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JP3426594B2 - 入力バッファ回路 - Google Patents

入力バッファ回路

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JP3426594B2
JP3426594B2 JP2001363826A JP2001363826A JP3426594B2 JP 3426594 B2 JP3426594 B2 JP 3426594B2 JP 2001363826 A JP2001363826 A JP 2001363826A JP 2001363826 A JP2001363826 A JP 2001363826A JP 3426594 B2 JP3426594 B2 JP 3426594B2
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mos transistor
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transistor
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淳 永山
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Oki Electric Industry Co Ltd
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Oki Electric Industry Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K19/00Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
    • H03K19/003Modifications for increasing the reliability for protection
    • H03K19/00369Modifications for compensating variations of temperature, supply voltage or other physical parameters
    • H03K19/00384Modifications for compensating variations of temperature, supply voltage or other physical parameters in field effect transistor circuits

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Computing Systems (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Logic Circuits (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はLSIにおける外部
からの信号を直接入力とする入力バッファ回路に関す
る。
【0002】
【従来技術】入力バッファ回路を構成するCMOSイン
バータの入出力特性は、N型MOSトランジスタとP型
MOSトランジスタのβ(β=βN/βP=(W(ゲート
幅)/L(ゲート長)N/(W/L)P)の比(ベータレ
シオ)をパラメータとし、入力電圧に対して出力電圧が
どのように変化するかを示すものである。ここでMOS
トランジスタはMOSFET等のMOS型のトランジス
タをいう。
【0003】ベータレシオが1の場合、即ち、(W/
L)の比がN型MOSトランジスタとP型MOSトラン
ジスタで等しい場合を例にとって図13に基づいて説明
する。
【0004】図13は従来のCMOSインバータの入出
力特性図である。
【0005】入力電圧Vinが0Vのとき、ソース電圧
が0VであるN型MOSトランジスタは非導通、ソース
電圧が5VであるP型MOSトランジスタはソースに対
してゲートの電圧が−5Vになっているため、導通とな
