JP3939652B2 - Multidimensional ultrasonic transducer array - Google Patents
Multidimensional ultrasonic transducer array Download PDFInfo
- Publication number
- JP3939652B2 JP3939652B2 JP2002542543A JP2002542543A JP3939652B2 JP 3939652 B2 JP3939652 B2 JP 3939652B2 JP 2002542543 A JP2002542543 A JP 2002542543A JP 2002542543 A JP2002542543 A JP 2002542543A JP 3939652 B2 JP3939652 B2 JP 3939652B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductive
- ultrasonic transducer
- dimensional
- array
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 15
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 11
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 6
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 claims description 2
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 claims 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 6
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 6
- 238000003491 array Methods 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000002059 diagnostic imaging Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 238000012285 ultrasound imaging Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B06—GENERATING OR TRANSMITTING MECHANICAL VIBRATIONS IN GENERAL
- B06B—METHODS OR APPARATUS FOR GENERATING OR TRANSMITTING MECHANICAL VIBRATIONS OF INFRASONIC, SONIC, OR ULTRASONIC FREQUENCY, e.g. FOR PERFORMING MECHANICAL WORK IN GENERAL
- B06B1/00—Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency
- B06B1/02—Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency making use of electrical energy
- B06B1/06—Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency making use of electrical energy operating with piezoelectric effect or with electrostriction
- B06B1/0607—Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency making use of electrical energy operating with piezoelectric effect or with electrostriction using multiple elements
- B06B1/0622—Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency making use of electrical energy operating with piezoelectric effect or with electrostriction using multiple elements on one surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B06—GENERATING OR TRANSMITTING MECHANICAL VIBRATIONS IN GENERAL
- B06B—METHODS OR APPARATUS FOR GENERATING OR TRANSMITTING MECHANICAL VIBRATIONS OF INFRASONIC, SONIC, OR ULTRASONIC FREQUENCY, e.g. FOR PERFORMING MECHANICAL WORK IN GENERAL
- B06B1/00—Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency
- B06B1/02—Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency making use of electrical energy
- B06B1/06—Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency making use of electrical energy operating with piezoelectric effect or with electrostriction
- B06B1/0607—Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency making use of electrical energy operating with piezoelectric effect or with electrostriction using multiple elements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Transducers For Ultrasonic Waves (AREA)
- Ultra Sonic Daignosis Equipment (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Ultrasonic Waves (AREA)
Description
【0001】
本発明は、超音波診断撮像システムのためのトランスデューサプローブに係り、より詳細には、2若しくはそれ以上の次元に延在する素子を有するプローブに関する。
【0002】
超音波撮像に使用される音響素子アレイ内の素子は、素子の反対側の面に接続する電極により素子両端に電位を印加することによって励起する。印加される電位により、圧電素子が振動して超音波が発せられる。受信中、素子は、電気的信号に変換される音波により振動し、電気的信号は、素子を励起させるために使用された同一の電極により画像システムに送出される。圧電素子は2次元超音波撮像に使用されるようなトランスデューサアレイにおける単一の素子の列のひとつであり、電極を素子の反対側の面に接続させる選択肢は多数存在する。特に、アレイの裏側の望ましくない音響エネルギを減衰させる音響的なバッキングブロックから隔たって、アレイの側部からの接続をなすことは通常的である。
【0003】
