JP3807316B2

JP3807316B2 - 有機ｅｌカラー表示装置及びその製造方法

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Publication number: JP3807316B2
Application number: JP2002024537A
Authority: JP
Inventors: 正彰有馬; 浩二吉田
Original assignee: Toyota Industries Corp
Current assignee: Toyota Industries Corp
Priority date: 2002-01-31
Filing date: 2002-01-31
Publication date: 2006-08-09
Anticipated expiration: 2022-01-31
Also published as: JP2003229266A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス材料（以下、単に有機ＥＬ材料という）を利用し、有機ＥＬ材料の薄膜からなる発光層を備えた発光素子をマトリックス状に配置した有機ＥＬカラー表示装置及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
この種の有機ＥＬカラー表示装置は、第１電極（陽極）と第２電極（陰極）との間に有機ＥＬ層が形成されている。有機ＥＬ層をマトリックス状に配置した構成とするためには、有機ＥＬ層を形成した後に、第２電極を第１電極と交差（一般には直交）する平行なストライプ状に形成する。第２電極は一般に蒸着法により形成されている。このとき、第２電極と第１電極との絶縁性及び隣接する第２電極同士の絶縁性を保持するため、第２電極と平行に延びる絶縁層及び電極分離隔壁を設ける。
【０００３】
上記の表示装置として、図６の模式図に示すような有機ＥＬカラー表示装置が提案されている。この表示装置は、透明ガラス製の基板１２の一方の面( 図６における上面) に対しカラーフィルタ１３及びブラックマトリックス１４を形成する。このカラーフィルタ１３及びブラックマトリックス１４の上面に対しオーバーコート層４１を形成する。その上面に陽極４２を平行なストライプ状に形成する。陽極４２の上面に対し該陽極４２と直交する方向（図６の紙面と垂直方向）に絶縁層４３を平行なストライプ状に形成する。この絶縁層４３の上面に逆テーパ状の絶縁材よりなる隔壁４４を形成する。そして、前記陽極４２の上面に有機ＥＬ層４５を蒸着により形成し、その後に有機ＥＬ層４５の上面に陰極４６を蒸着により形成する。前記絶縁層４３及び隔壁４４によって陰極４６が分離され、陰極４６と陽極４２との絶縁性が保持される。
【０００４】
前記陽極４２と陰極４６の交差する多数の交差部は有機ＥＬ層４５を挟んでマトリックス状に形成され、その交差部が発光素子となる。前記陽極と陰極に電圧を印加することにより有機ＥＬ層４５が発光する。この発光はオーバーコート層４１を透過してカラーフィルタ１３により特定の波長の光が選択され、基板１２から外部に発光される。（特開平１０−１０６７４７号公報参照）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記従来の有機ＥＬカラー表示装置は、カラーフィルタ１３、ブラックマトリックス１４、オーバーコート層４１、絶縁層４３及び隔壁４４等の材質について、適正な選択がなされていなかったので、次の問題が生じた。すなわち、カラーフィルタ１３及びオーバーコート層４１が有機材料により形成されている場合には、光透過性や材料の発色の問題を解消できる。しかし、カラーフィルタ１３やオーバーコート層４１に含まれる少量の水分が外部に表出して水分を嫌う有機ＥＬ層４５に侵入する。このため有機ＥＬ層４５に対する水分の侵入を確実に防止するこができず、有機ＥＬ層４５の寿命が低下するという問題があった。
【０００６】
