JP3501601B2 - 縦型熱処理装置およその熱処理炉のメンテナンス方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、縦型熱処理装置お
よびその熱処理炉のメンテナンス方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置の製造においては、被処理基
板である半導体ウエハに酸化、拡散、ＣＶＤ等の各種の
処理を施すために、種々の熱処理装置が用いられてい
る。このような熱処理装置としては、ウエハを装入して
所定の真空度、温度および処理ガス雰囲気で熱処理する
熱処理炉を備えると共に、この熱処理炉の炉口に真空予
備室（ロードロック室ともいう）を連設してなるものが
知られている。この熱処理装置によれば、上記真空予備
室内を予め熱処理炉内とほぼ同じ圧力にしておくことに
より、熱処理炉内の圧力を大気圧に戻すことなく炉口を
開放してウエハの搬入搬出を行なうことができるため、
時間の短縮やスループットの向上等が図れる。

【０００３】ところで、上記熱処理装置においては、そ
の信頼性を維持するために、熱処理炉の定期点検や反応
管の洗浄等のためのメンテナンスが要求される。炉口が
下部に形成された熱処理炉を備えた縦型熱処理装置で
は、例えば熱処理炉の炉内および真空予備室内を大気に
開放し、反応管等を下方の真空予備室内に降ろしてメン
テナンスすることが考えられる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記熱
処理装置においては、真空予備室内を大気に開放するた
め、真空予備室内に湿気やごみ等が侵入しやすく、真空
予備室内を再び所定の真空度に戻す再立ち上げに多くの
時間がかかる問題がある。また、上記熱処理炉を真空予
備室に降ろすために、真空予備室を大きく形成する必要
があり、装置全体が大型化する問題もある。

【０００５】なお、熱処理炉と真空予備室との間にゲー
トバルブを介設し、このゲートバルブを閉じて熱処理炉
内と真空予備室内を隔絶することにより、真空予備室内
を真空に保持したまま、熱処理炉を取り外してメンテナ
ンスを可能にした熱処理装置も提案されている。しか
し、この熱処理装置においては、ゲートバルブのスペー
ス分、装置が大型化し、また、熱影響を防止すべくゲー
トバルブを水冷構造の特殊仕様にて製作する必要があ
り、構造が複雑になるばかりでなく、水冷により生成物
が付着し、パーティクルの原因になる問題がある。

【０００６】 そこで、本発明の目的は、ゲートバルブ
を使用せず、真空予備室内を大気開放することなく熱処
理炉を取り外してメンテナンスすることを可能にした縦
型熱処理装置およびその熱処理炉のメンテナンス方法を
提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のうち請求項１の発明は、複数の被処理基板に
熱処理を施す縦型熱処理装置において、下部に炉口を有
する熱処理炉と、該熱処理炉に炉口を介して連通された
真空予備室と、上記炉口を開閉する蓋体と、複数の被処
理基板を保持する基板保持具と、該基板保持具を上記蓋
体の上部に保温筒を介して載置した状態で真空予備室内
から熱処理炉内へ搬入搬出する垂直搬送機構と、上記熱
処理炉の炉口を形成するマニホールドとを備え、上記マ
ニホールドは上下に分割可能に結合された上部マニホー
ルドと下部マニホールドとから構成され、上記炉口を蓋
体で閉じて熱処理炉内と真空予備室内を遮断した状態で
熱処理炉を上記マニホールドの分割箇所で切り離してメ
ンテナンス可能にしたことを特徴とする。

【０００８】 請求項２の発明は、上記上部マニホール
ドと上記下部マニホールドとの間には環状溝が形成さ
れ、該環状溝内を真空引きすることにより上部マニホー
ルドと下部マニホールドが結合され、上記環状溝に大気
を導入することにより上部マニホールドと下部マニホー
ルドが分割されることを特徴とする。

