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JP3910160B2 - 蒸気調理器 - Google Patents

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JP3910160B2
JP3910160B2 JP2003205424A JP2003205424A JP3910160B2 JP 3910160 B2 JP3910160 B2 JP 3910160B2 JP 2003205424 A JP2003205424 A JP 2003205424A JP 2003205424 A JP2003205424 A JP 2003205424A JP 3910160 B2 JP3910160 B2 JP 3910160B2
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真也 上田
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、蒸気や過熱蒸気を含む気体により被加熱物を調理する蒸気調理器に関する。
【0002】
【従来の技術】
蒸気を用いて加熱調理を行う蒸気調理器については、これまでにも数々の提案がなされている。従来一般の蒸気調理器は、大きくは、被加熱物を収納する加熱室と、水タンク等から給水パイプを経て供給された水を加熱して蒸気を生成する蒸気生成手段と、この蒸気を加熱室に送り出す蒸気送出手段と、を備えている。
【0003】
ここで、蒸気生成手段によって生成された蒸気の大半は、最終的に被加熱物を調理するために用いられるが、その一部は、加熱室へ到達することなく水に戻って経路内に残留する場合がある。この残留水は、一度蒸気となったものが液化したものであるため、消毒用の塩素が抜けた状態にあり、そのまま経路内に放置されると、雑菌や藻類が繁殖する要因になる。従って、このような残留水は、以後の調理に対する衛生面から、調理後に経路外に排出すべきである。
【0004】
これに対して従来は、その残留水を経路中に設けたドレンパイプから蒸気調理器本体の外部に排出するようにしていた(例えば、特許文献1参照)。
【0005】
【特許文献1】
特開平10−110903号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記の残留水は、消毒用の塩素が抜けた状態である上に、ミネラル成分の濃度が高い状態にもあるため、従来の手法におけるドレンパイプに屈曲する部分があった場合、その屈曲部に、濃縮されたミネラル成分がスケールとして付着し易い。そうすると、残留水の排出が繰り返されるに連れて、ドレンパイプの屈曲部にスケールが徐々に堆積していき、その結果、残留水の流動を阻害して円滑な排出に支障を来たす場合がある。
【0007】
そこで、本発明は、上記の問題に鑑みてなされたものであり、衛生面から調理後における経路内の残留水を経路外に排出することを前提に、その残留水を永続的に円滑に排出できる蒸気調理器を提供することを目的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明による蒸気調理器は、被加熱物を収納する加熱室と、給水装置から供給された水を受け入れるポットと、このポット内の水を加熱して蒸気を生成する蒸気生成手段と、を備え、前記蒸気生成手段から送り出された蒸気を含む気体により被加熱物を調理する蒸気調理器であって、前記ポットの底から垂下し排水バルブを介在して下部を屈曲させた排水パイプを備えて成るものにおいて、前記ポット内で加熱されていない水を前記排水パイプの屈曲部に流す制御手段を設けている。前記ポット内で加熱されていない水を前記排水パイプの屈曲部に流す制御としては、前記ポット内の加熱された水を排水した後に給水装置(ポンプ)を駆動してポット内に給水しポット経由で排水パイプの屈曲部に流す制御である
【0009】
これにより、調理後におけるポット内の残留水は、消毒用の塩素が抜けて、ミネラル成分の濃度が高い状態になっているが、ポット内から排出することにより、雑菌等が繁殖する要因がなくなり、以後の調理に対して衛生的なものとなる。その際、濃縮されたミネラル成分が排水パイプの屈曲部に付着する様相となるが、蒸気生成手段に到達していない水、すなわちミネラル成分の濃縮されていない水で洗浄することによって、そのミネラル成分が洗い流されるため、屈曲部にスケールが堆積することを防止できる。