前記各材料の組み合わせとして、上述のカラーフィルタ１３を有機材料により形成する場合以外に、カラーフィルタ１３及びオーバーコート層４１を共に無機材料により構成する場合もあった。この場合には、カラーフィルタ１３から発生する水分の問題は解消できる。しかし、無機のカラーフィルタを使用した場合には、有機のカラーフィルタを使用した場合に比べて鮮やかな色が得られないという問題があった。
【０００７】
本発明は前記従来の問題に鑑みてなされたものであって、その第１の目的は表示装置の発色を良好に保持したままカラーフィルタから有機ＥＬ層への水分の侵入を防止でき、有機ＥＬ層の長寿命化を達成することができる有機ＥＬカラー表示装置を提供することにある。又、本発明の第２の目的はその製造方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記問題点を解決するために、請求項１に記載の発明は、透明の基板と、前記基板の一方の面に形成されたカラーフィルタと、前記カラーフィルタの前記基板とは反対側の面に形成されたオーバーコート層と、前記オーバーコート層の前記基板とは反対側の面にストライプ状に形成された第１電極と、前記第１電極の前記基板とは反対側の面に該第１電極と交差する状態でストライプ状に形成された絶縁材よりなる電極分離隔壁と、前記電極分離隔壁の間に形成された有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）材料からなる薄膜の発光層と、前記発光層を覆うように、かつ平行なストライプ状に形成された第２電極とを備え、前記第１電極及び第２電極のそれぞれの交差部と、各交差部の間に存在する前記発光層とにより形成された発光素子をマトリックス状に形成した有機ＥＬカラー表示装置において、前記カラーフィルタを有機材料により形成し、前記オーバーコート層を無機材料により形成し、前記オーバーコート層は、窒化珪素よりなる第１オーバーコート層と、酸化珪素よりなる第２オーバーコート層とにより構成されていることを要旨とする。
【０００９】
請求項１記載の発明は、有機材料よりなるカラーフィルタから表出した水分がオーバーコート層を透過するのを阻止でき、有機ＥＬ材料の劣化を防止し、有機ＥＬ層の長寿命化を達成する。また、入手し易い窒化珪素と酸化珪素によりシール性及び光透過性に優れたオーバーコート層を容易に形成することができる。
【００１３】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の有機ＥＬカラー表示装置において、前記第１オーバーコート層は前記カラーフィルタ側に、第２オーバーコート層は第１電極側に形成されていることを要旨とする。
【００１４】
請求項２に記載の発明は、第２オーバーコート層よりもシール性の高い第１オーバーコート層がカラーフィルタ側にあるので、水分の遮断が効果的に行われる。
【００１５】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の有機ＥＬカラー表示装置において、前記第１オーバーコート層の膜厚寸法は、１００〜１０００オングストロームの範囲に、第２オーバーコート層の膜厚寸法は１〜５マイクロメートルに設定されていることを要旨とする。
【００１６】
請求項３に記載の発明は、第１，第２オーバーコート層の各膜厚寸法が適正となり、シール性及び光透過性が適正に設定される。
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機ＥＬカラー表示装置において、前記電極分離隔壁の少なくとも前記オーバーコート層に接する部分は、窒化珪素により形成されていることを要旨とする。
【００１７】
請求項４に記載の発明は、電極分離隔壁と第２オーバーコート層の材質が相違するため、該隔壁のエッチングの際に、第２オーバーコート層が削られるのを防止することができる。
請求項５に記載の発明は、請求項１〜４のいずれか１項に記載の有機ＥＬカラー表示装置において、前記電極分離隔壁は、窒化珪素よりなる第１隔壁と、酸化珪素よりなる第２隔壁とにより構成されていることを要旨とする。