しかしながら、トランスデューサアレイが2次元アレイを構成するとき、アレイの側部から素子へのすべての接続をなすことは困難になる。これは、3若しくはそれ以上の列の素子のアレイの場合、1若しくはそれ以上の列が、アレイの内部に位置し、アクセスがアレイの外側の列により阻止されるからである。かかる場合、一般的には、トランスデューサスタックの音響的なバッキングを通した接続をなすことが必要となる。
【0004】
2次元アレイへの接続をなす1つの先行技術のアプローチは、米国特許第4825115号に開示される。この特許では、フレキシブルプリント回路(フレックス回路)が、圧電素子プレートの裏側に取り付けられ、取付け位置からプレートに垂直に延在するよう上方に曲げられる。音響的なバッキングは、フレックス回路周辺に鋳造され、その組立体は裏返しされ、圧電プレートは個々の素子へとダイシングされる。米国特許第5757727号は、同様のアプローチを開示するが、フレックス回路を完全なアレイ領域に取り付けし、一体的なアセンブリにバッキングを鋳造し、バッキング及びフレックス回路の個々のサブアセンブリは、予備成形され、次いで共に組み立てられ、列並びのアセンブリが完成する。このアプローチは、一定の性能及び導線間隔を保証する為、列から列への厳密に調整された均一性を必要とする。更に、これら双方の技術は、導線をトランスデューサ素子への取付け位置で90度曲げることを必要とし、これは、導線に応力を発生させ、インピーダンスの変動や接続の不具合を招いてしまう。
【0005】
米国特許第6043590号及び第6044533号は、導線を曲げる必要を回避するアプローチを開示する。その代わりに、導線は、鉛直に素子の裏側に当接し曲げられない。更に、導線及びバッキング材料は、一体的なアセンブリとして予備成形され、圧電阻止材料への取り付け前に、必要な素子間のアラインメントのために検査できる。後者の場合、剥き出しの導線の窓部を備えた誘電体基板が積層され、導線間の空間は減衰材料で充填される。材料が硬化したとき、固定された積層は材料を通過する切断がなされて、切断面で終了する導線を備えたバッキングブロックが作製される。しかしながら、このプロセスは、剥き出しの導線のアラインメントを維持することや、空隙を残すことなくそれら周辺の空間を完全に充填することが困難となりがちである。それ故に、簡易で高精度且つ高い反復性の方法で上述のような伝導性のバッキングアセンブリを作製できることが望ましいだろう。
【0006】
本発明の原理によれば、超音波トランスデューサプローブは、音響的な素子の2次元アレイを含み、この音響的な素子に、導線が伝導性のバッキングブロックアセンブリにより取り付けられる。アセンブリは、交互する複数のフレックス回路及びバッキング材料のプレートを含み、それらが接着結合されて一体のアセンブリを形成する。或いは、伝導性のトレースは、共に結合される各プレートに直接形成することもできる。アセンブリは、導線を曲げることがなく、従来的なトランスデューサ組立て処理を用いて、容易且つ高精度に製造可能である。
【0007】
図1a−1cを参照するに、2次元(2D)超音波アレイトランスデューサスタックのための伝導性バッキングブロックをアセンブルするためのステップが斜視方向から示される。バッキングブロックアセンブリは、2つの主要な構成要素、即ちフレックス回路12とバッキングブロックプレート14とを有する。フレックス回路は、カプトン(Kapton)のシートのような分離された基板を含み、その上に、一般的にはフォットエッチングにより、複数の導電性のトレース(配線パターン)が形成される。典型的にはカプトンシートは、1−3ミルス(25μm−75μm)の厚さを有する。図1aには、トレース16はカプトン基板の上部で終了するよう示されているが、構成された実施例では、以下で議論するマイクロ写真に示すように、基板の上側のエッジをわずかに越えて延在するトレースを有することが望ましいことがある。トレースの延長部は、トレースとトランスデューサ素子の接点から基板をオフセットし、当該接合部でのカプトンの熱膨張による不具合を減らす。トランスデューサ素子の最も背後の音響インピーダンスが良好に制御され、カプトン粒子は、研削及びダイシングから低減若しくは完全に除去される。トレース16の下側の終端は、通常的に伝導性の電極端子(図示せず)で終了し、トレースが他のプリント回路や構成要素に接続するようにする。
【0008】
バッキングブロックプレート14は、所定厚さを有するバッキング材料のシートから形成される。バッキングブロックは、通常的に、マイクロバルーン及び小さな粒子のような超音波吸収体及び散乱体が混合されたエポキシから鋳造される。これらの材料の混合物は、知られているように、バッキングブロックに所定の音響インピーダンス及び減衰を付与するように調整される。バッキングブロックプレート14は、制御された研削処理により得られる所定厚さを有する。
【0009】
本発明の原理によると、伝導性のバッキングブロックアセンブリは、図1bの分解図に示すように、フレックス回路12a−12cとバッキング材料のプレート14a−14dの交互の層から構成され、これらは、エポキシのような接着剤により共に積層される。プレート14a−14dは、好ましくは、すべてのプレートが同一の成分を有しそれ故に同一の音響特性を示すようにバッキング材料の同一シートから切断され、同一の調整された厚さまで研削される。構成された実施例では、アセンブリは熱プレスでの圧力下で硬化する。圧搾は、過剰なエポキシを搾り出して、交互のフレックス回路がエレベーション次元に均等に離間するようにし、また、層間から気泡を追い出すようにする。アセンブリが硬化したとき、トランスデューサ素子20への接続がなされる上面は、滑らかな仕上げに研削され、好ましくはトランスデューサ素子の下側への取り付けのために金メッキされ、トランスデューサ素子も好ましくは金メッキされる。伝導性のバッキングブロックアセンブリのトランスデューサ素子への接続のための好ましい方法は、エポキシのような低粘度の接着剤を用いた接着取り付けによる。低粘度は、伝導性のバッキングブロックアセンブリの金メッキとトランスデューサ素子との間の直接的オーム接触を生むと同時に、2つの表面間の確実な接着結合を形成する。アセンブルされたトランスデューサスタック10は、図1cに示され、図中右の矢印は、アジマス(Az)及びエレベーション(El)次元を示す。各フレックス回路12のトレースの列は、一般的には、アレイのアジマス次元を構成し、フレックス回路間の間隔は、エレベーション次元を構成するが、その逆でもよい。通例的な使用は、一般的には、単一のアジマス面で配向及び合焦されるがエレベーション面では合焦のみされる1.5Dアレイに対するケースである。配向及び合焦はアレイの前部の容積で実現される、3次元撮像のための2Dアレイは、定義可能なアジマス及びエレベーション次元を有していないことから、一般的には、極座標で表わされる。しかしながら、この用語は、本出願においては明瞭性のために使用され、図面に対する参照の整合性を維持するために使用される。
【0010】
本発明のアセンブリが、代替的にフレキシブルプリント回路の代わってリジット(例えば、FR4)プリント回路を使用して構成されうることは認識されるだろう。フレックス回路は、その薄い形状及び基板を越えて延在するトレースを形成する製造の容易性から好ましい。
【0011】
