JP3581090B2 - Dry desulfurization / denitration equipment - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、乾式脱硫・脱硝装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、乾式脱硫・脱硝装置においては、反応塔の上端から下端に向けて活性炭等の媒体を移動させ、その間に被処理ガスを通すことによって脱硫と脱硝とを同時に行い、被処理ガスから亜硫酸ガス(SO2 )等の硫黄酸化物、及び窒素酸化物(NOX )を除去するようにしている。
【0003】
図2は従来の反応塔の斜視図、図3は従来の反応塔の断面図、図4は従来の粒度分布の測定結果を示す図である。
【0004】
図において、11は内部に互いに平行な一対の移動層10が形成された反応塔本体であり、該反応塔本体11は、角錐(すい)形状を有する上部ホッパ12、該上部ホッパ12と連結された断面が矩(く)形の胴部13、該胴部13と連結された角錐形状を有する下部ホッパ14を備える。そして、前記上部ホッパ12は上端に媒体供給口15を、前記下部ホッパ14は下端に媒体排出口16を有し、前記媒体供給口15を介して供給された媒体17は上部ホッパ12内、移動層10内及び下部ホッパ14内を下方に移動し、媒体排出口16から外部に排出される。さらに、前記媒体排出口16を介して排出された媒体17は、図示されない再生装置において再生させられ、再び上部ホッパ12に供給される。
【0005】
前記胴部13の側壁の一方には、被処理ガスが供給される被処理ガス供給部18が、側壁の他方には、被処理ガスが排出される被処理ガス排出部20が形成され、前記胴部13内において、前記被処理ガス供給部18から供給された被処理ガスは左右に分流され、各移動層10内を移動し、被処理ガス排出部20から排出される。なお、前記反応塔本体11、被処理ガス供給部18、被処理ガス排出部20等によって反応塔が、該反応塔、再生装置等によって乾式脱硫・脱硝装置が構成される。
【0006】
そして、前記移動層10は、前記被処理ガスの流れ方向における上流側に入口ルーバ10aを、下流側に出口ルーバ10bを備える。また、移動層10の本体部分は上下方向に延在させて配設された複数の区画板10cによって区画され、複数の区画室が形成される。前記入口ルーバ10aは媒体17が落下しないような開口の構造を有し、出口ルーバ10bは多孔プレートから成り、該多孔プレートの各穴の径は前記媒体17の粒子径より小さく設定され、いずれも被処理ガスだけを通過させ、媒体17が入口ルーバ10a及び出口ルーバ10bから外部に流出することがないようになっている。
【0007】
前記移動層10の下端、すなわち、前記胴部13と下部ホッパ14との間には、図示されない駆動系によって回転させられ、移動層10のレベルを一定に調整しながら媒体排出口16から媒体17を定量ずつ排出するための切出装置22が配設される。したがって、移動層10内の媒体17は、一定の速度で下方に移動させられ、その間に被処理ガスと直交流で接触し、脱硫及び脱硝を同時に行う。
【0008】
ところで、前記媒体17は反応塔本体11の上方の1箇所に形成された媒体供給口15を介して供給されるので、移動層10の上端に所定の安息角θを有する媒体17の山が形成される。なお、胴部13の幅をLとし、上部ホッパ12内に形成された媒体17の山の高さをHとすると、前記安息角θは
θ=tan−1{H/(L/2)}
で表すことができる。そして、媒体17として活性炭を使用した場合、該活性炭は、移動層10内を図4に示されるような粒度分布で移動させられる。
【0009】
ところで、前記移動層10において、入口ルーバ10a、出口ルーバ10b、区画板10c等が破損したり、各区画室内において媒体17が閉塞(そく)したりして反応塔に何らかの異常が発生すると、脱硫及び脱硝を円滑に行うことができなくなってしまう。そこで、反応塔に異常が発生すると、媒体排出口16から排出された媒体17を前記再生装置に供給せず、図示されないパージ槽に供給し、該パージ槽に一時的に蓄えるようにしている。したがって、その間に、入口ルーバ10a、出口ルーバ10b、区画板10c等を補修したり、各区画室内において閉塞した媒体17を除去したりするようにしている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記従来の乾式脱硫・脱硝装置においては、反応塔に異常が発生したときに、媒体17を蓄えるための前記パージ槽が必要になるだけでなく、媒体排出口16から排出された媒体17を前記パージ槽に供給するためにコンベヤ等の図示されない搬送手段が必要になるので、乾式脱硫・脱硝装置のコストが高くなってしまう。
【0011】
本発明は、前記従来の乾式脱硫・脱硝装置の問題点を解決して、パージ槽、コンベヤ等を配設する必要がなく、コストを低くすることができる乾式脱硫・脱硝装置を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
そのために、本発明の乾式脱硫・脱硝装置においては、移動層と、該移動層に隣接させて配設され、被処理ガスを移動層に供給するための被処理ガス供給室と、前記移動層に隣接させて配設され、被処理ガスを移動層から排出するための被処理ガス排出室と、前記移動層の上端に配設され、複数のホッパ室を備えた上部ホッパと、前記移動層より上方に配設され、媒体入口を介して媒体が供給される上部分配ホッパと、該上部分配ホッパと各ホッパ室との間に配設され、上部分配ホッパ内の媒体を各ホッパ室に供給するシュートと、前記上部分配ホッパと被処理ガス供給室及び被処理ガス排出室のうちの少なくとも一方との間に配設されたパージ管と、該パージ管に配設された開閉手段とを有する。