【００１８】
請求項６に記載の発明は、透明の基板の一方の面に有機材料よりなるカラーフィルタを形成する工程と、上記行程の後に行われ、カラーフィルタの前記基板とは反対側の面に窒化珪素よりなる第１オーバーコート層と酸化珪素よりなる第２オーバーコート層とにより構成されているオーバーコート層を形成する工程と、上記行程の後に行われ、上記オーバーコート層の前記基板とは反対側の面に第１電極をストライプ状に形成するパターニング工程と、上記行程の後に行われ、前記第１電極の前記基板とは反対側の面に該第１電極と交差する状態で絶縁材よりなる電極分離隔壁をストライプ状に形成する隔壁形成工程と、上記隔壁形成工程の後に行われ、前記電極分離隔壁の間に有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）材料からなる発光層を薄膜状に形成する発光層形成工程と、上記発光層形成工程の後に行われ、前記発光層を覆うように第２電極を平行なストライプ状に形成する工程とを含むことを要旨とする。
【００１９】
請求項６に記載の発明は、請求項１〜請求項５記載の発明の有機ＥＬ表示装置の製造を適正に行うことができる。
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の有機ＥＬカラー表示装置の製造方法において、前記隔壁形成工程では、窒化珪素よりなる第１隔壁と、酸化珪素よりなる第２隔壁とにより構成される電極分離隔壁を形成することを要旨とする。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図１〜図５に従って説明する。
図１，２に示すように、有機ＥＬカラー表示装置１１の透明ガラス製の基板１２の一方の面（図２における上面）には有機顔料又は有機蛍光体それを分散した透明樹脂等よりなるカラーフィルタ１３と、金属クロムよりなるブラックマトリックス１４が形成されている。前記カラーフィルタ１３及びブラックマトリックス１４の上面に対し後述する透明な無機材料製のオーバーコート層１５が形成され、カラーフィルタ１３とブラックマトリックス１４の表面の凹凸の平坦化を図っている。このオーバーコート層１５は後述するように二層に形成されている。そのオーバーコート層１５の上面には複数条の第１電極（陽極）１６が平行なストライプ状に形成されている。第１電極１６はＩＴＯ（インジウム錫酸化物）からなる。又、オーバーコート層１５の上面には絶縁材よりなる複数条の電極分離隔壁１７が、各第１電極１６と直交する平行なストライプ状に形成されている。この電極分離隔壁１７は、第１電極１６側に位置するように形成された例えば窒化珪素等の無機材料よりなる第１隔壁１８と、該第１隔壁１８の頂面に形成された酸化珪素等の無機材料よりなる庇部を有する第２隔壁１９とにより構成されている。
【００２１】
前記各第１電極１６上の所定位置には、前記各電極分離隔壁１７の間に位置するように有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）材料からなる発光層としての有機ＥＬ層２０が形成され、各有機ＥＬ層２０は平行なストライプ状に形成されている。各有機ＥＬ層２０の上面には、該有機ＥＬ層２０とほぼ同形状に第２電極（陰極）２１が形成され、各第２電極２１も平行なストライプ状に形成されている。
【００２２】
有機ＥＬ層２０は第１電極１６側から順に、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層及び電子注入層の５層で構成されている。そして、有機ＥＬ層２０、該有機ＥＬ層２０を挟んで表裏両側に形成された第１電極１６及び第２電極２１により１個の平面四角形状の画素としての発光素子２２が構成されている。
【００２３】
第１電極１６及び第２電極２１は、それぞれ複数の平行なストライプ状に形成されるとともに、互いに交差（この実施の形態では直交）する状態に配設されている。このため、発光素子２２は両電極１６，２１の交差部においてカラーフィルタ１３上にマトリックス状に配置されることになる。