図2a−2cは、本発明の第2実施例を示す。本実施例では、フレックス回路が存在しない。代わりに、伝導性のトレース16は、バッキングブロックプレート14に直接に形成されており、これは、フォットエッチング処理によりなされてよい。従って、トランスデューサ素子のエレベーション方向の間隔(ピッチ)は、本実施例のフレックス回路基板の厚さを含まないだろう。上述の如く、トレース16は、底部にて相互接続する電極端子で終了してよいが、プレート4の上部エッジを越えて延在する必要はないだろう。伝導性のバッキングブロックアセンブリは、図2bの分解図に示されるように形成される。この特定の実施例では、バッキングブロックプレート14a−14hは、積極的に異なる長さを有して、トレース(本実施例では、プレートの底部を越えて延在しない)のすべての終端が接続されやすくしてよい。或いは、バッキングブロックプレートは、同一の長さを有して、トレースがバッキングブロックアセンブリの下面で、上面で終了するのと同様に終了するようにする。かかる場合、トレースは、コネクタによる接続のために下面上の電極端子グリッドアレイで終了してよく、コネクタは、アセンブリの下面及びそのトレースと接続する。図示した例の2つの中央のプレート14a,14bは、それらを囲むプレートに比して半分の厚さとし、これらプレート上の対向する側と逆側にあるトレースが、同一の数の列のトランスデューサ素子の2つの中央の列を基準に中心化されるようにする。エンドキャッププレート14g,14hには、素子が形成されておらず、それらは、最も外側の素子の列を支持しつつ、アセンブリの残り部分を取り囲むためにだけ用いられる。伝導性のバッキングアセンブリの最終処理及びトランスデューサの取付は、上述の如く実行される。完成したトランスデューサスタック30は、図2cにおいて、伝導性のバッキングアセンブリの上面内を横断するトレースアラインメントを明らかにするために部分的に分離した視点で部分的なアセンブリとして示される。
【0012】
図3a−3cは、伝導性のバッキングブロックアセンブリを備えた本発明のトランスデューサスタックの構成を詳細に示す。これらの図面では、伝導性のバッキングブロックアセンブリ50は、交互にあるフレックス回路12及びバッキングプレート14の層を含むが、当該アセンブリは、上述の如く、伝導性のトレースを備えたバッキングプレートから形成されうる。図3aにおいて、伝導性のバッキングブロックアセンブリは、上部に金メッキされ、上部及び底部に金メッキされた圧電素子プレート22に接着により取り付けられている。圧電素子プレート下方のこのアセンブリ50には、例えばアジマス次元に延在する、3つのフレックス回路12a,12b,12cが存在する。図3bにおいて、圧電素子プレート22は、2つの切断部24a,24bによりアジマス次元でダイシングされ、これにより、各々のフレックス回路12a,12b,12cの上部にそれぞれ位置する、3つの列の圧電素子22a,22b,22cが形成される。切断部は、アセンブリ50と圧電素子22との間の金メッキの接続部を貫通して延在し、これにより、圧電素子の各列の下側のフレックス回路の電気的接続を電気的に分離する。
【0013】
2つのマッチング層26a,26bは、図3cに示すように、圧電素子の上に位置する。マッチング層は、トランスデューサの音響インピーダンスを、音響信号を送受する身体に適合させる。マッチング層を積層する前に、伝導性のシート(図示せず)が、上述の如く金メッキされている圧電素子の上面に配設されてよい。好ましくは、圧電素子に接続するマッチング層26aの表面は、トランスデューサ素子の上面への接続のために金属被覆される。図3dでは、圧電素子列は、符合30で示すように、アセンブリ50と圧電素子22との間の金メッキの接続部を完全に通過してエレベーション次元でダイシングされて、個々のトランスデューサ素子を形成するとともに、各トランスデューサ素子の下側の金メッキされたコンタクト部を電気的に分離する。符合28で示すように、これらの切断部は、下側のマッチング層26aを完全に貫通することなく延在し、これにより、エレベーション次元で素子の各ラインを横切る伝導性のシートの連続的なストリップが残される。従って、アレイの内部の素子を含むすべての素子の上側の電極への電気的接続は、アレイのエレベーション側から実行できる。
【0014】
この特定の例では、サブダイシングされた素子が形成されており、これによりサブダイシングされた素子のアジマス方向で隣接する各対は、より良好な高周波数性能のために一体的な素子として動作する。一のかかる対は、サブ素子20a,20bからなり、アセンブリ50の側面のフレックス回路12aのY字型の導線36の投影図により指示されるように、下方にあるフレックス回路12aの単一のトレースに接続する。各サブ素子に導線を分配する導線の上部でのY字型により、フレックス回路の導線のビットによるダイシング鋸の巻き込みが生ずることなく、切断部30をアセンブリ50内に作成することができる。アジマス方向にサブダイシングされることに加えて、サブダイシングは、音響性能を改善するために素子のエレベーション方向で実行されてもよい。
【0015】
図4a−4eは、例えば米国特許[1999年11月3日に出願された出願シリアル番号09/457,196]に開示されるようなk31モードで動作することになる本発明のトランスデューサスタックの構成を示す。素子の上部(患者に対向する側)と底部との間の縦方向の従来的な励振ではなく、k31モードでは、トランスデューサ素子は、横方向に偏極及び励振される。これにより、素子の電極が上部及び底部ではなく素子の側部に位置することが可能となる。図4aの例では、圧電素子プレート22は、埋設されたフレックス回路12a,12b,12cを含む伝導性のバッキングブロックアセンブリ50に接着結合されるが、上述の如くエッチングされた導線を備えたバッキングプレートを含みうる。図3の例とは異なり、本実施例では、圧電素子プレートとアセンブリ50との間に金メッキされた電極が存在せず、圧電素子は、単にアセンブリ50の仕上げ面に取り付けられる。図4bでは、圧電素子プレート22は、エレベーション次元でダイシングされて、バッキングブロック及びフレックス回路12a,12b,12cの列を横断する圧電素子材料の行を形成する。これらのダイシング切断部30は、下方にあるフレックス回路上の伝導性のトレースに合わせて作製されて、トレースの端部が切断部30の底部に位置するようにする。図4cでは、切断部30内の横方向の対向する壁体32には、電極材料がメッキされ、これは、ウエットメッキ、蒸着やスパッタリング処理により被覆されてよい。この電極は、ダイシング切断部30の横方向の圧電素子の壁体32の双方にだけでなく、伝導性のトレースが終了する切断部の底部にも付着される。従って、この電極は、各切断部の両側で、切断部の底部の伝導性のトレースを圧電素子の横方向の側部に電気的に接続する。
【0016】
図4dでは、マッチング層26a,26bが被覆されている。本実施例では、すべての接続はフレックス回路の導線を介して底部からなされるので、圧電素子の上部に、メッキされた電極若しくはシートを必要としない。2Dアレイは、図4eに示すように、先の切断部30に合わせてエレベーション次元でマッチング層をダイシングすると共に、アジマス次元に延在する個々のトランスデューサ素子の異なる列を形成するために42a,42bに示すようにアジマス次元で圧電素子の行をダイシングすることにより完成される。ダイシング切断部42a,42bは、伝導性のバッキングブロック50の上面内部まで作製され、切断部30の交差する底部の伝導性の材料を貫通して、素子の各々の列を電気的に分離するようにする。サブ素子のサブダイシングされた対は、フレックス回路からの接続によりk31モードで作動され、列で連続する切断部の導線が、下方にあるフレックス回路のトレースを介して信号(ホット)及びリターン(グランド)経路を交互に提供する。例えば、サブ素子20a,20bにより形成されるトランスデューサ素子は、図4e中の投影図で示すような、当該素子の列の下方にあるフレックス回路12a上の導線38に、接続する横方向の対向する電極表面を有する。サブ素子の反対側の側面は、フレックス回路12a上の導線34に接続し、また、サブ素子の他の電極側面にて共通の電位若しくはグランド電位を供給する、ダイシング切断部30’(図示せず)の底部で終了する導線に接続する。従って、トランスデューサ素子へのすべての電気的接続は、伝導性のバッキングブロック50の伝導性のトレースを介して実現できる。
【0017】