【0013】
本発明の他の乾式脱硫・脱硝装置においては、さらに、異常が発生したかどうかを判断する異常発生判断処理手段と、異常が発生したと判断された場合に、前記開閉手段を開放する開放処理手段とを有する。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
【0015】
図1は本発明の実施の形態における乾式脱硫・脱硝装置の要部を示す概略図、図5は本発明の実施の形態における反応塔の要部を示す概略図、図6は本発明の実施の形態における反応塔の平面図である。
【0016】
図において、31は反応塔本体であり、該反応塔本体31は、上部分配ホッパ36、上部ホッパ42、43、胴部48及び図示されない下部ホッパを備える。また、35は媒体供給コンベヤであり、該媒体供給コンベヤ35によって搬送された媒体17は、上部分配ホッパ36内に落下させられる。
【0017】
該上部分配ホッパ36は、直径が約3〔m〕のほぼ円柱形の形状を有し、上壁に媒体入口37を備えるとともに、下壁に角度が45〔°〕の逆円錐形の形状を有する下部逆円錐部38が形成される。該下部逆円錐部38の斜面には、半径1〔m〕の同一円上の16箇所にシュート入口39が形成される。また、下部逆円錐部38の最下部には、1個のパージ穴40が形成され、該パージ穴40に鉄製パイプから成るパージ管41が接続される。
【0018】
前記胴部48は、一対の移動層55、各移動層55間において移動層55に隣接させて配設され、被処理ガスを各移動層55に供給するための被処理ガス供給室61、及び前記各移動層55の外側において移動層55に隣接させて配設され、被処理ガスを各移動層55から排出するための一対の被処理ガス排出室62、63を備え、前記被処理ガス供給室61に被処理ガス入口65が、前記被処理ガス排出室62、63にそれぞれ被処理ガス出口66、67が形成される。なお、前記上部分配ホッパ36は各移動層55より上方に配設される。また、前記反応塔本体31、被処理ガス入口65、被処理ガス出口66、67等によって反応塔が構成される。
【0019】
そして、前記各移動層55は、被処理ガス供給室61に面する側に入口ルーバ71を、被処理ガス排出室62、63に面する側に図示されない出口ルーバを備えるとともに、それぞれ上端に上部ホッパ42、43を、下端に前記下部ホッパを備え、該各上部ホッパ42、43はそれぞれ8個の角錐形の形状を有するホッパ室45を備える。前記入口ルーバ71は媒体17が落下しないような開口の構造を有し、出口ルーバは多孔プレートから成り、該多孔プレートの各穴の径は前記媒体17の粒子径より小さく設定され、いずれも被処理ガスだけを通過させることができ、媒体17が入口ルーバ71及び出口ルーバから外部に流出することがないようになっている。
【0020】
そして、前記上部分配ホッパ36と各ホッパ室45との間に、直径が200〜300〔mm〕の鉄製パイプから成るシュート47が配設され、各シュート47によって、上部分配ホッパ36内の媒体17が各ホッパ室45に供給される。また、前記パージ穴40と被処理ガス供給室61との間に前記パージ管41が配設され、該パージ管41を介して、必要に応じて上部分配ホッパ36内の媒体17が被処理ガス供給室61に供給される。そして、前記各移動層55は7個の区画板49によって区画され、前記各ホッパ室45に対応させて8個の区画室50が形成される。
【0021】
前記下部ホッパは角錐形状の形状を有し、下部ホッパの下端に媒体排出口が形成される。また、前記各移動層55の下端、すなわち、前記胴部48と下部ホッパとの間には、図示されない駆動系によって回転させられ、移動層55のレベルを一定に調整しながら媒体排出口から媒体17を定量ずつ排出するための図示されない切出装置が配設される。したがって、各移動層55内の媒体17は、一定の速度で下方に移動させられ、その間に被処理ガスと接触し、脱硫及び脱硝を同時に行う。
【0022】
前記構成の反応塔において、被処理ガス入口65から図6における矢印方向に供給された被処理ガスは、被処理ガス供給室61において左右(図6における上下)に分流され、各移動層55内を通過して被処理ガス排出室62、63に送られ、被処理ガス出口66、67から図6における矢印方向に排出される。
【0023】
また、媒体供給コンベヤ35によって搬送された媒体17は媒体入口37を介して上部分配ホッパ36に供給される。このとき、前記媒体17は、上部分配ホッパ36内の中心部に落下し、粒径の大きな媒体17は、山の斜面に沿って落下して上部分配ホッパ36内の周辺部に集まり、粒径の小さな媒体17は、上部分配ホッパ36内の中央部に集まるが、円周方向においては、同じ粒度分布で集まる。したがって、同じ粒径の媒体17が、各シュート47を通り、上部ホッパ42、43の各ホッパ室45に供給される。
【0024】
そして、該各ホッパ室45の媒体17は、それぞれ各区画室50に供給され、区画室50内を下方に移動させられるが、その間に被処理ガス供給室61から供給された被処理ガスと直交流で接触し、被処理ガス中の亜硫酸ガス等の硫黄酸化物を吸着するとともに、窒素酸化物を無害な窒素(N2 )と水(H2 O)とに分解する。このようにして脱硫及び脱硝が同時に行われる。
【0025】