【0010】
また本発明による蒸気調理器は、被加熱物を収納する加熱室と、給水パイプを経て供給された水を受け入れるポットと、このポット内の水を加熱して蒸気を生成する蒸気生成手段と、を備え、前記蒸気生成手段から送り出された蒸気を含む気体により被加熱物を調理する蒸気調理器であって、前記ポットの底から垂下し排水バルブを介在して下部を屈曲させた排水パイプを備えて成るものにおいて、前記給水パイプから下方に向けて分岐し、前記排水パイプに洗浄バルブを介して接続された洗浄パイプを設け、前記洗浄パイプ内に残留している水を前記排水パイプの屈曲部に流すよう前記洗浄バルブを制御する制御手段を設けている。
【0011】
これにより、洗浄パイプ内に残留している、蒸気生成手段に到達していない水、すなわちミネラル成分の濃縮されていない水によって、排水パイプの屈曲部に付着しているミネラル成分を洗い流すことができるため、屈曲部にスケールが堆積することを防止できる。
【0012】
また、前記給水パイプから上方に向けて分岐するとともに、下方に向けて折れ曲がって前記洗浄パイプに接続されたオーバーフローパイプを設け、このオーバーフローパイプ内に残留している水が、前記洗浄パイプ内に残留している水とともに前記洗浄パイプを経て前記排水パイプの屈曲部に流れる構成にしている。これにより、排水パイプの屈曲部におけるミネラル成分を洗い流すための水として、洗浄パイプ内の残留水に加え、これと同質であるオーバーフローパイプ内の残留水が活用できる。従って、多量の水でミネラル成分が洗い流されるため、その洗浄効果が増す。
【0013】
ここで、前記洗浄パイプ(及びオーバーフローパイプ)に残留している水は、調理終了後、前記ポットに残留している水が排水された後に自動的に前記排水パイプの屈曲部に流すようになっている。これにより、ミネラル成分の効果的洗浄が自動的に行える。
【0014】
また、前記加熱室の床面上に着脱可能に受皿を設けていて、前記排水パイプの他端が前記加熱室の側壁から前記受皿に向けて開口するようになっている。これにより、使用者は受皿に溜まった残留水を適宜廃棄する必要があるが、残留水の排出先が加熱室内の受皿であるため、被加熱物の出し入れに際し、使用者は残留水が受皿に溜まった状態を確実に視認できる。従って、排出された残留水の廃棄を確実に促すことが可能となるため、ひいては受皿からの残留水の不用意な溢れ出しを抑止できる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の蒸気調理器の一実施形態を図1〜図8に基づき説明する。図1は外観斜視図、図2は加熱室の扉を開いた状態の外観斜視図、図3は内部機構の概略を示す基本構造図、図4は内部機構のうちの結露排水パイプを主として示す基本構造図、図5は内部機構の要部上面図、図6は蒸気発生装置の垂直断面図、図7は蒸気発生装置の水平断面図、図8は制御ブロック図である。
【0016】
蒸気調理器1は直方体形状のキャビネット10を備える。キャビネット10の正面には、上部に操作パネル11、その下に扉12が設けられる。扉12は下端を中心に垂直面内で回動するものであり、上部のハンドル13を握って手前に引くことにより、図1に示す垂直な閉鎖状態から図2に示す水平な開放状態へと90゜姿勢変換させることができる。扉12の大部分は耐熱ガラスをはめ込んだ窓14となっている。
【0017】
扉12を開くと、図2に見られるように二つの区画が露出する。左側の大きな区画は加熱室20、右側の小さな区画は水タンク室70である。加熱室20と水タンク室70の構造、及びこれらに付属する構成要素について、図3以下の図を参照しつつ説明する。
【0018】
加熱室20は直方体形状で、扉12に面する正面側は全面的に開口部となっている。加熱室20の残りの面及び扉12の内面はステンレス鋼板で形成される。加熱室20の周囲及び扉12の内側にはそれぞれ断熱対策が施される。加熱室20の床面にはステンレス鋼板製の受皿21が着脱可能に置かれ、受皿21の上には被加熱物90を載置するステンレス鋼線製のラック22が置かれる。ここで本実施形態では、加熱室20の床面に受皿21とほぼ同形状の凹部15が形成されていて、受皿21は実際にはこの凹部15に嵌まり合って置かれることになる。つまり、受皿21は凹部15で確実に位置決めされることになる。
【0019】
