JP4059874B2 - 整流回路 - Google Patents
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Description
すなわち、ドレインの電圧Vaが、ソースの電圧Vbに対し、しきい値電圧Vthn分高くなったとき、トランジスタM101はオンし、電流が流れる。一方、ドレインの電圧Vaが、ソースの電圧Vbに対し、しきい値電圧Vthn分高くなければ、トランジスタM101はオフし、電流は流れない。
すなわち、ソースの電圧Vaが、ドレインの電圧Vbに対し、しきい値電圧Vthp分高くなったとき、トランジスタM102はオンし、電流が流れる。一方、ソースの電圧Vaが、ドレインの電圧Vbに対し、しきい値電圧Vthp分高くなければ、トランジスタM102はオフし、電流は流れない。
このように、整流回路では、スイッチ(トランジスタ、ダイオード)をオンするためのしきい値電圧が存在するため、整流時の導通損失が生じる。この導通損失は、しきい値電圧を小さくすることで改善することができる。しきい値電圧を小さくするということは、小信号入力に対するスイッチのオン/オフ判断の精度を向上させることを意味する。しきい値電圧を小さくするには、ダイオードにおいては、順方向電圧の低いショットキーダイオードを、MOSトランジスタでは、低しきい値のものを使用することになる。
Uto Karthaus et al,"Fully Integrated Passive UHF RFID Transponder IC with 16.7uW Minimum RF Input Power",IEEE J.Solid-State Circuits,Vol.38,p.1602-1608,Oct 2003 南任靖雄著、「電子回路とアナログIC」、工学図書株式会社、p.174
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、プロセス工程によらないで低しきい値電圧を実現し、コストおよび素子のばらつきを低減することができる整流回路を提供することを目的とする。
図1は、第1の実施の形態に係る整流回路の回路図である。図に示すNMOSのトランジスタM1は、しきい値電圧Vthn1を有している。トランジスタM1のドレインおよびソースとなるノードN1,N2のノードN2には、整流される電圧Vaが入力され、ノードN1には、整流された電圧Vbが出力される。
図2は、図1のしきい値電圧発生器の詳細な回路を示した回路図である。図において、図1と同じものには同じ符号を付し、その説明を省略する。図に示すように、ノードN1には、ダイオード接続されたNMOSのトランジスタM2と抵抗R1の直列回路が接続されている。トランジスタM2と抵抗R1の接続点は、トランジスタM1のゲートと接続されている。トランジスタM2と抵抗R1の直列回路には、整流された電圧Vbを一定に保つためのコンデンサC1が並列に接続されている。なお、トランジスタM2と抵抗R1の接続点をノードN3、抵抗R1のトランジスタM2と接続されていない側をノードN4とする。また、図に示す整流回路は、1つの半導体集積回路に形成され、トランジスタM1,M2は、トランジスタM1のしきい値電圧Vthn1が、トランジスタM2のしきい値電圧Vthn2より少し大きくなるように(電圧ΔVthn分大きくなるように)、ゲート長およびゲート幅が形成される。トランジスタM1,M2は、しきい値電圧Vthn1,Vthn2の値が大きく異ならないため、ゲート長およびゲート幅も大きく異ならず、同一のプロセス工程で形成可能である。
図4は、図3の減衰器の詳細な回路を示した回路図である。図において、図3と同じものには同じ符号を付し、その説明を省略する。図に示すように、ノードN3とトランジスタM1のゲートの間に抵抗R2が接続されている。また、トランジスタM1のゲートとノードN1の間に抵抗R3が接続されている。抵抗R2,R3が図2の減衰器12に対応する。
ところで、整流回路がICカードやIDタグに適用された場合、電力供給するリーダライタとの距離によっては、入力される電圧Vaが非常に小さくなる。この場合、図3,4の整流回路では、減衰器12によって、トランジスタM1をオンするしきい値電圧が大きくなっているため、電圧Vaを整流できない場合が生じる。そこで、入力される電圧Vaが小さい場合、減衰器12を不活性化し、ノードN3の電圧を直接トランジスタM1のゲートに入力するようにする。
