JP3882290B2

JP3882290B2 - Display panel

Info

Publication number: JP3882290B2
Application number: JP27877197A
Authority: JP
Inventors: 雅人吉川; 泰大森村
Original assignee: Bridgestone Corp
Current assignee: Bridgestone Corp
Priority date: 1997-10-13
Filing date: 1997-10-13
Publication date: 2007-02-14
Anticipated expiration: 2017-10-13
Also published as: JPH11119667A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はプラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」と称す。）を用いたガス放電型表示パネルに係り、特に、ＰＤＰに電磁波シールド材を一体化させることにより表示パネル自体に電磁波シールド性等の機能を付与し、表示パネルの軽量、薄肉化、部品数の低減による生産性の向上及びコストの低減を可能とした表示パネルに関する。
【０００２】
【従来の技術】
放電現像を利用したＰＤＰ（ｐｌａｓｍａｄｉｓｐｌａｙｐａｎｅｌ）は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）やブラウン管（ＣＲＴ）に比べて、次のような利点を有することから、近年、テレビやパソコン、ワープロ等のＯＡ機器、交通機器、看板、その他の表示板等の表示パネルとして研究開発及び実用化が進められている。
▲１▼ 放電光利用であり自発光である。
▲２▼ ０．１〜０．３ｍｍの放電ギャップであるのでパネル型にできる。
▲３▼ 螢光体を利用してカラー発光できる。
▲４▼ 大画面パネルが作り易い。
【０００３】
ＰＤＰの基本的な表示機構は、２枚のガラス板間に隔成した多数の放電セル内の螢光体を選択的に放電発光させることで文字や図形を表示するものであり、例えば、図２に示すような構成とされている。図２において、２１は前面板（フロントガラス）、２２は背面板（リヤガラス）、２３は隔壁、２４は表示セル（放電セル）、２５は補助セル、２６は陰極、２７は表示陽極、２８は補助陽極であり、各表示セル２４の内壁には、赤色螢光体、緑色螢光体又は青色螢光体（図示せず。）が膜状に設けられ、これらの螢光体が電極間に印加された電圧による放電で発光する。
【０００４】
ＰＤＰの前面からは、電圧印加、放電、発光により、周波数：数ｋＨｚ〜数ＧＨｚ程度の電磁波が発生するため、これを遮蔽する必要がある。また、表示コントラスト向上のためには、前面における外部光の反射を防止する必要がある。
【０００５】
このため、従来においては、ＰＤＰからの電磁波等を遮蔽するために、電磁波シールド性等の機能を有する透明板をＰＤＰの前面に配置している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ＰＤＰと別体の透明板をＰＤＰの前面に設けたものでは、次のような欠点がある。
▲１▼ ２つの板材を配置するため構造が複雑となる。
▲２▼ ＰＤＰにも電磁波シールド性の透明板にも、ガラス等の透明基板を必要とするため、ＰＤＰと電磁波シールド性の透明板とを設けることで厚肉となり、また、重量が重くなる。
▲３▼ 部品点数、生産工程数が増え、コストアップを招く。
【０００７】
ところで、通常の電磁波シールド性光透過窓材の電磁波シールド材としては、金網のような導電性メッシュ材が用いられているが、導電性メッシュにより十分な電磁波シールド性を得るためには、メッシュの編み目を相当細かくする必要がある。その場合、ＯＡ機器のＰＤＰの前面に格子状のものを置くことになることから、画像がにじんで見えるなどの現象が起こり、鮮明な画像が得られない。また、ＰＤＰのドット数と、メッシュの格子とで干渉縞（いわゆるモアレ）が発生し、この現象によっても画像は見難いものとなる。
【０００８】
本発明は上記従来の問題点を解決し、ＰＤＰに電磁波シールド材を一体化させることにより表示パネル自体に電磁波シールド性等の機能を付与し、表示パネルの軽量、薄肉化、部品数の低減による生産性の向上及びコストの低減を可能とした表示パネルを提供することを目的とする。
【０００９】
本発明はまた、電磁波シールド材として導電性メッシュを用いる場合のモアレ現象を防止して、高光透過性、高電磁波シールド性で、鮮明な画像を得ることができる表示パネルを提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の表示パネルは、プラズマディスプレイパネル本体と、該プラズマディスプレイパネル本体の前面に透明接着剤により接着された電磁波シールド材と、該電磁波シールド材の前面に透明接着剤により接着された透明基板とを備えてなる表示パネルであって、該電磁波シールド材は、導電性の金属箔をパターンエッチングしたものであり、該金属箔は前記透明基板よりも大面積であり、該金属箔の周縁部が該透明基板の周縁部からはみ出して該透明基板の前面側に回り込んでおり、該金属箔は、厚さが１〜２００μｍ、開口率が２０〜９０％であることを特徴とする。
【００１１】
本発明の表示パネルは、ＰＤＰと電磁波シールド材と透明基板とが透明接着剤で一体化されているため、表示パネルの軽量、薄肉化、部品数の低減による生産性の向上及びコストの低減を図ることができる。
【００１２】
また、パターンエッチングによれば、導電性の箔を所望のパターン形状にエッチングすることができることから、線径や間隔、網目形状の自由度は導電性メッシュに比べて格段に大きい。
【００１３】
このため、電磁波シールド性、光透過性が共に良好でモアレ現象も起こることがないパターンエッチングした導電性の箔を用いて良好な電磁波シールド性能を実現することができる。
【００１４】
また、ＰＤＰ本体と電磁波シールド材等との接着一体化に通常の接着剤を用いると、衝撃等で表示パネルが破損した場合、破片が飛散し、安全性の面で問題となるが、透明接着剤として透明弾性接着剤を用いることにより、衝撃等で表示パネルが破損した場合の破片の飛散を防止することができ、安全性が高められる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下に図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００１６】
図１は本発明の表示パネルの実施の形態を示す模式的な断面図、図３（ａ）〜（ｆ）はエッチングパターンの実施例を示す平面図である。
【００１７】
この表示パネル１は、透明基板２とＰＤＰ本体２０（このＰＤＰ本体としては図２に示す構成、その他の一般的なＰＤＰ本体を適用できる。）の間に、接着剤となる接着用中間膜４Ａ，４Ｂ，４Ｃを用いて、パターンエッチングした金属箔３と熱線カットフィルム５を積層させて接着一体化し、透明基板２の周縁部からはみ出したパターンエッチングした金属箔３の周縁部を透明基板２の周縁に沿って折り込むと共に、導電性粘着テープ７で透明基板２に貼り付けたものである。
【００１８】
本実施の形態において、導電性粘着テープ７は、透明基板２，パターンエッチングした金属箔３，熱線カットフィルム５及びＰＤＰ本体２０の積層体の全周において、端面の全体に付着すると共に、この積層体の表裏の角縁を回り込み、透明基板２の板面の端縁部とＰＤＰ本体２０の背面板の板面の端縁部の双方にも付着している。
【００１９】
導電性粘着テープ７は、例えば、金属箔７Ａの一方の面に導電性の粘着層７Ｂを形成してなるものである。導電性粘着テープ７の金属箔７Ａとしては、厚さ１〜１００μｍ程度の銅、銀、ニッケル、アルミニウム、ステンレス等の箔を用いることができる。