加熱室20の中の気体(通常の場合、加熱室20の内部の気体は空気であるが、蒸気調理を始めると空気が蒸気に置き換わって行く。従って本明細書では「空気」でなく「気体」と表現する)は外部循環路30を通って循環する。加熱室20の奥側壁の前方には、天井面から床面近くまで垂下する気流制御板23(これもステンレス鋼板製である)が配置されている。この気流制御板23の下端と奥側壁との間の隙間が、外部循環路30に気体を導く気体吸込口24となる。気体吸込口24は下方を向く。
【0020】
気体吸込口24から吸い込まれた気体は気流制御板23の裏を通って加熱室20の外面上部に設けられた送風装置25へと向かう。送風装置25は遠心ファン26及びこれを収容するファンケーシング27と、遠心ファン26を回転させるモータ(図示せず)を備える。遠心ファン26としてはシロッコファンを用いる。遠心ファン26を回転させるモータには高速回転が可能な直流モータを使用する。
【0021】
ファンケーシング27の吐出口に外部循環路30が接続される。外部循環路30は断面円形のパイプを組み合わせて構成される。ファンケーシング27からは第1パイプ31が水平方向に突き出す。第1パイプ31の端には排気口32が設けられる。排気口32の少し上流にはエルボ形の第2パイプ33が接続される。第2パイプ33の水平部分は蒸気発生装置50(詳細は後述する)の上部に入り込み、蒸気吸引エジェクタ34を形成する。第2パイプ33の吐出端は絞り成形され、蒸気吸引エジェクタ34のインナーノズルとなる。蒸気発生装置50の側面からは蒸気吸引エジェクタ34のアウターノズル35が下流に向かって水平に突出する。
【0022】
外部循環路30の第3パイプ36が蒸気吸引エジェクタ34の下流でアウターノズル35を受け入れる。第3パイプ36の端はアウターノズル35を包むように膨らんでおり、ここに後段エジェクタ37が形成される。蒸気吸引エジェクタ34のアウターノズル35は、後段エジェクタ37においてはインナーノズルの役割を果たす。後段エジェクタ37には、第1パイプ31から分岐したバイパス路38が接続される。バイパス路38も断面円形のパイプにより形成される。図5に見られるようにバイパス路38は2本設けられ、後段エジェクタ37に左右対称的に気体を吹き込む。
【0023】
第3パイプ36の端は加熱室20に気体を戻す気体戻し口39となる。気体戻し口39は加熱室20に直接開口するのでなく、加熱室20の天井部に設けられたサブキャビティ40の中に開口している。サブキャビティ40の中には気体の加熱手段である過熱ヒータ41が配置される。過熱ヒータ41はシーズヒータにより構成される。サブキャビティ40の底面は加熱室20の天井とは別の金属パネルで形成され、この底面パネル42には多数の小孔よりなる噴気口43が設けられている。底面パネル42は上下両面とも塗装などにより暗色に仕上げられている。
【0024】
加熱室20の上部の一隅には、加熱室20内の余剰の気体を加熱室20から排出するための排出口44が形成されていて、この排出口44には、蒸気調理器1本体であるキャビネット10の外部へ連通する余剰気体用の排気ダクト45が連結される。また第1パイプ31の端には電動式のダンパ46が配置される。ダンパ46は排気口32と第2パイプ33の入口とを選択的に閉ざす。また排気口32には、キャビネット10の外部へ連通する排気ダクト47が連結される。
【0025】
続いて蒸気発生装置50の構造を、図6及び図7を参照しつつ説明する。蒸気発生装置50は中心線を垂直にして配置された筒型(円筒形)のポット51を備える。ポット51の上部は閉じており、前述のように蒸気吸引エジェクタ34が形成されている。
【0026】
ポット51の底部は漏斗状に成形され、そこから第1排水パイプ52が垂下する。第1排水パイプ52の下端は、水平に対しやや勾配をなす形で配置された第2排水パイプ53に連結される。その連結部は屈曲し屈曲部Aを形成する。第2排水パイプ53の端は加熱室20の側壁を通じ受皿21に向かって開口する。第1排水パイプ52の途中には排水バルブ54及び水位センサ55が設けられている。
【0027】
ポット51内の水を熱するのはポット51の外面に密着するように設けられた蒸気発生ヒータ56である。蒸気発生ヒータ56は環状のシーズヒータからなる。蒸気発生ヒータ56とほぼ同じ高さになるように、ポット51の内部に伝熱ユニット60が配置される。
【0028】