【０００９】 請求項３の発明は、複数の被処理基板に
熱処理を施す縦型熱処理装置の熱処理炉のメンテナンス
方法において、上記縦型熱処理装置は、下部に炉口を有
する熱処理炉と、該熱処理炉に炉口を介して連通された
真空予備室と、上記炉口を開閉する蓋体と、複数の被処
理基板を保持する基板保持具と、該基板保持具を上記蓋
体の上部に保温筒を介して載置した状態で真空予備室内
から熱処理炉内へ搬入搬出する垂直搬送機構と、上記熱
処理炉の炉口を形成するマニホールドとを備え、上記マ
ニホールドは上下に分割可能に結合された上部マニホー
ルドと下部マニホールドとから構成され、上記メンテナ
ンス方法は、上記炉口を蓋体で閉じて熱処理炉内と真空
予備室内を遮断する工程と、該遮断状態で上記熱処理炉
を上記マニホールドの分割箇所で切り離す工程と、切り
離した熱処理炉をメンテナンスする工程とを備えたこと
を特徴とする。請求項４の発明は、上記炉口を蓋体で閉
じて熱処理炉内と真空予備室内を遮断する工程と、上記
熱処理炉を上記マニホールドの分割箇所で切り離す工程
との間に、炉内を大気圧に戻す工程と、真空予備室内を
大気圧の不活性ガスで置換する工程とを備えたことを特
徴とする。

【００１０】

【実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を添付図面
に基づいて詳述する。

【００１１】図４ないし図５において、１は熱処理装置
として例示したバッチ式の縦型熱処理装置の筐体、２は
被処理基板である半導体ウエハＷを複数枚例えば２５枚
程度垂直に立てた状態で所定のピッチで収納する上部に
収納口２ａを有する運搬用の容器であるカセットであ
る。上記筐体１の一端には、上記カセット２を搬入搬出
するための開閉ゲートを有する搬出入口３が設けられて
いる。上記筐体１内における搬出入口３近傍には、上記
カセット２を収納口２ａが上部にある垂直状態で載置す
るための載置台４が設けられている。

【００１２】上記載置台４には、カセット２を前後から
押える押え部５，６、カセット２内のウエハＷのオリフ
ラ合せを行うオリフラ整合機等（図示省略）が設けられ
ている。また、載置台４は、垂直に回動可能に設けられ
ており、上記カセット２内のウエハＷを垂直状態から水
平状態にすべくカセット２をほぼ９０度回動できるよう
になっている。上記筐体１内には、昇降および回転可能
な基台７を有する移載機構８が設けられ、その基台７の
周囲に上記載置台４と、上記カセット２を設置する設置
台９と、後述する第１の真空予備室（ロードロック室と
もいう）１０Ａとが配置されている。

【００１３】上記移載機構８は、ボールネジ等を用いた
昇降機構により昇降可能に設けられた昇降アーム１１を
有し、この昇降アーム１１上に上記基台７が水平に回転
可能に取付けられている。上記昇降アーム１１内には、
上記基台７を位置決め可能に回転駆動するための回転駆
動部が設けられている（図示省略）。

【００１４】上記基台７上には、ウエハＷを支持する水
平に延出した短冊状のウエハ支持部（フォークともい
う）１２を複数段例えば５段有するウエハ移載機１３
と、上記カセット２を載置して支持する水平に延出した
カセット支持部１４を有するカセット移載機１５とが対
向して往復移動可能に設けられ、そのカセット移載機１
５によりカセットＷを載置台４から設置台９にまたはそ
の逆に、上記ウエハ移載機１３によりウエハＷを設置台
９のカセット２内から第１の真空予備室１０Ａ内の後述
するボート１６にまたはその逆にそれぞれ移載可能に構
成されている。

【００１５】上記ウエハ移載機１３およびカセット移載
機１５が基台７上の待機位置にある状態において、上記
カセット支持部１４が上記ウエハ移載機１３の直上に配
置され、これによりカセット２を基台７から外側にはみ
出さない状態で旋回させることができ、旋回半径Ｒの縮
小化が図られている。上記設置台９は、高さ方向にカセ
ット２を複数個設置可能に棚部１７を複数段例えば４段
有している。