【００２０】
また、導電性の粘着層７Ｂは、導電性粒子を分散させた接着剤をこのような金属箔７Ａの一方の面に塗工して形成される。
【００２１】
この接着剤としては、エポキシ系又はフェノール系樹脂に硬化剤を配合したもの、或いは、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコン系粘着剤などを用いることができる。
【００２２】
接着剤に分散させる導電性粒子としては、電気的に良好な導体であれば良く、種々のものを使用することができる。例えば、銅、銀、ニッケル等の金属粉体、酸化錫、インジウム錫酸化物、酸化亜鉛等の金属酸化物粉体、このような金属又は金属酸化物で被覆された樹脂又はセラミック粉体等を使用することができる。また、その形状についても特に制限はなく、りん片状、樹枝状、粒状、ペレット状、球状、星状、こんぺい糖状（多数の突起を有する粒状）等の任意の形状をとることができる。
【００２３】
この導電性粒子の配合量は、接着剤に対し０．１〜１５容量％であることが好ましく、また、その平均粒径は０．１〜１００μｍであることが好ましい。
【００２４】
粘着層７Ｂの厚さは、通常の場合、５〜１００μｍ程度である。
【００２５】
透明基板２の構成材料としては、ガラス、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル板、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテートフィルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタアクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等、好ましくは、ガラス、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが挙げられる。
【００２６】
透明基板２の厚さは得られる表示パネルの用途による要求特性（例えば、強度、軽量性）等によって適宜決定されるが、通常の場合、０．１〜１０ｍｍの範囲とされる。
【００２７】
この透明基板２の表面に反射防止膜６が形成されている。この透明基板２の表面側に形成される反射防止膜６としては、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜との積層膜、例えば、次のような積層構造の積層膜が挙げられる。
【００２８】
（ａ）高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を１層ずつ合計２層に積層したもの（ｂ）高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を２層ずつ交互に合計４層積層したもの
（ｃ）中屈折率透明膜／高屈折率透明膜／低屈折率透明膜の順で１層ずつ、合計３層に積層したもの
（ｄ）高屈折率透明膜／低屈折率透明膜の順で各層を交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの
高屈折率透明膜としては、ＩＴＯ（スズインジウム酸化物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、ＺｒＯ等の屈折率１．８以上の薄膜、好ましくは透明導電性の薄膜を形成することができる。また、低屈折率透明膜としてはＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、Ａｌ₂Ｏ₃等の屈折率が１．６以下の低屈折率材料よりなる薄膜を形成することができる。これらの膜厚は光の干渉で可視光領域での反射率を下げるため、膜構成、膜種、中心波長により異なってくるが４層構造の場合、透明基板側の第１層（高屈折率透明膜）が５〜５０ｎｍ、第２層（低屈折率透明膜）が５〜５０ｎｍ、第３層（高屈折率透明膜）が５０〜１００ｎｍ、第４層（低屈折率透明膜）が５０〜１５０ｎｍ程度の膜厚で形成される。
【００２９】
また、このような反射防止膜６の上に更に汚染防止膜を形成して、表面の耐汚染性を高めるようにしても良い。この場合、汚染防止膜としては、フッ素系薄膜、シリコン系薄膜等よりなる膜厚１〜１０００ｎｍ程度の薄膜が好ましい。
【００３０】
表面側となる透明基板２には、更に、シリコン系材料等によるハードコート処理、或いはハードコート層内に光散乱材料を練り込んだアンチグレア加工等を施しても良い。
【００３１】
金属箔３の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００３２】
金属箔３の厚さは、薄過ぎると取り扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られる表示パネルの厚さに影響を及ぼしたり、エッチング工程の所要時間が長くなることから、１〜２００μｍ程度とする。
【００３３】
このような金属箔をパターンエッチングする方法は、一般に用いられているどのような方法でも構わないが、レジストを用いるフォトエッチングが好ましい。この場合、金属箔上にフォトレジストをコーティングした後、所望のマスクを用いるなどしてパターン露光後、現像処理してレジストパターンを形成する。その後、レジストのない部分の金属箔を塩化第二鉄液等のエッチング液で除去すればよい。
【００３４】
パターンエッチングによれば、パターンの自由度が大きく、金属箔を任意の線径、間隔及び孔形状にエッチングすることができ、従って、モアレ現象がなく、所望の電磁波シールド性と光透過性を有する電磁波シールド材を容易に形成することができる。
【００３５】
本発明において、金属箔のエッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば図３（ａ），（ｂ）に示すような四角形の孔Ｍが形成された格子状の金属箔３Ａ，３Ｂ、図（ｃ），（ｄ），（ｅ），（ｆ）に示すような円形、六角形、三角形又は楕円形の孔Ｍが形成されたパンチングメタル状の金属箔３Ｃ，３Ｄ，３Ｅ，３Ｆ等が挙げられる。また、このように孔Ｍが規則的に並んだものの他、ランダムパターンとしてモアレ現象を防止することもできる。
【００３６】
電磁波シールド性と光透過性とを共に確保するために、この金属箔３の投影面における開口部分の面積割合（以下「開口率」と称す。）は、２０〜９０％である。
【００３７】
なお、光透過性の向上のために、この開口率を大きくした場合、透明基板２又はＰＤＰ本体２０の前面板、或いは熱線カットフィルム５に透明導電膜を形成して金属箔３による電磁波シールド性の不足分を補うようにしても良い。
【００３８】
熱線カットフィルム５としては、ベースフィルム上に酸化亜鉛や銀薄膜等の熱線カットコートを施したものを用いることができ、このベースフィルムとしては、好ましくは、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡ等よりなるフィルムを用いることができる。このフィルムは、得られる表示パネルの厚さを過度に厚くすることなく、取り扱い性、耐久性を確保する上で１０μｍ〜２０ｍｍ程度とするのが好ましい。またこのベースフィルム上に形成される熱線カットコートの膜厚は、通常の場合、５００〜５０００Å程度である。
【００３９】
本発明において、透明基板２，パターンエッチングした金属箔３，熱線カットフィルム５及びＰＤＰ本体２０を接着する接着樹脂としては、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体が挙げられる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。