そして、各区画室50から下部ホッパに供給された媒体17は、前記媒体排出口から排出されて図示されない再生装置に送られ、該再生装置において再生させられ、再び上部分配ホッパ36に供給される。なお、前記反応塔、再生装置等によって乾式脱硫・脱硝装置が構成される。
【0026】
ところで、前記上部分配ホッパ36の内径をD1 とし、各シュート入口39の中心を通る円の直径をD2 とし、シュート47の直径をD3 とし、上部ホッパ42、43の分割数、すなわち、各上部ホッパ42、43におけるホッパ室45の数をnとし、各シュート入口39間のピッチをPとすると、
D2 =(2n・D3 +2n・P)/π
の関係になる。
【0027】
そして、
D2 /D1 =2/3
とし、また、媒体17の直径をD4 としたとき、各シュート47の直径D3 を、
D3 =K1 ・D4
(K1 :10〜30)
とする。なお、通常は、
D4 =10〔mm〕
n=8〜12
P=50〜100〔mm〕
であるので、
D1 =2〜3〔m〕
D2 =1.3〜2〔m〕
程度とするのが好ましい。
【0028】
そして、前記上部分配ホッパ36の高さをHとし、上部分配ホッパ36の上壁から上部分配ホッパ36内に形成される媒体17の山の頂上までの高さをh1 とし、山の頂上から山の麓(ふもと)までの高さをh2 とし、山の麓から上部分配ホッパ36の下壁までの高さをh3 とすると、
H=h1 +h2 +h3
になり、
になる。
【0029】
また、媒体17の山の安息角θは、
θ=tan−1{h2 /(D1 /2)}
になり、通常、35〔°〕程度である。
【0030】
そして、各シュート47と各上部ホッパ42、43とが連結される部分の傾き角をθ1 〜θ8 とすると、傾き角θ1 〜θ8 は、
θ1 =θ8 <θ2 =θ7 <θ3 =θ6 <θ4 =θ5
になるように設定される。通常、傾き角θ1 は45〔°〕以上にするのが好ましい。さらに、各移動層55の幅をLとし、各ホッパ室45の底部の幅をL1 〜L8 とし、各ホッパ室45の高さをh4 とすると、
L=K2 ・L1
(K2 :4〜10)
L1 =L2 =L3 =L4 =L5 =L6 =L7 =L8
であり、各ホッパ室45の角錐の角度θ′は、
θ′=tan−1{h4 /(L1 /2)}
で表すことができ、稜(りょう)角で40〔°〕とするのが好ましい。
【0031】
また、各移動層55の層厚w1 は、脱硝率によって左右され、
w1 =1〜2〔m〕
とするのが好ましく、また、移動層55間の距離w2 は、
w2 =K3 ・w1
(K3 :1〜3)
である。
【0032】
なお、本実施の形態においては、
0.6<L1 /w1 ≦1.0
である。
【0033】
このように、同じ粒径の媒体17が、各ホッパ室45に供給され、各区画室50内を下方に移動させられるので、被処理ガスは、移動層55内を均一に流れるようになる。したがって、ガス偏流が発生するのを防止することができるので、脱硫率及び脱硝率を高くすることができる。
【0034】
ところで、前記各移動層55において、入口ルーバ71、出口ルーバ、区画板49等が破損したり、各区画室50内において媒体17が閉塞したりして反応塔に何らかの異常が発生すると、脱硫及び脱硝を円滑に行うことができなくなってしまう。そこで、反応塔に異常が発生すると、上部分配ホッパ36内の媒体17を、前記上部ホッパ42、43に供給せず、パージ管41を介して被処理ガス供給室61に供給し、該被処理ガス供給室61に一時的に蓄えるようにしている。したがって、その間に、入口ルーバ71、出口ルーバ、区画板49等を補修したり、各区画室50内において閉塞した媒体17を除去したりするようにしている。
【0035】
そのために、前記パージ管41の所定の位置に開閉手段としての弁72が配設され、駆動手段としてのアクチュエータ73を駆動することによって弁72を開閉させることができる。この場合、前記弁72として開閉弁、スライドゲート等を、アクチュエータ73としてモータ、エアシリンダ等を使用することができる。
【0036】
また、前記上部分配ホッパ36内の所定の位置にレベルセンサ75が配設され、該レベルセンサ75によって上部分配ホッパ36内の媒体17の高さhが検出され、検出された高さhが制御部74に送られる。なお、本実施の形態においては、レベルセンサ75は媒体17の山の頂上の近傍に配設されるようになっているが、山の頂上に配設したり、山の麓の近傍に配設したりすることもできる。また、前記レベルセンサ75としては、静電容量の変化に基づいて媒体17の高さhを検出するレベル指示計を使用することができる。
【0037】
そして、前記被処理ガス入口65に第1の圧力センサ76が、被処理ガス出口66に第2の圧力センサ77が配設され、前記第1の圧力センサ76によって被処理ガス入口65側の被処理ガスの圧力P1が検出され、前記第2の圧力センサ77によって被処理ガス出口66側の被処理ガスの圧力P2が検出され、検出された圧力P1、P2が制御部74に送られる。なお、必要に応じて被処理ガス出口67に第3の圧力センサを配設し、該第3の圧力センサによって被処理ガス出口67側の被処理ガスの圧力を検出し、検出された圧力を制御部74に送ることもできる。
【0038】
そして、前記制御部74の図示されない異常発生判断処理手段は、前記高さhを受けると、該高さhとあらかじめ設定された上限値hmaxとを比較することによって、第1の異常判定条件が成立するかどうかを判断し、前記高さhが上限値hmax以上である場合、第1の異常判定条件が成立すると判断し、前記高さhが上限値hmaxより低い場合、第1の異常判定条件が成立しないと判断する。
【0039】