【００１６】上記筐体１の後端側上部には、下部に炉口
１８を有する縦型熱処理炉１９が設けられ、この熱処理
炉１９には、その熱処理時の真空度例えば１Ｔｏｒｒと
ほぼ同じ真空度とされる真空予備室１０が連設されてい
る。この真空予備室１０内には、後述する水平搬送機構
２７および垂直搬送機構２３が配設されている。上記真
空予備室１０は、搬出入口３側の第１の真空予備室１０
Ａと、熱処理炉１９側の第２の真空予備室１０Ｂとから
構成され、第１および第２の真空予備室１０Ａ，１０Ｂ
間には、これらの間を開閉可能に遮断するゲートバルブ
２０が介設されている。

【００１７】上記第１の真空予備室１０Ａは、熱処理炉
１９内に複数枚例えば３０枚のウエハＷを装入するため
に用いられる基板保持具である石英製のボート１６を収
容してウエハＷの移載と予備真空を行うための部屋で、
上記基台７を挟んで上記載置台４と対向する位置に配置
されている。第１の真空予備室１０Ａの上記基台７側へ
臨む前面部は開口しており、この前面部にはその開口部
を開閉するロードロックドア２１が設けられている。

【００１８】第１の真空予備室１０Ａは、ゲートバルブ
２０を開けて第２の真空予備室１０Ｂと連通するに際し
て第２の真空予備室１０Ｂと同じ圧力に制御され、第１
の真空予備室１０Ａと第２の真空予備室１０Ｂとの間の
ゲートバルブ２０を閉めた状態で第１の真空予備室１０
Ａのロードロックドア２１を開けて筐体１内と連通する
に際して筐体１内と同じ圧力（大気圧）に制御されるよ
うになっている。

【００１９】上記第２の真空予備室１０Ｂは、上記熱処
理炉１９の下方において炉内へのボート１６の搬入搬出
を行なうためのローディング室１０ａと、上記ボート１
６を２個使用する場合にボート１６同士が干渉しないよ
う熱処理炉１９から搬出されたボート１６を仮置きする
バッファー室１０ｂと、ボート１６の搬送を行なう後述
の水平搬送機構２７が配置されたトランスファー室１０
ｃとから主に構成され、これら３つの室１０ａ，１０
ｂ，１０ｃは互に連通されている。

【００２０】上記ローディング室１０ａ内には、熱処理
炉１９の炉口１８を開閉する蓋体２２が後述する垂直搬
送機構（昇降機構）２３の昇降アーム２４により昇降可
能に設けられ、この蓋体２２の上部には、石英製の保温
筒２５を介して上記ボート１６が載置されるようになっ
ている。上記垂直搬送機構２３により、熱処理炉１９内
へのボート１６の搬入または熱処理炉１９内からのボー
ト１６の搬出が行なわれる。

【００２１】上記トランスファー室１０ａ内には、上記
ボート１６を第１の真空予備室１０Ａから上記保温筒２
５上に、または保温筒２５上から上記バッファー室１０
ｂを介して第１の真空予備室１０Ａに搬送するための多
関節アーム構造の搬送アーム２６を有する水平搬送機構
２７が設けられている。なお、上記ボート１６および保
温筒２５は、洗浄等のために、水平搬送機構２７により
上記蓋体２２上から第１の真空予備室１０Ａに搬送さ
れ、筐体１外に搬出することが可能である。

【００２２】上記水平搬送機構２７は、ボート１６を昇
降させる機能を有していないため、第１の真空予備室１
０Ａおよびバッファー室１０ｂには、搬送アーム２６と
の間でボート１６の受取り受渡しを可能とすべくボート
１６を上下動可能に設置する基板保持具設置台（ボート
スタンドともいう）２８が配置されている。なお、水平
搬送機構２７としては、搬送アーム２６を介してボート
１６を昇降させる機能を有していてもよく、その場合、
ボートスタンド２８は上下動可能に構成されていなくて
もよい。

【００２３】一方、上記第２の真空予備室１０Ｂにおけ
るローディング室１０ａの上方には、図１〜図３に示す
ように、上記熱処理炉１９および垂直搬送機構２３を設
置するためのベース部２９が設けられている。このベー
ス部２９は、例えば筐体１に横架されて取付けられてい
る。上記垂直搬送機構２３は、上記昇降アーム２４と、
この昇降アーム２４を垂直の昇降ロッド３０を介して昇
降駆動する駆動部３１とからなり、その駆動部３１が上
記ベース部２９上に設置されている。