【００４０】
本発明においては、この接着樹脂として透明で弾性のあるものを用いるのが好ましく、このような透明接着剤樹脂としては、通常、合せガラス用接着剤として用いられているものが挙げられ、特に、性能面で最もバランスがとれ、使い易いのはエチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）である。また、耐衝撃性、耐貫通性、接着性、透明性等の点から自動車用合せガラスで用いられているＰＶＢ樹脂も好適である。
【００４１】
ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと耐候性及び透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生ずる。
【００４２】
架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブチルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサイド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオキシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロルベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロルヘキサノンパーオキサイドなどが挙げられる。これらの過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００重量部に対して、５重量部以下、好ましくは０．５〜５．０重量部の割合で使用される。
【００４３】
有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。
【００４４】
なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。
【００４５】
より具体的には、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００重量部に対して０．１〜２重量部、好ましくは０．５〜５重量部用いられる。
【００４６】
ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００重量部に対して５重量部以下、好ましくは０．１〜３．０重量部使用される。
【００４７】
この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。
【００４８】
また、この場合、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用される。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【００４９】
これらのシランカップリング剤は通常ＥＶＡ１００重量部に対して０．００１〜１０重量部、好ましくは０．００１〜５重量部の割合で１種又は２種以上が混合使用される。
【００５０】
一方、ＰＶＢ樹脂は、ポリビニルアセタール単位が７０〜９５重量％、ポリ酢酸ビニル単位が１〜１５重量％で、平均重合度が２００〜３０００、好ましくは３００〜２５００であるものが好ましく、ＰＶＢ樹脂は可塑剤を含む樹脂組成物として使用される。
【００５１】
ＰＶＢ樹脂組成物の可塑剤としては、一塩基酸エステル、多塩基酸エステル等の有機系可塑剤や燐酸系可塑剤が挙げられる。
【００５２】
一塩基酸エステルとしては、酪酸、イソ酪酸、カプロン酸、２−エチル酪酸、ヘプタン酸、ｎ−オクチル酸、２−エチルヘキシル酸、ペラルゴン酸（ｎ−ノニル酸）、デシル酸等の有機酸とトリエチレングリコールとの反応によって得られるエステルが好ましく、より好ましくは、トリエチレン−ジ−２−エチルブチレート、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキソエート、トリエチレングリコール−ジ−カプロネート、トリエチレングリコール−ジ−ｎ−オクトエート等である。なお、上記有機酸とテトラエチレングリコール又はトリプロピレングリコールとのエステルも使用可能である。
【００５３】
多塩基酸エステル系可塑剤としては、例えば、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸等の有機酸と炭素数４〜８の直鎖状又は分岐状アルコールとのエステルが好ましく、より好ましくは、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルカルビトールアジペート等が挙げられる。
【００５４】
燐酸系可塑剤としては、トリブトキシエチルフォスフェート、イソデシルフェニルフォスフェート、トリイソプロピルフォスフェート等が挙げられる。
【００５５】
ＰＶＢ樹脂組成物において、可塑剤の量が少ないと製膜性が低下し、多いと耐熱時の耐久性等が損なわれるため、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部に対して可塑剤を５〜５０重量部、好ましくは１０〜４０重量部とする。
【００５６】
本発明に係る接着用中間膜の樹脂組成物は、更に劣化防止のために、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助材、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。
【００５７】
また、接着性改良の手段として、シート化された接着用中間膜面へのコロナ放電処理、低温プラズマ処理、電子線照射、紫外光照射などの手段も有効である。
【００５８】
本発明に係る接着用中間膜は、例えば、ＥＶＡ又はＰＶＢと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。成膜に際してはブロッキング防止、透明基板又はＰＤＰ本体の前面板との圧着時の脱気を容易にするためエンボスが付与される。
【００５９】
図１に示す表示パネル１は、例えば、上記の如くシート成形された接着用の中間膜４Ａ，４Ｂ，４Ｃを用い、この接着用中間膜４Ａ，４Ｂ，４Ｃの間に各々パターンエッチングした金属箔３，熱線カットフィルム５を挟んだものを透明基板２とＰＤＰ本体２０との間に介在させ、減圧、加温下に脱気して予備圧着した後、加熱又は光照射により接着層を硬化させて一体化することにより容易に製造することができる。
【００６０】
なお、接着用中間膜４Ａ，４Ｂ，４Ｃは、接着層の厚さが過度に厚くなることがないように１μｍ〜１ｍｍ厚さに成形される。また、パターンエッチングした金属箔３としては、その周縁部が透明基板２の周縁部からはみ出るように、透明基板２よりも大面積のものを用いるが、このパターンエッチングした金属箔３の大きさは、金属箔の縁部が透明基板２の表面側に回り込む大きさである。この金属箔３は、透明基板２の表面側縁部の回り込み幅が３〜２０ｍｍ程度となるような大きさであることが好ましい。
【００６１】
透明基板２，パターンエッチングした金属箔３，熱線カットフィルム５及びＰＤＰ本体２０を一体化した後は、金属箔３の周縁のはみ出し部分を折り返し、導電性粘着テープ７を積層体の周囲に周回させて該折り返し部分を留め付け、用いた導電性粘着テープ７の硬化方法等に従って加熱圧着するなどして接着固定する。
【００６２】
このようにして導電性粘着テープ７を取り付けた表示パネル１は、筐体に単にはめ込むのみで極めて簡便かつ容易に筐体に組み込むことができ、同時に、導電性粘着テープ７を介してパターンエッチングした金属箔３と筐体との良好な導通をその外周方向に均一にとることができる。このため、良好な電磁波シールド効果が得られる。