【００２４】
有機ＥＬ層２０の膜厚寸法は、通常０．１〜０．２マイクロメートル程度で、第２電極２１の膜厚寸法は、有機ＥＬ層２０より薄く、有機ＥＬ層２０及び第２電極２１の合計膜厚寸法は、最大でも１マイクロメートル以下である。一方、前記第１隔壁１８の膜厚寸法、つまり第１電極１６から第２隔壁１９までの高さ寸法は、３〜２０マイクロメートル程度である。この実施形態では、前記高さ寸法は、前記合計膜厚寸法よりも大きく設定されている。
【００２５】
有機ＥＬ層２０及び第２電極２１は一般に真空蒸着法により形成されるため、それらが不要な第２隔壁１９上にも有機ＥＬ層２０及び第２電極２１と同じ金属層が形成されている。
【００２６】
ここで、この発明の特徴的な構成について説明する。
前記カラーフィルタ１３は前述したように鮮やかな色を得るために例えば有機顔料等の有機材料から構成されている。又、ブラックマトリックス１４は金属クロム等の無機材料から形成され、画素間の光の漏れを防ぐものである。
【００２７】
一方、前記オーバーコート層１５は、発光素子２２からの発光を導く必要があるので、一定の光透過率を確保しつつ、カラーフィルタ１３に含まれる水分が有機ＥＬ層２０に侵入しないようにするためのシール性を確保する必要がある。このため、オーバーコート層１５は、シール性の良好な無機材料により形成されている。この実施形態では、オーバーコート層１５が窒化珪素よりなる第１オーバーコート層１５ａと、酸化珪素よりなる第２オーバーコート層１５ｂとにより二層に構成されている。前記第１オーバーコート層１５ａは、前記カラーフィルタ１３側に、第２オーバーコート層１５ｂは、第１電極１６側に形成されている。
【００２８】
第１オーバーコート層１５ａを形成する窒化珪素は、シール性が第２オーバーコート層１５ｂを形成する酸化珪素よりも高いが、材料自体が有色であるため光透過率( 透明度) が低下しないように寸法を設定する必要がある。このため、前記第１オーバーコート層１５ａの膜厚寸法ｔ１は、１００〜１０００オングストロームに設定される。前記第１オーバーコート層１５ａの膜厚寸法ｔ１は、光透過性の確保とシール性の観点から８００オングストローム以下が好ましく、５００オングストローム以下がより好ましい。
【００２９】
又、第２オーバーコート層１５ｂを形成する酸化珪素は、光透過性の問題は窒化珪素と比較して少ないが、シール性は窒化珪素よりも低い。しかし、カラーフィルタ１３の表面を平坦化するためには、所定の膜厚寸法が必要となる。そこで、この実施形態では、第２オーバーコート層１５ｂの膜厚寸法ｔ２は、１〜５マイクロメートルに設定している。第２オーバーコート層１５ｂの膜厚寸法ｔ２は、光透過率、平坦化及びシール性の観点から２マイクロメートル程度が好ましい。
【００３０】
前記第１オーバーコート層１５ａ及び第２オーバーコート層１５ｂの全体の膜厚寸法（ｔ１＋ｔ２）は、オーバーコート層１５の光透過率が、例えば８０〜９５％になるように設定される。第１オーバーコート層１５ａの膜厚寸法ｔ１が５００オングストロームで、第２オーバーコート層１５ｂの膜厚寸法ｔ２が２マイクロメートルの場合、光透過率が８８％となった。
【００３１】
次に、前記のように構成された有機ＥＬカラー表示装置１１の製造方法を説明する。
先ず、図３（ａ）に示すように、透明ガラス製の基板１２の上面に対しブラックマトリックス１４をスパッタリング法で形成する。その後、ブラックマトリックス１４の内側に形成された画素となる領域にカラーフィルタ１３を形成する。
【００３２】
その後、図３（ｂ）に示すように、オーバーコート層１５のうち第１オーバーコート層１５ａを窒化珪素のプラズマＣＶＤ（化学的気相成長；低温減圧気相反応）法によりカラーフィルタ１３及びブラックマトリックス１４の上面全体に形成する。このときの温度は２００℃、膜厚寸法は５００オングストロームに設定される。この工程によりカラーフィルタ１３の表面の凹凸がある程度平坦化される。