伝熱ユニット60は、ポット51の側壁内面に密着するリング61と、このリング61の内部に放射状に配置される複数のフィン62を備える。リング61とフィン62は押出成形、溶接、ろう付けなどの手法により一体化されている。リング61及びフィン62はポット51の軸線方向に所定の長さを有する。
【0029】
ポット51には給水パイプ63を通じて水が供給(給水)される。給水パイプ63は、ポット51の側壁に向けてやや上向きに傾斜した状態で略水平に延在し、ポット51の底部近くからその側壁を貫通し、ポット51の中に入り込んだ後、下から上へとフィン62の間を通って延びる。給水パイプ63の給水出口である上端はフィン62の上縁より少し上に突き出している。図7に見られるように、フィン62を車輪のスポークに見立てた場合、ハブとなる位置に給水パイプ63が配置されている。給水パイプ63の外面には各フィン62の端面を接触させ、フィン62を通じて給水パイプ63に熱を伝える。
【0030】
ポット51、伝熱ユニット60、及び給水パイプ63は熱の良導体である金属で形成する。金属としては熱伝導率の良い銅や銅合金が適する。但しこれらには緑青が発生するので、熱伝導率は少し劣るものの、緑青を懸念せずに済むステンレス鋼を用いることとしてもよい。
【0031】
給水パイプ63の給水入口である端には漏斗状の受入口64が形成される。受入口64から少し下流の位置には、給水パイプ63から下方に向けて分岐した洗浄パイプ65が接続される。洗浄パイプ65は洗浄バルブ66を介して第1排水パイプ52と第2排水パイプ53の連結部(屈曲部A)に接続する。
【0032】
給水パイプ63には、この洗浄パイプ65の他に、上方に向けて分岐し更に折れ曲がって垂下した逆J字形のオーバーフローパイプ67も接続される。オーバーフローパイプ67の他端は洗浄パイプ65に接続され、ポンプ73が駆動しっぱなしの異常事態のとき給水がポット51から溢れて外部循環路30に侵入するのを防止する。
【0033】
水タンク室70には横幅の狭い直方体形状の水タンク71が挿入される。この水タンク71から延び出すエルボ形の送水パイプ72が給水パイプ63の受入口64に接続する。水タンク71内の水は、ポンプ73の駆動によって送水パイプ72を通じて圧送され、給水パイプ63へと供給される。ポンプ73は、送水パイプ72の根元部に形成されたポンプケーシング74と、ポンプケーシング74に収容されたインペラ75と、インペラ75に動力を伝えるモータ76と、により構成される。モータ76はキャビネット10の側に固定されており、水タンク71を所定位置にセットするとインペラ75に電磁的に結合する。
【0034】
水タンク室70の床面には水タンク71を支えるトラフ形のレール77が固定されている(図2参照)。レール77のタンク載置面は水平に開いた扉12の内面と同じ高さにある。そのため使用者は、水平になった扉12の上に水タンク71を置き、レール77に向かって押し込んで行くことにより、水タンク71をスムーズに水タンク室70内の所定位置にセットすることができる。逆に、扉12を水平に開いておいて水タンク71を引き出せば、水タンク室70から出た水タンク71はそのまま扉12で支えられる。従って水タンク71を手で支えつつ引き出す必要がない。
【0035】
蒸気調理器1の動作制御を行うのは図8に示す制御装置80である。制御装置80はマイクロプロセッサ及びメモリを含み、所定のプログラムに従って蒸気調理器1を制御する。制御状況は操作パネル11の中の表示部に表示される。制御装置80には操作パネル11に配置した各種操作キーを通じて動作指令の入力を行う。操作パネル11には各種の音を出す音発生装置も配置されている。
【0036】
制御部80には、操作パネル11の他、送風装置25、過熱ヒータ41、ダンパ46、排水バルブ54、水位センサ55、蒸気発生ヒータ56、洗浄バルブ66、及びポンプ73が接続される。この他、水タンク71の中の水量を測定する水量センサ81、加熱室20内の温度を測定する温度センサ82、及び加熱室20内の湿度を測定する湿度センサ83が接続されている。
【0037】
蒸気調理器1の動作は次の通りである。満水状態にした水タンク71を水タンク室70に押し込み、所定位置にセットする。送水パイプ72の先端が給水パイプ63の受入口64にしっかりと接続されたことを確認したうえで、操作パネル11の中の電源キーを押して電源ONにする。するとポンプ73のモータ76が回転し、蒸気発生装置50への給水が始まる。排水バルブ54と洗浄バルブ66は閉じている。
【0038】