【００６３】
なお、図１に示す表示パネルは本発明の表示パネルの一例であって、本発明は図示のものに限定されるものではない。例えば、パターンエッチングした金属箔３はその全周縁部において透明基板２からはみ出させて折り返すようにする他、対向する２側縁部においてのみ透明基板２からはみ出させて折り返すようにしても良い。
【００６４】
【発明の効果】
以上詳述した通り、本発明の表示パネルによれば、ＰＤＰに電磁波シールド材を一体化させることにより表示パネル自体に電磁波シールド性等の機能を付与し、表示パネルの軽量、薄肉化、部品数の低減による生産性の向上及びコストの低減を図ることができる。また、リモコンの誤作動を防止することができる。
【００６５】
しかも、本発明では、電磁波シールド材として、パターンエッチングした導電性の箔を用いるため、そのパターンエッチングの形状を選択することにより、所望の電磁波シールド性と光透過性を得ることができ、また、モアレ現象等を防止して鮮明な画像を得ることができる。
【００６６】
請求項２の表示パネルによれば、破損時の破片の飛散を防止して、安全性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の表示パネルの実施の形態を示す模式的な断面図である。
【図２】一般的なＰＤＰの構成を示す一部切欠斜視図である。
【図３】エッチングパターンの実施例を示す平面図である。
【符号の説明】
１表示パネル
２透明基板
３，３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄ，３Ｅ，３Ｆ金属箔
４Ａ，４Ｂ，４Ｃ中間膜
５熱線カットフィルム
６反射防止膜
７導電性粘着テープ
７Ａ金属箔
７Ｂ粘着層
２０ＰＤＰ本体
２１前面板
２２背面板
２３隔壁
２４表示セル
２５補助セル
２６陰極
２７表示陽極
２８補助陽極[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a gas discharge display panel using a plasma display panel (hereinafter referred to as “PDP”), and in particular, by integrating an electromagnetic wave shielding material into the PDP, the display panel itself has functions such as electromagnetic wave shielding. The present invention relates to a display panel that can be made lighter, thinner, and can be improved in productivity and cost by reducing the number of parts.
[0002]
[Prior art]
PDP (plasma display panel) using discharge development has the following advantages over liquid crystal displays (LCDs) and cathode ray tubes (CRTs). In recent years, OA equipment such as TVs, personal computers, word processors, etc. Research and development and practical application are being promoted as display panels for devices, signboards, and other display boards.
(1) Uses discharge light and emits light by itself.
(2) Since the discharge gap is 0.1 to 0.3 mm, it can be made into a panel type.
(3) Color light can be emitted using a phosphor.
(4) Easy to make a large screen panel.
[0003]
The basic display mechanism of the PDP is to display characters and figures by selectively discharging and emitting phosphors in a large number of discharge cells separated between two glass plates. 2 is configured. In FIG. 2, 21 is a front plate (front glass), 22 is a back plate (rear glass), 23 is a partition, 24 is a display cell (discharge cell), 25 is an auxiliary cell, 26 is a cathode, 27 is a display anode, and 28 is a display anode. It is an auxiliary anode, and a red phosphor, a green phosphor or a blue phosphor (not shown) is provided in a film shape on the inner wall of each display cell 24, and these phosphors are interposed between the electrodes. Light is emitted by discharge with an applied voltage.
[0004]
From the front surface of the PDP, electromagnetic waves having a frequency of about several kHz to several GHz are generated by voltage application, discharge, and light emission, which needs to be shielded. Further, in order to improve display contrast, it is necessary to prevent reflection of external light on the front surface.
[0005]
For this reason, conventionally, in order to shield electromagnetic waves from the PDP and the like, a transparent plate having a function such as electromagnetic wave shielding is disposed on the front surface of the PDP.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
In the case where a transparent plate separate from the PDP is provided on the front surface of the PDP, there are the following drawbacks.