トランスデューサ素子が底部で伝導性のバッキングブロックのメッキ面と接続する場合には、完全な導線のアラインメントが必要とされないで、伝導性のトレース及び表面上のメッキの組み合わせにより、製造プロセスからのトランスデューサスタックの高い生産性が可能となる。例えば、図5aは、伝導性のバッキングブロックを貫通する伝導性のトレース16a,16b,16cの端部により交差される、バッキングブロックの金メッキ表面60の平面図である。4つの水平に配列されたフレックス回路若しくはバッキングプレート表面から延在する、伝導性のトレースの4つの水平方向の列が示されている。これから、上部、第2及び底部の列が本例では鉛直なアラインメントにあるが、伝導性のトレース16bを含む第3の列は、その他の列と鉛直なアラインメントにないことがわかる。圧電素子プレートがメッキ表面60に取り付けられ、整列された伝導性のトレースを基準に中心合わせされて別個のトランスデューサ素子にダイシングされるとき、メッキ面は、図5bに示すように、素子の底部の着座領域(フットプリント)に適合するメッキ領域に分割される。メッキ領域は、ダイシング切断部30,40により分割される。列12a,12cの伝導性のトレースは、意図したとおり、各々の素子の着座領域のメッキ領域の中心に良好にアラインされていることがわかる。不整列の伝導性のトレースの列16bは、メッキ領域の中心でアラインされていないが、それぞれは意図したメッキ領域に依然として交差しているので、依然として所望の機能を実現するだろう。劇的に中心ずれする16dのようなトレースでさえ、メッキ領域との満足できる電気的接続を依然として供給するだろう。特定の実施例では、メッキ領域は、約0.5μmの厚さを有してよく、外形寸法は、200μm×200μmのオーダであり、伝導性のトレース16の幅は、50μmのオーダであってよく、各直交方向で4:1の配置許容公差をトレースに付与する。エレベーション方向の精度は、バッキングブロックプレートの厚さを、所望厚さまで研削される際に調整することにより維持される。サブダイシングされた素子は、125μm×250μmの寸法の2つのサブ素子を有してよく、比較的広い許容誤差を依然として可能とする。トランスデューサ素子及びメッキ領域の着座領域が小さくなり、50μm×50μmに近づくにつれて、伝導性のトレースは、対応してより小さくなることが予測される。
【0018】
図6は、本発明の伝導性のバッキングブロックの上面のメッキされる前のマイクロ写真である。このマイクロ写真は、フレックス回路12及びバッキングブロックプレート14の交互に水平の列を明瞭に示している。フレックス回路から延在する伝導性のトレース16の端部が明らかにマイクロ写真で確認される。各列におけるこれらの伝導性のトレース16の間の黒の領域は、アセンブリを共に結合するエポキシ接着剤が充填されていた空孔である。この図では、伝導性のトレースの端部は、伝導性のバッキンブアセンブリの表面でのその終端部までカプトン基板の上で延在する。
【0019】
また、このマイクロ写真は、フレックス回路の列が、列から列へと千鳥配列で交互に整列されていることを示す。これは、この特定の伝導性のバッキングアセンブリが、トランスデューサ素子が六角形の集合を形成するような相互に三角形関係を繰り返す、六角形の2Dアレイトランスデューサのために設計されているからである。かかる2D六角形アレイは、例えば米国特許[2000年1月21日に出願された出願シリアル番号09/488,583]に開示される。従って、本発明は、かかる六角形アレイのような構成及び他の形状と共に直線2Dアレイに適用可能である。
【0020】
例示された実施例は、圧電素子トランスデューサを使用して示されているが、本発明は、伝導性のバッキングブロックアセンブリを介して電気的に接続されてよい、容量性及び圧電性の微細加工された変換器(micromachined transducer)(Cmuts及びPmuts)のような他のトランスデューサ技術にも同等に適用可能である。Cmut型トランスデューサは、例えば米国特許第5619476号に開示されている。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1a−1cは、本発明の原理により構成された伝導性のバッキングブロックを備えた超音波トランスデューサスタックの第1実施例を示す。
【図2】 図2a−2cは、本発明の原理により構成された伝導性のバッキングブロックを備えた超音波トランスデューサスタックの第2実施例を示す。
【図3】 図3a−3dは、本発明の原理により構成された細切断されたトランスデューサ素子を備えた超音波トランスデューサスタックを示す。
【図4】 図4a−4eは、本発明の原理により構成されk31モードで動作するトランスデューサ素子を備えた超音波トランスデューサスタックを示す。
【図5】 図5a及び5bは、トランスデューサ素子の着座領域を基準とした本発明のバッキングブロック内の導線のアラインメントを示す。
【図6】 2次元六角形アレイに対する本発明の伝導性のバッキングブロックのマイクロ写真である。[0001]
The present invention relates to transducer probes for ultrasound diagnostic imaging systems, and more particularly to probes having elements extending in two or more dimensions.
[0002]
An element in the acoustic element array used for ultrasonic imaging is excited by applying a potential to both ends of the element with electrodes connected to the opposite surface of the element. Due to the applied potential, the piezoelectric element vibrates and emits ultrasonic waves. During reception, the element is vibrated by sound waves that are converted into electrical signals, which are sent to the imaging system by the same electrodes used to excite the elements. Piezoelectric elements are one of a single array of elements in a transducer array such as those used for two-dimensional ultrasound imaging, and there are many options for connecting the electrodes to the opposite surface of the elements. In particular, it is common to make connections from the sides of the array, separated from acoustic backing blocks that attenuate unwanted acoustic energy on the back side of the array.
[0003]
However, when the transducer array constitutes a two-dimensional array, it becomes difficult to make all connections from the sides of the array to the elements. This is because in the case of an array of three or more columns of elements, one or more columns are located inside the array and access is blocked by columns outside the array. In such cases, it is generally necessary to make a connection through an acoustic backing of the transducer stack.