水は給水パイプ63の上端から溢れ出し、伝熱ユニット60のフィン62を濡らしつつポット51の底に落ち溜まって行く。水位が伝熱ユニット60の長さの半ばまで達したことを水位センサ55が検知したらポンプ73が停止し、そこで一旦給水は中止される。その際、ポンプ73が水密状態に保たれ給水パイプ63は全域に亘って水で満たされた状態となる。また、洗浄パイプ65においては、給水パイプ63からの分岐部である上端と洗浄バルブ66との間が水で満たされ、更にオーバーフローパイプ67においては、給水パイプ63からの分岐部である入口側の水位が、給水パイプ63の上端と同レベルに達した状態となる。
【0039】
こうして所定量の水がポット51に入れられた後、蒸気発生ヒータ56への通電が開始される。蒸気発生ヒータ56はポット51の側壁を介してポット51の中の水を加熱する。ポット51の側壁が熱せられると、その熱は伝熱ユニット60に伝わり、伝熱ユニット60から水へと伝えられる。
【0040】
蒸気発生ヒータ56への通電と同時に、送風装置25及び過熱ヒータ41への通電も開始される。送風装置25は気体吸込口24から加熱室20の中の気体を吸い込み、外部循環路30に気体を送り出す。
【0041】
この時ダンパ46は外部循環路30の第2パイプ33の入口を開き、排気口32を閉ざしている。気体は第1パイプ31から第2パイプ33に入り、さらに第3パイプ36を経て、気体戻し口39からサブキャビティ40に入る。そしてサブキャビティ40内で過熱ヒータ41により熱せられた後、噴気口43から下向きに噴出する。
【0042】
ポット51の中の水が沸騰すると、100℃1気圧の飽和蒸気が発生する。飽和蒸気は蒸気吸引エジェクタ34のところで外部循環路30を通る循環気流に吸引される。エジェクタ構造を用いているので、飽和蒸気は速やかに吸い上げられ吸い出されるので、飽和蒸気の放出が妨げられない。
【0043】
後段エジェクタ37においては、バイパス路38から流入した気体を吸い出す。蒸気吸引エジェクタ34をバイパスしてその下流に気体を吸い込むバイパス路38の存在によって循環系の圧損が小さくなり、遠心ファン26を効率良く駆動できる。後段エジェクタ37を出た飽和蒸気混じりの気体は高速でサブキャビティ40に突入する。
【0044】
サブキャビティ40に入った飽和蒸気混じりの気体は過熱ヒータ41により300℃にまで熱せられる。この時点で飽和蒸気は過熱蒸気となる。気体は温度上昇により膨脹し、噴気口43より勢い良く噴出する。
【0045】
加熱室20の中央部に吹き下ろしの気流を形成した気体はその外側で上昇し、加熱室20内に対流を形成する。そして再び気体吸込口24から吸い込まれる。このようにして加熱室20内の気体は外部循環路30に出ては加熱室20に戻るという循環を繰り返す。
【0046】
時間が経過するにつれ、気体中の蒸気の割合が増して行く。量的に余剰となった気体は、排出口44から余剰気体用排気ダクト45を経て加熱室20の外に出る。
【0047】
そして、余剰気体用排気ダクト45の最下部となる底部には、下端が加熱室20の側壁から受皿21に向けて開口する余剰気体用の結露排水パイプ48が連結されていて、余剰気体用排気ダクト45内に生成した結露水は、その余剰気体用結露排水パイプ48を経て受皿21に導かれ、調理終了後、他の原因で発生する水と共に処理される。
【0048】
過熱蒸気を含む気体の吹き出しが始まると、加熱室20の中の温度は急速に上昇する。加熱室20の中の温度が調理可能領域に達したことを温度センサ82が検知すると、制御装置80が操作パネル11にその旨の表示を出し、また合図音を鳴らす。調理可能になったことを音と表示により知った使用者は扉12を開け、加熱室20に被加熱物90を入れる。
【0049】
扉12を開けかかると、制御装置80はダンパ46の姿勢を切り替え、第2パイプ33の入口を閉じるとともに、排気口32を開く。加熱室20の中の気体は送風装置25により吸い込まれ、排気口32から循環気体用排気ダクト47を経て外部へ排出される。第2パイプ33の入口が閉じることにより、噴気口43からの過熱蒸気の噴出がなくなるので、過熱蒸気が使用者を襲い、使用者が顔面や手などに火傷を負うということがない。ダンパ46は、扉12が開いている間中、排気口32を開き、第2パイプ33の入口を閉ざす姿勢を保つ。
【0050】