(1) Since two plate members are arranged, the structure becomes complicated.
(2) Since a transparent substrate such as glass is required for both the PDP and the electromagnetic wave shielding transparent plate, the provision of the PDP and the electromagnetic wave shielding transparent plate increases the thickness and weight.
(3) The number of parts and the number of production processes increase, leading to an increase in cost.
[0007]
By the way, a conductive mesh material such as a wire mesh is used as an electromagnetic wave shielding material for a normal electromagnetic wave shielding light-transmitting window material, but in order to obtain sufficient electromagnetic wave shielding properties with a conductive mesh, The stitches need to be very fine. In this case, since a lattice-like object is placed on the front surface of the PDP of the OA device, a phenomenon such as an image that appears blurred occurs, and a clear image cannot be obtained. Further, interference fringes (so-called moire) are generated by the number of dots of the PDP and the mesh lattice, and this phenomenon also makes it difficult to see the image.
[0008]
The present invention solves the above-described conventional problems, and integrates an electromagnetic wave shielding material into the PDP to provide functions such as electromagnetic wave shielding to the display panel itself, thereby reducing the weight and thickness of the display panel and reducing the number of parts. An object of the present invention is to provide a display panel capable of improving productivity and reducing cost.
[0009]
Another object of the present invention is to provide a display panel that can prevent a moire phenomenon when a conductive mesh is used as an electromagnetic wave shielding material, and can obtain a clear image with high light transmission and high electromagnetic wave shielding properties. To do.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
  The display panel of the present invention includes a plasma display panel main body, an electromagnetic wave shielding material bonded to the front surface of the plasma display panel main body with a transparent adhesive, and a transparent substrate bonded to the front surface of the electromagnetic wave shielding material with a transparent adhesive; The electromagnetic wave shielding material is a conductive panel.metalFoil pattern etchedAnd the metal foil has a larger area than the transparent substrate, and the peripheral portion of the metal foil protrudes from the peripheral portion of the transparent substrate and wraps around the front side of the transparent substrate. Is 1 to 200 μm, and the aperture ratio is 20 to 90%.It is characterized by being.
[0011]
In the display panel of the present invention, the PDP, the electromagnetic shielding material, and the transparent substrate are integrated with a transparent adhesive, so that the display panel is lighter, thinner, and the productivity is improved and the cost is reduced by reducing the number of parts. Can be planned.
[0012]
Also, according to pattern etching, the conductive foil can be etched into a desired pattern shape, so that the degree of freedom of the wire diameter, the interval, and the mesh shape is much larger than that of the conductive mesh.
[0013]
For this reason, good electromagnetic wave shielding performance can be realized by using a conductive foil that has been subjected to pattern etching and has good electromagnetic wave shielding properties and light transmittance and does not cause moire phenomenon.
[0014]
Also, if a normal adhesive is used to bond and integrate the PDP body and electromagnetic shielding material, etc., if the display panel breaks due to impact or the like, the fragments will scatter and cause problems in terms of safety. By using a transparent elastic adhesive as the agent, it is possible to prevent scattering of fragments when the display panel is damaged due to impact or the like, and safety is improved.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0016]
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an embodiment of the display panel of the present invention, and FIGS. 3A to 3F are plan views showing examples of etching patterns.
[0017]
The display panel 1 has an adhesive intermediate film 4A serving as an adhesive between the transparent substrate 2 and the PDP main body 20 (the PDP main body can be configured as shown in FIG. 2 or other general PDP main body). , 4B, and 4C, the pattern-etched metal foil 3 and the heat ray cut film 5 are laminated and bonded and integrated, and the peripheral portion of the pattern-etched metal foil 3 protruding from the peripheral portion of the transparent substrate 2 is formed on the transparent substrate 2. In addition to folding along the periphery, the conductive adhesive tape 7 is attached to the transparent substrate 2.
[0018]
In the present embodiment, the conductive adhesive tape 7 is attached to the entire end surface of the laminate of the transparent substrate 2, the pattern-etched metal foil 3, the heat ray cut film 5 and the PDP main body 20, and this laminate. It wraps around the corner edges on the front and back of the body, and adheres to both the edge of the plate surface of the transparent substrate 2 and the edge of the plate surface of the back plate of the PDP body 20.
[0019]
The conductive adhesive tape 7 is formed, for example, by forming a conductive adhesive layer 7B on one surface of the metal foil 7A. As the metal foil 7A of the conductive adhesive tape 7, a foil of copper, silver, nickel, aluminum, stainless steel or the like having a thickness of about 1 to 100 μm can be used.
[0020]
The conductive adhesive layer 7B is formed by applying an adhesive in which conductive particles are dispersed to one surface of such a metal foil 7A.
[0021]
As this adhesive, an epoxy-based or phenol-based resin blended with a curing agent, an acrylic pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, a silicon-based pressure-sensitive adhesive, or the like can be used.
[0022]
The conductive particles to be dispersed in the adhesive may be any electrically good conductor, and various types can be used. For example, metal powder such as copper, silver and nickel, metal oxide powder such as tin oxide, indium tin oxide and zinc oxide, resin or ceramic powder coated with such metal or metal oxide, etc. Can be used. Further, there is no particular limitation on the shape, and any shape such as flake shape, dendritic shape, granular shape, pellet shape, spherical shape, star shape, and corn sugar shape (a granular shape having a large number of protrusions) can be taken. .
[0023]
The compounding amount of the conductive particles is preferably 0.1 to 15% by volume with respect to the adhesive, and the average particle size is preferably 0.1 to 100 μm.
[0024]
The thickness of the adhesive layer 7B is usually about 5 to 100 μm.