【００２４】第２の真空処理室１０Ｂの上部およびベー
ス部２９には、熱処理炉１９の炉口１８と対応した開口
部３２ａ，３２ｂと、垂直搬送機構２３の昇降ロッド３
０を貫通させる開口部３２ｃ，３２ｄとが設けられてい
る。上記熱処理炉１９は、上記ベース部２９の炉口用開
口部３２ｂの上端に設置される例えばステンレス鋼製の
円筒状のマニホールド３３を有し、このマニホールド３
３の上端に例えば石英製の反応管３４が取付けられてい
る。また、上記マニホールド３３の上端には、ヒータベ
ース３５が取付けられ、このヒータベース３５上には、
上記反応管３４を覆う円筒状の断熱材３６の内周に図示
しないヒーター線を配線してなる加熱ヒータ３７が取付
けられている。これにより、ホットウォール型の熱処理
炉１９が構成されている。

【００２５】上記マニホールド３３が熱処理炉１９の炉
口１８を形成しており、その開口端が上記蓋体２２によ
って第２の真空予備室１０Ｂのローディング室１０ａ内
側から閉じられて熱処理炉１９内と第２の真空予備室内
１０Ｂが遮断されるようになっている。また、第２の真
空予備室１０Ｂの炉口用開口部３２ａとマニホールド３
３との間には、真空シール用のベローズ３８ａが気密に
取付けられ、上記昇降ロッド用開口部３２ｃと昇降ロッ
ド３０の上端部との間にも同様のベローズ４８ｂが気密
に取付けられている。

【００２６】 上記マニホールド３３は、軸方向である
上下に分割可能に形成されている。具体的には、図３に
示すように、マニホールド３３は、上下両端にフランジ
部３９ａ，３９ｂを有する上部マニホールド３３ａと、
円環状の下部マニホールド３３ｂとから構成されてい
る。下部マニホールド３３ｂは、上記ベース部２９の炉
口用開口部３２ｂの上部開口端に載置されて図示しない
ボルトで固定されている。この下部マニホールド３３ｂ
上に上部マニホールド３３ａが着脱可能に載置されてお
り、これら上部と下部のマニホールド３３ａ，３３ｂ同
士を気密に連結するために、下部マニホールド３３ｂの
上面にはＯリング４０ａ，４０ｂが二重に設けられ、上
部マニホールド３３ａの下部フランジ部３９ｂには両Ｏ
リング４０ａ，４０ｂ間に形成された環状溝４１内を真
空引きする配管４２が取付けられている。

【００２７】 上部マニホールド３３ａの上部フランジ
部３９ａ上には、反応管３４が載置されて押え具４３で
固定されていると共に、上記ヒーターベース３５が取付
けられている。下部マニホールド３３ｂには、熱処理炉
１９内に処理ガスや不活性ガス等を導入する複数のガス
導入口４４が設けられ、これらガス導入口４４にガス導
入配管４５が接続されている。なお、熱処理炉１９内を
真空排気する排気口は、反応管３４の上端部か、或いは
上部マニホールド３３ａに設けられている（図示省
略）。図３において、４６は蓋体２２上に取付けられた
保温筒載置用の回転テーブル、４７は蓋体２２の炉内露
出面に取付けられた腐食防止用の石英製カバーである。
筐体１には、熱処理炉１９をメンテナンスのために出し
入れするためのドア付きの開口部が設けられている（図
示省略）。

【００２８】次に上記実施の形態による作用を述べる。
ウエハＷを垂直に立てて収納したカセット２を搬出入口
３から熱処理装置の筐体１内に搬入して載置台４上に載
置すると、カセット２が押え部５，６により前後から押
えられ、オリフラ合せ後、カセット２がウエハＷを水平
にすべく載置台４と共にほぼ９０度回動される。これに
よりカセット２は、上部に収納口２ａがある垂直状態か
ら収納口２ａが水平に向いた水平状態になる。