【００３３】
次に、図３（ｃ）に示すように、前記第１オーバーコート層１５ａの上面に対し酸化珪素のプラズマＣＶＤ（化学的気相成長；低温減圧気相反応）法により第２オーバーコート層１５ｂを形成する。このときの温度は２００℃、膜厚寸法は２マイクロメートルに設定される。この工程によりカラーフィルタ１３の表面の凹凸がほぼ平坦化される。
【００３４】
次に、パターニング工程において、第２オーバーコート層１５ｂの上に、図３（ｄ）に示すように、発光素子２２を形成すべき位置と対応する箇所に、複数条の第１電極１６を例えばＩＴＯの蒸着により平行なストライプ状に形成する。
【００３５】
次に、隔壁形成工程により第１電極１６上の所定位置に発光素子２２を形成するための領域を残すようにして電極分離隔壁１７を第１電極１６と直交するストライプ状に形成する。この工程は次のように行われる。図４（ｅ）に示すように、前記オーバーコート層１５及び第１電極１６の上面全域に対し、第１隔壁１８となる窒化珪素膜３１をプラズマＣＶＤ法等で形成する。その後、窒化珪素膜３１の上面に第２隔壁１９となる酸化珪素膜３２をプラズマＣＶＤ法等で形成する。さらに、写真製版によりレジストマスク３３を形成する。
【００３６】
次の工程で、図４（ｆ）に示すように、前記レジストマスク３３をマスクとして酸化珪素膜３２のマスクされていない部分をドライエッチングにより除去する。このとき、エッチングの方向を調整することにより、第２隔壁１９の庇部が所望する形状に形成される。
【００３７】
次の工程では、図４（ｇ）に示すように、窒化珪素膜３１をドライエッチング又はウエットエッチングにより円弧状に除去し、第１隔壁１８を形成する。
上記の工程では、第１隔壁１８以外の第２隔壁１９、第１電極１６、第２オーバーコート層１５ｂが削られないようにエッチング方法やその材料を設定する。図５（ｈ）に示すように、残っているレジストマスク３３を除去することにより電極分離隔壁１７が形成される。
【００３８】
次に、電極分離隔壁１７が良く乾燥された後、発光層形成工程（有機ＥＬ層形成工程）により図５（ｉ）に示すように、有機ＥＬ層２０が形成される。有機ＥＬ層２０は有機ＥＬ層２０を構成する各層が蒸着により順次形成されることで形成される。有機ＥＬ層２０を形成する際はマスキングなしで蒸着が行われるため、有機ＥＬ層２０を形成する必要のない電極分離隔壁１７上にも有機ＥＬ層が形成される。
【００３９】
次に、第２電極形成工程により、図３（ｉ）に示すように、有機ＥＬ層２０を覆うとともに、第１電極１６と直交する平行なストライプ状の第２電極２１が形成される。第２電極２１はＡｌ（アルミニウム）を蒸着することにより形成される。Ａｌを蒸着する際もマスキングなしで行われるため、第２電極２１を形成する必要のない電極分離隔壁１７上にもＡｌ被膜が形成され、図２に示す状態となる。有機ＥＬ層２０及び第２電極２１は第２隔壁１９の上にも形成されるが、有機ＥＬ層２０のうち表示部として機能する部分は隣接する第１隔壁１８間に位置する平面部分２３であり、第２隔壁１９と対応する部分は表示機能を必要としない。
【００４０】
前記電極分離隔壁１７及び第２電極２１は、図３（ｉ）に示すように、絶縁性を有し、かつ水分の遮断性を有する無機材料からなる保護膜３４により封止され、有機ＥＬカラー表示装置１１の製造が終了する。上記保護膜３４はプラズマＣＶＤ法によって形成される。
【００４１】
上記のように構成された有機ＥＬカラー表示装置１１によれば、特定の第１電極１６と第２電極２１の間に電圧が印加されると、電圧が印加された画素のみで発光素子２２中で発光が生じる。この発光は図２の矢印で示したように第１電極１６、オーバーコート層１５及びカラーフィルタ１３を通り任意の色に変換されて基板１２を通って発光する。
【００４２】
この実施の形態では以下の効果を有する。