[0025]
The constituent material of the transparent substrate 2 is glass, polyester, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic plate, polycarbonate (PC), polystyrene, triacetate film, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride. , Polyvinylidene chloride, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion cross-linked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane, etc., preferably glass, PET, PC, PMMA.
[0026]
The thickness of the transparent substrate 2 is appropriately determined depending on required characteristics (for example, strength and lightness) according to the intended use of the display panel to be obtained, and is usually in the range of 0.1 to 10 mm.
[0027]
An antireflection film 6 is formed on the surface of the transparent substrate 2. Examples of the antireflection film 6 formed on the surface side of the transparent substrate 2 include a laminated film of a high refractive index transparent film and a low refractive index transparent film, for example, a laminated film having the following laminated structure.
[0028]
(A) A high refractive index transparent film and a low refractive index transparent film laminated in a total of two layers (b) A high refractive index transparent film and a low refractive index transparent film were laminated in a total of four layers in total. thing
(C) A medium refractive index transparent film / a high refractive index transparent film / a low refractive index transparent film, one layer at a time, laminated in a total of three layers
(D) Three layers are alternately laminated in the order of high refractive index transparent film / low refractive index transparent film in a total of six layers.
As a high refractive index transparent film, ITO (tin indium oxide) or ZnO, Al doped ZnO, TiO₂, SnO₂, ZrO or other thin film having a refractive index of 1.8 or more, preferably a transparent conductive thin film. Moreover, as a low refractive index transparent film, SiO₂, MgF₂, Al₂O_ThreeA thin film made of a low refractive index material having a refractive index of 1.6 or less can be formed. These film thicknesses vary depending on the film configuration, film type, and center wavelength in order to reduce the reflectance in the visible light region due to light interference, but in the case of a four-layer structure, the first layer (high refractive index) on the transparent substrate side. The transparent layer is 5 to 50 nm, the second layer (low refractive index transparent film) is 5 to 50 nm, the third layer (high refractive index transparent film) is 50 to 100 nm, and the fourth layer (low refractive index transparent film) is 50. It is formed with a film thickness of about 150 nm.
[0029]
Further, a contamination prevention film may be further formed on such an antireflection film 6 so as to enhance the contamination resistance of the surface. In this case, the antifouling film is preferably a thin film having a thickness of about 1 to 1000 nm made of a fluorine-based thin film or a silicon-based thin film.
[0030]
The transparent substrate 2 on the surface side may be further subjected to a hard coat treatment with a silicon-based material or the like, or an anti-glare process in which a light scattering material is kneaded in the hard coat layer.
[0031]
As the metal of the metal foil 3, copper, stainless steel, aluminum, nickel, iron, brass, or an alloy thereof, preferably copper, stainless steel, or aluminum is used.
[0032]
  If the thickness of the metal foil 3 is too thin, it is not preferable in terms of handling properties and workability of pattern etching, and if it is too thick, it affects the thickness of the obtained display panel and the time required for the etching process becomes long. Therefore, it is about 1 to 200 μmThe
[0033]
The method of pattern etching such a metal foil may be any generally used method, but photoetching using a resist is preferable. In this case, after coating a photoresist on the metal foil, pattern exposure is performed using a desired mask, and development processing is performed to form a resist pattern. Thereafter, the portion of the metal foil without the resist may be removed with an etching solution such as ferric chloride solution.
[0034]
According to the pattern etching, the degree of freedom of the pattern is large, the metal foil can be etched into an arbitrary wire diameter, interval, and hole shape, and therefore, there is no moire phenomenon and the desired electromagnetic wave shielding property and light transmittance are obtained. An electromagnetic shielding material can be easily formed.
[0035]
In the present invention, the shape of the etching pattern of the metal foil is not particularly limited. For example, lattice-shaped metal foils 3A and 3B in which square holes M as shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b) are formed. Punching metal-like metal foils 3C, 3D, 3E, 3F, etc. in which circular, hexagonal, triangular or elliptical holes M as shown in (c), (d), (e), (f) are formed. Can be mentioned. In addition to the regular arrangement of the holes M as described above, the moire phenomenon can be prevented as a random pattern.
[0036]
  In order to ensure both electromagnetic shielding properties and light transmission properties, the area ratio (hereinafter referred to as “opening ratio”) of the opening portion on the projection surface of the metal foil 3 is 20 to 90%.The
[0037]
In addition, when this aperture ratio is increased in order to improve the light transmittance, a transparent conductive film is formed on the transparent substrate 2 or the front plate of the PDP main body 20 or the heat ray cut film 5 to shield the electromagnetic wave by the metal foil 3. You may make up for the shortage.
[0038]
As the heat ray cut film 5, a base film having a heat ray cut coat such as zinc oxide or a silver thin film can be used. As this base film, a film made of PET, PC, PMMA or the like is preferable. Can be used. This film preferably has a thickness of about 10 μm to 20 mm in order to ensure handleability and durability without excessively increasing the thickness of the obtained display panel. Moreover, the film thickness of the heat ray cut coat formed on this base film is usually about 500 to 5000 mm.
[0039]
In the present invention, the adhesive resin for bonding the transparent substrate 2, the patterned metal foil 3, the heat ray cut film 5 and the PDP main body 20 includes ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer, ethylene- (Meth) acrylic acid copolymer, ethylene- (meth) ethyl acrylate copolymer, ethylene- (meth) methyl acrylate copolymer, metal ion crosslinked ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, partially saponified ethylene -Ethylene copolymers such as vinyl acetate copolymer, carboxylated ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene- (meth) acryl-maleic anhydride copolymer, ethylene-vinyl acetate- (meth) acrylate copolymer (“(Meth) acryl” means “acryl or methacryl”).