[0004]
One prior art approach to making a connection to a two-dimensional array is disclosed in US Pat. No. 4,825,115. In this patent, a flexible printed circuit (flex circuit) is attached to the back side of a piezoelectric element plate and is bent upward so as to extend perpendicular to the plate from the attachment position. The acoustic backing is cast around the flex circuit, the assembly is turned over, and the piezoelectric plate is diced into individual elements. US Pat. No. 5,757,727 discloses a similar approach, but attaches the flex circuit to the complete array area, casts the backing into a unitary assembly, and the individual sub-assemblies of the backing and flex circuit are preformed. And then assembled together to complete a row of assemblies. This approach requires tightly coordinated uniformity from row to row to ensure constant performance and conductor spacing. Furthermore, both of these techniques require the conductor to bend 90 degrees at the mounting position on the transducer element, which causes stress on the conductor, leading to impedance variations and connection failures.
[0005]
U.S. Pat. Nos. 6,043,590 and 6,444,533 disclose an approach that avoids the need to bend the conductors. Instead, the conductors are vertically bent against the back side of the element and are not bent. In addition, the conductor and backing material can be preformed as a unitary assembly and inspected for necessary inter-element alignment prior to attachment to the piezoelectric blocking material. In the latter case, dielectric substrates having exposed conductor window portions are laminated, and the space between the conductors is filled with a damping material. When the material is cured, the fixed laminate is cut through the material to create a backing block with conductors that terminate at the cut surface. However, this process tends to be difficult to maintain the alignment of the bare conductors and to completely fill the surrounding space without leaving voids. Therefore, it would be desirable to be able to make a conductive backing assembly as described above in a simple, accurate and highly repeatable manner.
[0006]
In accordance with the principles of the present invention, an ultrasonic transducer probe includes a two-dimensional array of acoustic elements, with conductors attached to the acoustic elements by a conductive backing block assembly. The assembly includes a plurality of alternating flex circuits and plates of backing material that are adhesively bonded to form a unitary assembly. Alternatively, conductive traces can be formed directly on each plate bonded together. The assembly can be easily and accurately manufactured using conventional transducer assembly processes without bending the conductors.
[0007]
Referring to FIGS. 1a-1c, steps for assembling a conductive backing block for a two-dimensional (2D) ultrasonic array transducer stack are shown from a perspective view. The backing block assembly has two main components: a
[0008]
The
[0009]
In accordance with the principles of the present invention, the conductive backing block assembly is composed of alternating layers of
[0010]
It will be appreciated that the assembly of the present invention may alternatively be constructed using a rigid (eg, FR4) printed circuit instead of a flexible printed circuit. Flex circuits are preferred because of their thin shape and ease of manufacturing to form traces that extend beyond the substrate.
[0011]
2a-2c show a second embodiment of the present invention. In this embodiment, there is no flex circuit. Instead, the conductive traces 16 are formed directly on the
[0012]
Figures 3a-3c show in detail the configuration of the transducer stack of the present invention with a conductive backing block assembly. In these drawings, conductive
[0013]
The two
[0014]
In this particular example, a sub-diced element is formed so that each pair of sub-diced elements adjacent in the azimuth direction operates as an integral element for better high frequency performance. . One such pair consists of sub-elements 20a, 20b, and a single trace of the
[0015]
FIGS. 4a-4e illustrate a transducer stack of the present invention that will operate in the k 31 mode, for example as disclosed in US patent [Application Serial No. 09 / 457,196 filed Nov. 3, 1999]. The configuration is shown. Rather than vertical conventional excitation between the bottom top of the device (the side that faces the patient), in k 31 mode, the transducer elements are polarized and excited in the transverse direction. This allows the device electrodes to be located on the side of the device rather than on the top and bottom. In the example of FIG. 4a, the
[0016]
In FIG. 4d, the matching layers 26a, 26b are covered. In this embodiment, all connections are made from the bottom through the flex circuit leads, so no plated electrodes or sheets are required on top of the piezoelectric elements. The 2D array, as shown in FIG. 4e, 42a, to dice the matching layer in the elevation dimension to the
[0017]
If the transducer element connects to the plated surface of the conductive backing block at the bottom, a complete conductor alignment is not required, and the combination of conductive traces and plating on the surface allows a transducer stack from the manufacturing process. High productivity. For example, FIG. 5a is a plan view of the gold-plated
[0018]
FIG. 6 is a microphotograph before plating of the top surface of the conductive backing block of the present invention. The micrograph clearly shows alternating horizontal rows of
[0019]
The microphotograph also shows that the flex circuit columns are alternately arranged in a staggered pattern from column to column. This is because this particular conductive backing assembly is designed for hexagonal 2D array transducers that repeat a triangular relationship with each other such that the transducer elements form a hexagonal collection. Such a 2D hexagonal array is disclosed, for example, in US Patent [Application Serial No. 09 / 488,583, filed Jan. 21, 2000]. Thus, the present invention is applicable to linear 2D arrays with configurations such as hexagonal arrays and other shapes.
[0020]
Although the illustrated embodiment is shown using a piezoelectric transducer, the present invention is capacitive and piezoelectric microfabricated that may be electrically connected via a conductive backing block assembly. Other transducer technologies such as micromachined transducers (Cmuts and Pmuts) are equally applicable. A Cmut type transducer is disclosed, for example, in US Pat. No. 5,619,476.
[Brief description of the drawings]
1a-1c illustrate a first embodiment of an ultrasonic transducer stack with a conductive backing block constructed in accordance with the principles of the present invention. FIG.
FIGS. 2a-2c illustrate a second embodiment of an ultrasonic transducer stack with a conductive backing block constructed in accordance with the principles of the present invention. FIG.
FIGS. 3a-3d illustrate an ultrasonic transducer stack with chopped transducer elements constructed in accordance with the principles of the present invention. FIGS.
[4] Figure 4a-4e illustrate an ultrasonic transducer stack with a transducer element which operates on the principle is constituted by k 31 mode of the present invention.
Figures 5a and 5b show the alignment of the conductors in the backing block of the present invention relative to the seating area of the transducer element.
FIG. 6 is a micrograph of the conductive backing block of the present invention for a two-dimensional hexagonal array.