（１）前記カラーフィルタ１３を有機顔料等の有機材料により形成し、オーバーコート層１５を窒化珪素あるいは酸化珪素等の無機材料により構成した。このため、カラーフィルタ１３に含まれている水分がオーバーコート層１５を透過して有機ＥＬ層２０へ侵入するのを確実に阻止することができ、有機ＥＬ層２０の水分による劣化を防止し、発光素子２２の長寿命化を図ることができる。
【００４３】
（２）前記オーバーコート層１５を、シール性の高い窒化珪素よりなる第１オーバーコート層１５ａと、透明性及びシール性も良好な酸化珪素よりなる第２オーバーコート層１５ｂとの二層構造とした。このため、両層１５ａ，１５ｂの膜厚寸法を適正な範囲に設定することにより、カラーフィルタ１３の表面の凹凸を平坦化するとともに、所定の光透過率を所定値以上に保持することができる。さらに、カラーフィルタ１３と有機ＥＬ層２０との間の水分の遮断を確実に行うことができる。又、入手し易い窒化珪素と酸化珪素によりシール性及び光透過性に優れたオーバーコート層１５を容易に形成することができる。
【００４４】
（３）窒化珪素よりなる第１隔壁１８は酸化珪素よりなる第２オーバーコート層１５ｂに隣接して形成され、窒化珪素よりなる第１オーバーコート層１５ａが第１隔壁１８と反対側に形成されている。このため、図４（ｇ）の第１隔壁１８を形成する際に窒化珪素よりなる第１オーバーコート層１５ａがエッチングされるのを防止することができる。
【００４５】
（４）第１オーバーコート層の膜厚寸法は、１００〜１０００オングストロームの範囲に、第２オーバーコート層の膜厚寸法は１〜５マイクロメートルに設定されている。このため、第１，第２オーバーコート層１５ａ，１５ｂの各膜厚寸法が適正となり、オーバーコート層１５のシール性及び光透過性が適正に設定される。
【００４６】
（５）前記第１隔壁１８は例えば絶縁性を有する窒化珪素により、第２隔壁１９は酸化珪素又は酸化マグネシウム等の無機材料により形成されている。このため、第１隔壁１８及び第２隔壁１９が有機材料により形成されいているものと比較して、含有水分を低減することができ、この点からも有機ＥＬ層２０への水分の侵入による劣化を防止することができる。
【００４７】
（６）前記電極分離隔壁１７及び第２電極２１は保護膜３４により覆われているので、有機ＥＬ層２０の背面側からの有機ＥＬ層２０への水分の侵入を防止することができ、その劣化を阻止することができる。
【００４８】
前記実施形態は、例えば次のように構成してもよい。
【００４９】
〇第２電極２１は第１電極１６と直交する構成に限らず、交差する構成であればよい。
○ 第１隔壁１８を通常のネガ型のフォトレジストを使用したフォトリソグラフ法により形成する。第１隔壁１８の形成後に、該第１隔壁１８の上面に対し通常のネガ型のフォトレジストを使用したフォトリソグラフ法により第２隔壁１９を形成して電極分離隔壁１７を形成してもよい。
【００５０】
○ 有機ＥＬ層２０は必ずしも４層構成に限らない。
○ 保護膜３４を形成して発光素子２２を封止する代わりに、金属製又はガラス製の封止カバー等で封止する構成としてもよい。
【００５１】
前記実施の形態から把握できる技術的思想（発明）について以下に記載する。
（１）前記発光素子を封止するための保護膜が設けられている有機ＥＬカラー表示装置。
【００５２】
（２）上記技術思想（１）に記載の発明において、前記保護膜はプラズマＣＶＤ法により形成されている有機ＥＬカラー表示装置。
（３）前記カラーフィルタはブラックマトリックスにより発光素子毎に区画されている有機ＥＬカラー表示装置。
【００５３】
( 定義) この明細書において、透明の基板とは、光透過率が５０〜１００％のものをいう。又、ガラス以外に硬質あるいは軟質の合成樹脂であってもよい。
【００５４】
【発明の効果】
以上詳述したように請求項１〜請求項５に記載の発明は、カラーフィルタの色変換性能を良好に保持し、かつ光透過性を適正に保持したまま有機ＥＬ層に対する水分の侵入を防止でき、有機ＥＬ層の長寿命化を達成することができる。
【００５５】
請求項６及び７に記載の発明は、請求項１〜請求項５に記載の発明のＥＬ表示装置の製造に適している。
【図面の簡単な説明】