使用者が扉12を開けかかったという状況は、扉12を閉鎖状態に保つラッチをキャビネット10と扉12の間に設け、このラッチを解錠するラッチレバーをハンドル13から露出するように設けると共に、ラッチ又はラッチレバーの動きに応答して開閉するスイッチを扉12又はハンドル13の内側に配置し、使用者がハンドル13とラッチレバーを握りしめて解錠操作を行ったとき、スイッチから制御装置80に信号が送られるようにする。
【0051】
ここで、排気口32から循環気体用排気ダクト47を経て排出される気体(循環気体)も、排出口44から排出される気体(余剰気体)と同様、蒸気を大量に含んでおり、そのまま放出するのは問題である。そのため、本実施形態では、循環気体用排気ダクト47内に、余剰気体用排気ダクト45と同様、脱臭作用も兼ねる多孔質の酸化触媒や金網といった結露生成部材(不図示)を設けていて、この結露生成部材を通して蒸気を結露させ、十分に水分を除去してからその気体をキャビネット10外に放出するようにしている。
【0052】
そして、循環気体用排気ダクト47の最下部となる底部には、余剰気体用排気ダクト45と同様、下端が加熱室20の側壁から受皿21に向けて開口する循環気体用の結露排水パイプ49が連結されていて、循環気体用排気ダクト47内に生成した結露水は、その循環気体用結露排水パイプ49を経て受皿21に導かれ、調理終了後、他の原因で発生する水と共に処理される。
【0053】
ラック22の上に被加熱物90をセット(収納)し、扉12を閉じると、ダンパ46は第2パイプ33への入口を開き、排気口32を閉ざす姿勢に復帰する。これにより噴気口43からの過熱蒸気の噴出が再開され、被加熱物90の調理が始まる。
【0054】
約300℃に加熱されて噴気口43から吹き下ろす過熱蒸気は被加熱物90に衝突して被加熱物90に熱を伝える。この過程で蒸気温度は250℃程度にまで低下する。また被加熱物90の表面に接触した過熱蒸気は、被加熱物90の表面に結露する際潜熱を放出する。これによっても被加熱物90は加熱される。
【0055】
加熱室20の気体を循環させつつ被加熱物90を加熱するので、蒸気調理器1のエネルギー効率は高い。そして、過熱蒸気を含む気体が加熱室20の天井部から下向きに噴出するので、被加熱物90の上面全体に過熱蒸気が衝突する。過熱蒸気が被加熱物90に衝突することと、衝突の面積が広いこととが相まって、過熱蒸気に含まれる熱が素早く効率的に被加熱物90に伝達される。また、サブキャビティ40に入り込んだ気体が過熱ヒータ41で熱せられて膨脹することにより、吹き出しの勢いが増し、被加熱物90への衝突速度が速まる。これにより被加熱物90は一層速やかに熱せられる。
【0056】
下向きに吹き出した過熱状態の蒸気は、被加熱物90に衝突した後、上方へと向きを転じる。蒸気は空気より軽いため、自然な形でこのように方向転換することとなり、これが加熱室20の内部に対流をもたらす。この対流により、加熱室20内の温度を維持しつつ、被加熱物90にはサブキャビティ40で熱せられたばかりの過熱蒸気を衝突させ続けることができ、熱を大量且つ速やかに被加熱物90に与えることができる。
【0057】
被加熱物90が肉類の場合、温度が上昇すると油が滴り落ちることがある。被加熱物90が容器に入れた液体類であると、沸騰して一部がこぼれることがある。滴り落ちたりこぼれたりしたものは受皿21に受け止められ、調理終了後の処理を待つ。
【0058】
蒸気発生装置50で蒸気を発生し続けていると、ポット51の中の水位が低下する。水位が所定レベルまで下がったことを水位センサ55が検知すると、制御装置80はポンプ73の運転を再開させる。ポンプ73は水タンク71の中の水を押し上げ、蒸発した分の水を補給する。給水パイプ63の中を通る際、補給水には伝熱ユニット60のフィン62を通じて蒸気発生ヒータ56の熱が伝えられる。これにより補給水は予熱され、沸騰点に達するまでの時間が短縮される。
【0059】
また給水パイプ63の上端から噴きこぼれる補給水は、フィン62の上部の水面上に露出している部分に注ぎかけられる。フィン62の水面上露出部分は、水中に没している部分より高熱になっているので、フィン62に注がれた水は瞬時に沸騰して蒸発し、ポット51の内部の蒸気圧を高める。このため、アウターノズル35から蒸気が力強く噴出してサブキャビティ40に流れ込み、噴気口43からの過熱蒸気の噴出を加勢する。従って、給水の度に過熱蒸気の強力噴射が生じる。
【0060】
