く、異常摩耗が発生し、切削寿命が短い。
2:A層
3:B層と接するA層の結晶粒径
4:B層とA層の境界面
Claims (7)
- 基材のCo含有量が重量%で3%以上、12%未満であり、物理蒸着法によって該基材にA層とB層とが被覆され、該A層は、金属元素としてTi、Cr、Al、Si、Nbのうちの少なくとも1種又は2種以上より選択された元素と、非金属元素としてNを含みC、O、Bのうち1種又は2種以上より選択された元素から構成され、N、C、O、Bを原子%で100とした時、Nを60原子%以上含有し、更に結晶構造がfcc構造を有する皮膜であり、該B層は該A層の直上に接する硬質炭素膜、非晶質の硬質炭素膜、Ti、Cr、Al、Si、Mo、Wより選択される1種以上の元素を含有した酸化物、硼化物、硫化物及び窒化硼素、から選択される少なくとも1種以上の潤滑性皮膜であり、該A層と該B層との界面から該A層の膜厚方向に500nm未満の領域における結晶粒径の平均値が、2nm以上、14nm以下であることを特徴とする多層皮膜被覆切削工具。
- 請求項1記載の多層皮膜被覆切削工具において、該B層は、最表面に被覆されていることを特徴とする多層皮膜被覆切削工具。
- 請求項1又は2記載の多層皮膜被覆切削工具において、該A層の非金属元素のC、O、Bのうち1種又は2種以上が0.1原子%以上、7原子%未満であること特徴とする多層皮膜被覆切削工具。
- 請求項1乃至3のいずれかに記載の多層皮膜被覆切削工具において、該A層はAlを含有しAl含有量が金属成分のみの原子%で50%以上、90%未満であることを特徴とする多層皮膜被覆切削工具。
- 請求項1乃至4のいずれかに記載の多層皮膜被覆切削工具において、該耐摩耗皮膜がドリル、タップ、リーマ、エンドミル、刃先交換型インサート、歯切り工具、ブローチからなる群より選ばれた工具に被覆されることを特徴とする多層皮膜被覆切削工具 。
- 請求項5記載の多層皮膜被覆切削工具において、該ドリルは工具外径に対する加工深さが3倍以上、25倍以下で使用可能なドリルであことを特徴とする多層皮膜被覆切削工具。
- 請求項1乃至6のいずれかに記載の多層皮膜被覆切削工具において、該物理蒸着法は、スパッタリング法、アークイオンプレーティング法の何れかの方法を用いて被覆するか、両者の方法を同時に用いて被覆することにより、該A層と該B層とを同一真空容器内で被覆することを特徴とする多層皮膜被覆切削工具の被覆方法。
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