【図１】有機ＥＬカラー表示装置の一実施形態を示す概略部分斜視図。
【図２】要部の拡大模式断面図。
【図３】（ａ）〜（ｄ）は有機ＥＬカラー表示装置の製造工程における部分模式図。
【図４】（ｅ）〜（ｇ）は、有機ＥＬカラー表示装置の製造工程における部分模式図。
【図５】（ｈ），（ｉ）は、有機ＥＬカラー表示装置の製造工程における部分模式図。
【図６】従来の有機ＥＬカラー表示装置の部分模式断面図。
【符号の説明】
１１…有機ＥＬカラー表示装置、１２…基板、１５…オーバーコート層、１５ａ…第１オーバーコート層、１５ｂ…第２オーバーコート層、１６…第１電極、１７…電極分離隔壁、１８…第１隔壁、１９…第２隔壁、２０…有機ＥＬ層、２１…第２電極、２２…発光素子、ｔ１…第１オーバーコート層の膜厚寸法、ｔ２…第２オーバーコート層の膜厚寸法。

Claims

透明の基板と、
前記基板の一方の面に形成されたカラーフィルタと、
前記カラーフィルタの前記基板とは反対側の面に形成されたオーバーコート層と、
前記オーバーコート層の前記基板とは反対側の面にストライプ状に形成された第１電極と、
前記第１電極の前記基板とは反対側の面に該第１電極と交差する状態でストライプ状に形成された絶縁材よりなる電極分離隔壁と、
前記電極分離隔壁の間に形成された有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）材料からなる薄膜の発光層と、
前記発光層を覆うように、かつ平行なストライプ状に形成された第２電極とを備え、
前記第１電極及び第２電極のそれぞれの交差部と、各交差部の間に存在する前記発光層とにより形成された発光素子をマトリックス状に形成した有機ＥＬカラー表示装置において、
前記カラーフィルタを有機材料により形成し、前記オーバーコート層を無機材料により形成し、前記オーバーコート層は、窒化珪素よりなる第１オーバーコート層と、酸化珪素よりなる第２オーバーコート層とにより構成されている有機ＥＬカラー表示装置。
前記第１オーバーコート層は前記カラーフィルタ側に、第２オーバーコート層は第１電極側に形成されている請求項１に記載の有機ＥＬカラー表示装置。
前記第１オーバーコート層の膜厚寸法は、１００〜１０００オングストロームの範囲に、第２オーバーコート層の膜厚寸法は１〜５マイクロメートルに設定されている請求項１又は請求項２に記載の有機ＥＬカラー表示装置。
前記電極分離隔壁の少なくとも前記オーバーコート層に接する部分は、窒化珪素により形成されている請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機ＥＬカラー表示装置。
前記電極分離隔壁は、窒化珪素よりなる第１隔壁と、酸化珪素よりなる第２隔壁とにより構成されている請求項１〜４のいずれか１項に記載の有機ＥＬカラー表示装置。
透明の基板の一方の面に有機材料よりなるカラーフィルタを形成する工程と、
上記行程の後に行われ、カラーフィルタの前記基板とは反対側の面に窒化珪素よりなる第１オーバーコート層と酸化珪素よりなる第２オーバーコート層とにより構成されるオーバーコート層を形成する工程と、
上記行程の後に行われ、上記オーバーコート層の前記基板とは反対側の面に第１電極をストライプ状に形成するパターニング工程と、
上記行程の後に行われ、前記第１電極の前記基板とは反対側の面に該第１電極と交差する状態で絶縁材よりなる電極分離隔壁をストライプ状に形成する隔壁形成工程と、
上記隔壁形成工程の後に行われ、前記電極分離隔壁の間に有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）材料からなる発光層を薄膜状に形成する発光層形成工程と、上記発光層形成工程の後に行われ、前記発光層を覆うように第２電極を平行なストライプ状に形成する工程と
を含む有機ＥＬカラー表示装置の製造方法。
前記隔壁形成工程では、窒化珪素よりなる第１隔壁と、酸化珪素よりなる第２隔壁とにより構成される電極分離隔壁を形成する請求項６に記載の有機ＥＬカラー表示装置の製造方法。