また、前記異常発生判断処理手段は、前記高さhとあかじめ設定された下限値hminとを比較することによって、第2の異常判定条件が成立するかどうかを判断し、前記高さhが下限値hmin以下である場合、第2の異常判定条件が成立すると判断し、前記高さhが下限値hminより高い場合、第2の異常判定条件が成立しないと判断する。この場合、前記上限値hmax及び下限値hminは、レベルセンサ75が配設される位置に対応させて設定される。
【0040】
さらに、前記異常発生判断処理手段は、前記圧力P1、P2を受けると、圧力差ΔP
ΔP=P1−P2
を算出するとともに、該圧力差ΔPとあらかじめ設定された閾(しきい)値Pthとを比較することによって、異常判定付加条件が成立するかどうかを判断し、前記圧力差ΔPが閾値Pth以上である場合、異常判定付加条件が成立すると判断し、前記圧力差ΔPが閾値Pthより小さい場合、異常判定付加条件が成立しないと判断する。
【0041】
次に、前記異常発生判断処理手段は、第1、第2の異常判定条件及び異常判定付加条件が成立するかどうかによって反応塔に異常が発生しているかどうかを判断する。すなわち、前記異常発生判断処理手段は、第1の異常判定条件が成立し、かつ、異常判定付加条件が成立する場合、及び第2の異常判定条件が成立し、かつ、異常判定付加条件が成立しない場合には、反応塔に異常が発生したと判断し、第1、第2の異常判定条件がいずれも成立しない場合には、前記異常判定付加条件が成立するしないにかかわらず、反応塔に異常が発生していないと判断する。
【0042】
なお、本実施の形態においては、第1、第2の異常判定条件及び異常判定付加条件が成立するかどうかによって反応塔に異常が発生したかどうかを判断するようになっているが、第1、第2の異常判定条件が成立するかどうかによって反応塔に異常が発生したかどうかを判断することもできる。そのために、前記異常発生判断処理手段は、第1、第2の異常判定条件のうちのいずれか一方が成立する場合、反応塔に異常が発生したと判断し、第1、第2の異常判定条件がいずれも成立しない場合、反応塔に異常が発生していないと判断する。
【0043】
このようにして、異常発生判断処理が行われ、異常が発生していると判断されると、前記制御部74の図示されない警報処理手段は図示されない警報器、表示装置等によってアラームを発生させる。また、前記制御部74の図示されない開放処理手段は、前記アクチュエータ73を駆動して弁72を開放する。この場合、上部分配ホッパ36内の媒体17は、各移動層55には送られず、パージ管41を介して被処理ガス供給室61内に送られ、一時的に蓄えられる。したがって、各移動層55内から媒体17を除去することができるので、その間に、入口ルーバ71、出口ルーバ、区画板49等を補修したり、各区画室50内において閉塞した媒体17を除去したりすることができる。なお、前記被処理ガス供給室61の底部に前記媒体17を排出するための媒体出口81が形成され、前記被処理ガス供給室61内に蓄えられた媒体17を排出することができるようになっている。そのために、前記被処理ガス供給室61の底部は傾斜させられ、媒体17は自重で排出される。
【0044】
このように、媒体17を蓄えるためのパージ槽を別に配設する必要がなくなるだけでなく、媒体17を前記パージ槽に供給するためのコンベヤ等の搬送手段が不要になるので、乾式脱硫・脱硝装置のコストを低くすることができる。
【0045】
なお、本実施の形態においては、上部分配ホッパ36と被処理ガス供給室61とをパージ管41によって接続し、上部分配ホッパ36内の媒体17を被処理ガス供給室61に供給するようになっているが、上部分配ホッパ36と被処理ガス排出室62、63とをパージ管によって接続し、上部分配ホッパ36内の媒体17を被処理ガス排出室62、63に供給することもできる。
【0046】
また、本実施の形態において、弁72はアクチュエータ73を駆動することによって開放するようになっているが、前記警報器、表示装置等によるアラームに従って手動で開放することもできる。
【0047】
次に、従来の乾式脱硫・脱硝装置と本発明の乾式脱硫・脱硝装置との粒度分布の差について説明する。
【0048】
図7は従来の乾式脱硫・脱硝装置における粒度分布を示す図、図8は本発明の実施の形態における乾式脱硫・脱硝装置の粒度分布を示す図である。
【0049】
この場合、媒体17(図1)の全体(触媒全体)及び各区画室#1〜#8に供給された媒体17の粒度分布を示している。
【0050】
図7に示されるように、従来の乾式脱硫・脱硝装置においては、粒径の大きな媒体17は移動層10(図3参照)の幅L方向における周辺部の区画室#1、#8に集まり、粒径の小さな媒体17は移動層10の幅L方向における中央部の区画室#4、#5に集まってしまう。この場合、粒径のばらつきを示す標準偏差σは14.74である。
【0051】
これに対して、図8に示されるように、本発明の乾式脱硫・脱硝装置においては、粒径の大きな媒体17も粒径の小さな媒体17も、移動層55(図5)の幅L方向における全体にほぼ均一に供給される。この場合、標準偏差σは2.99である。
【0052】
次に、本実施の形態における脱硝率、空間速度及び媒体17の粒径の関係について説明する。
【0053】
図9は本発明の実施の形態における脱硝率、空間速度及び粒径の関係を示した図である。なお、図において、横軸に空間速度svを、縦軸に脱硝率を採ってある。
【0054】
ここで、空間速度svとは、被処理ガスの量を媒体17(図1)の量で割って得られる値であり、一定量の媒体17によって処理を行うことができる被処理ガスの量を示す。
【0055】
図に示されるように、空間速度svが低くなると、脱硝率が高くなり、また、粒径が小さいほど脱硝率が高くなる。