図6は、ダイオード接続されたトランジスタの電圧−電流特性を示した図である。図の横軸のVGSは、ゲート−ソース間の電圧を示し、縦軸のIDはドレイン電流を示す。ダイオード接続されたトランジスタは、図に示すようにしきい値電圧Vthnを超えるまで、ドレイン電流が流れない。そこで、図1〜5で示したように、トランジスタM1のゲートにしきい値電圧Vthn1より電圧ΔVthn分低い電圧を入力し、トランジスタM1をオンするしきい値を小さくする。トランジスタM1のゲートに入力する電圧は、しきい値電圧Vthn1に限りになく近い値が好ましいが、漏れ電流などによってオンしないよう、余裕をみて、しきい値電圧Vthnの95%位になるようにするのが好ましい。また、トランジスタM1のゲートに入力する電圧の下限は、あまり低くすると、トランジスタM1をオンするしきい値電圧が大きくなってしまうため、しきい値電圧Vthn1の50%位が好ましい。
図8は、図7のしきい値電圧発生器の詳細な回路を示した回路図である。図において、図7と同じものには同じ符号を付し、その説明を省略する。図に示すように、ノードN11には、ダイオード接続されたPMOSのトランジスタM12と抵抗R11の直列回路が接続されている。トランジスタM12と抵抗R11の接続点は、トランジスタM11のゲートと接続されている。トランジスタM12と抵抗R11の直列回路には、整流された電圧Vbを一定に保つためのコンデンサC11が並列に接続されている。なお、トランジスタM12と抵抗R11の接続点をノードN13、抵抗R11のトランジスタM12と接続されていない側をノードN14とする。また、図に示す整流回路は、1つの半導体集積回路に形成され、トランジスタM11,M12は、トランジスタM11のしきい値電圧Vthp1が、トランジスタM12のしきい値電圧Vthp2より少し大きくなるように(電圧ΔVthp分大きくなるように)、ゲート長およびゲート幅が形成される。トランジスタM11,M12は、しきい値電圧Vthp1,Vthp2の値が大きく異ならないため、ゲート長およびゲート幅も大きく異ならず、同一のプロセス工程で形成可能である。
図10は、図9の減衰器の詳細な回路を示した回路図である。図において、図9と同じものには同じ符号を付し、その説明を省略する。図に示すように、ノードN13とトランジスタM11のゲートの間に抵抗R12が接続されている。また、トランジスタM11のゲートとノードN11の間に抵抗R13が接続されている。抵抗R12,R13が図9の減衰器22に対応する。
図11は、整流結果を示した図である。図には、図10のノードN12,N14間に入力される電圧Vaの波形A1が示してある。また、ノードN11,N14間から出力される電圧Vbの波形B1〜B3が示してある。波形B1は、抵抗R12,R13の抵抗比が1:9のときの波形、波形B2は、抵抗R12,R13の抵抗比が5:5のときの波形、波形B3は、抵抗R12,R13の抵抗比が10:0のときの波形を示している。
図13は、第1、第2の実施の形態に係る整流回路を適用した半波2倍圧の整流器の回路図である。図に示すように、整流回路31,32は、直列に接続されている。入力端子aと整流回路31,32の接続点の間には、コンデンサC21が接続されている。入力端子bと出力端子dは共通となっており、出力端子c,dの間には、コンデンサC22が接続されている。
図16は、ICカードのブロック図である。図に示すように、ICカードは、アンテナ61、変調器62、整流器63、シャントレギュレータ64、復調器65、およびデジタル信号処理部66を有している。
また、第1,第2の実施の形態において、トランジスタM1,M2,M11,M12をMOSトランジスタ(MOS−FET)としたが、MES(Metal Semiconductor)−FET、MIS(Metal Insulator Silicon)−FET,バイポーラトランジスタで構成することもできる。
トランジスタと、
前記トランジスタのゲートにドレインおよびソースとなる2つのノードの一方を基準としたしきい値電圧の近傍の電圧を出力するしきい値電圧発生器と、
を有することを特徴とする整流回路。
(付記3) 前記電圧発生トランジスタは、前記トランジスタと同一の製造プロセスによって形成されることを特徴とする付記2記載の整流回路。
(付記6) 前記電圧変更回路は、抵抗によって前記近傍の電圧を分圧し、前記しきい値電圧から離れるように変更することを特徴とする付記5記載の整流回路。
(付記8) 電圧を半波n倍圧する半波n倍圧整流器において、
トランジスタと前記トランジスタのゲートにドレインおよびソースとなる2つのノードの一方を基準としたしきい値電圧の近傍の電圧を出力するしきい値電圧発生器とを有する電圧を整流する整流回路と、
を有することを特徴とする半波n倍圧整流器。
トランジスタと前記トランジスタのゲートにドレインおよびソースとなる2つのノードの一方を基準としたしきい値電圧の近傍の電圧を出力するしきい値電圧発生器とを有する電圧を整流する整流回路と、
を有することを特徴とする両極性整流器。