っている。このため、出力電圧は5Vになる。
【0006】入力電圧が0Vから5V(VDD)に上昇
していく時、N型MOSトランジスタの閾値電圧0.8
Vを超えるA点でN型MOSトランジスタが導通を始め
る。それまでは、出力電圧Voutは完全に5Vであ
り、電源間の直接電流パスはない。A点からB点の間は
N型MOSトランジスタは飽和、P型MOSトランジス
タは非飽和領域で動作している。B点からD点にかけて
はどちらのMOSトランジスタも飽和動作をしていて、
この部分で出力電圧Voutは最も急峻に変化し、小信
号の増幅度は最も大きい。また、A点からE点の間で
は、電源間に直流電流が流れるD点からE点ではN型M
OSトランジスタは非飽和動作、P型MOSトランジス
タは飽和動作している。VinがE点を超えて大きくな
ると、P型MOSトランジスタのソースに対してゲート
の電圧が−0.8Vより大きくなりP型MOSトランジ
スタは非導通になり電源間の電流パスはなくなると共
に、Voutは完全に0Vになる。
【0007】ここで、C点はVinとVoutが等しく
なる点であり、論理反転電圧または論理閾値電圧とい
う。以下、論理閾値電圧を用いる。
【0008】業界仕様では、電源電圧VDDが1.8V
で、アースが0Vのとき、0V〜0.63Vの範囲がロ
ーレベルであり、1.17V〜1.8Vの範囲がハイレ
ベルとなっている。0V〜0.63Vまでの範囲が0V
からの余裕、1.17V〜1.8Vまでの範囲が電源電
圧1.8Vからの余裕となる。
【0009】この両余裕が適切な幅で確保できることが
インバータの特性として要求されている。前記従来例の
問題点として述べたプロセス変動等が発生しても前記両
余裕が適切な範囲で取れるようにするには、このインバ
ータの特性、特にC点の論理閾値電圧の変動を少なくす
るように回路を設定することが必要となる。
【0010】従来は、電流が流れる入力電圧範囲を狭く
して、状態が遷移しない状態、即ち、電流が流れない安
定な状態を幅広く作ろうとした。このため、先程のよう
なプロセス変動等が発生するとC点の論理閾値電圧が大
幅に変動し、前記両余裕が適切に取れなくなり、入力パ
ルスのローレベルとハイレベルに対する出力が適切に形
成されなくなる。
【0011】次に、従来の入力バッファ回路を示す。
【0012】図8は従来の基本的な入力バッファ回路の
回路図である。
【0013】図9は従来の入力バッファ回路の回路例1
を示す回路図である。
【0014】図10は従来の入力バッファ回路の回路例
2を示す回路図である。
【0015】図11は従来の入力バッファ回路の回路例
3を示す回路図である。
【0016】図12は従来の入力バッファ回路の回路例
4を示す回路図である。
【0017】従来、入力バッファ回路は、図8に示され
るような回路を基本としていた。
【0018】図8に示す、1段目のバッファ回路は、コ
ンプリメンタリMOSトランジスタ(金属酸化膜電界効
果トランジスタ)を使用したインバータで、回路として
はP型MOSトランジスタP1とN型MOSトランジス
タN1とをドレイン側で出力に接続する構成をとってい
る。このインバータはシンク電流も大きく取れ、スピー
ドも速くなる。
【0019】2段目のP型MOSトランジスタPAとN
型MOSトランジスタNAからなるインバータ回路も1
段目と同じ構成を有する。この入力バッファ回路は、前
記1段目のインバータ回路と2段目のインバータ回路を
並列に接続した構成をとっている。
【0020】このような従来の入力バッファ回路は、論
理閾値電圧レベルを調節するために、P型MOSトラン
ジスタP1、PAおよびN型MOSトランジスタN1、
NAで適宜構成される回路におけるトランジスタのゲー
ト長およびゲート幅を調節したり、図9、図10、図1
1、および図12のようにPトランジスタ、Nトランジ
スタを並列または直列、さらには直列および並列を組み
合わせて接続している。
【0021】図9の回路例1は、図8のバッファ回路に
おいて、P型MOSトランジスタP1をP型MOSトラ
ンジスタP1およびP型MOSトランジスタP2に分割
し直列接続した例である。
【0022】図10の回路例2は、図8のバッファ回路
において、N型MOSトランジスタN1をN型MOSト
ランジスタN1およびN型MOSトランジスタN2に分