[0040]
In the present invention, it is preferable to use a transparent and elastic material as the adhesive resin, and examples of such a transparent adhesive resin include those usually used as an adhesive for laminated glass. An ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) is the most balanced in terms of performance and easy to use. In addition, PVB resins used in laminated glass for automobiles are also preferable from the viewpoint of impact resistance, penetration resistance, adhesion, transparency, and the like.
[0041]
EVA having a vinyl acetate content of 5 to 50% by weight, preferably 15 to 40% by weight is used. If the vinyl acetate content is less than 5% by weight, there are problems in weather resistance and transparency. If the vinyl acetate content exceeds 40% by weight, the mechanical properties are remarkably lowered, and film formation becomes difficult and mutual film blocking occurs. .
[0042]
As the cross-linking agent, an organic peroxide is suitable for heat cross-linking and is selected in consideration of sheet processing temperature, cross-linking temperature, storage stability, and the like. Examples of peroxides that can be used include 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide; 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane-3; -Butyl peroxide; t-butylcumyl peroxide; 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane; dicumyl peroxide; α, α'-bis (t-butylperoxyisopropyl) ) Benzene; n-butyl-4,4-bis (t-butylperoxy) valerate; 2,2-bis (t-butylperoxy) butane; 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane; , 1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; t-butylperoxybenzoate; benzoyl peroxide; Luperoxyacetate; 2,5-dimethyl-2,5-bis (tertiarybutylperoxy) hexyne-3; 1,1-bis (tertiarybutylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; 1-bis (tert-butylperoxy) cyclohexane; methyl ethyl ketone peroxide; 2,5-dimethylhexyl-2,5-bisperoxybenzoate; tert-butyl hydroperoxide; p-menthane hydroperoxide; p-chlorobenzoyl Peroxides; tertiary butyl peroxyisobutyrate; hydroxyheptyl peroxide; chlorhexanone peroxide. These peroxides are used alone or in combination of two or more, and are usually used at a ratio of 5 parts by weight or less, preferably 0.5 to 5.0 parts by weight, based on 100 parts by weight of EVA. .
[0043]
The organic peroxide is usually kneaded with EVA using an extruder, a roll mill or the like, but may be dissolved in an organic solvent, a plasticizer, a vinyl monomer or the like and added to the EVA film by an impregnation method.
[0044]
Various acryloxy group or methacryloxy group and allyl group-containing compounds can be added to improve EVA physical properties (mechanical strength, optical properties, adhesiveness, weather resistance, whitening resistance, crosslinking speed, etc.). . As the compound used for this purpose, acrylic acid or methacrylic acid derivatives, for example, esters and amides thereof are the most common. As the ester residue, in addition to alkyl groups such as methyl, ethyl, dodecyl, stearyl, lauryl, cyclohexyl groups , Tetrahydrofurfuryl group, aminoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3-chloro-2-hydroxypropyl group and the like. Further, esters with polyfunctional alcohols such as ethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, trimethylolpropane, and pentaerythritol can also be used. A typical amide is diacetone acrylamide.
[0045]
More specifically, polyfunctional esters such as acrylic or methacrylic acid esters such as trimethylolpropane, pentaerythritol, glycerin, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, diallyl phthalate, diallyl isophthalate, diallyl maleate, etc. These are allyl group-containing compounds, and these are used singly or in combination of two or more, usually 0.1 to 2 parts by weight, preferably 0.5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of EVA. It is done.
[0046]
When EVA is cross-linked by light, a photosensitizer is usually used in an amount of 5 parts by weight or less, preferably 0.1 to 3.0 parts by weight based on 100 parts by weight of EVA instead of the peroxide.
[0047]
In this case, usable photosensitizers include, for example, benzoin, benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, dibenzyl, 5-nitroacenaphthene, hexachlorocyclopentadiene, p-nitrodiphenyl. , P-nitroaniline, 2,4,6-trinitroaniline, 1,2-benzanthraquinone, 3-methyl-1,3-diaza-1,9-benzanthrone, and the like. Alternatively, two or more types can be mixed and used.
[0048]
In this case, a silane coupling agent is used in combination as an adhesion promoter. As this silane coupling agent, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycid Xylpropyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-chloropropylmethoxysilane, vinyltrichlorosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N- β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and the like can be mentioned.
[0049]
These silane coupling agents are usually used in a mixture of 0.001 to 10 parts by weight, preferably 0.001 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of EVA.
[0050]
On the other hand, the PVB resin preferably has a polyvinyl acetal unit of 70 to 95% by weight, a polyvinyl acetate unit of 1 to 15% by weight, and an average degree of polymerization of 200 to 3000, preferably 300 to 2500. Used as a resin composition containing a plasticizer.
[0051]
Examples of the plasticizer for the PVB resin composition include organic plasticizers such as monobasic acid esters and polybasic acid esters, and phosphoric acid plasticizers.
[0052]
Monobasic acid esters include organic acids such as butyric acid, isobutyric acid, caproic acid, 2-ethylbutyric acid, heptanoic acid, n-octylic acid, 2-ethylhexylic acid, pelargonic acid (n-nonylic acid), decylic acid, and tris. Esters obtained by reaction with ethylene glycol are preferred, more preferably triethylene-di-2-ethylbutyrate, triethylene glycol-di-2-ethylhexoate, triethylene glycol-di-capronate, triethylene Glycol-di-n-octate and the like. An ester of the above organic acid with tetraethylene glycol or tripropylene glycol can also be used.
[0053]
As the polybasic acid ester plasticizer, for example, an ester of an organic acid such as adipic acid, sebacic acid or azelaic acid and a linear or branched alcohol having 4 to 8 carbon atoms is preferable, and dibutyl seba is more preferable. Kate, dioctyl azelate, dibutyl carbitol adipate and the like can be mentioned.