ポット51の中の水位が所定レベルまで上昇したことを水位センサ55が検知した時点で、制御装置80はポンプ73の運転を停止させる。このようにしてポンプ73は、調理期間中、間欠的に給水動作を行う。フィン62の水面上露出部分は、水を注がれることにより一旦温度が低下するが、その後水が注がれなくなると温度を回復する。これにより、新たな水が注がれる度にその水は急速蒸発し、過熱蒸気の噴射力を増大させることになる。
【0061】
ポンプ73としては、インペラを備えた遠心ポンプ型のものでなく、プランジャ型のものを用いることでポンプ停止時の水密状態を保つようにしている。
【0062】
操作パネル11を通じて入力した設定時間が経過すると、制御装置80が操作パネル11にその旨の表示を出し、また合図音を鳴らす。蒸気発生ヒータ56及び過熱ヒータ41への通電はこの時点で停止されるが、送風装置25の運転は続行している。
【0063】
調理終了を音と表示により知った使用者が被加熱物90を取り出すべく使用者が扉12を開けかかると、制御装置80はダンパ46の姿勢を切り替え、第2パイプ33の入口を閉じるとともに排気口32を開く。加熱室20の中の気体は送風装置25で吸い込まれ、排気口32より排出される。第2パイプ33の入口が閉じられたうえ、蒸気発生ヒータ56、過熱ヒータ41とも通電が止まっているので、噴気口43から過熱蒸気が噴出することがない。従って使用者は過熱蒸気を浴びることなく被加熱物90に手を差しのべることができる。
【0064】
使用者はラック22の上から調理済みの被加熱物90を取り上げる。受皿21を扉12の上に引き出し、それから被加熱物90を取り上げてもよい。これで調理を打ち切るのであれば、受皿21に溜まった水や油を捨てる。必要があれば受皿21とラック22を洗浄し、再び加熱室20にセットする。
【0065】
ところで、調理後にポット51の中に残った残留水は、消毒用の塩素が抜けた状態になっており、そのまま放置しておくと雑菌や藻類が繁殖するおそれがある。そこで、使用者は適宜のタイミングで操作パネル11を操作して制御装置80に排水バルブ54を開かせ、ポット51の中の水を第1排水パイプ52及び第2排水パイプ53を経て受皿21に放出する。
【0066】
また、ポット51内の残留水は、ミネラル成分の濃度が高くなっている。濃縮されたミネラル成分は、第1排水パイプ52と第2排水パイプ53との連結部である屈曲部Aに、スケールとして付着しやすい。そこで制御部80は、排水バルブ54を開いた後、少し時間を置いて(ポット51に残留している水が排出された後)洗浄バルブ66を開く。洗浄バルブ66が開くと、洗浄パイプ65及びオーバーフローパイプ67の中に溜まっていた、ミネラル成分の濃縮されていない水が放出され、屈曲部A及び第2排水パイプ53を経て受皿21に排出される。これにより、屈曲部Aに付着する様相であったミネラル成分が洗い流され、スケールと化すことを防ぐことができる。従って、屈曲部Aにスケールが堆積することがなく、ポット51の残留水の排出が永続的に円滑に行える。
【0067】
ここで、屈曲部Aのミネラル成分を洗い流すための水として、洗浄パイプ65内の残留水に加え、これと同質であるオーバーフローパイプ67内の残留水を活用しているが、これは、多量の水によって洗浄効果を増すためである。また、排水バルブ54及び洗浄バルブ66の開閉調整のみで、ミネラル成分の効果的な洗浄に見合った排水が行える。又、ポット51に残留している水が排出された後に、ポンプ73を所定時間駆動してポット51内および排水パイプをミネラル成分の濃縮されていない水で洗浄するようにすれば、ポット51内の確実な洗浄と排水パイプの屈曲部Aにスケールが堆積することを防止できる上、洗浄パイプ65および洗浄バルブ66を廃止してコストダウンが図れる。
【0068】
このようにして、ポット51内の残留水が第2排水パイプ53から受皿21に排出されるため、以後の調理に対して衛生的になる。しかも、排出先である受皿21が加熱室20内に設けられているため、被加熱物90の出し入れの際に、必然的に使用者の視界に必然的に入る。つまり、使用者は残留水が受皿21に溜まった状態を確実に視認でき、受皿21に溜まった残留水の廃棄が促される。そして、使用者が残留水の溜まった受皿21を取り外して確実に廃棄できるわけである。また同様に、受皿21には、余剰気体用結露排水パイプ48や循環気体用結露排水パイプ49から結露水も排出されるため、その処理はまとめて行える。
【0069】