【0056】
前述されたように、前記移動層55(図5)の幅L方向において粒度分布は均一になるので、被処理ガスに偏流が発生することはない。したがって、空間速度svを一様に低くすることができ、脱硝率を高くすることができる。
【0057】
図10は各区画室ごとの脱硝率について、従来の乾式脱硫・脱硝装置と本発明の乾式脱硫・脱硝装置とを比較した図、図11は各区画室ごとの空間速度について、従来の乾式脱硫・脱硝装置と本発明の乾式脱硫・脱硝装置とを比較した図である。
【0058】
図から分かるように、本発明の乾式脱硫・脱硝装置においては、脱硝率及び空間速度svのいずれも各区画室#1〜#8にわたって平均的な値を有することができるので、乾式脱硫・脱硝装置の全体で脱硝率を約1.2〔%〕高くすることができる。
【0059】
なお、本実施の形態においては、乾式脱硫・脱硝装置の反応塔について説明しているが、本発明を媒体補給槽、脱離塔等に適用することもできる。
【0060】
また、媒体17(図1)としては、活性炭のほかに、金属系脱硝媒体等の一般的な媒体を使用することもできる。
【0061】
なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨に基づいて種々変形させることが可能であり、それらを本発明の範囲から排除するものではない。
【0062】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明によれば、乾式脱硫・脱硝装置においては、移動層と、該移動層に隣接させて配設され、被処理ガスを移動層に供給するための被処理ガス供給室と、前記移動層に隣接させて配設され、被処理ガスを移動槽から排出するための被処理ガス排出室と、前記移動層の上端に配設され、複数のホッパ室を備えた上部ホッパと、前記移動層より上方に配設され、媒体入口を介して媒体が供給される上部分配ホッパと、該上部分配ホッパと各ホッパ室との間に配設され、上部分配ホッパ内の媒体を各ホッパ室に供給するシュートと、前記上部分配ホッパと被処理ガス供給室及び被処理ガス排出室のうちの少なくとも一方との間に配設されたパージ管と、該パージ管に配設された開閉手段とを有する。
【0063】
この場合、前記上部分配ホッパと被処理ガス供給室及び被処理ガス排出室のうちの少なくとも一方との間にパージ管が配設され、開閉手段の開放に伴って、上部分配ホッパ内の媒体がパージ管を介して前記被処理ガス供給室及び被処理ガス排出室のうちの少なくとも一方に供給される。
【0064】
したがって、上部分配ホッパ内の媒体は、移動層には送られず、被処理ガス供給室及び被処理ガス排出室のうちの少なくとも一方内に一時的に蓄えられる。その結果、移動層内から媒体を除去することができるので、その間に、入口ルーバ、出口ルーバ、区画板等を補修したり、各区画室内において閉塞した媒体を除去したりすることができる。
【0065】
また、媒体を蓄えるためのパージ槽を別に配設する必要がなくなるだけでなく、媒体を前記パージ槽に供給するためのコンベヤ等の搬送手段が不要になるので、乾式脱硫・脱硝装置のコストを低くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態における乾式脱硫・脱硝装置の要部を示す概略図である。
【図2】従来の反応塔の斜視図である。
【図3】従来の反応塔の断面図である。
【図4】従来の粒度分布の測定結果を示す図である。
【図5】本発明の実施の形態における反応塔の要部を示す概略図である。
【図6】本発明の実施の形態における反応塔の平面図である。
【図7】従来の乾式脱硫・脱硝装置における粒度分布を示す図である。
【図8】本発明の実施の形態における乾式脱硫・脱硝装置の粒度分布を示す図である。
【図9】本発明の実施の形態における脱硝率、空間速度及び粒径の関係を示した図である。
【図10】各区画室ごとの脱硝率について、従来の乾式脱硫・脱硝装置と本発明の乾式脱硫・脱硝装置とを比較した図である。
【図11】各区画室ごとの空間速度について、従来の乾式脱硫・脱硝装置と本発明の乾式脱硫・脱硝装置とを比較した図である。
【符号の説明】
17 媒体
36 上部分配ホッパ
37 媒体入口
41 パージ管
42、43 上部ホッパ
45 ホッパ室
47 シュート
55 移動層
61 被処理ガス供給室
62、63 被処理ガス排出室
72 弁
74 制御部[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a dry desulfurization / denitration device.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, in a dry desulfurization / denitration apparatus, a medium such as activated carbon is moved from an upper end to a lower end of a reaction tower, and a gas to be treated is passed therebetween, thereby simultaneously performing desulfurization and denitration, and a sulfurous acid gas is removed from the gas to be treated. (SO2) And nitrogen oxides (NOX).