割し直列接続した例である。
【0023】図11の回路例3は、図8のバッファ回路
において、N型MOSトランジスタN1をN型MOSト
ランジスタN1およびN型MOSトランジスタN2に分
割し並列接続した例である。
【0024】図12の回路例4は、図8のバッファ回路
において、P型MOSトランジスタP1をP型MOSト
ランジスタP1およびP型MOSトランジスタP2に分
割し並列接続した例である。
【0025】出力バッファ回路において、N型MOSト
ランジスタおよびP型MOSトランジスタにOFF/O
FFの期間を作り電流を流さないようにすることは低消
費電力化の目的では普通に行われている。
【0026】
【発明が解決しようとする課題】上記回路構成ではプロ
セス変動、具体的にはトランジスタの閾値電圧の変動、
プロセス工程の変動、温度変化、AC電圧変動等、が大
きくなった時、それに伴いハイレベルまたはローレベル
の判定閾値電圧の変動が大きくなり、入力信号を伝達可
能なハイレベル電圧またはローレベル電圧の電源または
グランドレベル電圧からの余裕のどちらかが小さくなっ
てしまう。
【0027】定電圧インターフェースでは、プロセス変
動、電圧変動、温度変動および測定器の測定誤差を考慮
すると業界標準仕様の入力ハイレベル最小電圧、ローレ
ベル最大電圧を満たせなくなるという問題があった。
【0028】本発明の目的は、上記課題に鑑み、プロセ
ス変動が大きくなった時にも、それに伴いハイレベルお
よびローレベルを決める閾値電圧の変動が大きくならな
いようにした入力バッファ回路を提供することである。
【0029】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために以下の解決手段を採用する。 (1)入力バッファ回路において、論理閾値電圧が互い
に異なる複数の前段回路と、P型MOSトランジスタと
N型MOSトランジスタを直列接続し、前記両トランジ
スタの接続点から出力するようにした後段回路とからな
り、前記前段回路の内の一方の回路の出力を前記後段回
路のP型MOSトランジスタのゲートに接続し、前記前
段回路の内の他方の回路の出力を前記後段回路のN型M
OSトランジスタのゲートに接続し、前記後段回路の出
力からみた該入力バッファ回路全体の論理閾値電圧が前
記両前段回路の異なる論理閾値電圧の間になるように設
定することを特徴とする。 (2)上記(1)記載の入力バッファ回路において、前
記前段回路をインバータとしたことを特徴とする。 (3)上記(1)または(2)記載の入力バッファ回路
において、前記前段回路および前記後段回路をMOSト
ランジスタで構成したことを特徴とする。 (4)上記(1)乃至(3)のいずれか1項記載の入力
バッファ回路において、前記前段回路および前記後段回
路に含まれるMOSトランジスタの内の任意のMOSト
ランジスタを、同じ極性のMOSトランジスタの直列接
続回路または並列接続回路で構成したことを特徴とす
る。 (5)上記(1)記載の入力バッファ回路において、前
記前段回路をAND回路またはNAND回路で構成した
ことを特徴とする。 (6)上記(1)記載の入力バッファ回路において、前
記前段回路を論理ゲート回路としたことを特徴とする
【0030】
【発明の実施の形態】本発明は、論理閾値電圧の変動幅
を小さくし、前記両余裕を適切に持った入力バッファを
得るために、入力バッファを構成するインバータの構成
を、前段の2つのインバータA、Bの出力を後段のP型
MOSトランジスタおよびN型MOSトランジスタの直
列回路CのそれぞれのP型MOSトランジスタおよびN
型MOSトランジスタのゲートに分けて入力する入力バ
ッファ回路において、各インバータA、BとP型MOS
トランジスタおよびN型MOSトランジスタの直列回路
の論理閾値電圧をVA<VC<VBと設定する点に特徴
を有する。見方を変えると、P型MOSトランジスタと
N型MOSトランジスタにON/ONの期間を設け、電
流を流してしまうことと引き替えに論理閾値電圧Vtマ
ージンを稼ごうとするものである。
【0031】以下、本発明の実施の形態を図に基づいて
詳細に説明する。
【0032】(第1実施例)図1は本発明の第1実施例
を示す回路図である。
【0033】入力端子は、インバータを構成するP型M