Claims (14)
上記2次元アレイの底面に対向して取り付けられた、音響的なバッキング材料の離隔プレート及び伝導性のトレースの回路のセットを交互に結合してなる伝導性のバッキングブロックアセンブリとを含み、
上記回路の伝導性のトレースは、上記2次元アレイに対向する上記伝導性のバッキングブロックアセンブリの表面で終端し、
上記伝導性のトレースが終端する上記伝導性のバッキングブロックアセンブリの上記表面は伝導性のメッキを施され、上記伝導性のメッキは、上記伝導性のトレースに電気的に接続し、
上記伝導性のメッキを施された表面は、上記トランスデューサアレイが切断されるときにアレイトランスデューサの素子の着座領域に対応する別々の領域に電気的に分割される、2次元超音波トランスデューサプローブ。A two-dimensional array of ultrasonic transducer elements having a bottom surface that emits undesirable ultrasonic energy;
Mounted to face the bottom surface of the two-dimensional array, viewed contains a separation plate and a set of circuit conductive traces formed by alternately bonded conductive backing block assembly of acoustic backing material,
Conductive traces of the circuit terminate at the surface of the conductive backing block assembly opposite the two-dimensional array;
The surface of the conductive backing block assembly where the conductive trace terminates is conductively plated, the conductive plating electrically connecting to the conductive trace;
The two-dimensional ultrasonic transducer probe, wherein the conductive plated surface is electrically divided into separate areas corresponding to the seating areas of the elements of the array transducer when the transducer array is cut .
音響的なバッキング材料のプレートと、
伝導性のトレースの回路とを含み、上記プレート及び伝導性のトレースの回路は、請求項1乃至13のうちのいずれか記載の伝導性のバッキングブロックアセンブリと同様に配列される、伝導性バッキングブロックアセンブリ。A conductive backing block assembly for a two-dimensional ultrasonic transducer array comprising:
A plate of acoustic backing material;
And a circuit conductive traces, the plate and conductive circuit traces are arranged similarly to the conductive backing block assembly according to any one of claims 1 to 13, conductive backing block assembly.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US71403000A | 2000-11-15 | 2000-11-15 | |
PCT/EP2001/013182 WO2002040184A2 (en) | 2000-11-15 | 2001-11-13 | Multidimensional ultrasonic transducer arrays |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004514340A JP2004514340A (en) | 2004-05-13 |
JP3939652B2 true JP3939652B2 (en) | 2007-07-04 |
Family
ID=24868516
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002542543A Expired - Fee Related JP3939652B2 (en) | 2000-11-15 | 2001-11-13 | Multidimensional ultrasonic transducer array |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20030085635A1 (en) |
EP (1) | EP1263536A2 (en) |
JP (1) | JP3939652B2 (en) |
WO (1) | WO2002040184A2 (en) |
Families Citing this family (80)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7053530B2 (en) | 2002-11-22 | 2006-05-30 | General Electric Company | Method for making electrical connection to ultrasonic transducer through acoustic backing material |
US6831394B2 (en) * | 2002-12-11 | 2004-12-14 | General Electric Company | Backing material for micromachined ultrasonic transducer devices |
US7850613B2 (en) * | 2003-05-30 | 2010-12-14 | Orison Corporation | Apparatus and method for three dimensional ultrasound breast imaging |
US7491172B2 (en) * | 2004-01-13 | 2009-02-17 | General Electric Company | Connection apparatus and method for controlling an ultrasound probe |
US7431698B2 (en) * | 2004-01-13 | 2008-10-07 | Ge Medical Systems Global Technology Company, Llc | Apparatus and method for controlling an ultrasound probe |
DE102004022838A1 (en) | 2004-05-08 | 2005-12-01 | Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh | Ultrasonic transducer and method for producing the same |
AR045237A1 (en) * | 2004-08-09 | 2005-10-19 | Servicios Especiales San Anton | ELECTRICAL POWER GENERATOR THAT USES VIBRATIONS CAUSED BY A DRILLING TOOL |
CN100376669C (en) * | 2005-02-25 | 2008-03-26 | 深圳迈瑞生物医疗电子股份有限公司 | Treatment method for biological erythrocyte volume long time stabilization |
WO2006131875A2 (en) * | 2005-06-07 | 2006-12-14 | Koninklijke Philips Electronics, N.V. | Multicomponent backing block for ultrasound sensor assemblies |
US7229292B1 (en) * | 2005-12-22 | 2007-06-12 | General Electric Company | Interconnect structure for transducer assembly |
US7622848B2 (en) * | 2006-01-06 | 2009-11-24 | General Electric Company | Transducer assembly with z-axis interconnect |
WO2008012748A2 (en) * | 2006-07-24 | 2008-01-31 | Koninklijke Philips Electronics, N.V. | Ultrasound transducer featuring a pitch independent interposer and method of making the same |
US9867530B2 (en) | 2006-08-14 | 2018-01-16 | Volcano Corporation | Telescopic side port catheter device with imaging system and method for accessing side branch occlusions |
DE102006050037A1 (en) | 2006-10-24 | 2008-04-30 | Robert Bosch Gmbh | Ultrasonic transducer for motor vehicle, has damping unit for damping vibrations of wall, arranged in diaphragm pot in edge section of diaphragm and connected with edge section and inner side of wall in force-fitting manner |
US7791252B2 (en) * | 2007-01-30 | 2010-09-07 | General Electric Company | Ultrasound probe assembly and method of fabrication |
US10219780B2 (en) | 2007-07-12 | 2019-03-05 | Volcano Corporation | OCT-IVUS catheter for concurrent luminal imaging |
US9622706B2 (en) | 2007-07-12 | 2017-04-18 | Volcano Corporation | Catheter for in vivo imaging |
US9596993B2 (en) | 2007-07-12 | 2017-03-21 | Volcano Corporation | Automatic calibration systems and methods of use |
US7834522B2 (en) * | 2007-08-03 | 2010-11-16 | Mr Holdings (Hk) Limited | Diagnostic ultrasound transducer |
US8323201B2 (en) | 2007-08-06 | 2012-12-04 | Orison Corporation | System and method for three-dimensional ultrasound imaging |
JP5461769B2 (en) * | 2007-09-20 | 2014-04-02 | 株式会社東芝 | Ultrasonic transducer, ultrasonic probe, and method of manufacturing ultrasonic transducer |