[0054]
Examples of the phosphoric acid plasticizer include tributoxyethyl phosphate, isodecylphenyl phosphate, triisopropyl phosphate, and the like.
[0055]
In the PVB resin composition, if the amount of the plasticizer is small, the film-forming property is deteriorated, and if it is large, the durability during heat resistance is impaired. The amount is preferably 10 to 40 parts by weight.
[0056]
The resin composition of the interlayer film for adhesion according to the present invention further contains a small amount of stabilizer, antioxidant, ultraviolet absorber, infrared absorber, anti-aging agent, paint processing aid, colorant, etc. for preventing deterioration. In some cases, it may contain a small amount of a filler such as carbon black, hydrophobic silica, or calcium carbonate.
[0057]
Further, as means for improving adhesiveness, means such as corona discharge treatment, low temperature plasma treatment, electron beam irradiation, and ultraviolet light irradiation on the surface of the adhesive intermediate film formed into a sheet are also effective.
[0058]
The adhesive intermediate film according to the present invention is prepared by, for example, mixing EVA or PVB and the above-mentioned additives, kneading with an extruder, a roll or the like, and then forming by a film forming method such as a calender, roll, T-die extrusion, or inflation. It is manufactured by forming a sheet into a predetermined shape. During film formation, embossing is applied to prevent blocking and facilitate degassing during pressure bonding with the transparent substrate or the front plate of the PDP main body.
[0059]
The display panel 1 shown in FIG. 1 uses, for example, the adhesive intermediate films 4A, 4B, and 4C formed into a sheet as described above, and the metal foils that are pattern-etched between the adhesive intermediate films 4A, 4B, and 4C, respectively. 3. A film sandwiching the heat ray cut film 5 is interposed between the transparent substrate 2 and the PDP main body 20, deaerated under reduced pressure and warm, pre-pressed, and then the adhesive layer is cured by heating or light irradiation. Can be easily manufactured.
[0060]
  The adhesive intermediate films 4A, 4B, and 4C are formed to a thickness of 1 μm to 1 mm so that the thickness of the adhesive layer is not excessively increased. The pattern-etched metal foil 3 has a larger area than the transparent substrate 2 so that the peripheral edge of the metal foil 3 protrudes from the peripheral edge of the transparent substrate 2. The edge of the metal foil wraps around the surface of the transparent substrate 2The size. This metal foil 3 isIt is preferable that the wraparound width of the surface side edge of the transparent substrate 2 is about 3 to 20 mm.
[0061]
After integrating the transparent substrate 2, the pattern-etched metal foil 3, the heat ray cut film 5 and the PDP main body 20, the protruding portion of the peripheral edge of the metal foil 3 is folded, and the conductive adhesive tape 7 is circulated around the laminate. Then, the folded portion is fastened and bonded and fixed by, for example, thermocompression bonding according to a method for curing the conductive adhesive tape 7 used.
[0062]
The display panel 1 to which the conductive adhesive tape 7 is attached in this way can be incorporated into the housing extremely simply and easily by simply fitting into the housing, and at the same time, pattern etching is performed via the conductive adhesive tape 7. Good conduction between the metal foil 3 and the housing can be made uniform in the outer circumferential direction. For this reason, the favorable electromagnetic wave shielding effect is acquired.
[0063]
The display panel shown in FIG. 1 is an example of the display panel of the present invention, and the present invention is not limited to the illustrated one. For example, the pattern-etched metal foil 3 may be bent out of the transparent substrate 2 at the entire peripheral edge, or may be bent out of the transparent substrate 2 only at the opposite two side edges.
[0064]
【The invention's effect】
As described above in detail, according to the display panel of the present invention, by integrating an electromagnetic wave shielding material into the PDP, functions such as electromagnetic wave shielding properties are imparted to the display panel itself, and the display panel is reduced in weight, thickness, and number of parts. The productivity can be improved and the cost can be reduced by reducing the cost. In addition, malfunction of the remote control can be prevented.
[0065]
Moreover, in the present invention, since an electroconductive foil subjected to pattern etching is used as the electromagnetic wave shielding material, by selecting the shape of the pattern etching, desired electromagnetic wave shielding properties and light transmittance can be obtained. A clear image can be obtained by preventing the moire phenomenon and the like.
[0066]
According to the display panel of the second aspect, it is possible to prevent the fragments from being scattered at the time of breakage and to improve safety.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of a display panel of the present invention.
FIG. 2 is a partially cutaway perspective view showing a configuration of a general PDP.
FIG. 3 is a plan view showing an example of an etching pattern.
[Explanation of symbols]
1 Display panel
2 Transparent substrate
3, 3A, 3B, 3C, 3D, 3E, 3F Metal foil
4A, 4B, 4C interlayer film
5 Heat ray cut film
6 Anti-reflective coating
7 Conductive adhesive tape
7A metal foil
7B Adhesive layer
20 PDP body
21 Front plate
22 Back plate
23 Bulkhead
24 display cells
25 Auxiliary cells
26 Cathode
27 Display anode
28 Auxiliary anode

Claims

A display panel comprising: a plasma display panel main body; an electromagnetic wave shielding material bonded to the front surface of the plasma display panel main body with a transparent adhesive; and a transparent substrate bonded to the front surface of the electromagnetic wave shielding material with a transparent adhesive. There,
The electromagnetic shielding material is obtained by pattern-etching a conductive metal foil ,
The metal foil has a larger area than the transparent substrate, and the peripheral portion of the metal foil protrudes from the peripheral portion of the transparent substrate and wraps around the front side of the transparent substrate,
The metal foil has a thickness of 1 to 200 μm and an aperture ratio of 20 to 90% .

2. The display panel according to claim 1, wherein the transparent adhesive is a transparent elastic adhesive.