OSトランジスタP1とN型MOSトランジスタN1の
ゲート、および同じくインバータを構成するP型MOS
トランジスタP2およびN型MOSトランジスタN2の
ゲートに接続される。
【0034】P型MOSトランジスタP1とN型MOS
トランジスタN1のドレインの接続点1、およびP型M
OSトランジスタP2およびN型MOSトランジスタN
2のドレインの接続点2は、それぞれP型MOSトラン
ジスタP3とN型MOSトランジスタN3のゲートに接
続され、P型MOSトランジスタP3とN型MOSトラ
ンジスタN3のドレインが出力端子に接続される。
【0035】この回路では、P型MOSトランジスタP
1とN型MOSトランジスタN1で構成された回路の論
理閾値電圧はP型MOSトランジスタP3とN型MOS
トランジスタN3を用いた場合の論理閾値電圧よりも低
くなるものとし、P型MOSトランジスタP2とN型M
OSトランジスタN2で構成された回路の論理閾値電圧
はP型MOSトランジスタP3とN型MOSトランジス
タN3を用いた場合の論理閾値電圧よりも高く設定す
る。
【0036】(動作)P型MOSトランジスタP1とN
型MOSトランジスタN1で構成されるインバータの論
理閾値電圧レベルをA、P型MOSトランジスタP2と
N型MOSトランジスタN2で構成されるインバータの
論理閾値電圧レベルをBとして以下説明する。
【0037】図2は本発明の実施例における標準プロセ
スでの回路動作を示す図である。
【0038】図中、接続点1の特性曲線は図1中の接続
点1の入力電圧に対する電圧特性を表す。接続点2の特
性曲線は図1中の接続点2の入力電圧に対する電圧特性
を表す。入力端子の特性直線は、入力電圧特性を示す図
である。出力端子の特性曲線は、図1中の出力端子の電
圧特性を示す図である。
【0039】図中「A」点は接続点1の特性曲線と入力
端子の特性直線の交点である。図中「B」点は接続点2
の特性曲線と入力端子の特性直線の交点である。図中
「C」点は出力端子の特性曲線と入力端子の特性直線の
交点である。
【0040】図1の接続点1、接続点2の特性曲線の出
力電圧がVDDと0V以外の範囲の電圧をとる入力電圧の
間、即ち、2〜7目盛の間は遷移期間となって、電流が
流れる。
【0041】論理閾値電圧の関係は、A<C<Bとす
る、即ち、入力電圧としてVA<VC<VBと設定する。
【0042】図2において、入力電圧レベルが0からA
まではP型MOSトランジスタP1とN型MOSトラン
ジスタN1はP型MOSトランジスタP2とN型MOS
トランジスタN2に比べ低い入力電圧で論理閾値となる
のでP型MOSトランジスタP3は高抵抗状態を保ち、
N型MOSトランジスタN3は低抵抗状態に遷移する途
中にあり、出力電圧レベルはかなり低い電圧をとる。ま
た、入力電圧レベルBからVDDではP型MOSトランジ
スタP3は低抵抗状態にあり、N型MOSトランジスタ
N3は低抵抗状態から高抵抗状態へ遷移する途中にある
ため出力電圧レベルはかなり高い電圧をとる。入力電圧
レベルがAからBの間で上がっていくときはP型MOS
トランジスタP3は低抵抗状態へ遷移し始め、N型MO
SトランジスタN3は低抵抗から高抵抗へ遷移し始める
ところであり、入力電圧が下がっていくときはP型MO
SトランジスタP3は低抵抗から高抵抗へ遷移し始める
ところで、N型MOSトランジスタN3は低抵抗へ遷移
し始めるところであり、C点でP型MOSトランジスタ
P3、N型MOSトランジスタN3は入力電圧と出力電
圧が等しくなる抵抗比率となる。このC点が論理閾値電
圧Vtとなる。
【0043】次に、プロセス変動時について図3に基づ
いて説明する。
【0044】図3は本発明の実施例のP型MOSトラン
ジスタの閾値電圧|Vtact|が高くなり、N型MO
Sトランジスタの閾値電圧|Vtact|が低くなった
ときの回路動作を示す図である。
【0045】プロセスの変動によりP型MOSトランジ
スタの閾値電圧|Vtact|が上がり、N型MOSの
閾値電圧|Vtact|が下がるときにはA、Bの電圧
とも下がるが、入力電圧がAとBの間でP型MOSが高
抵抗状態にある範囲が広くなることから釣り合う電圧C
はBに近くなりプロセス変動前のCとの差は小さく抑え
られる。
