JP3534862B2 - 高単分散微粒子の製造方法 - Google Patents
高単分散微粒子の製造方法Info
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Description
均一な粒径を有する高単分散微粒子を製造する方法に関
する。 【0002】 【従来の技術】液晶パネル用スペーサー、クロマトグラ
フィ用充填剤、診断試薬等に用いられる高分子微粒子に
は、その粒径が均一であることが要求されている。従
来、このような粒径が均一な微粒子を得る方法として
は、主に懸濁重合で得られた微粒子を乾式又は湿式の分
級装置を用いて分級する方法が挙げられる。しかし、こ
のような方法では、収率が著しく低くなり、粒径の均一
性も十分とはいえなかった。 【0003】さらに、乳化重合では、ミクロンオーダー
の微粒子の合成は困難であり、分散重合ではミクロンオ
ーダーの単分散微粒子は得られるが、架橋微粒子を得る
ことは困難であった。 【0004】ミクロンオーダーの単分散架橋微粒子を製
造する方法としては、例えば、特公昭57−24369
号公報には二段階膨潤シード重合法が開示され、特公平
5−64964号公報には非イオン性化合物を用いた改
良膨潤シード重合法が開示されている。しかしながら、
これらの方法は、いずれも単量体の移動を促進するよう
な助剤を用いて単量体をシード粒子に拡散させた後、重
合させることにより未架橋又は架橋微粒子を製造してい
るが、特に架橋性微粒子を製造する際に、重合中に助剤
がブリードアウトして、多孔性の微粒子が生成するとい
う問題点があった。 【0005】また、例えば、特公昭63−32500号
公報や特公平4−71921号公報には、低分子量の種
ラテックスに対して20〜500倍の体積の単量体や有
機化合物を吸収させ重合する方法が開示されている。し
かし、得られる微粒子は粒径精度が悪く、種ラテックス
と吸収される物質の分子構造が異なる場合は、互いに相
分離を起こし、重合が進むにつれて内部にボイドや亀裂
が発生して、生成した微粒子の力学的強度が著しく低下
するという問題点があった。 【0006】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
に鑑み、その目的は、簡単な重合反応により均一な粒径
を有し、力学的強度が優れる高単分散微粒子の製造方法
を提供することにある。 【0007】 【課題を解決するための手段】本発明の高単分散微粒子
の製造方法は、水性分散媒に分散させたシード粒子に、
エチレン性不飽和単量体を吸着させ、油溶性重合開始剤
の存在下で重合させる際に、該エチレン性不飽和単量体
として、分子中にエチレン性不飽和基を2つ以上有する
単量体を15重量%以上含有するエチレン性不飽和単量
体を油溶性重合開始剤と共に水中で微分散させた後、シ
ード粒子に吸収させ重合することを特徴とする。 【0008】上記シード粒子としては、スチレン及びそ
の誘導体を50重量%以上含有する重合体が用いられ
る。このシード粒子において、スチレン及びその誘導体
の割合は、少なくなると後で添加される分子中にエチレ
ン性不飽和基を2つ以上有する単量体と相分離を起こ
し、生成する架橋微粒子の力学的強度が著しく低下す
る。 【0009】上記スチレン誘導体としては、p−メチル
スチレン、p−クロロスチレン、p−クロロメチルスチ
レン、p−メトキシスチレン等が挙げられ、これらは単
独で用いられても二種以上が併用されてもよい。上記ス
チレン及びその誘導体以外の成分としては、(メタ)ア
クリル酸、(メタ)アクリル酸エステル、ブタジエン等
が用いられる。 【0010】上記シード粒子の重量平均分子量は、小さ
くなると単分散真球微粒子が形成されず、大きくなると
後で添加される分子中にエチレン性不飽和基を2つ以上
有する単量体と相分離を起こし、生成する架橋微粒子の
力学的強度が著しく低下するので、1,000〜20,
000に限定される。 【0011】上記シード粒子としては、平均粒径0.1