但し、加熱室20に受皿21がセットされていない状態、例えば使用者が受皿21を取り外したままセットし忘れている状態で、排水バルブ54又は洗浄バルブ66が開くと、水が加熱室20の床面を不用意に濡らす。水の量が多ければ加熱室20から外にこぼれることもあり得る。そこで、このような事態を想定し、受皿21がセットされていない状況では、そもそも受皿21の位置決めとして加熱室20の底面に形成された凹部15が、受皿21に排出されるべき水を暫定的に受けるようになっている。また、受皿21を検知するセンサを設け、このセンサが受皿21の存在を検知していないかぎり、制御装置80が排水バルブ54又は洗浄バルブ66を開かないようにしてもよい。
【0070】
以上本発明の一実施形態につき説明したが、発明の主旨を逸脱しない範囲でさらに種々の変更を加えて実施することが可能である。
【0071】
【発明の効果】
以上説明した通り、本発明の蒸気調理器によれば、調理後におけるポット内の残留水は、消毒用の塩素が抜けて、ミネラル成分の濃度が高い状態になっているが、ポット内から排出することにより、雑菌等が繁殖する要因がなくなり、以後の調理に対して衛生的なものとなる。その際、濃縮されたミネラル成分が排水パイプの屈曲部に付着する様相となるが、蒸気生成手段に到達していない水、すなわちミネラル成分の濃縮されていない水で洗浄することによって、そのミネラル成分が洗い流されるため、屈曲部にスケールが堆積することを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施形態に係る蒸気調理器の外観斜視図。
【図2】 加熱室の扉を開いた状態の外観斜視図。
【図3】 内部機構の概略を示す基本構造図。
【図4】 内部機構のうちの結露排水パイプを主として示す基本構造図。
【図5】 加熱室の要部上面図。
【図6】 蒸気発生装置の垂直断面図。
【図7】 蒸気発生装置の水平断面図。
【図8】 制御ブロック図。
【符号の説明】
1 蒸気調理器
20 加熱室
21 受皿
30 外部循環路
50 蒸気発生装置(蒸気生成手段)
51 ポット
52 第1排水パイプ
53 第2排水パイプ
54 排水バルブ
63 給水パイプ
65 洗浄パイプ
66 洗浄バルブ
67 オーバーフローパイプ
80 制御装置(制御手段)

Claims (5)

  1. 被加熱物を収納する加熱室と、給水装置から供給された水を受け入れるポットと、このポット内の水を加熱して蒸気を生成する蒸気生成手段と、を備え、前記蒸気生成手段から送り出された蒸気を含む気体により被加熱物を調理する蒸気調理器であって、
    前記ポットの底から垂下し排水バルブを介在して下部を屈曲させた排水パイプを備えて成るものにおいて、
    前記排水バルブを開いて、前記ポット内に残留している水を前記排水パイプより排水した後、前記給水装置を駆動して前記ポット内に水を供給し、その水を前記排水パイプの屈曲部に流す制御手段を設けたことを特徴とする蒸気調理器。
  2. 被加熱物を収納する加熱室と、給水パイプを経て供給された水を受け入れるポットと、このポット内の水を加熱して蒸気を生成する蒸気生成手段と、を備え、前記蒸気生成手段から送り出された蒸気を含む気体により被加熱物を調理する蒸気調理器であって、
    前記ポットの底から垂下し排水バルブを介在して下部を屈曲させた排水パイプを備えて成るものにおいて、
    前記給水パイプから下方に向けて分岐し、前記排水パイプに洗浄バルブを介して接続された洗浄パイプを設け、前記洗浄パイプ内に残留している水を前記排水パイプの屈曲部に流すよう前記洗浄バルブを制御する制御手段を設けたことを特徴とする蒸気調理器。
  3. 前記給水パイプから上方に向けて分岐するとともに、下方に向けて折れ曲がって前記洗浄パイプに接続されたオーバーフローパイプを設け、このオーバーフローパイプ内に残留している水が、前記洗浄パイプ内に残留している水とともに前記洗浄パイプを経て前記排水パイプの屈曲部に流れる構成にしたことを特徴とする請求項2に記載の蒸気調理器。
  4. 前記ポットに残留している水が排水された後、前記洗浄パイプ内に残留している水を前記排水パイプの屈曲部に流すことを特徴とする請求項2に記載の蒸気調理器。
  5. 前記加熱室の床面上に着脱可能に受皿を設けていて、前記排水パイプの他端が前記加熱室の側壁から前記受皿に向けて開口することを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の蒸気調理器。
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