【0046】図4は本発明の実施例のP型MOSトラン
ジスタの閾値電圧|Vtact|が低くなり、N型MO
Sトランジスタの閾値電圧|Vtact|が高くなった
ときの回路動作を示す図である。
【0047】また、P型MOSの閾値電圧|Vtact
|が下がり、N型MOSの閾値電圧|Vtact|が上
がるときにはA、Bの電圧とも上がるが、入力電圧がA
とBの間でN型MOSが高抵抗状態にある範囲が広くな
ることから釣り合う電圧CはAに近くなりプロセス変動
前のCとの差は小さく抑えられる。
【0048】(第1実施例の効果)表1のように、第1
実施例の構成を持つ回路を使用することで、プロセス変
動があった場合でも入力バッファのハイレベル、ローレ
ベル判定の論理閾値電圧の変動を小さく押さえることが
できるという効果が得られる。
【0049】即ち、表1に示されるように、論理閾値電
圧が、従来回路は0.689から1.062の範囲にあ
るのに対し本回路は0.809から1.005の範囲に
あり、前者よりその範囲の幅が狭くなっている。
【0050】
【表1】
【0051】(第2実施例)図5は本発明の第2実施例
の回路例1を示す図である。
【0052】図6は本発明の第2実施例の回路例2を示
す図である。
【0053】図5の回路例1では、図1の第1実施例に
おけるP型MOSトランジスタP1の代わりにP型MO
SトランジスタP1とP型MOSトランジスタP1−1
の直列接続、N型MOSトランジスタN2の代わりにN
型MOSトランジスタN2とN型MOSトランジスタN
2−1の並列接続、P型MOSトランジスタP3の代わ
りにP型MOSトランジスタP3とP型MOSトランジ
スタP3−1の並列接続、そしてN型MOSトランジス
タN3の代わりにN型MOSトランジスタN3とN型M
OSトランジスタN3−1の直列接続で構成されてい
る。
【0054】図6の回路例2では図1の第1実施例にお
けるP型MOSトランジスタP1の代わりにP型MOS
トランジスタP1とP型MOSトランジスタP1−1の
並列接続、N型MOSトランジスタN2の代わりにN型
MOSトランジスタN2とN型MOSトランジスタN2
−1の直列接続、そしてN型MOSトランジスタN3の
代わりにN型MOSトランジスタN3とN型MOSトラ
ンジスタN3−1の並列接続で構成されている。
【0055】このように、第2実施例の回路例1および
回路例2は、入力バッファ回路を、前記第1実施例にお
けるP型MOSトランジスタP1、P型MOSトランジ
スタP2、P型MOSトランジスタP3およびN型MO
SトランジスタN1、N型MOSトランジスタN2、N
型MOSトランジスタN3の各MOSトランジスタを前
記第1実施例とは異なるゲート長、ゲート幅のMOSト
ランジスタの直列接続または並列接続、さらには直列接
続および並列接続を組み合わせることで実現し、構成し
たものである。
【0056】図5におけるP型MOSトランジスタP1
とP型MOSトランジスタP1−1の直列接続、N型M
OSトランジスタN2とN型MOSトランジスタN2−
1の並列接続およびP型MOSトランジスタP3とP型
MOSトランジスタP3−1の並列接続のトランジスタ
がそれぞれ前記第1実施例のP型MOSトランジスタP
1、N型MOSトランジスタN2およびP型MOSトラ
ンジスタP3と同じ働きをする。また、図6におけるP
型MOSトランジスタP1とP型MOSトランジスタP
1−1の並列接続、N型MOSトランジスタN2とN型
MOSトランジスタN2−1の直列接続およびN型MO
SトランジスタN3とN型MOSトランジスタN3−1
の並列接続のトランジスタがそれぞれ前記第1実施例の
P型MOSトランジスタP1、N型MOSトランジスタ
N2およびN型MOSトランジスタN3と同じ働きをす
るので、前記両回路例1および2とも動作は前記第1実
施例と同じになる。
【0057】前記それぞれのインバータの構成素子をM
OSトランジスタの直列接続および並列接続を組み合わ
せたものとすることは初期の特性が出る限り問題がな
い。
【0058】(第2実施例の効果)第2実施例は、前記
第1実施例の効果に加えて、ゲート・アレイの様な同一
サイズのトランジスタを使用する場合に適用できるとい
う効果が得られる。
【0059】(他の実施の形態)本発明の入力バッファ