[0003]
FIG. 2 is a perspective view of a conventional reaction tower, FIG. 3 is a cross-sectional view of the conventional reaction tower, and FIG. 4 is a view showing a measurement result of a conventional particle size distribution.
[0004]
In the figure,
[0005]
A processing
[0006]
The moving
[0007]
The lower end of the moving
[0008]
Meanwhile, since the
θ = tan-1{H / (L / 2)}
Can be represented by When activated carbon is used as the
[0009]
By the way, in the
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional dry desulfurization / denitration apparatus, when an abnormality occurs in the reaction tower, not only the purge tank for storing the
[0011]
The present invention solves the problems of the conventional dry desulfurization / denitration apparatus, and provides a dry desulfurization / denitration apparatus that does not require the provision of a purge tank, a conveyor, and the like, and can reduce the cost. Aim.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
Therefore, in the dry desulfurization / denitration apparatus of the present invention, a moving bed, a gas supply chamber to be processed which is disposed adjacent to the moving bed and supplies a gas to be processed to the moving bed, A gas discharge chamber for discharging a gas to be treated from the moving bed, an upper hopper provided at a top end of the moving bed and having a plurality of hopper chambers, An upper distribution hopper, which is disposed above and to which the medium is supplied via a medium inlet; and is disposed between the upper distribution hopper and each hopper chamber, and supplies the medium in the upper distribution hopper to each hopper chamber. A purging pipe disposed between the upper distribution hopper and at least one of the gas supply chamber and the gas discharge chamber, and an opening / closing means disposed in the purge pipe. .
[0013]
In another dry desulfurization / denitration apparatus of the present invention, further, an abnormality occurrence determination processing means for determining whether an abnormality has occurred, and an opening process for opening the opening / closing means when it is determined that an abnormality has occurred. Means.
[0014]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0015]
FIG. 1 is a schematic diagram showing a main part of a dry desulfurization / denitration apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 5 is a schematic diagram showing a main part of a reaction tower according to an embodiment of the present invention, and FIG. It is a top view of a reaction tower in the form of.
[0016]
In the figure,
[0017]
The
[0018]
The
[0019]
Each of the moving
[0020]
A
[0021]
The lower hopper has a pyramid shape, and a medium outlet is formed at a lower end of the lower hopper. The lower end of each moving
[0022]
In the reaction tower having the above-described configuration, the gas to be processed supplied from the gas to be processed
[0023]
The medium 17 conveyed by the
[0024]
The medium 17 in each of the
[0025]
Then, the medium 17 supplied from each
[0026]
By the way, the inner diameter of the
D2= (2nD3+ 2n · P) / π
Becomes the relationship.
[0027]
And
D2/ D1= 2/3
And the diameter of the medium 17 is D4And the diameter D of each
D3= K1・ D4
(K1: 10-30)
And Usually,
D4= 10 [mm]
n = 8-12
P = 50-100 [mm]
So that
D1= 2-3 m
D2= 1.3-2 [m]
It is preferable to set the degree.
[0028]
The height of the
H = h1+ H2+ H3
become,
become.
[0029]
The angle of repose θ of the mountain of the medium 17 is
θ = tan-1{H2/ (D1/ 2)}
And is usually about 35 [°].
[0030]
Then, the inclination angle of the portion where each
θ1= Θ8<Θ2= Θ7<Θ3= Θ6<Θ4= Θ5
Is set to be Normally, the inclination angle θ1Is preferably 45 [°] or more. Further, the width of each moving
L = K2・ L1
(K2: 4-10)
L1= L2= L3= L4= L5= L6= L7= L8
And the angle θ ′ of the pyramid of each
θ '= tan-1{H4/ (L1/ 2)}
And it is preferable that the ridge angle is 40 °.
[0031]
Also, the thickness w of each moving
w1= 1 to 2 [m]
And the distance w between the moving
w2= K3・ W1
(K3: 1-3)
It is.
[0032]
In the present embodiment,
0.6 <L1/ W1≦ 1.0
It is.