US8570837B2 (en) | 2007-12-06 | 2013-10-29 | Measurement Specialties, Inc. | Multilayer backing absorber for ultrasonic transducer |
US8390174B2 (en) * | 2007-12-27 | 2013-03-05 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Connections for ultrasound transducers |
KR101137261B1 (en) * | 2009-03-18 | 2012-04-20 | 삼성메디슨 주식회사 | Probe for ultrasonic diagnostic apparatus and manufacturing method thereof |
KR101137262B1 (en) | 2009-03-18 | 2012-04-20 | 삼성메디슨 주식회사 | Probe for ultrasonic diagnostic apparatus and manufacturing method thereof |
US20120209069A1 (en) * | 2009-11-04 | 2012-08-16 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Collision avoidance and detection using distance sensors |
KR101196214B1 (en) | 2010-09-06 | 2012-11-05 | 삼성메디슨 주식회사 | Probe for ultrasonic diagnostic apparatus |
US11141063B2 (en) | 2010-12-23 | 2021-10-12 | Philips Image Guided Therapy Corporation | Integrated system architectures and methods of use |
US11040140B2 (en) | 2010-12-31 | 2021-06-22 | Philips Image Guided Therapy Corporation | Deep vein thrombosis therapeutic methods |
WO2013033489A1 (en) | 2011-08-31 | 2013-03-07 | Volcano Corporation | Optical rotary joint and methods of use |
KR101296244B1 (en) | 2012-01-31 | 2013-08-13 | 삼성메디슨 주식회사 | Backing element of ultrasonic probe, backing of ultrasonic probe and manufacturing method thereof |
KR101435011B1 (en) * | 2012-02-20 | 2014-08-27 | 삼성메디슨 주식회사 | Ultrasound Probe and Manufacturing Method thereof |
US9858668B2 (en) | 2012-10-05 | 2018-01-02 | Volcano Corporation | Guidewire artifact removal in images |
US9292918B2 (en) | 2012-10-05 | 2016-03-22 | Volcano Corporation | Methods and systems for transforming luminal images |
US9324141B2 (en) | 2012-10-05 | 2016-04-26 | Volcano Corporation | Removal of A-scan streaking artifact |
US9286673B2 (en) | 2012-10-05 | 2016-03-15 | Volcano Corporation | Systems for correcting distortions in a medical image and methods of use thereof |
US9367965B2 (en) | 2012-10-05 | 2016-06-14 | Volcano Corporation | Systems and methods for generating images of tissue |
US9307926B2 (en) | 2012-10-05 | 2016-04-12 | Volcano Corporation | Automatic stent detection |
EP2904671B1 (en) | 2012-10-05 | 2022-05-04 | David Welford | Systems and methods for amplifying light |
US11272845B2 (en) | 2012-10-05 | 2022-03-15 | Philips Image Guided Therapy Corporation | System and method for instant and automatic border detection |
US10070827B2 (en) | 2012-10-05 | 2018-09-11 | Volcano Corporation | Automatic image playback |
US10568586B2 (en) | 2012-10-05 | 2020-02-25 | Volcano Corporation | Systems for indicating parameters in an imaging data set and methods of use |
US9840734B2 (en) | 2012-10-22 | 2017-12-12 | Raindance Technologies, Inc. | Methods for analyzing DNA |
JP6322210B2 (en) | 2012-12-13 | 2018-05-09 | ボルケーノ コーポレイション | Devices, systems, and methods for targeted intubation |
JP2016504589A (en) | 2012-12-20 | 2016-02-12 | ナサニエル ジェイ. ケンプ, | Optical coherence tomography system reconfigurable between different imaging modes |
US10939826B2 (en) | 2012-12-20 | 2021-03-09 | Philips Image Guided Therapy Corporation | Aspirating and removing biological material |
WO2014099899A1 (en) | 2012-12-20 | 2014-06-26 | Jeremy Stigall | Smooth transition catheters |
CA2895770A1 (en) | 2012-12-20 | 2014-07-24 | Jeremy Stigall | Locating intravascular images |
US11406498B2 (en) | 2012-12-20 | 2022-08-09 | Philips Image Guided Therapy Corporation | Implant delivery system and implants |
CN103876775B (en) * | 2012-12-20 | 2016-02-03 | 深圳迈瑞生物医疗电子股份有限公司 | The array element Connection Element of ultrasonic probe and ultrasonic probe thereof and ultrasonic image-forming system |
US10942022B2 (en) | 2012-12-20 | 2021-03-09 | Philips Image Guided Therapy Corporation | Manual calibration of imaging system |
WO2014099672A1 (en) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Andrew Hancock | System and method for multipath processing of image signals |
US10058284B2 (en) | 2012-12-21 | 2018-08-28 | Volcano Corporation | Simultaneous imaging, monitoring, and therapy |
CA2895993A1 (en) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Jason Spencer | System and method for graphical processing of medical data |
EP2934653B1 (en) | 2012-12-21 | 2018-09-19 | Douglas Meyer | Rotational ultrasound imaging catheter with extended catheter body telescope |
WO2014100530A1 (en) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Whiseant Chester | System and method for catheter steering and operation |
US10191220B2 (en) | 2012-12-21 | 2019-01-29 | Volcano Corporation | Power-efficient optical circuit |
US9612105B2 (en) | 2012-12-21 | 2017-04-04 | Volcano Corporation | Polarization sensitive optical coherence tomography system |
JP2016507892A (en) | 2012-12-21 | 2016-03-10 | デイビッド ウェルフォード, | System and method for narrowing the wavelength emission of light |
WO2014099760A1 (en) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Mai Jerome | Ultrasound imaging with variable line density |
US9486143B2 (en) | 2012-12-21 | 2016-11-08 | Volcano Corporation | Intravascular forward imaging device |
EP2965263B1 (en) | 2013-03-07 | 2022-07-20 | Bernhard Sturm | Multimodal segmentation in intravascular images |
US10226597B2 (en) | 2013-03-07 | 2019-03-12 | Volcano Corporation | Guidewire with centering mechanism |
CN105228518B (en) | 2013-03-12 | 2018-10-09 | 火山公司 | System and method for diagnosing coronal microvascular diseases |
US11154313B2 (en) | 2013-03-12 | 2021-10-26 | The Volcano Corporation | Vibrating guidewire torquer and methods of use |