回路は、前記第1および第2実施例ではインバータ回路
を用いているが、その他にNAND回路、AND回路等
のその他の論理ゲートを用いても実現可能である。
【0060】図7は本発明の入力バッファ回路をNAN
D回路を用いて構成した例を示す図である。
【0061】図7の回路は、前記図1の前段のインバー
タ回路の代わりに、それぞれ入力信号と電源電圧を入力
するNAND回路の出力端を図1のP型MOSトランジ
スタP3のゲートに接続し、同じくそれぞれ入力信号と
電源電圧を入力するNAND回路の出力端を図1のN型
MOSトランジスタN3のゲートに接続した構成をと
る。
【0062】
【発明の効果】本発明は、プロセス変動があった場合で
も入力バッファのハイレベル、ローレベル判定の論理閾
値電圧の変動を小さく押さえることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例を示す回路図である。
【図2】本発明の実施例における標準プロセスでの回路
動作を示す図である。
【図3】本発明の実施例のP型MOSトランジスタの閾
値電圧|Vtact|が高くなり、N型MOSトランジ
スタの閾値電圧|Vtact|が低くなったときの回路
動作を示す図である。
【図4】本発明の実施例のP型MOSトランジスタの閾
値電圧|Vtact|が低くなり、N型MOSトランジ
スタの閾値電圧|Vtact|が高くなったときの回路
動作を示す図である。
【図5】本発明の第2実施例の回路例1を示す図であ
る。
【図6】本発明の第2実施例の回路例2を示す図であ
る。
【図7】本発明の入力バッファ回路をNAND回路を用
いて構成した例を示す図である。
【図8】従来の基本的な入力バッファ回路の回路図であ
る。
【図9】従来の入力バッファ回路の回路例1を示す回路
図である。
【図10】従来の入力バッファ回路の回路例2を示す回
路図である。
【図11】従来の入力バッファ回路の回路例3を示す回
路図である。
【図12】従来の入力バッファ回路の回路例4を示す回
路図である。
【図13】従来のCMOSインバータの入出力特性図で
ある。
【符号の説明】
1、2 接続点 PA、P1、P1−1、P2、P3、P3−1 P型
MOSトランジスタ NA、N1、N1−1、N2、N2−1、N3、N3−
1 N型MOSトランジスタ VDD 電源電圧 GND 接地電位

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】論理閾値電圧が互いに異なる複数の前段回
    路と、P型MOSトランジスタとN型MOSトランジス
    タを直列接続し、前記両トランジスタの接続点から出力
    するようにした後段回路とからなり、前記前段回路の内
    の一方の回路の出力を前記後段回路のP型MOSトラン
    ジスタのゲートに接続し、前記前段回路の内の他方の回
    路の出力を前記後段回路のN型MOSトランジスタのゲ
    ートに接続し、前記後段回路の出力からみた該入力バッ
    ファ回路全体の論理閾値電圧が前記両前段回路の異なる
    論理閾値電圧の間になるように設定することを特徴とす
    る入力バッファ回路。
  2. 【請求項2】前記前段回路をインバータとしたことを特
    徴とする請求項1記載の入力バッファ回路。
  3. 【請求項3】前記前段回路および前記後段回路をMOS
    トランジスタで構成したことを特徴とする請求項1また
    は2記載の入力バッファ回路。
  4. 【請求項4】前記前段回路および前記後段回路に含まれ
    るMOSトランジスタの内の任意のMOSトランジスタ
    を、同じ極性のMOSトランジスタの直列接続回路また
    は並列接続回路で構成したことを特徴とする請求項1乃
    至3のいずれか1項記載の入力バッファ回路。
  5. 【請求項5】前記前段回路をAND回路またはNAND
    回路で構成したことを特徴とする請求項1記載の入力バ
    ッファ回路。
  6. 【請求項6】前記前段回路を論理ゲート回路としたこと
    を特徴とする請求項1記載の入力バッファ回路
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