【００２９】移載機構８における昇降アーム１１の昇
降、基台７の旋回およびカセット移載機１５の移動によ
り、上記カセット２が載置台４から設置台９の棚部１７
に移載される。所定個数のカセット２が設置台９の各棚
部１７に移載されたなら、移載機構８における昇降アー
ム１１の昇降、基台７の旋回およびウエハ移載機１３の
移動により、上記設置台９上のカセット２内からウエハ
Ｗが予め第１の真空予備室１０Ａ内のボートスタンド２
８に設置されているボート１６に移載される。

【００３０】上記ウエハＷの移載に際して、第１の真空
予備室１０Ａと第２の真空予備室１０Ｂとの間のゲート
バルブ２０は閉じられ、第１の真空予備室１０Ａのロー
ドロックドア２１は開放されている。所定枚数のウエハ
Ｗがボート１６に移載されたなら、ロードロックドア２
１が閉じられ、第１の真空予備室１０Ａ内が所定の真空
度に真空引きされる。

【００３１】一方、同時進行で行なわれている熱処理炉
１９における熱処理が終了すると、垂直搬送機構２３の
昇降アーム２４による蓋体２２の下降により熱処理炉１
９の炉口１８が開放されると共にボート１６および保温
筒２５が熱処理炉１９内から第２の真空予備室１０Ｂの
ローディング室１０ａ内に降下され、水平搬送機構２７
の搬送アーム２６により上記ボート１６が保温筒２５上
からバッファー室１０ｂ内のボートスタンド２８上に搬
送されて仮置きされる。次いで、第１の真空予備室１０
Ａと第２の真空予備室１０Ｂとの間のゲートバルブ２０
が開放され、上記搬送アーム２６により第１の真空予備
室１０Ａ内のボート１６が上記ローディング室１０ａ内
の昇降アーム２４の保温筒２５上に移載され、バッファ
ー室１０ｂ内のボート１６が第１の真空予備室１０Ａ内
に移載される。

【００３２】上記ボート１６の移載後に、上記ゲートバ
ルブ２０が閉じられ、垂直搬送機構２３の昇降アーム２
４による蓋体２２の上昇により上記ボート１６および保
温筒２５が熱処理炉１９内に装入されると共に、炉口１
８が蓋体２２で閉じられ、所定の熱処理が開始される。
一方、第１の真空予備室１０Ａ内に移されたボート１６
から設置台９上の空のカセット２内に処理済みのウエハ
Ｗが移載され、そのカセット２が設置台９から載置台４
に搬送されて搬出入口３から搬出されることになる。

【００３３】ところで、上記熱処理装置においては、熱
処理炉１９の定期点検や反応管３４の洗浄等のためのメ
ンテナンスが要求される。そこで、熱処理炉１９のメン
テナンスを行なう場合には、先ず、熱処理炉１９の炉口
１８を蓋体２２で閉じて、熱処理炉１９内と第２の真空
予備室１０Ｂ内を遮断する。次に、熱処理炉１９内を大
気開放すると共に、第２の真空予備室１０Ｂ内を大気圧
の不活性ガス例えば窒素ガスで置換する。

【００３４】上記熱処理炉１９内を大気開放するには、
真空排気を停止して、反応管３４内にガス導入口４４等
から大気を導入すればよい。この場合には勿論、処理ガ
ス等の導入および加熱ヒータ３７は、停止されている。
上記第２の真空予備室１０Ｂ内を大気圧の不活性ガスで
置換するのは、熱処理炉１９側が大気圧で、第２の真空
予備室１０Ｂ側が真空状態であると、蓋体２２に逆圧
（蓋体を開放する方向の圧力）がかかり、昇降アーム２
４の変形等の不具合を生じ、また、第２の真空予備室１
０Ｂ内を大気開放すると、再立ち上げに時間がかかるよ
うになるためである。