トランジスタと前記トランジスタのゲートにドレインおよびソースとなる2つのノードの一方を基準としたしきい値電圧の近傍の電圧を出力するしきい値電圧発生器とを有する電圧を整流する整流回路と、
を有することを特徴とする電子機器。
(付記12) 前記トランジスタは、MESFETであることを特徴とする付記1記載の整流回路。
(付記14) 前記トランジスタは、バイポーラトランジスタであることを特徴とする付記1記載の整流回路。
R1〜R3,R11〜R13 抵抗
C1,C11 コンデンサ
11,21 しきい値電圧発生器
12,22 減衰器
Claims (14)
- 電圧を整流する整流回路において、
トランジスタと、
前記トランジスタのゲートにドレインおよびソースとなる2つのノードの一方を基準としたしきい値電圧の近傍の電圧を出力するしきい値電圧発生器と、
を有することを特徴とする整流回路。 - 前記しきい値電圧発生器は、ダイオード接続された電圧発生トランジスタによって、前記近傍の電圧を出力することを特徴とする請求項1記載の整流回路。
- 前記電圧発生トランジスタは、前記トランジスタと同一の製造プロセスによって形成されることを特徴とする請求項2記載の整流回路。
- 前記電圧発生トランジスタは、前記トランジスタとゲート長またはゲート幅を変えることによって、前記近傍の電圧を出力するようにすることを特徴とする請求項2記載の整流回路。
- 前記近傍の電圧を前記しきい値電圧から離れるように変更して前記ゲートに出力する電圧変更回路を有することを特徴とする請求項1記載の整流回路。
- 前記電圧変更回路は、抵抗によって前記近傍の電圧を分圧し、前記しきい値電圧から離れるように変更することを特徴とする請求項5記載の整流回路。
- 前記電圧変更回路は、整流される電圧の電圧値に応じて活性化および不活性化されることを特徴とする請求項5記載の整流回路。
- 前記トランジスタおよび前記電圧発生トランジスタはNチャネル型MOSトランジスタであり、前記電圧発生トランジスタは、前記整流回路の第1ノードと、前記整流回路の前記第1ノードの電位よりも高い電位が供給される第2ノードとの間に接続されることを特徴とする請求項2記載の整流回路。
- 前記トランジスタおよび前記電圧発生トランジスタはPチャネル型MOSトランジスタであり、前記電圧発生トランジスタは、前記整流回路の第1ノードと、前記整流回路の前記第1ノードの電位よりも低い電位が供給される第2ノードとの間に接続されることを特徴とする請求項2記載の整流回路。
- 第1ソース、第1ドレインおよび第1ゲート電極を有するNチャネル型整流トランジスタと、
第2ソース、第2ドレインおよび第2ゲート電極を有するNチャネル型電圧発生トランジスタと、を有し、
前記第2ドレインは、前記第1ソースまたは前記第1ドレインに接続され、前記第1ゲートと前記第2ゲートと前記第2ソースとが相互に接続され、前記第2ドレインは第1ノードに接続され、前記第2ソースは、抵抗素子を介して第2ノードに接続され、前記第2ノードには前記第1ノードの電位よりも高い電位が供給されることを特徴とする整流回路。 - 第1ソース、第1ドレインおよび第1ゲート電極を有するPチャネル型整流トランジスタと、
第2ソース、第2ドレインおよび第2ゲート電極を有するPチャネル型電圧発生トランジスタと、を有し、
前記第2ソースは、前記第1ソースまたは前記第1ドレインに接続され、前記第1ゲートと前記第2ゲートと前記第2ドレインとが相互に接続され、前記第2ソースは第1ノードに接続され、前記第2ドレインは、抵抗素子を介して第2ノードに接続され、前記第2ノードには前記第1ノードの電位よりも低い電位が供給されることを特徴とする整流回路。 - 電圧を半波n倍圧する半波n倍圧整流器において、
トランジスタと前記トランジスタのゲートにドレインおよびソースとなる2つのノードの一方を基準としたしきい値電圧の近傍の電圧を出力するしきい値電圧発生器とを有する電圧を整流する整流回路と、
を有することを特徴とする半波n倍圧整流器。 - 両極性の電圧を出力する両極性整流器において、
トランジスタと前記トランジスタのゲートにドレインおよびソースとなる2つのノードの一方を基準としたしきい値電圧の近傍の電圧を出力するしきい値電圧発生器とを有する電圧を整流する整流回路と、
を有することを特徴とする両極性整流器。 - 無線によって電力が供給され動作する電子機器において、
トランジスタと前記トランジスタのゲートにドレインおよびソースとなる2つのノードの一方を基準としたしきい値電圧の近傍の電圧を出力するしきい値電圧発生器とを有する電圧を整流する整流回路と、
を有することを特徴とする電子機器。
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