[0033]
As described above, the medium 17 having the same particle size is supplied to each
[0034]
By the way, in the moving
[0035]
Therefore, a
[0036]
A
[0037]
A
[0038]
Then, upon receiving the height h, the abnormality occurrence determination processing means (not shown) of the
[0039]
Further, the abnormality occurrence determination processing means determines whether or not a second abnormality determination condition is satisfied by comparing the height h with a preset lower limit value hmin, and Is less than or equal to the lower limit value hmin, it is determined that the second abnormality determination condition is satisfied. If the height h is higher than the lower limit value hmin, it is determined that the second abnormality determination condition is not satisfied. In this case, the upper limit value hmax and the lower limit value hmin are set in accordance with the position where the
[0040]
Further, upon receiving the pressures P1 and P2, the abnormality occurrence determination processing means receives the pressure difference ΔP
ΔP = P1-P2
And comparing the pressure difference ΔP with a preset threshold (threshold) value Pth to determine whether or not the abnormality determination additional condition is satisfied. If the pressure difference ΔP is equal to or greater than the threshold value Pth, In some cases, it is determined that the abnormality determination additional condition is satisfied. When the pressure difference ΔP is smaller than the threshold value Pth, it is determined that the abnormality determination additional condition is not satisfied.
[0041]
Next, the abnormality occurrence determination processing means determines whether an abnormality has occurred in the reaction tower based on whether the first and second abnormality determination conditions and the additional abnormality determination condition are satisfied. That is, the abnormality occurrence determination processing means determines that the first abnormality determination condition is satisfied and the additional abnormality determination condition is satisfied, and that the second abnormality determination condition is satisfied and the abnormality determination additional condition is satisfied. If not, it is determined that an abnormality has occurred in the reaction tower, and if neither the first nor the second abnormality determination condition is satisfied, regardless of whether the abnormality determination addition condition is satisfied, the reaction tower is determined to have failed. It is determined that no abnormality has occurred.
[0042]
In the present embodiment, whether or not an abnormality has occurred in the reaction tower is determined based on whether or not the first and second abnormality determination conditions and the additional abnormality determination condition are satisfied. Alternatively, it can be determined whether or not an abnormality has occurred in the reaction tower based on whether or not the second abnormality determination condition is satisfied. For this purpose, the abnormality occurrence determination processing means determines that an abnormality has occurred in the reaction tower when one of the first and second abnormality determination conditions is satisfied, and performs the first and second abnormality determination. When none of the conditions is satisfied, it is determined that no abnormality has occurred in the reaction tower.
[0043]
In this manner, the abnormality occurrence determination processing is performed, and when it is determined that an abnormality has occurred, the alarm processing means (not shown) of the
[0044]
In this way, not only is there no need to separately provide a purge tank for storing the medium 17, but also there is no need for a conveying means such as a conveyor for supplying the medium 17 to the purge tank. The cost of the device can be reduced.
[0045]
In the present embodiment, the
[0046]
Further, in the present embodiment, the
[0047]
Next, the difference in particle size distribution between the conventional dry desulfurization / denitration apparatus and the dry desulfurization / denitration apparatus of the present invention will be described.
[0048]
FIG. 7 is a diagram showing a particle size distribution in a conventional dry desulfurization / denitration device, and FIG. 8 is a diagram showing a particle size distribution in a dry desulfurization / denitration device according to an embodiment of the present invention.
[0049]
In this case, the particle size distribution of the entire medium 17 (FIG. 1) (the entire catalyst) and the medium 17 supplied to each of the
[0050]
As shown in FIG. 7, in the conventional dry desulfurization / denitration apparatus, the medium 17 having a large particle size gathers in the
[0051]
On the other hand, as shown in FIG. 8, in the dry desulfurization / denitration apparatus of the present invention, both the medium 17 having a large particle diameter and the medium 17 having a small particle diameter are in the width L direction of the moving layer 55 (FIG. 5). Are supplied almost uniformly throughout the In this case, the standard deviation σ is 2.99.
[0052]
Next, the relationship between the denitration rate, the space velocity, and the particle size of the medium 17 in the present embodiment will be described.
[0053]
FIG. 9 is a diagram showing a relationship between a denitration rate, a space velocity, and a particle diameter according to the embodiment of the present invention. In the drawing, the horizontal axis represents the space velocity sv, and the vertical axis represents the denitration rate.
[0054]
Here, the space velocity sv is a value obtained by dividing the amount of the gas to be processed by the amount of the medium 17 (FIG. 1), and the amount of the gas to be processed that can be processed by a certain amount of the medium 17 Show.
[0055]
As shown in the figure, when the space velocity sv decreases, the denitration rate increases, and as the particle size decreases, the denitration rate increases.
[0056]
As described above, since the particle size distribution becomes uniform in the width L direction of the moving layer 55 (FIG. 5), no drift occurs in the gas to be processed. Therefore, the space velocity sv can be uniformly reduced, and the denitration rate can be increased.
[0057]
FIG. 10 shows a comparison between the conventional dry desulfurization / denitration apparatus and the dry desulfurization / denitration apparatus of the present invention for the denitration rate of each compartment, and FIG. 11 shows the conventional dry desulfurization / denitration for the space velocity of each compartment. It is the figure which compared the device with the dry desulfurization and denitration device of the present invention.
[0058]
As can be seen from the figure, in the dry desulfurization / denitration apparatus of the present invention, since both the denitration rate and the space velocity sv can have an average value in each of the
[0059]
In the present embodiment, the reaction tower of the dry desulfurization / denitration apparatus is described, but the present invention can be applied to a medium supply tank, a desorption tower, and the like.