【００３５】次いで、図１に示すように、熱処理炉１９
をマニホールド３３の分割箇所で切り離し、熱処理炉１
９を筐体１外へ取り出してメンテナンスを行なえばよ
い。上記マニホールド３３は、真空引きされた環状溝４
１に大気を導入して、上部および下部のマニホールド３
３ａ，３３ｂの真空結合を解除することにより、上部マ
ニホールド３３ａと下部マニホールド３３ｂに容易に分
割することができる。熱処理炉１９を筐体１外へ取り出
したなら、上部マニホールド３３ａから加熱ヒータ３７
および反応管３４を取り外して、加熱ヒータ３７の点
検、反応管３４の洗浄、交換等のメンテナンスを実施す
ればよい。なお、熱処理炉１９をベース部２９の下部マ
ニホールド３３ｂ上から取り去った後に、大気側に露出
している蓋体２２上の回転テーブル４６や石英製カバー
４７の交換等のメンテナンスも可能である。

【００３６】このように、上記熱処理装置またはその熱
処理炉のメンテナンス方法によれば、熱処理炉１９の炉
口１８には炉内とほぼ同じ真空度とされる第２の真空予
備室１０Ｂが連設され、上記炉口１８を開閉する蓋体２
２により炉内と第２の真空予備室１０Ｂ内が遮断される
ように構成されており、上記炉口１８を形成するマニホ
ールド３３が軸方向に分割可能に形成され、上記炉口１
８を蓋体２２で閉じた状態で熱処理炉１９をマニホール
ド３３の分割箇所で切り離してメンテナンスするように
したので、ゲートバルブを使用せず、第２の真空予備室
１０Ｂ内を大気開放することなく熱処理炉１９を取り外
してメンテナンスすることができる。

【００３７】従って、上記メンテナンス方法によれば、
反応管３４等を第２の真空予備室１０Ｂ内に降ろす必要
がないので、第２の真空予備室１０Ｂをむやみに大きく
する必要がなく、また、ゲートバルブを使用しないた
め、その分、省スペース化が図れ、全体として熱処理装
置の小型化が図れる。しかも、ゲートバルブ（水冷特殊
仕様）を使用しないため、構造の簡素化が図れると共
に、パーティクルの心配もない。

【００３８】また、上記炉口１８を蓋体２２で閉じた状
態で、炉内を大気圧に戻すと共に、第２の真空予備室１
０Ｂ内を大気圧の不活性ガスで置換してから、熱処理炉
１９をマニホールド３３の分割箇所で切り離すため、メ
ンテナンス時に蓋体２２にかかる逆圧の不具合を解消す
ることができると共に、第２の真空予備室１０Ｂ内を大
気にさらされない清浄な状態に保つことができ、メンテ
ナンス後に第２の真空予備室１０Ｂ内を再び真空にする
再立ち上げに要する時間を短縮することができる。更
に、上記マニホールド３３が上下に分割可能に形成さ
れ、その下部マニホールド３３ｂにガス導入配管４５が
取付けられているため、熱処理炉１９および反応管３４
のメンテナンスを行なう際に、ガス導入配管４５を取り
外す必要がなく、熱処理炉１９および反応管３４のメン
テナンスを容易に実施することができる。

【００３９】以上、本発明の実施の形態を図面により詳
述してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の
設計変更等が可能である。例えば、逆圧に耐え得る蓋体
の支持構造を採用してもよく、その場合には、必ずしも
真空予備室内を大気圧の不活性ガスで置換する必要はな
く、真空予備室内を真空にしたままの状態で熱処理炉を
切り離してメンテナンスすることが可能となる。上部お
よび下部のマニホールド同士を連結する手段としては、
ボルト等であってもよい。

【００４０】

【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のよう
な優れた効果が得られる。

【００４１】 請求項１の発明によれば、ゲートバルブ
を使用せず、真空予備室内を大気開放することなく熱処
理炉を取り外して容易にメンテナンスすることができ
る。請求項２に発明によれば、マニホールドを上部マニ
ホールドと下部マニホールドに容易に分割することがで
きる。請求項３に発明によれば、ゲートバルブを使用せ
ず、真空予備室内を大気開放することなく熱処理炉を取
り外して容易にメンテナンスすることができる。請求項
４に発明によれば、メンテナンス時に蓋体にかかる逆圧
の不具合を解消することができると共に、真空予備室内
を大気にさらされない清浄な状態に保つことができ、メ
ンテナンス後に真空予備室内を再び真空にする再立ち上
げに要する時間を短縮することができる。