〜10μmで、且つCv値〔(粒径標準偏差/平均粒
径)×100で表される〕が10以下の非架橋型の粒子
が好ましい。これらのシード粒子は、例えば、ソープフ
リー重合又は分散重合を用いて製造されるが、これらの
方法に限定されず公知の技術が適用可能である。 【0012】上記エチレン性不飽和単量体としては、ス
チレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p
−クロロスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン
誘導体;塩化ビニル;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル
等のビニルエステル類;アクリロニトリル等の不飽和ニ
トリル類;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリ
ル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アク
リル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ステア
リル等の(メタ)アクリル酸エステル誘導体;ブタジエ
ン、イソプレン等の共役ジエン類等の単官能性単量体が
挙げられ、これらは単独で用いられてもよく、二種以上
が併用されてもよい。 【0013】また、上記分子中にエチレン性不飽和基を
2つ以上有するエチレン性不飽和単量体としては、ジビ
ニルベンゼン、エチレンオキシドジ(メタ)アクリレー
ト、テトラエチレンオキシドジ(メタ)アクリレート、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパン
トリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタント
リアクリレート、テトラメチロールプロパンテトラ(メ
タ)アクリレート等の多官能性単量体が挙げられ、これ
らは単独で用いられてもよく、二種以上が併用されても
よい。 【0014】上記エチレン性不飽和性単量体のうち、上
記分子中にエチレン性不飽和基を2つ以上有するエチレ
ン性不飽和性単量体の割合は、少なくなると微粒子の力
学的強度が低下するので、15重量%以上が好ましく、
より好ましくは30重量%以上である。 【0015】上記エチレン性不飽和単量体の添加量は、
少なくなる架橋成分が不足し生成する微粒子の力学的強
度が不十分となり、多くなくなると生成する微粒子の粒
径精度が悪くなるので、シード粒子1重量部に対して1
〜20重量部である。 【0016】上記油溶性重合開始剤としては、例えば、
過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、オルソクロロ過
酸化ベンゾイル、オルソメトキシ過酸化ベンゾイル、
3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、
t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ
−t−ブチルパーオキサイド等の有機過酸化物;アゾビ
スイソブチロニトリル、アゾビスシクロヘキサカルボニ
トリル、2、2'-アゾビス(2,4−ジメチルバレロニ
トリル)等のアゾ系化合物などが挙げられる。 【0017】本発明の製造方法では、上記エチレン性不
飽和単量体を油溶性重合開始剤と共に水中で微分散させ
て微分散エマルジョンとした後、該微分散エマルジョン
と水分散媒に分散させたシード粒子(シード粒子分散
液)とを混合し、該シード粒子にエチレン性不飽和単量
体と油溶性重合開始剤とを吸着させ重合を行う。 【0018】上記重合工程では、上記エチレン性不飽和
単量体を油溶性重合開始剤と共に水中で微分散させた
後、シード粒子に吸着させる方法が好ましい。エチレン
性不飽和単量体と油溶性重合開始剤を微分散させるに
は、ホモジナイザー等により微分散してもよく、超音波
処理、ナノマイザーやマウントガウリン型の微細乳化機
により微分散してもよい。また、上記両成分の微分散エ
マルジョンを得るためには、予め両成分を混合して微分
散してもよく、各成分を別々に微分散した後両成分を混
合してもよい。 【0019】上記微分散エマルジョンの粒径は、上記シ
ード粒子の粒径より小さい方が好ましい。このような粒
径を選択することにより、上記エチレン性不飽和単量体
と油溶性重合開始剤とが水中に溶解し、シード粒子に拡
散する速度を速めることができる。この拡散速度が遅く
なると、生成する微粒子の粒径分布精度が悪くなる。 【0020】上記シード粒子に上記微分散エマルジョン
を吸着させるには、シード粒子分散液と微分散エマルジ
ョンを混合し、室温で1〜12時間攪拌することにより
行われるが、30〜50℃に加温することにより吸着を
促進することができる。 【0021】上記微分散エマルジョンの吸着による上記
シード粒子は膨潤度は、上記シード粒子分散液と上記微
分散エマルジョンとの混合割合を調節することにより任
意に選択することができるが、本発明では、2〜15倍
の膨潤度が好ましい。ここでいう膨潤度とは、膨潤前の
シード粒子に対する膨潤後の微粒子の体積比で定義され
る。吸着の終了は、光学顕微鏡での観察により粒径の拡
大を確認することにより判定する。 【0022】上記重合工程において、上記シード粒子
と、該シード粒子に吸着された微分散エマルジョンとを
重合する。重合温度は、使用するエチレン性不飽和単量
体や油溶性重合開始剤の種類によって、適宜選択するこ
とができるが、通常は、25〜100℃が好ましく、よ
り好ましくは50〜90℃である。また、上記シード粒
子に、上記エチレン性不飽和単量体と油溶性重合開始剤
とが完全に吸着された後で重合を開始するのが好まし
い。 【0023】上記重合工程において、重合体微粒子の分
散安定性を向上させるために、界面活性剤や高分子分散
安定剤を添加してもよい。このような界面活性剤として
は、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリルベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム等のアニオン系界面活性剤;ポリビニル
ピロリドン、ゼラチン、デンプン、ヒドロキシエチルセ
ルロース、ポリビニルエーテル、ポリビニルアルコール
等の高分子分散安定剤が挙げられ、これらは単独で用い
られてもよく、二種以上が併用されてもよい。 【0024】上記界面活性剤や高分子分散安定剤は、シ
ード粒子にエチレン性不飽和単量体及び重合開始剤を吸
収させた後で添加してもよいし、上記エチレン性不飽和
単量体及び重合開始剤を微分散させる時に添加してもよ
い。微分散時の添加によって、微分散時の安定化と重合
時の分散安定化との両方を得ることができる。 【0025】上記重合方法により得られる高単分散微粒
子の粒径は、用いられるシード粒子の粒径、上記エチレ
ン性不飽和単量体とシード粒子の混合割合によって自由
に設計可能であるが、特に、上記重合方法は粒径1〜1
0μm、Cv値5以下の高単分散架橋微粒子の製造に好
適である。 【0026】重合後の微粒子は、遠心分離して水相を除
去し、水及び溶剤で洗浄した後、乾燥単離することがで
きる。 【0027】 【実施例】次に、本発明の実施例を説明する。シード粒子の製造 (1)シード粒子(A) ポリビニルピロリドン(重量平均分子量3万)1.2重
量部、アニオン界面活性剤(和光純薬工業社製「エアゾ
ールOT」)0.57重量部及びアゾビスイソブチロニ
トリル1.43重量部をエタノール83.8重量部に溶
解させた溶液を、攪拌しながら窒素気流下でスチレン1
4重量部を投入し、70℃に昇温させ24時間重合反応
を行い、シード粒子(A)分散液を得た。得られたシー
ド粒子(A)は、平均粒径1.63μm、Cv値2.
2、重量平均分子量(Mw)=5,000、数平均分子量
(Mn)2,400であった。 【0028】(2)シード粒子(B) シード粒子(A)の合成において、アゾイソブチロニト
リルの使用量を0.45重量部に変えたこと以外は、シ
ード粒子(A)と同様にして重合しシード粒子(B)を
得た。得られた、シード粒子(B)は平均粒径1.6μ
m、Cv値2.31、Mw =18,000、Mn =7,
500であった。 【0029】(3)シード粒子(C) シード粒子(A)の合成において、アゾイソブチロニト
リルの使用量を2.9重量部に変えたこと以外は、シー
ド粒子(A)と同様にして重合しシード粒子(C)を得
た。得られたシード粒子(C)は平均粒径1.88μ
m、Cv値2.4、Mw =2,100、Mn =800で
あった。 【0030】(4)シード粒子(D) シード粒子(A)の合成において、スチレンに代えて、
スチレン7重量部、p−メチルスチレン6重量部及びア
クリル酸1重量部を使用したこと以外は、シード粒子
(A)と同様にして重合しシード粒子(D)を得た。得
られたシード粒子(D)は平均粒径1.65μm、Cv
値2.4、Mw =5,200、Mn =2,100であっ
た。 【0031】(5)シード粒子(E) シード粒子(A)の合成において、アゾイソブチロニト
リルの使用量を0.28重量部に変えたこと以外は、シ
ード粒子(A)と同様にして重合しシード粒子(E)を
得た。得られたシード粒子(E)は平均粒径1.61μ
m、Cv値2.28、Mw =28,000、Mn =1
3,500であった。 【0032】(6)シード粒子(F) シード粒子(A)の合成において、アゾイソブチロニト
リルの使用量を11.2重量部に変えたこと以外は、シ
ード粒子(A)と同様にして重合しシード粒子(F)を
得た。得られたシード粒子(F)は、粒子が偏平で平均
粒径の測定が不可能であり、Cv値が多分散、Mw =8
00、Mn =350であった。 【0033】(7)シード粒子(G) シード粒子(A)の合成において、スチレンに代えてメ
タクリル酸メチルを使用したこと以外は、シード粒子
(A)と同様にして重合しシード粒子(G)を得た。得
られたシード粒子(G)は、平均粒径1.66μm、C
v値2.25、Mw =5,200、Mn =2,100で
あった。 【0034】(実施例1)上記シード粒子(A)5重量
部に、イオン交換水200重量部とラウリル硫酸ナトリ
ウム0.13重量部を加え均一に分散させ、シード粒子
分散液を得た。別途、スチレン50重量%とジビニルベ
ンゼン50重量%からなるエチレン性不飽和単量体混合
物40重量部に、過酸化ベンゾイル0.6重量部を加え
てホモジナイザーで粗分散した後、超音波処理により平
均粒径0.2μmに微分散乳化した。得られた乳化液
を、前記シード粒子分散液に加え、25℃、200rp
mで3時間攪拌すると完全に単量体混合物はシード粒子
に吸収された。次いで、この分散液にポリビニルアルコ
ール(日本合成化学社製「GH−17」、ケン化度88
モル%)の3重量%水溶液100重量部を加えた後、2
00rpmで攪拌しながら窒素下、70℃で12時間重
合を行い、ポリマー微粒子の分散液を得た。得られた分
散液を遠心分離によりポリマー微粒子をを取り出し、イ
オン交換水及びエタノールで3回洗浄して後乾燥を行
い、高単分散架橋微粒子(収率98%、平均粒径3.1
9μm、Cv値2.14)を得た。この高単分散架橋微
粒子を光学顕微鏡(オリンパス光学社製「BX−4
0」)で×1,000倍で観察したところ、均一な構造
であった。 【0035】(実施例2)シード粒子(A)に代えて、
シード粒子(B)を使用したこと以外は、実施例1と同
様にして、高単分架橋散微粒子(収率98%、平均粒径
3.16μm、Cv値2.25)を得た。この高単分散
架橋微粒子を光学顕微鏡で観察したところ、均一な構造
であった。 【0036】(実施例3)シード粒子(A)に代えて、
シード粒子(C)を使用したこと以外は、実施例1と同
様にして、高単分散架橋微粒子(収率98%、平均粒径
3.3μm、Cv値2.32)を得た。この高単分散架
橋微粒子を光学顕微鏡で観察したところ、均一な構造で
あった。 【0037】(実施例4)シード粒子(A)に代えて、
シード粒子(D)を使用したこと以外は、実施例1と同
様にして、高単分散架橋微粒子(収率98%、平均粒径
3.28μm、Cv値2.3)を得た。この高単分散架
橋微粒子を光学顕微鏡で観察したところ、均一な構造で
あった。 【0038】(実施例5)スチレン50重量%とジビニ
ルベンゼン50重量%からなるエチレン性不飽和単量体
混合物の使用量を10重量部としたこと以外は、実施例
1と同様にして、高単分架橋散微粒子(収率99%、平
均粒径2.33μm、Cv値2.2)を得た。この高単
分散架橋微粒子を光学顕微鏡で観察したところ、均一な
構造であった。 【0039】(実施例6)スチレン50重量%とジビニ
ルベンゼン50重量%からなるエチレン性不飽和単量体
混合物の使用量を80重量部としたこと以外は、実施例
1と同様にして、高単分散架橋微粒子(収率97%、平
均粒径4.1μm、Cv値2.09)を得た。この高単
分散架橋微粒子を光学顕微鏡で観察したところ、均一な
構造であった。 【0040】(比較例1)シード粒子(A)に代えて、
シード粒子(E)を使用したこと以外は、実施例1と同
様にして、高単分散架橋微粒子(収率98%、平均粒径
3.22μm、Cv値2.31)を得た。この高単分散
架橋微粒子を光学顕微鏡で観察したところ、多数のボイ
ドが認められた。 【0041】(比較例2)シード粒子(A)に代えて、
シード粒子(F)を使用したこと以外は、実施例1と同
様にして、高単分散架橋微粒子を得ようとしたが、ゲル
化を起こし高単分散架橋微粒子は得られなかった。 【0042】(比較例3)シード粒子(A)に代えて、
シード粒子(G)を使用したこと以外は、実施例1と同
様にして、高単分散架橋微粒子(収率98%、平均粒径
3.23μm、Cv値2.45)を得た。この高単分散
架橋微粒子を光学顕微鏡で観察したところ、多数のボイ
ドが認められた。 【0043】(比較例4)スチレン50重量%とジビニ
ルベンゼン50重量%からなるエチレン性不飽和単量体
混合物の使用量を4重量部としたこと以外は、実施例1
と同様にして、高単分散架橋微粒子(収率99%、平均
粒径1.98μm、Cv値2.2)を得た。この高単分
散架橋微粒子を光学顕微鏡で観察したところ、多数のボ
イドが認められた。 【0044】(比較例5)スチレン50重量%とジビニ
ルベンゼン50重量%からなるエチレン性不飽和単量体
混合物の使用量を200重量部としたこと以外は、実施
例1と同様にして、高単分散架橋微粒子(収率97%、
平均粒径5.21μm、Cv値多分散であった)を得
た。 【0045】 【発明の効果】本発明の高単分散架橋微粒子の製造方法
の構成は、上述の通りであり、簡単な重合反応によって
均一な粒径を有し、力学的な強度の高い高単分散微粒子
を高収率で得ることができる。
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 水性分散媒に分散させた重量平均分子量
1,000〜20,000のスチレン及びその誘導体を
50重量%以上含有する分散重合法を用いて製造される
シード粒子に、エチレン性不飽和単量体を吸着させ、油
溶性重合開始剤の存在下で重合させる際に、該エチレン
性不飽和単量体として、分子中にエチレン性不飽和基を
2つ以上有する単量体を15重量%以上含有するエチレ
ン性不飽和単量体を使用し、該エチレン性不飽和単量体
100重量部を油溶性重合開始剤と共に水中で微分散さ
せた後、シード粒子5〜100重量部に吸収させ重合す
ることを特徴とする高単分散微粒子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31885294A JP3534862B2 (ja) | 1994-12-21 | 1994-12-21 | 高単分散微粒子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31885294A JP3534862B2 (ja) | 1994-12-21 | 1994-12-21 | 高単分散微粒子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08176214A JPH08176214A (ja) | 1996-07-09 |
JP3534862B2 true JP3534862B2 (ja) | 2004-06-07 |
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ID=18103680
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31885294A Expired - Lifetime JP3534862B2 (ja) | 1994-12-21 | 1994-12-21 | 高単分散微粒子の製造方法 |
Country Status (1)
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---|---|---|---|---|
JP5299808B2 (ja) * | 2007-12-11 | 2013-09-25 | 綜研化学株式会社 | アクリル系アンチブロッキング粒子群の製造法 |
-
1994
- 1994-12-21 JP JP31885294A patent/JP3534862B2/ja not_active Expired - Lifetime
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---|---|
JPH08176214A (ja) | 1996-07-09 |
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