[0060]
As the medium 17 (FIG. 1), a general medium such as a metal-based denitration medium can be used in addition to the activated carbon.
[0061]
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be variously modified based on the gist of the present invention, and they are not excluded from the scope of the present invention.
[0062]
【The invention's effect】
As described above in detail, according to the present invention, in a dry desulfurization / denitration apparatus, a moving bed and a processing target disposed adjacent to the moving bed for supplying a target gas to the moving bed. A gas supply chamber, a gas discharge chamber to be disposed adjacent to the moving bed, for discharging a gas to be processed from the moving tank, and a plurality of hopper chambers disposed at an upper end of the moving bed. An upper distribution hopper disposed above the moving bed and supplied with a medium through a medium inlet; and an upper distribution hopper disposed between the upper distribution hopper and each hopper chamber. A chute for supplying the medium to each hopper chamber, a purge pipe disposed between the upper distribution hopper and at least one of the gas supply chamber and the gas discharge chamber, and a purging pipe. And opening / closing means provided.
[0063]
In this case, a purge pipe is provided between the upper distribution hopper and at least one of the processing gas supply chamber and the processing gas discharge chamber, and the medium in the upper distribution hopper is opened with opening of the opening / closing means. The gas is supplied to at least one of the gas supply chamber and the gas discharge chamber via a purge pipe.
[0064]
Therefore, the medium in the upper distribution hopper is not sent to the moving bed but is temporarily stored in at least one of the gas supply chamber and the gas discharge chamber. As a result, since the medium can be removed from the moving bed, the entrance louver, the exit louver, the partition plate, and the like can be repaired, and the medium blocked in each compartment can be removed.
[0065]
Further, not only is it unnecessary to separately provide a purge tank for storing the medium, but also a transport means such as a conveyor for supplying the medium to the purge tank becomes unnecessary, so that the cost of the dry desulfurization / denitration apparatus is reduced. Can be lower.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic diagram showing a main part of a dry desulfurization / denitration apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view of a conventional reaction tower.
FIG. 3 is a sectional view of a conventional reaction tower.
FIG. 4 is a diagram showing a measurement result of a conventional particle size distribution.
FIG. 5 is a schematic view showing a main part of a reaction tower according to an embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a plan view of a reaction tower according to the embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a diagram showing a particle size distribution in a conventional dry desulfurization / denitration apparatus.
FIG. 8 is a diagram showing a particle size distribution of the dry desulfurization / denitration apparatus according to the embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a diagram showing a relationship between a denitration rate, a space velocity, and a particle diameter according to the embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a diagram showing a comparison between a conventional dry desulfurization / denitration apparatus and a dry desulfurization / denitration apparatus of the present invention with respect to the denitration rate of each compartment.
FIG. 11 is a diagram comparing the conventional dry desulfurization / denitration apparatus with the dry desulfurization / denitration apparatus of the present invention with respect to the space velocity of each compartment.
[Explanation of symbols]
17 medium
36 Upper distribution hopper
37 Media inlet
41 Purge pipe
42, 43 Upper hopper
45 Hopper room
47 Shoots
55 Moving bed
61 Gas supply chamber
62, 63 Gas to be treated exhaust chamber
72 valves
74 control unit
Claims (2)
(b)該移動層に隣接させて配設され、被処理ガスを移動層に供給するための被処理ガス供給室と、
(c)前記移動層に隣接させて配設され、被処理ガスを移動層から排出するための被処理ガス排出室と、
(d)前記移動層の上端に配設され、複数のホッパ室を備えた上部ホッパと、
(e)前記移動層より上方に配設され、媒体入口を介して媒体が供給される上部分配ホッパと、
(f)該上部分配ホッパと各ホッパ室との間に配設され、上部分配ホッパ内の媒体を各ホッパ室に供給するシュートと、
(g)前記上部分配ホッパと被処理ガス供給室及び被処理ガス排出室のうちの少なくとも一方との間に配設されたパージ管と、
(h)該パージ管に配設された開閉手段とを有することを特徴とする乾式脱硫・脱硝装置。(A) a moving bed;
(B) a processing gas supply chamber disposed adjacent to the moving bed for supplying a processing gas to the moving bed;
(C) a treated gas discharge chamber disposed adjacent to the moving bed for discharging the treated gas from the moving bed;
(D) an upper hopper provided at an upper end of the moving bed and having a plurality of hopper chambers;
(E) an upper distribution hopper disposed above the moving bed and supplied with a medium through a medium inlet;
(F) a chute disposed between the upper distribution hopper and each hopper chamber to supply the medium in the upper distribution hopper to each hopper chamber;
(G) a purge pipe disposed between the upper distribution hopper and at least one of the gas supply chamber and the gas discharge chamber;
(H) a dry desulfurization / denitration apparatus comprising: an opening / closing means provided in the purge pipe.
(b)異常が発生したと判断された場合に、前記開閉手段を開放する開放処理手段とを有する請求項1に記載の乾式脱硫・脱硝装置。(A) abnormality occurrence determination processing means for determining whether an abnormality has occurred;
2. The dry desulfurization / denitration apparatus according to claim 1, further comprising: (b) opening processing means for opening the opening / closing means when it is determined that an abnormality has occurred.
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