【００４２】

【００４３】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態を示す図で、熱処理炉をマ
ニホールドの分割箇所で切り離した状態を示す断面図で
ある。

【図２】熱処理装置における熱処理炉部分の断面図であ
る。

【図３】マニホールド部分を詳細に示す拡大断面図であ
る。

【図４】熱処理装置の断面側面図である。

【図５】同熱処理装置の断面平面図である。

【符号の説明】

１０ 真空予備室 １０Ａ 第１の真空予備室 １０Ｂ 第２の真空予備室 １８ 炉口 １９ 熱処理炉 ２２ 蓋体 ３３ マニホールド ３３ａ 上部マニホールド ３３ｂ 下部マニホールド

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 谷藤 保 神奈川県津久井郡城山町町屋１丁目２番 41号 東京エレクトロン東北株式会社 相模事業所内 (56)参考文献 特開 平３−30320（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−121394（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−269822（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−157162（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−310432（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−297257（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−106423（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−200523（ＪＰ，Ａ) 国際公開94／18695（ＷＯ，Ａ１) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/26 - 21/268 H01L 21/322 - 21/326 H01L 21/205 H01L 21/22 - 21/24 H01L 21/31 H01L 21/68

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の被処理基板に熱処理を施す縦型熱
   処理装置において、下部に炉口を有する熱処理炉と、該
   熱処理炉に炉口を介して連通された真空予備室と、上記
   炉口を開閉する蓋体と、複数の被処理基板を保持する基
   板保持具と、該基板保持具を上記蓋体の上部に保温筒を
   介して載置した状態で真空予備室内から熱処理炉内へ搬
   入搬出する垂直搬送機構と、上記熱処理炉の炉口を形成
   するマニホールドとを備え、上記マニホールドは上下に
   分割可能に結合された上部マニホールドと下部マニホー
   ルドとから構成され、上記炉口を蓋体で閉じて熱処理炉
   内と真空予備室内を遮断した状態で熱処理炉を上記マニ
   ホールドの分割箇所で切り離してメンテナンス可能にし
   たことを特徴とする縦型熱処理装置。
2. 【請求項２】 上記上部マニホールドと上記下部マニホ
   ールドとの間には環状溝が形成され、該環状溝内を真空
   引きすることにより上部マニホールドと下部マニホール
   ドが結合され、上記環状溝に大気を導入することにより
   上部マニホールドと下部マニホールドが分割されること
   を特徴とする請求項１記載の縦型熱処理装置。
3. 【請求項３】 複数の被処理基板に熱処理を施す縦型熱
   処理装置の熱処理炉のメンテナンス方法において、上記
   縦型熱処理装置は、下部に炉口を有する熱処理炉と、該
   熱処理炉に炉口を介して連通された真空予備室と、上記
   炉口を開閉する蓋体と、複数の被処理基板を保持する基
   板保持具と、該基板保持具を上記蓋体の上部に保温筒を
   介して載置した状態で真空予備室内から熱処理炉内へ搬
   入搬出する垂直搬送機構と、上記熱処理炉の炉口を形成
   するマニホールドとを備え、上記マニホールドは上下に
   分割可能に結合された上部マニホールドと下部マニホー
   ルドとから構成され、上記メンテナンス方法は、上記炉
   口を蓋体で閉じて熱処理炉内と真空予備室内を遮断する
   工程と、該遮断状態で上記熱処理炉を上記マニホールド
   の分割箇所で切り離す工程と、切り離した熱処理炉をメ
   ンテナンスする工程とを備えたことを特徴とする縦型熱
   処理装置の熱処理炉のメンテナンス方法。
4. 【請求項４】 上記炉口を蓋体で閉じて熱処理炉内と真
   空予備室内を遮断する工程と、上記熱処理炉を上記マニ
   ホールドの分割箇所で切り離す工程との間に、炉内を大
   気圧に戻す工程と、真空予備室内を大気圧の不活性ガス
   で置換する工程とを備えたことを特徴とする請求項３記
   載の縦型熱処理装置の熱処理炉のメンテナンス方法。