CN105120759B (en) | 2013-03-13 | 2018-02-23 | 火山公司 | System and method for producing image from rotation intravascular ultrasound equipment |
US11026591B2 (en) | 2013-03-13 | 2021-06-08 | Philips Image Guided Therapy Corporation | Intravascular pressure sensor calibration |
US9301687B2 (en) | 2013-03-13 | 2016-04-05 | Volcano Corporation | System and method for OCT depth calibration |
US10292677B2 (en) | 2013-03-14 | 2019-05-21 | Volcano Corporation | Endoluminal filter having enhanced echogenic properties |
WO2014152365A2 (en) | 2013-03-14 | 2014-09-25 | Volcano Corporation | Filters with echogenic characteristics |
US10219887B2 (en) | 2013-03-14 | 2019-03-05 | Volcano Corporation | Filters with echogenic characteristics |
WO2015077593A1 (en) * | 2013-11-22 | 2015-05-28 | Covarx Corporation | 2d matrix array backing interconnect assembly, 2d ultrasonic transducer array, and method of manufacture |
US11047979B2 (en) * | 2016-07-27 | 2021-06-29 | Sound Technology Inc. | Ultrasound transducer array |
US10918356B2 (en) | 2016-11-22 | 2021-02-16 | General Electric Company | Ultrasound transducers having electrical traces on acoustic backing structures and methods of making the same |
KR102444289B1 (en) | 2017-07-18 | 2022-09-16 | 삼성전자주식회사 | Interposer, ultrasonic probe using the same, and method of manufacturing the interposer |
EP3482835A1 (en) * | 2017-11-14 | 2019-05-15 | Koninklijke Philips N.V. | Capacitive micro-machined ultrasound transducer (cmut) devices and control methods |
US11806191B2 (en) * | 2018-05-21 | 2023-11-07 | General Electric Company | Phased array transducers and wafer scale manufacturing for making the same |
US20200107816A1 (en) * | 2018-10-09 | 2020-04-09 | General Electric Company | Electrical interconnect for use in an ultrasound transducer |
JP7261429B2 (en) * | 2019-02-28 | 2023-04-20 | 本多電子株式会社 | Sonar, ultrasonic transducer and manufacturing method thereof |
CN110026329B (en) * | 2019-04-25 | 2021-08-31 | 香港理工大学 | Ultrasonic transducer and preparation method thereof |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2545861B2 (en) * | 1987-06-12 | 1996-10-23 | 富士通株式会社 | Ultrasonic probe manufacturing method |
US5329498A (en) * | 1993-05-17 | 1994-07-12 | Hewlett-Packard Company | Signal conditioning and interconnection for an acoustic transducer |
EP0637470A3 (en) * | 1993-08-05 | 1995-11-22 | Hewlett Packard Co | Backing layer for acoustic transducer array. |
US5559388A (en) * | 1995-03-03 | 1996-09-24 | General Electric Company | High density interconnect for an ultrasonic phased array and method for making |
US6288477B1 (en) * | 1999-12-03 | 2001-09-11 | Atl Ultrasound | Composite ultrasonic transducer array operating in the K31 mode |
-
2001
- 2001-11-13 EP EP01994658A patent/EP1263536A2/en not_active Withdrawn
- 2001-11-13 WO PCT/EP2001/013182 patent/WO2002040184A2/en not_active Application Discontinuation
- 2001-11-13 JP JP2002542543A patent/JP3939652B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-12-19 US US10/326,670 patent/US20030085635A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1263536A2 (en) | 2002-12-11 |
US20030085635A1 (en) | 2003-05-08 |
WO2002040184A2 (en) | 2002-05-23 |
WO2002040184A3 (en) | 2002-09-26 |
JP2004514340A (en) | 2004-05-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3939652B2 (en) | Multidimensional ultrasonic transducer array | |
US4747192A (en) | Method of manufacturing an ultrasonic transducer | |
EP0872285B1 (en) | Connective backing block for composite transducer | |
JP4433378B2 (en) | Electrical connection to an ultrasonic transducer via an acoustic backing material | |
US7795784B2 (en) | Redistribution interconnect for microbeamforming(s) and a medical ultrasound system | |
EP2723506B1 (en) | Ultrasound transducer assembly and method of manufacturing the same | |
US7567016B2 (en) | Multi-dimensional ultrasound transducer array | |
US7518290B2 (en) | Transducer array with non-uniform kerfs | |
US20060230605A1 (en) | Ultrasound transducer and method of producing the same | |
US20040048470A1 (en) | Interconnection devices for ultrasonic matrix array transducers | |
JP3824315B2 (en) | Multidimensional arrays and their manufacture | |
US6915696B2 (en) | Intersecting ultrasonic transducer arrays | |
JP2001309493A (en) | Two-dimensional array ultrasound probe and manufacturing method therefor | |
JP3288815B2 (en) | 2D array ultrasonic probe | |
US6266857B1 (en) | Method of producing a backing structure for an ultrasound transceiver | |
US6288477B1 (en) | Composite ultrasonic transducer array operating in the K31 mode | |
JP3612312B2 (en) | Ultrasonic probe and manufacturing method thereof | |
US20080189933A1 (en) | Photoetched Ultrasound Transducer Components | |
JP4426513B2 (en) | Ultrasonic probe and manufacturing method thereof | |
JP2023504027A (en) | Method and system for multi-frequency transducer array | |
JP4071084B2 (en) | Manufacturing method of two-dimensional array ultrasonic probe | |
US20240351070A1 (en) | Row-column addressing ultrasound transduction device | |
JPH0532059B2 (en) | ||
JPH0543240B2 (en) | ||
JPH0634559B2 (en) | Ultrasonic probe |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041110 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060228 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060328 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20060627 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20060704 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060927 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070227 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070328 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |